JPS58158575A - X線感応装置の基部構造体 - Google Patents
X線感応装置の基部構造体Info
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- JPS58158575A JPS58158575A JP58029590A JP2959083A JPS58158575A JP S58158575 A JPS58158575 A JP S58158575A JP 58029590 A JP58029590 A JP 58029590A JP 2959083 A JP2959083 A JP 2959083A JP S58158575 A JPS58158575 A JP S58158575A
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- ray
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- sensitive device
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- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
- G21K1/025—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using multiple collimators, e.g. Bucky screens; other devices for eliminating undesired or dispersed radiation
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/165—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on translational movement of particles in a fluid under the influence of an applied field
- G02F1/166—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on translational movement of particles in a fluid under the influence of an applied field characterised by the electro-optical or magneto-optical effect
- G02F1/167—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on translational movement of particles in a fluid under the influence of an applied field characterised by the electro-optical or magneto-optical effect by electrophoresis
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G17/00—Electrographic processes using patterns other than charge patterns, e.g. an electric conductivity pattern; Processes involving a migration, e.g. photoelectrophoresis, photoelectrosolography; Processes involving a selective transfer, e.g. electrophoto-adhesive processes; Apparatus essentially involving a single such process
- G03G17/04—Electrographic processes using patterns other than charge patterns, e.g. an electric conductivity pattern; Processes involving a migration, e.g. photoelectrophoresis, photoelectrosolography; Processes involving a selective transfer, e.g. electrophoto-adhesive processes; Apparatus essentially involving a single such process using photoelectrophoresis
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈発明の分野および従来技術〉
