JPS58159957A - 非晶質金属製造装置の制御方法 - Google Patents
非晶質金属製造装置の制御方法Info
- Publication number
- JPS58159957A JPS58159957A JP4261382A JP4261382A JPS58159957A JP S58159957 A JPS58159957 A JP S58159957A JP 4261382 A JP4261382 A JP 4261382A JP 4261382 A JP4261382 A JP 4261382A JP S58159957 A JPS58159957 A JP S58159957A
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- JP
- Japan
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- amorphous metal
- operating conditions
- period
- control
- programs
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22D—CASTING OF METALS; CASTING OF OTHER SUBSTANCES BY THE SAME PROCESSES OR DEVICES
- B22D11/00—Continuous casting of metals, i.e. casting in indefinite lengths
- B22D11/16—Controlling or regulating processes or operations
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Continuous Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は非晶質金属製造装置の制御方法に係り、特に高
周波加熱により溶融され丸金属を冷却体上で急冷させる
際に各部の動作条件をセンナの検知出力に基づいて制御
するようになされ九非晶質金属製造装置の制御方法Ｋｒ
４ａする。
周波加熱により溶融され丸金属を冷却体上で急冷させる
際に各部の動作条件をセンナの検知出力に基づいて制御
するようになされ九非晶質金属製造装置の制御方法Ｋｒ
４ａする。
溶融金属を高度の冷却能を有する回転ドラムあるいはベ
ルト等の冷却体上に連続的に注湯して急速冷却すること
により非晶質金属を製造する装置においては、溶融金属
温度および注湯速度等が常に所定の値に保持されるよう
に製造装置各部の動作条件を制御して生成される非晶質
金属の品質を安定化させることが重要でおる。
ルト等の冷却体上に連続的に注湯して急速冷却すること
により非晶質金属を製造する装置においては、溶融金属
温度および注湯速度等が常に所定の値に保持されるよう
に製造装置各部の動作条件を制御して生成される非晶質
金属の品質を安定化させることが重要でおる。
非晶質金属の製造の際に製品の品質上特に重要な厚さの
制御について考察すると、金属の溶融温度や溶融金属の
櫟さく流出速度）、ノズルの溶損量およびノズルと冷却
体との間のギャップ等の因子が問題となる。これらの要
因は比較的緩慢に変動するものであ）、同一条件での繰
返し操業においては再現性もあるが長期間の操業中では
次第に大きな変化を生じる。
制御について考察すると、金属の溶融温度や溶融金属の
櫟さく流出速度）、ノズルの溶損量およびノズルと冷却
体との間のギャップ等の因子が問題となる。これらの要
因は比較的緩慢に変動するものであ）、同一条件での繰
返し操業においては再現性もあるが長期間の操業中では
次第に大きな変化を生じる。
このため、かかる非晶質金属の製造にあたっては、従来
金属の溶融および温度保持のための加熱源として正確な
制御の可能な高周波誘導による加熱装置が用いられ、か
つ前記溶融金属の温度や流出速度、さらには耐火物ノズ
ル勢の溶損、ノズルギャップ、冷却体の熱膨張等操業中
に変化する種種の因子を計測装置で測定して装置各部の
動作条件が常に所定範囲内に維持されるように補正する
制御が行なわれている。しかし、高周波誘導による加熱
装置を用いることによって製造装置中に設けられ丸前記
