JPS58158599A - 汚染表面層の除去装置 - Google Patents
汚染表面層の除去装置Info
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- JPS58158599A JPS58158599A JP4073182A JP4073182A JPS58158599A JP S58158599 A JPS58158599 A JP S58158599A JP 4073182 A JP4073182 A JP 4073182A JP 4073182 A JP4073182 A JP 4073182A JP S58158599 A JPS58158599 A JP S58158599A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は原子力発電所１次系等における汚染表面層の除
去装置に係るものである。
去装置に係るものである。
原子力発電所における除染法として、高圧ガスまたは高
圧水と固体微粒子との混合流体を除染対象基材表面に高
速で吹付け、同表面に耐着している放射性被膜を機械的
に除去する方法が提案、実施されている。
圧水と固体微粒子との混合流体を除染対象基材表面に高
速で吹付け、同表面に耐着している放射性被膜を機械的
に除去する方法が提案、実施されている。
この方法で使用が検討されている固体微粒子として、三
Ｍ化硼素（Ｂ２０３）、四三酸化鉄（Ｆｅ３ｏ４）、そ
の他の金属微粒子が挙げられているが、これらの固体粒
子では廃棄物量の増大、或いは使用固体粒子の回収等の
問題が生起し又いる。
Ｍ化硼素（Ｂ２０３）、四三酸化鉄（Ｆｅ３ｏ４）、そ
の他の金属微粒子が挙げられているが、これらの固体粒
子では廃棄物量の増大、或いは使用固体粒子の回収等の
問題が生起し又いる。
これらの問題に対処するため、除染作業後の原子炉循環
路、或いは他の構成部品からの除去が不要、若しくは少
なくとも容易であり、廃棄物発生量の極め１少い固体微
粒子噴射物とし℃、氷、或いはト９ライアイス（固形Ｃ
０２）の使用が提案され℃いる。
路、或いは他の構成部品からの除去が不要、若しくは少
なくとも容易であり、廃棄物発生量の極め１少い固体微
粒子噴射物とし℃、氷、或いはト９ライアイス（固形Ｃ
０２）の使用が提案され℃いる。
本発明はこのような固体微粒子噴射物による汚染表面層
の除染を有効に遂行しうる、新規有用な除去装置を提供
することを目的として提案されたものであって、液体二
酸化炭素を収容する第１の容器、液体窒素を収容する第
２の容器、固体二酸化炭素粒子の噴出装置、同噴出装置
と前記第１の容器及び前記第２の容器とを夫々連絡する
二酸化炭素供給管並に窒素ガス供給管よりなり、前記噴
出装置には二酸化炭素ガスの膨張空間を形成するととも
に、同空間に連通した固体二酸化炭素噴射ノズル内に窒
素ガスノズルを配設してなることを特徴とする汚染表面
層の除去装置に係るものである。
の除染を有効に遂行しうる、新規有用な除去装置を提供
することを目的として提案されたものであって、液体二
酸化炭素を収容する第１の容器、液体窒素を収容する第
２の容器、固体二酸化炭素粒子の噴出装置、同噴出装置
と前記第１の容器及び前記第２の容器とを夫々連絡する
二酸化炭素供給管並に窒素ガス供給管よりなり、前記噴
出装置には二酸化炭素ガスの膨張空間を形成するととも
に、同空間に連通した固体二酸化炭素噴射ノズル内に窒
素ガスノズルを配設してなることを特徴とする汚染表面
層の除去装置に係るものである。
本発明は前記したように構成されているので、固体二酸
化炭素粒子の噴出装置に液体二酸化炭素を収容する第１
の容器より二酸化炭素供給管を介し″′Ｃ液体二酸化炭
素が注入され、同液体二酸化炭素は前記噴出装置に形成
された二酸化炭素ガスの膨張空間における断熱膨張によ
る温度低下によつ又一部固体二酸化戻累微粒子となり、
前記膨張空間に連通ずる固体二酸化炭素噴射ノズルに到
達し同ノズル内に配設された。液体窒素を収容する第２
の容器に連絡する窒素ガス供給管先端の窒素ガスノズル
より噴射された窒素ガスによって、前記固体二酸化炭素
微粒子は更に冷却且つ加速され、前記固体二酸化炭素ガ
ス噴射ノズルより噴射されて被除染表面に衝突ｌ−℃、
表面汚染物を除去するものである。
化炭素粒子の噴出装置に液体二酸化炭素を収容する第１
の容器より二酸化炭素供給管を介し″′Ｃ液体二酸化炭
素が注入され、同液体二酸化炭素は前記噴出装置に形成
された二酸化炭素ガスの膨張空間における断熱膨張によ
る温度低下によつ又一部固体二酸化戻累微粒子となり、
前記膨張空間に連通ずる固体二酸化炭素噴射ノズルに到
達し同ノズル内に配設された。液体窒素を収容する第２
の容器に連絡する窒素ガス供給管先端の窒素ガスノズル
より噴射された窒素ガスによって、前記固体二酸化炭素
微粒子は更に冷却且つ加速され、前記固体二酸化炭素ガ
ス噴射ノズルより噴射されて被除染表面に衝突ｌ−℃、
表面汚染物を除去するものである。