本発明はX線感応材料を有するX線感応装置を支持する
基部構造体に関するものである。
基部構造体に関するものである。
散乱した放射線を選択的に減衰することによつ・てX線
写真のコントラストラ改善するのしこ格子構体を使用す
るのが一般的である。こσ)ような格子構体は、平行型
、集束型、または交差型のいずれかであり、また静止型
または可動型とすることができる。エッチ・イー・ジョ
ーンズ(H、E 、Johns )氏およびジエイ・ア
ールφクニンガムC,1,R。
写真のコントラストラ改善するのしこ格子構体を使用す
るのが一般的である。こσ)ような格子構体は、平行型
、集束型、または交差型のいずれかであり、また静止型
または可動型とすることができる。エッチ・イー・ジョ
ーンズ(H、E 、Johns )氏およびジエイ・ア
ールφクニンガムC,1,R。
Ounningham )氏共著、出版者、チャールー
ズ・シー・トーツス(charles C,Thoma
s )、第8版、1978年度版、「放射線物理学(t
he physlcs ofRadiologY )
jの第614〜61’1頁に種々の格子構体が挙げられ
ている。
ズ・シー・トーツス(charles C,Thoma
s )、第8版、1978年度版、「放射線物理学(t
he physlcs ofRadiologY )
jの第614〜61’1頁に種々の格子構体が挙げられ
ている。
「電子装置におけるアイ・イー・イー・イー会議録(I
EEE Transactions on Elect
ron’[)evic88 ) −J (第26巻、第
8号、1979年8月発行)の第11513〜1155
頁に記載のミュラウ(Murau )氏等による記事[
電気泳動式X線結像装置(AN ELEOTROPHO
RETIOX−RAY IMAGINGDEv工CE)
」に示されているような電気泳動式X線結像装置におい
ては、X線感応材料を基部′構造体に堆積させる。この
ような基部構造体は、平坦にしてX線感応材料を均等に
塗布させることができ、その後にセル構造体を平行な間
隔をとって取付けることができなければならない。更に
X線放射線が基部構造体に入射した場合、減衰が少なく
、高感度特性が得られるようにする。基部構造体を・標
準的な材料、例えばアルミニウム甘たはガラスの厚い層
にすると、必要とされる平坦さおよび堅固さを実現でき
るが、X線の減衰が大きくなる。
EEE Transactions on Elect
ron’[)evic88 ) −J (第26巻、第
8号、1979年8月発行)の第11513〜1155
頁に記載のミュラウ(Murau )氏等による記事[
電気泳動式X線結像装置(AN ELEOTROPHO
RETIOX−RAY IMAGINGDEv工CE)
」に示されているような電気泳動式X線結像装置におい
ては、X線感応材料を基部′構造体に堆積させる。この
ような基部構造体は、平坦にしてX線感応材料を均等に
塗布させることができ、その後にセル構造体を平行な間
隔をとって取付けることができなければならない。更に
X線放射線が基部構造体に入射した場合、減衰が少なく
、高感度特性が得られるようにする。基部構造体を・標
準的な材料、例えばアルミニウム甘たはガラスの厚い層
にすると、必要とされる平坦さおよび堅固さを実現でき
るが、X線の減衰が大きくなる。
〈発明の目的、構成および効果〉
従って、本発明の目的は、格子構体の強度を高め、1〜
かもX線結像装置の散乱放射線を減衰するX線感応装置
の基部構造体を得るにある。
かもX線結像装置の散乱放射線を減衰するX線感応装置
の基部構造体を得るにある。
更に、本発明によれば、X線感応電気泳動式X線結像装
置を支持する格子型基部構造体を提供することができる
という利点がある。
置を支持する格子型基部構造体を提供することができる
という利点がある。
上述の目的を達成するため、本発明による基部構造体は
互いに一定距離離れた1対のX線透過性支持層と、これ
らX線透過性支持層間に挾持した格子構体とにより構成
したことを特徴とする。この構成によれば、機械的な強
奪が強化されるとともに、散乱した放射線を大幅に減衰
することができ、しかも−次X放射線の透過が良好とな
る。
互いに一定距離離れた1対のX線透過性支持層と、これ
らX線透過性支持層間に挾持した格子構体とにより構成
したことを特徴とする。この構成によれば、機械的な強
奪が強化されるとともに、散乱した放射線を大幅に減衰
することができ、しかも−次X放射線の透過が良好とな
る。
本発明による基部構造体にX線感応材料を支持する。こ
の場合、X線感応装置を、X線感応材料の一方の佃1面
に配置した電気泳動セル構成体に工lり構成する。
の場合、X線感応装置を、X線感応材料の一方の佃1面
に配置した電気泳動セル構成体に工lり構成する。
好適な実施例においては、X線透過性支持層をグラファ
イト、またはガラス、またはプラスチック、または原子
番号の低い金属のいずれかにより構成する。X線透過性