計測装置の各種センサが大きな磁場による外乱の影響を
受けることになり、正確な測定値に基づく動作条件の制
御が困難になる。
金属の溶融および温度保持のための加熱源として正確な
制御の可能な高周波誘導による加熱装置が用いられ、か
つ前記溶融金属の温度や流出速度、さらには耐火物ノズ
ル勢の溶損、ノズルギャップ、冷却体の熱膨張等操業中
に変化する種種の因子を計測装置で測定して装置各部の
動作条件が常に所定範囲内に維持されるように補正する
制御が行なわれている。しかし、高周波誘導による加熱
装置を用いることによって製造装置中に設けられ丸前記
計測装置の各種センサが大きな磁場による外乱の影響を
受けることになり、正確な測定値に基づく動作条件の制
御が困難になる。
この対策としてセンナに磁気シールド等を施すことも行
なわれているが、非晶質金属の製造装置は通常極めてコ
ンパクトに形成されているので多数のセンナに対して充
分な磁気シールドを設けることは好ましくなく実用性に
欠ける。
なわれているが、非晶質金属の製造装置は通常極めてコ
ンパクトに形成されているので多数のセンナに対して充
分な磁気シールドを設けることは好ましくなく実用性に
欠ける。
本発明の目的はこのような従来接衝の欠点を解消し、非
晶質金属製造上の装置各部の動作＠条件を装置規模を増
大させることなく常に正解に制御することのできる非晶
質金属製造装置の制御方法を提供することにある。
晶質金属製造上の装置各部の動作＠条件を装置規模を増
大させることなく常に正解に制御することのできる非晶
質金属製造装置の制御方法を提供することにある。
すなわち、本発明は為周波加熱装置によシ溶融された金
属をノズルを通して冷却体上に流出させて急冷する際に
各部の動作条件をそれらの近傍に付設されえ対応する夫
々の計測用センナからの検知出力に基づいて制御するよ
うになされ九非晶質金属製造装置の制御方法において、
前記各部の動作条件を予め設定されたプログラムにした
がってマイクロプロセッサの機能を有する制御装置によ
って制御するようになすと共に、前記高周波加熱装置に
対する供電入力を所定時間間隔毎に一定期関し中断し、
セして供電入力の各し中断期間中に得られる前記各セン
ナからの検知出力によｐ前記プログラムを修正して前記
各部の動作条件の制御を補正することを特徴とする。
属をノズルを通して冷却体上に流出させて急冷する際に
各部の動作条件をそれらの近傍に付設されえ対応する夫
々の計測用センナからの検知出力に基づいて制御するよ
うになされ九非晶質金属製造装置の制御方法において、
前記各部の動作条件を予め設定されたプログラムにした
がってマイクロプロセッサの機能を有する制御装置によ
って制御するようになすと共に、前記高周波加熱装置に
対する供電入力を所定時間間隔毎に一定期関し中断し、
セして供電入力の各し中断期間中に得られる前記各セン
ナからの検知出力によｐ前記プログラムを修正して前記
各部の動作条件の制御を補正することを特徴とする。
以下本発明の一実施例を図面に基づいて詳細に脱明する
。
。
第１図は本発明方法を適用する非晶質金属製造
ｊ妓直の概要を示す説明図であｐ１図中、高周波
誘導による加熱装置２によって溶融された溶融金属１は
下方のノズル３から冷却体としてＯ回転冷却ロール４上
に注湯されて急冷されロール馬面上で非晶質金属の薄膜
５とな〉次いで巻取ドラム７上に製品コイル８として巻
取られる。
ｊ妓直の概要を示す説明図であｐ１図中、高周波
誘導による加熱装置２によって溶融された溶融金属１は
下方のノズル３から冷却体としてＯ回転冷却ロール４上
に注湯されて急冷されロール馬面上で非晶質金属の薄膜
５とな〉次いで巻取ドラム７上に製品コイル８として巻
取られる。
前記加熱装置２への供電は高周波電源１３からケーブル
１４を介して行なわれ、この高周波電源１３には外部電
源（図示せず）からの入力を予め定められた時間間隔で
所定時間し中断する丸めのしゃ断器１ｓが設けられてい
る。
１４を介して行なわれ、この高周波電源１３には外部電
源（図示せず）からの入力を予め定められた時間間隔で
所定時間し中断する丸めのしゃ断器１ｓが設けられてい
る。
加熱装置２は注湯速度を一定にするために溶融金属を収
容するその内部が気密な構造になされておシ、かつ溶融
金属上方の空間８の圧力を調整して製造工程の進行にと
もなら溶融金属１７）＃さの減少による流出速度の変動