本発明に係る汚染表面層の除去装置はこのように簡単な
構成で、除染対象面の極め又近傍で固体二酸化炭素粒子
の製造及びその高速噴射が可能となり、構造を小型化且
つ単純化しうるので、作業空間の狭隘な個所でも適用し
うるものである等、本発明は多くの利点を有するもので
ある。
構成で、除染対象面の極め又近傍で固体二酸化炭素粒子
の製造及びその高速噴射が可能となり、構造を小型化且
つ単純化しうるので、作業空間の狭隘な個所でも適用し
うるものである等、本発明は多くの利点を有するもので
ある。
以下本発明を図示の実施例につい又説明する。
図示の汚染表面層の除去装置は液体二酸化炭素供給系と
、低温窒素ガス供給系と固体二酸化炭素（ドライアイス
）粒子の噴出装置とより構成され又いる。
、低温窒素ガス供給系と固体二酸化炭素（ドライアイス
）粒子の噴出装置とより構成され又いる。
而して前記液体二酸化炭素供給系は、液体二酸化炭素容
器（１）、及び同容器（１１に接続された液体二酸化炭
素供給管（２）、並に間管（２）に介装された流量計（
３）、圧力計（４）及びバルブ（５）より構成されてい
る。
器（１）、及び同容器（１１に接続された液体二酸化炭
素供給管（２）、並に間管（２）に介装された流量計（
３）、圧力計（４）及びバルブ（５）より構成されてい
る。
また低温窒素ガス供給系は、液体窒素容器（６）、及び
同容器（６）に接続された低温窒素供給管（７）、並に
間管（７）に介装された流量計（８）、圧力計（９）及
びバルブ（１【０より構成されている。
同容器（６）に接続された低温窒素供給管（７）、並に
間管（７）に介装された流量計（８）、圧力計（９）及
びバルブ（１【０より構成されている。
第２図は固体二酸化炭素噴射ノズルの詳細な示し、同噴
出装置（１１）の主体を構成する二酸化炭素ガスの膨出
空間を有する容器Ｏｚの基端には、前記液体二酸化炭素
供給管、（２）の先端ノズル（１□□□が接続され、ま
た容器（１２の先端に配設された固体二酸化炭素微粒子
の噴射ノズル（＋４）部分には、前記低温窒素供給管（
７）先端の低温窒素ガス噴出ノズル（１５）が配設され
又いる。更に前記容器α２における二酸化炭素ガスの膨
張空間の外周には、ガススクリーン（１（匂が配設され
ている。
出装置（１１）の主体を構成する二酸化炭素ガスの膨出
空間を有する容器Ｏｚの基端には、前記液体二酸化炭素
供給管、（２）の先端ノズル（１□□□が接続され、ま
た容器（１２の先端に配設された固体二酸化炭素微粒子
の噴射ノズル（＋４）部分には、前記低温窒素供給管（
７）先端の低温窒素ガス噴出ノズル（１５）が配設され
又いる。更に前記容器α２における二酸化炭素ガスの膨
張空間の外周には、ガススクリーン（１（匂が配設され
ている。
図示の装置は前記のように構成されているので前記固体
二酸化炭素噴出装置（１１）の容器（１２＋内に、その
基端部からノズル（１３）を介して高圧液体二酸化炭素
が注入噴霧され、同液体二酸化炭素の断熱膨張による温
度低下によって噴霧された液体二酸化炭素の一部は固化
し、固体二酸化炭素（ト８ライアイス）微粒子となり、
また一部は気化して二酸化炭素ガスと′ｆ、【る。
二酸化炭素噴出装置（１１）の容器（１２＋内に、その
基端部からノズル（１３）を介して高圧液体二酸化炭素
が注入噴霧され、同液体二酸化炭素の断熱膨張による温
度低下によって噴霧された液体二酸化炭素の一部は固化
し、固体二酸化炭素（ト８ライアイス）微粒子となり、
また一部は気化して二酸化炭素ガスと′ｆ、【る。
而し℃二酸化炭素ガスは前記容器圓内のガススクリーン
０１号によって同容器０２１外に数量され、一方固体二
酸化炭素微粒子は前記容器（１２）の先端ノズルｆ１４
）部分に到達し、四部に配設された低温窒素ガス噴出ノ
ズル（ｌωより噴出された低温窒素ガスによって更に冷
却、且つ加速され又前記ノズル（Ｉ４）より噴出されて
被除染表面に衝突して、同表面の汚染物被膜を除去する
ものである。
０１号によって同容器０２１外に数量され、一方固体二
酸化炭素微粒子は前記容器（１２）の先端ノズルｆ１４
）部分に到達し、四部に配設された低温窒素ガス噴出ノ
ズル（ｌωより噴出された低温窒素ガスによって更に冷
却、且つ加速され又前記ノズル（Ｉ４）より噴出されて
被除染表面に衝突して、同表面の汚染物被膜を除去する
ものである。
なお本発明は原子力発電所の１次系除染の他に船舶防錆
塗料の除去等の無公害メラステイング装置等にも適用さ
れるものである。
塗料の除去等の無公害メラステイング装置等にも適用さ
れるものである。
以上本発明を実施例について説明したが、本発明は勿論
こσ）ような実施例にだけ局限されるものではなく、本
発明の精神を逸脱しない範囲内で種々の設計の改変を施
しうるものである６
こσ）ような実施例にだけ局限されるものではなく、本
発明の精神を逸脱しない範囲内で種々の設計の改変を施
しうるものである６
第１図は本発明に係る汚染表面層の除去装置の一実施例
を示す説明図、第５図はその固体二酸化炭素粒子の噴出