支持層間に挾持する格子構j体はX線吸収材、例えば鉛
またはビスマスとする。
イト、またはガラス、またはプラスチック、または原子
番号の低い金属のいずれかにより構成する。X線透過性
支持層間に挾持する格子構j体はX線吸収材、例えば鉛
またはビスマスとする。
格子構体は、平行型格子、または交差型格子、または渦
巻き型格子、またはハニカム型格子、または他の非方形
型の格子とすることができる。更に、集束型または非集
束型の格子とすることもできる。
巻き型格子、またはハニカム型格子、または他の非方形
型の格子とすることができる。更に、集束型または非集
束型の格子とすることもできる。
好適な実施例にνいては、格子構体の格子間の空間に発
泡性充填材を充填する。県にX線透過性支持層を補強フ
ァイバにエリ強化するとよい。
泡性充填材を充填する。県にX線透過性支持層を補強フ
ァイバにエリ強化するとよい。
本発明によれば、必要とされる平坦度を得るための張力
を加オることかできる肉薄の基部構造体を得ることがで
きる。代案として、工作機械により仕上げ加工した基部
構造体とすることもで六る、格子型基部構造体を形成j
また後にX線感応材料な塗布し、通常の製造技術により
仕上げることかで・きる。
を加オることかできる肉薄の基部構造体を得ることがで
きる。代案として、工作機械により仕上げ加工した基部
構造体とすることもで六る、格子型基部構造体を形成j
また後にX線感応材料な塗布し、通常の製造技術により
仕上げることかで・きる。
〈発明の実施例〉
次に図面につき本発明の詳細な説明する。
本発明による基部構造体を第1図に示すように電気泳動
式X@感応結像装置と組合せて使用するbこの図面にお
いて、本発明による基部構造体1は、電気泳動セル構成
体の一方の側面に設けたX線感応層8のための支持構体
をなす。本発明によれば、基部構造体1、電極2、およ
びX線感応層8を順次配列し、電気泳動セル構成体の一
方の側面ケ畝内表面である境界面4とする。電気泳動セ
ル構成体には、染料を含有する電気泳動流体5と、帯電
した色素粒子8とを収容し、この色素粒子8は図示のよ
うに境界面4捷たは透明電極6に群をなして接触する。
式X@感応結像装置と組合せて使用するbこの図面にお
いて、本発明による基部構造体1は、電気泳動セル構成
体の一方の側面に設けたX線感応層8のための支持構体
をなす。本発明によれば、基部構造体1、電極2、およ
びX線感応層8を順次配列し、電気泳動セル構成体の一
方の側面ケ畝内表面である境界面4とする。電気泳動セ
ル構成体には、染料を含有する電気泳動流体5と、帯電
した色素粒子8とを収容し、この色素粒子8は図示のよ
うに境界面4捷たは透明電極6に群をなして接触する。
電気泳動セル構成体の端縁はシール′7により封鎖し、
流体および粒子がセル構成体から洩れるのを防止する。
流体および粒子がセル構成体から洩れるのを防止する。
透明サブストレート即ちフェースプレート]0により電
気泳動セル構成体を被い、表示面を介す。
気泳動セル構成体を被い、表示面を介す。
X線9が格子11および格子間の空間12i有1する基
部構造体に伝播すると、X線感応−8において可動の帯
電キャリヤが生ずる。これら帯電キャリヤは七ル構成体
ケ横切る電界により移動し、境界面4に達する。この境
界面4は、セル構成体の電気泳動部分をx@感応部分か
ら区切る。境界1面4において帯電することにより静電
潜像が形成され、セル構成体の電気泳動部分ケ横切って
異なる電位差を生せしめる。例えば、境界面に正帯電が
あれば、負に帯電した色素粒子がこの正帯電部分に吸引
され、潜像が現像される。このようにして、X線強度の
特別な分布?示す可視像が形成される。
部構造体に伝播すると、X線感応−8において可動の帯
電キャリヤが生ずる。これら帯電キャリヤは七ル構成体
ケ横切る電界により移動し、境界面4に達する。この境
界面4は、セル構成体の電気泳動部分をx@感応部分か
ら区切る。境界1面4において帯電することにより静電
潜像が形成され、セル構成体の電気泳動部分ケ横切って
異なる電位差を生せしめる。例えば、境界面に正帯電が
あれば、負に帯電した色素粒子がこの正帯電部分に吸引
され、潜像が現像される。このようにして、X線強度の
特別な分布?示す可視像が形成される。
第1図に示す構成の基部構造体1の好適な実施例を第2
A図に参考と12で示す。この基部構造体においては、
互いに離れて対向する2個のX線透過性支持層20 (
第1図では符号「18」で示す)間に単に平行に配列し
た格子21を形成する。各格子部分の間には空間22が
存在する。代案として、これら格子間の空間22に発泡
性充填材24を詰めることによシ強度を強化することも
できる己・第2A図に示すX線透過性支持層20は、グ
ラファイト、ガラス、原子番号の低い金属(例えばベリ
リウム若しくはアルミニウム)、マたはプラスチック(
例えば、ポリカーボネー) 、PMMA 。
A図に参考と12で示す。この基部構造体においては、
互いに離れて対向する2個のX線透過性支持層20 (
第1図では符号「18」で示す)間に単に平行に配列し