を補正する丸めの圧力調整装置９が設けられている。
容するその内部が気密な構造になされておシ、かつ溶融
金属上方の空間８の圧力を調整して製造工程の進行にと
もなら溶融金属１７）＃さの減少による流出速度の変動
を補正する丸めの圧力調整装置９が設けられている。
さらに加熱装置２が載置される支持７レーム１０にはこ
れをスクリュー機構１１を介して駆動するためのノズル
のギヤツブ調整装置１ｚが設けられている。
れをスクリュー機構１１を介して駆動するためのノズル
のギヤツブ調整装置１ｚが設けられている。
さらに、製造装置各部の動作条件を監視する九めの測定
用手段として、ノズル３のギヤツブ測定用のセンナＩＩ
、非晶質金属の薄膜５の厚さ測定用のセンｔ１７、回転
冷却ロール４の熱膨張測定用のセンｔ１８、加熱装置の
空間８中の圧力測定用のセンサ１９、溶融金属ｌの温度
測定用のセンサ２０、回転冷却ロール４０表面温度欄定
用のセンナ２１が図示のように夫々対応する場所に設け
られている。
用手段として、ノズル３のギヤツブ測定用のセンナＩＩ
、非晶質金属の薄膜５の厚さ測定用のセンｔ１７、回転
冷却ロール４の熱膨張測定用のセンｔ１８、加熱装置の
空間８中の圧力測定用のセンサ１９、溶融金属ｌの温度
測定用のセンサ２０、回転冷却ロール４０表面温度欄定
用のセンナ２１が図示のように夫々対応する場所に設け
られている。
このような非晶質金属製造装置によって非晶質金属の薄
膜を製造する際には、前記各動作部の賭案件の変動がセ
ンナ１６〜２１によって夫々検知され、ＪＩＩ２図に示
すように各センす出力信号Ｓはマイクロプロセッサの機
能を有する制御装置（図示せず）中でギヤツブ偏表、圧
力偏差および高周波偏差を夫々与えるように処理され、
これによって得られた夫々の偏差データＤに基づいて予
め定められた予観可能な動作条件の制御プログラムが修
正され、前記ギヤツブ調′整装置１２、圧力調整装置９
および高周波電源１３の動作量の制御の補正Ｋが修正さ
れ九プログラムにしたがって夫々実行され、その結果常
に均一な厚さの非晶質金属の薄膜５が生成される。
膜を製造する際には、前記各動作部の賭案件の変動がセ
ンナ１６〜２１によって夫々検知され、ＪＩＩ２図に示
すように各センす出力信号Ｓはマイクロプロセッサの機
能を有する制御装置（図示せず）中でギヤツブ偏表、圧
力偏差および高周波偏差を夫々与えるように処理され、
これによって得られた夫々の偏差データＤに基づいて予
め定められた予観可能な動作条件の制御プログラムが修
正され、前記ギヤツブ調′整装置１２、圧力調整装置９
および高周波電源１３の動作量の制御の補正Ｋが修正さ
れ九プログラムにしたがって夫々実行され、その結果常
に均一な厚さの非晶質金属の薄膜５が生成される。
ここで前記のように各センｔ１６〜２１は為周波電源１
３から加熱装置２へ供電動作中にそこから生じる強い磁
場による外乱のために測定精度に大きな影響を受けるお
それがある。このため本実施例においては、前記高周波
電源１３への外部電源からの入力をしゃ断器１５によっ
て予め定められた所定時間関隔毎に一定期間しゃ断し、
各しゃ新期間中における各センｔ１６〜２１からの正確
な検知出力に基づいて各動作条件の制御を補正するよう
になされている。
３から加熱装置２へ供電動作中にそこから生じる強い磁
場による外乱のために測定精度に大きな影響を受けるお
それがある。このため本実施例においては、前記高周波
電源１３への外部電源からの入力をしゃ断器１５によっ
て予め定められた所定時間関隔毎に一定期間しゃ断し、
各しゃ新期間中における各センｔ１６〜２１からの正確
な検知出力に基づいて各動作条件の制御を補正するよう
になされている。
すなわち第３図中のグラフで示すように高周波電源１３
からの加熱装置２への供電入力Ｗ（ＫＶＡ）は各１０秒
中に夫々２５秒の期間だけし中断器１５によってしゃ断
され、加熱装置２からの外乱磁場が消失したこのし中断
期間中における各センサ１６〜２１からの検知出力によ
って制御装置中でのプログラム修正が行なわれる。そし
て第４図および第５図に示すように、第Ｎ回目のし中断
期間において圧力Ｒ１１装置９の圧力Ｐ （Ｋｐ１５！
” ）およびギヤツブ調整装置１２の移動量Ｌ（Ａが夫
々ΔＰＩおよびΔＬｘだけ補正され、この結果第６図に
示すように非晶質金属の薄膜５の厚さＧ（４）は＋ΔＧ
ｏと−ｊＧｏとの間で所期の厚さＧｏに対して制御され