装置の詳細を示す縦断面図である。 （１１・・・液体二酸化炭素容器、（２）・・・液体二
酸化炭素供給管、（６）・・・液体窒素容器、（７）・
・・液体窒素供給管、（ｉｌｌ・・・固体二酸化炭素噴
出装置、０３）・・・液体二酸化炭素σ）噴出ノズル、
０句・・・固体二酸化炭素微粒子の噴出／Ｘル、（１５
１・・・低温窒素ガスのＩ［出ノズル。 復代理人升埋士岡 本 重 文 外２名 （７） 帛２図
を示す説明図、第５図はその固体二酸化炭素粒子の噴出
装置の詳細を示す縦断面図である。 （１１・・・液体二酸化炭素容器、（２）・・・液体二
酸化炭素供給管、（６）・・・液体窒素容器、（７）・
・・液体窒素供給管、（ｉｌｌ・・・固体二酸化炭素噴
出装置、０３）・・・液体二酸化炭素σ）噴出ノズル、
０句・・・固体二酸化炭素微粒子の噴出／Ｘル、（１５
１・・・低温窒素ガスのＩ［出ノズル。 復代理人升埋士岡 本 重 文 外２名 （７） 帛２図
Claims (1)
- 液体二酸化炭素を収容する第１の容器、液体窒素を収容
する第２の容器、固体二酸化炭素粒子の噴出装置、同噴
出装置と前記第１の容器及び前記第２の容器とを夫々連
絡する二酸化炭素供給管並に窒素ガス供給管よりなり、
前記噴出装置には二酸化炭素ガスの膨腸空間を形成する
とともに、同空間に連通した固体二酸化炭素噴射ノズル
内に窒素ガスノズルを配設してなることを特徴とする汚
染表面層の除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4073182A JPS58158599A (ja) | 1982-03-17 | 1982-03-17 | 汚染表面層の除去装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4073182A JPS58158599A (ja) | 1982-03-17 | 1982-03-17 | 汚染表面層の除去装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58158599A true JPS58158599A (ja) | 1983-09-20 |
| JPS6322558B2 JPS6322558B2 (ja) | 1988-05-12 |
Family
ID=12588768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4073182A Granted JPS58158599A (ja) | 1982-03-17 | 1982-03-17 | 汚染表面層の除去装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58158599A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008529760A (ja) * | 2005-02-05 | 2008-08-07 | クライオスノウ ゲーエムベーハー | 雪状の二酸化炭素の噴射を用いて加工物の洗浄、活性化ないしは前処理を行うための装置および方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6726777B1 (en) | 1999-06-24 | 2004-04-27 | Sumitomo Heavy Industries Ltd. | Cleaning method and apparatus using fluid spraying |
-
1982
- 1982-03-17 JP JP4073182A patent/JPS58158599A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008529760A (ja) * | 2005-02-05 | 2008-08-07 | クライオスノウ ゲーエムベーハー | 雪状の二酸化炭素の噴射を用いて加工物の洗浄、活性化ないしは前処理を行うための装置および方法 |
| US7967664B2 (en) | 2005-02-05 | 2011-06-28 | Cryosnow Gmbh | Device and process for cleaning, activation or pretreatment of work pieces by means of carbon dioxide blasting |
| JP4939439B2 (ja) * | 2005-02-05 | 2012-05-23 | クライオスノウ ゲーエムベーハー | 雪状の二酸化炭素の噴射を用いて加工物の洗浄、活性化ないしは前処理を行うための装置および方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6322558B2 (ja) | 1988-05-12 |
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