た格子21を形成する。各格子部分の間には空間22が
存在する。代案として、これら格子間の空間22に発泡
性充填材24を詰めることによシ強度を強化することも
できる己・第2A図に示すX線透過性支持層20は、グ
ラファイト、ガラス、原子番号の低い金属(例えばベリ
リウム若しくはアルミニウム)、マたはプラスチック(
例えば、ポリカーボネー) 、PMMA 。
若しくはナイロン)とすることができる。格子 121
の材質は、X線吸収材、例えば鉛またはビスマスとする
ことができる。
の材質は、X線吸収材、例えば鉛またはビスマスとする
ことができる。
llZA図に示した基部構造体は、X線が垂直に
゛入射するときに減衰が小さい構成である。この工う
な基部構造体は第1図に示す工うな電気泳動セ。
゛入射するときに減衰が小さい構成である。この工う
な基部構造体は第1図に示す工うな電気泳動セ。
ル構成体に使用することができる。この電気泳動構成体
は、85.56cfnx48.18 cm (14”
X 17” )もの大形の寸法にすることもできる。電
極2,6間の間隔は50〜800ミクロンとすることも
できる。
は、85.56cfnx48.18 cm (14”
X 17” )もの大形の寸法にすることもできる。電
極2,6間の間隔は50〜800ミクロンとすることも
できる。
基部構造体の第2の実施例を第8A図に示し、と・の実
施例においては、補強集束型格子を設ける。
施例においては、補強集束型格子を設ける。
第8A図の断面図に示すように、X線吸収材よりなる格
子′28を、第2A図の実施例と?j違って傾ける。こ
の実施例において、X線透過性支持層20はボロンまた
はカーボン製の補強ファイバを含有するものとすること
ができ、このX線透過性支持層20を格子構体に直交さ
せる。
子′28を、第2A図の実施例と?j違って傾ける。こ
の実施例において、X線透過性支持層20はボロンまた
はカーボン製の補強ファイバを含有するものとすること
ができ、このX線透過性支持層20を格子構体に直交さ
せる。
格子構体の他の実施例を第2B図に示し、この実施例に
おいては、格子21を交差させる。この交差格子構体に
第8A図の実施例のように集束さ。
おいては、格子21を交差させる。この交差格子構体に
第8A図の実施例のように集束さ。
せることもできる。
これら格子構体を種々に組合せることもできる。
また例えば、第8B図に示す渦巻き型格子構体26を使
用することもでき、第8C図に示すハニカム型格子構体
27を使用することもできる。更。
用することもでき、第8C図に示すハニカム型格子構体
27を使用することもできる。更。
に非方形の交差格子構体も使用することができる。・本
発明による基部構造体は電気泳動セル#lv成体以外の
他の構成体にも使用することができる。適用の唯一の基
準は、x@減衰の低いことが要求される平用で堅固な基
部構造に本発明による基部構造体を使用するということ
である。
発明による基部構造体は電気泳動セル#lv成体以外の
他の構成体にも使用することができる。適用の唯一の基
準は、x@減衰の低いことが要求される平用で堅固な基
部構造に本発明による基部構造体を使用するということ
である。
上述したところは、本発明の例を示したに逼キ゛ず、請
求の範囲において種々の変更ケ加えることができること
勿論である。
求の範囲において種々の変更ケ加えることができること
勿論である。
第1図は、本発明による基部構造体ケ具える電気泳動式
X@感応結像装(背の線図的縦断面図、第2A図は、本
発明による基部構造体に使用する平行格子構体を示す縦
断面図、 第2B図(才、交差格子構体の平面図、第8に図は、集
束型平行格子構体の縦断面図、第8B図は、格子構体の
他の実施例の平面図、第8C図は、格子構体の更に他の
実施例の平面図である1、 ■・・・基部構造体 2−・・電極8・・・xm
感応層 4・・・境界面5・・・電気泳動流体
6・・・透明電極?・・・7−ル 8・
・・色素粒子9・・・)(il 10
・・・フェースプレート11、21.2399.格子
12.22・・・格子間の空間18、20・・・X
線透過性支持層 24・・・発泡性充填材 26・・・渦巻き型格子
構体27・・・ハニカム型格子構体。
X@感応結像装(背の線図的縦断面図、第2A図は、本
発明による基部構造体に使用する平行格子構体を示す縦
断面図、 第2B図(才、交差格子構体の平面図、第8に図は、集
束型平行格子構体の縦断面図、第8B図は、格子構体の
他の実施例の平面図、第8C図は、格子構体の更に他の
実施例の平面図である1、 ■・・・基部構造体 2−・・電極8・・・xm
感応層 4・・・境界面5・・・電気泳動流体
6・・・透明電極?・・・7−ル 8・
・・色素粒子9・・・)(il 10
・・・フェースプレート11、21.2399.格子
12.22・・・格子間の空間18、20・・・X
線透過性支持層 24・・・発泡性充填材 26・・・渦巻き型格子
構体27・・・ハニカム型格子構体。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 L X線感応材料を有するX線感応装置を支持する基部