ることになる。
からの加熱装置２への供電入力Ｗ（ＫＶＡ）は各１０秒
中に夫々２５秒の期間だけし中断器１５によってしゃ断
され、加熱装置２からの外乱磁場が消失したこのし中断
期間中における各センサ１６〜２１からの検知出力によ
って制御装置中でのプログラム修正が行なわれる。そし
て第４図および第５図に示すように、第Ｎ回目のし中断
期間において圧力Ｒ１１装置９の圧力Ｐ （Ｋｐ１５！
” ）およびギヤツブ調整装置１２の移動量Ｌ（Ａが夫
々ΔＰＩおよびΔＬｘだけ補正され、この結果第６図に
示すように非晶質金属の薄膜５の厚さＧ（４）は＋ΔＧ
ｏと−ｊＧｏとの間で所期の厚さＧｏに対して制御され
ることになる。
このように本実施例においては、ギヤツブ祠整装［１２
、圧力調整装置９および高周波電源１３等の各装置の動
作量を予め設定されたプログラムによってマイクロプロ
セツサの機能を備えた制御装置罠よって制御するように
なすと共に、加熱装置２に供電する高周波型６１１３へ
の外部からの入力を所定時間間隔で一定期間しゃ断し、
加熱装置２からの磁場外乱が消失している前記各しゃ新
期間中における各センｔ１６〜２１からの検知出力ｆぎ
号に基づいて前記制御プログラムを修正し、この修正さ
れたプログラムにしたがって前記各装置の動作条件の制
御量を補正するようになされているので、生成される非
晶質金属の薄膜５の厚さが一定圧するように前記各装置
の動作条件を自動的にプログラム制御することができ、
そして特に前記各センサ１６〜２１からの磁場外乱の影
響を受けない正確な検知出力信号によってこのプログラ
ムを修正して動作制御量を補正することができるので、
製造装置の動作制御を適確に行なうことができ、それに
よって一定の厚さの非晶質金属の薄膜を得ることができ
る。またこのように各センサ１６〜２１からのプログラ
ム修正の九めの出力は磁場外乱のない状態において用い
られるので各センナを夫々保護するための従来の磁気シ
ールド等は不要であシ製造装置全体を小型化することが
可能になる。
、圧力調整装置９および高周波電源１３等の各装置の動
作量を予め設定されたプログラムによってマイクロプロ
セツサの機能を備えた制御装置罠よって制御するように
なすと共に、加熱装置２に供電する高周波型６１１３へ
の外部からの入力を所定時間間隔で一定期間しゃ断し、
加熱装置２からの磁場外乱が消失している前記各しゃ新
期間中における各センｔ１６〜２１からの検知出力ｆぎ
号に基づいて前記制御プログラムを修正し、この修正さ
れたプログラムにしたがって前記各装置の動作条件の制
御量を補正するようになされているので、生成される非
晶質金属の薄膜５の厚さが一定圧するように前記各装置
の動作条件を自動的にプログラム制御することができ、
そして特に前記各センサ１６〜２１からの磁場外乱の影
響を受けない正確な検知出力信号によってこのプログラ
ムを修正して動作制御量を補正することができるので、
製造装置の動作制御を適確に行なうことができ、それに
よって一定の厚さの非晶質金属の薄膜を得ることができ
る。またこのように各センサ１６〜２１からのプログラ
ム修正の九めの出力は磁場外乱のない状態において用い
られるので各センナを夫々保護するための従来の磁気シ
ールド等は不要であシ製造装置全体を小型化することが
可能になる。
叙上のように本発明の方法によれば、非晶質金属製造装
置の動作条件を装置規模を増大させる仁となく常に正確
に自動的に制御することができる。
置の動作条件を装置規模を増大させる仁となく常に正確
に自動的に制御することができる。
第１図は本発明方法を適用する装置の概要を示す説明図
、第２図は本発明方法の一実施態様を示すブロック図、
第３図ないし第６図は本発明方法の実施における各部の
制御廖様を示す図である。
、第２図は本発明方法の一実施態様を示すブロック図、
第３図ないし第６図は本発明方法の実施における各部の
制御廖様を示す図である。
Claims (1)
- １、高周波加熱装置により溶融され九金篇をノズルを通
して冷却体上に流出させて急冷する際に各部の動作条件
をそれらの近傍に付設された対応する夫々の計測用セン
サからの検知出力に基づいて制御するようになされた非
晶質金属製造装置の制御方法において、前記各部の動作
条件を予め設定され九プログラムにし九がってマイクロ
プロセッサの機能を有する制御装置によって制御するよ
