JPS58158575A - X線感応装置の基部構造体 - Google Patents

X線感応装置の基部構造体

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JPS58158575A
JPS58158575A JP58029590A JP2959083A JPS58158575A JP S58158575 A JPS58158575 A JP S58158575A JP 58029590 A JP58029590 A JP 58029590A JP 2959083 A JP2959083 A JP 2959083A JP S58158575 A JPS58158575 A JP S58158575A
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ray
ray sensitive
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base
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JP58029590A
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リチヤ−ド・ベントリ−・リ−バ−ト
ヨハン・ウイレム・ハ−ルマン
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Philips Gloeilampenfabrieken NV
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    • G21K1/00Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/02Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
    • G21K1/025Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using multiple collimators, e.g. Bucky screens; other devices for eliminating undesired or dispersed radiation
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈発明の分野および従来技術〉 本発明はX線感応材料を有するX線感応装置を支持する
基部構造体に関するものである。
散乱した放射線を選択的に減衰することによつ・てX線
写真のコントラストラ改善するのしこ格子構体を使用す
るのが一般的である。こσ)ような格子構体は、平行型
、集束型、または交差型のいずれかであり、また静止型
または可動型とすることができる。エッチ・イー・ジョ
ーンズ(H、E 、Johns )氏およびジエイ・ア
ールφクニンガムC,1,R。
Ounningham )氏共著、出版者、チャールー
ズ・シー・トーツス(charles C,Thoma
s )、第8版、1978年度版、「放射線物理学(t
he physlcs ofRadiologY ) 
jの第614〜61’1頁に種々の格子構体が挙げられ
ている。
「電子装置におけるアイ・イー・イー・イー会議録(I
EEE Transactions on Elect
ron’[)evic88 ) −J (第26巻、第
8号、1979年8月発行)の第11513〜1155
頁に記載のミュラウ(Murau )氏等による記事[
電気泳動式X線結像装置(AN ELEOTROPHO
RETIOX−RAY IMAGINGDEv工CE)
」に示されているような電気泳動式X線結像装置におい
ては、X線感応材料を基部′構造体に堆積させる。この
ような基部構造体は、平坦にしてX線感応材料を均等に
塗布させることができ、その後にセル構造体を平行な間
隔をとって取付けることができなければならない。更に
X線放射線が基部構造体に入射した場合、減衰が少なく
、高感度特性が得られるようにする。基部構造体を・標
準的な材料、例えばアルミニウム甘たはガラスの厚い層
にすると、必要とされる平坦さおよび堅固さを実現でき
るが、X線の減衰が大きくなる。
〈発明の目的、構成および効果〉 従って、本発明の目的は、格子構体の強度を高め、1〜
かもX線結像装置の散乱放射線を減衰するX線感応装置
の基部構造体を得るにある。
更に、本発明によれば、X線感応電気泳動式X線結像装
置を支持する格子型基部構造体を提供することができる
という利点がある。
上述の目的を達成するため、本発明による基部構造体は
互いに一定距離離れた1対のX線透過性支持層と、これ
らX線透過性支持層間に挾持した格子構体とにより構成
したことを特徴とする。この構成によれば、機械的な強
奪が強化されるとともに、散乱した放射線を大幅に減衰
することができ、しかも−次X放射線の透過が良好とな
る。
本発明による基部構造体にX線感応材料を支持する。こ
の場合、X線感応装置を、X線感応材料の一方の佃1面
に配置した電気泳動セル構成体に工lり構成する。
好適な実施例においては、X線透過性支持層をグラファ
イト、またはガラス、またはプラスチック、または原子
番号の低い金属のいずれかにより構成する。X線透過性
支持層間に挾持する格子構j体はX線吸収材、例えば鉛
またはビスマスとする。
格子構体は、平行型格子、または交差型格子、または渦
巻き型格子、またはハニカム型格子、または他の非方形
型の格子とすることができる。更に、集束型または非集
束型の格子とすることもできる。
好適な実施例にνいては、格子構体の格子間の空間に発
泡性充填材を充填する。県にX線透過性支持層を補強フ
ァイバにエリ強化するとよい。
本発明によれば、必要とされる平坦度を得るための張力
を加オることかできる肉薄の基部構造体を得ることがで
きる。代案として、工作機械により仕上げ加工した基部
構造体とすることもで六る、格子型基部構造体を形成j
また後にX線感応材料な塗布し、通常の製造技術により
仕上げることかで・きる。
〈発明の実施例〉 次に図面につき本発明の詳細な説明する。
本発明による基部構造体を第1図に示すように電気泳動
式X@感応結像装置と組合せて使用するbこの図面にお
いて、本発明による基部構造体1は、電気泳動セル構成
体の一方の側面に設けたX線感応層8のための支持構体
をなす。本発明によれば、基部構造体1、電極2、およ
びX線感応層8を順次配列し、電気泳動セル構成体の一
方の側面ケ畝内表面である境界面4とする。電気泳動セ
ル構成体には、染料を含有する電気泳動流体5と、帯電
した色素粒子8とを収容し、この色素粒子8は図示のよ
うに境界面4捷たは透明電極6に群をなして接触する。
電気泳動セル構成体の端縁はシール′7により封鎖し、
流体および粒子がセル構成体から洩れるのを防止する。
透明サブストレート即ちフェースプレート]0により電
気泳動セル構成体を被い、表示面を介す。
X線9が格子11および格子間の空間12i有1する基