構造体において、互いに一定距離離れた1対のX線透過
性支持層と、これらX線透過性支持層間に挾持した格子
構体とにより構成したことを特徴とするX線感応装置の
基部構造体。 aX線感応装置を、X線感応材料の一方の側面に配置し
た電気泳動セル構成体により構成したことを特徴とする
特許請求の範囲1記載のX線感応装置の基部構造体っ & X線透過性支持層を、グラファイト、またはガラス
、またはプラスチック、または原子番号の低い金属のい
ずれかにより構成したことを特徴とする特許請求の範囲
lまたは2記載のX線感応装置の基部構造体。 表 格子構体孕X線吸収材により構成したことを特徴と
する特許請求の範囲1または2記載のX線感応装置の基
部構造体。 丘 格子構体の格子間の空間に発泡性充填材を充増した
ことを特徴とする特許請求の範囲1捷たは2記載のX線
感応装置の基部構造体。 6 格子構体を交差格子状に構成しまたことを特徴とす
る特許請求の範囲1または2記載のX゛線感応装置の基
部構造体、 7、 格子構体を集束型格子構体としたことを特徴とす
る特許請求の範囲1または2記載のX線感応装置の基部
構造体。 & 格子構体な渦巻き型構体、寸た+−1ハニ力ム型構
体、または非方形構体のいずれかの構体とすることを特
徴とする特許請求の範囲1または2記載のX線感応装置
の基部構造体。 9、 X線透過性支持層上、ポリカーボネート、または
ポリメチルメタクリレート、またはナイロンのいずれか
によりほぼ構成したことを特徴とする特許請求の範囲2
記載のX線感応装置の基部構造体。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US353557 | 1982-03-01 | ||
US06/353,557 US4414679A (en) | 1982-03-01 | 1982-03-01 | X-Ray sensitive electrophoretic imagers |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58158575A true JPS58158575A (ja) | 1983-09-20 |
Family
ID=23389639
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58029590A Pending JPS58158575A (ja) | 1982-03-01 | 1983-02-25 | X線感応装置の基部構造体 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4414679A (ja) |
EP (1) | EP0087844B1 (ja) |
JP (1) | JPS58158575A (ja) |
DE (1) | DE3374479D1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019500958A (ja) * | 2015-12-21 | 2019-01-17 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 超音波対応x線散乱防止グリッド |
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EP0681736B1 (en) * | 1993-01-27 | 2000-09-20 | SOKOLOV, Oleg | Cellular x-ray grid |
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US6252938B1 (en) * | 1997-06-19 | 2001-06-26 | Creatv Microtech, Inc. | Two-dimensional, anti-scatter grid and collimator designs, and its motion, fabrication and assembly |
RU2171979C2 (ru) | 1999-05-28 | 2001-08-10 | Общество с ограниченной ответственностью "Новая оптика" | Антирассеивающий рентгеновский растр (варианты) |
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US6408054B1 (en) * | 1999-11-24 | 2002-06-18 | Xerox Corporation | Micromachined x-ray image contrast grids |
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