うになすと共に、前記高周波加熱装置に対する供電入力
を所定時間間隔毎に一定時間し中断し、そして供電入力
の各しゃ新期間中に得られる前記各センサからの検知出
力によ如前記プログラムを修正して前記各部の動作条件
の制御を補正することを特徴と前記非晶質金属製造装置
の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4261382A JPS58159957A (ja) | 1982-03-19 | 1982-03-19 | 非晶質金属製造装置の制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4261382A JPS58159957A (ja) | 1982-03-19 | 1982-03-19 | 非晶質金属製造装置の制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58159957A true JPS58159957A (ja) | 1983-09-22 |
Family
ID=12640866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4261382A Pending JPS58159957A (ja) | 1982-03-19 | 1982-03-19 | 非晶質金属製造装置の制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58159957A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0189313A2 (en) * | 1985-01-22 | 1986-07-30 | Johnson Matthey Public Limited Company | Method and device for compensating for loss of metallostatic pressure during casting of molten metal onto a moving chilled surface |
| JP2005254249A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Yaskawa Electric Corp | 液体金属急冷装置 |
| KR20200047112A (ko) * | 2018-10-26 | 2020-05-07 | 주식회사 포스코 | 금속 소재 제조장치 및 그 방법 |
-
1982
- 1982-03-19 JP JP4261382A patent/JPS58159957A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0189313A2 (en) * | 1985-01-22 | 1986-07-30 | Johnson Matthey Public Limited Company | Method and device for compensating for loss of metallostatic pressure during casting of molten metal onto a moving chilled surface |
| EP0189313A3 (en) * | 1985-01-22 | 1988-08-24 | Johnson Matthey Public Limited Company | Method and device for compensating for loss of metallostatic pressure during casting of molten metal onto a moving chilled surface |
| JP2005254249A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Yaskawa Electric Corp | 液体金属急冷装置 |
| KR20200047112A (ko) * | 2018-10-26 | 2020-05-07 | 주식회사 포스코 | 금속 소재 제조장치 및 그 방법 |
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