部構造体に伝播すると、X線感応−8において可動の帯
電キャリヤが生ずる。これら帯電キャリヤは七ル構成体
ケ横切る電界により移動し、境界面4に達する。この境
界面4は、セル構成体の電気泳動部分をx@感応部分か
ら区切る。境界1面4において帯電することにより静電
潜像が形成され、セル構成体の電気泳動部分ケ横切って
異なる電位差を生せしめる。例えば、境界面に正帯電が
あれば、負に帯電した色素粒子がこの正帯電部分に吸引
され、潜像が現像される。このようにして、X線強度の
特別な分布?示す可視像が形成される。
第1図に示す構成の基部構造体1の好適な実施例を第2
A図に参考と12で示す。この基部構造体においては、
互いに離れて対向する2個のX線透過性支持層20 (
第1図では符号「18」で示す)間に単に平行に配列し
た格子21を形成する。各格子部分の間には空間22が
存在する。代案として、これら格子間の空間22に発泡
性充填材24を詰めることによシ強度を強化することも
できる己・第2A図に示すX線透過性支持層20は、グ
ラファイト、ガラス、原子番号の低い金属(例えばベリ
リウム若しくはアルミニウム)、マたはプラスチック(
例えば、ポリカーボネー) 、PMMA 。
若しくはナイロン)とすることができる。格子 121
の材質は、X線吸収材、例えば鉛またはビスマスとする
ことができる。
llZA図に示した基部構造体は、X線が垂直に   
 ゛入射するときに減衰が小さい構成である。この工う
な基部構造体は第1図に示す工うな電気泳動セ。
ル構成体に使用することができる。この電気泳動構成体
は、85.56cfnx48.18 cm (14” 
X 17” )もの大形の寸法にすることもできる。電
極2,6間の間隔は50〜800ミクロンとすることも
できる。
基部構造体の第2の実施例を第8A図に示し、と・の実
施例においては、補強集束型格子を設ける。
第8A図の断面図に示すように、X線吸収材よりなる格
子′28を、第2A図の実施例と?j違って傾ける。こ
の実施例において、X線透過性支持層20はボロンまた
はカーボン製の補強ファイバを含有するものとすること
ができ、このX線透過性支持層20を格子構体に直交さ
せる。
格子構体の他の実施例を第2B図に示し、この実施例に
おいては、格子21を交差させる。この交差格子構体に
第8A図の実施例のように集束さ。
せることもできる。
これら格子構体を種々に組合せることもできる。
また例えば、第8B図に示す渦巻き型格子構体26を使
用することもでき、第8C図に示すハニカム型格子構体
27を使用することもできる。更。
に非方形の交差格子構体も使用することができる。・本
発明による基部構造体は電気泳動セル#lv成体以外の
他の構成体にも使用することができる。適用の唯一の基
準は、x@減衰の低いことが要求される平用で堅固な基
部構造に本発明による基部構造体を使用するということ
である。
上述したところは、本発明の例を示したに逼キ゛ず、請
求の範囲において種々の変更ケ加えることができること
勿論である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明による基部構造体ケ具える電気泳動式
X@感応結像装(背の線図的縦断面図、第2A図は、本
発明による基部構造体に使用する平行格子構体を示す縦
断面図、 第2B図(才、交差格子構体の平面図、第8に図は、集
束型平行格子構体の縦断面図、第8B図は、格子構体の
他の実施例の平面図、第8C図は、格子構体の更に他の
実施例の平面図である1、 ■・・・基部構造体    2−・・電極8・・・xm
感応層    4・・・境界面5・・・電気泳動流体 
  6・・・透明電極?・・・7−ル      8・
・・色素粒子9・・・)(il         10
・・・フェースプレート11、21.2399.格子 
  12.22・・・格子間の空間18、20・・・X
線透過性支持層 24・・・発泡性充填材   26・・・渦巻き型格子
構体27・・・ハニカム型格子構体。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 L X線感応材料を有するX線感応装置を支持する基部
    構造体において、互いに一定距離離れた1対のX線透過
    性支持層と、これらX線透過性支持層間に挾持した格子
    構体とにより構成したことを特徴とするX線感応装置の
    基部構造体。 aX線感応装置を、X線感応材料の一方の側面に配置し
    た電気泳動セル構成体により構成したことを特徴とする
    特許請求の範囲1記載のX線感応装置の基部構造体っ & X線透過性支持層を、グラファイト、またはガラス
    、またはプラスチック、または原子番号の低い金属のい
    ずれかにより構成したことを特徴とする特許請求の範囲
    lまたは2記載のX線感応装置の基部構造体。 表 格子構体孕X線吸収材により構成したことを特徴と
    する特許請求の範囲1または2記載のX線感応装置の基
    部構造体。 丘 格子構体の格子間の空間に発泡性充填材を充増した
    ことを特徴とする特許請求の範囲1捷たは2記載のX線
    感応装置の基部構造体。 6 格子構体を交差格子状に構成しまたことを特徴とす
    る特許請求の範囲1または2記載のX゛線感応装置の基
    部構造体、 7、 格子構体を集束型格子構体としたことを特徴とす
    る特許請求の範囲1または2記載のX線感応装置の基部
    構造体。 & 格子構体な渦巻き型構体、寸た+−1ハニ力ム型構
    体、または非方形構体のいずれかの構体とすることを特
    徴とする特許請求の範囲1または2記載のX線感応装置
    の基部構造体。 9、 X線透過性支持層上、ポリカーボネート、または
    ポリメチルメタクリレート、またはナイロンのいずれか
    によりほぼ構成したことを特徴とする特許請求の範囲2
    記載のX線感応装置の基部構造体。
JP58029590A 1982-03-01 1983-02-25 X線感応装置の基部構造体 Pending JPS58158575A (ja)

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US06/353,557 US4414679A (en) 1982-03-01 1982-03-01 X-Ray sensitive electrophoretic imagers

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JPS58158575A true JPS58158575A (ja) 1983-09-20

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EP (1) EP0087844B1 (ja)
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EP0087844B1 (en) 1987-11-11
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