JPS58156842A - ロ−ル疵検出装置 - Google Patents

ロ−ル疵検出装置

Info

Publication number
JPS58156842A
JPS58156842A JP4050682A JP4050682A JPS58156842A JP S58156842 A JPS58156842 A JP S58156842A JP 4050682 A JP4050682 A JP 4050682A JP 4050682 A JP4050682 A JP 4050682A JP S58156842 A JPS58156842 A JP S58156842A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
roll
flaw
detection device
autocorrelation
flaws
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP4050682A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0330813B2 (ja
Inventor
Chiaki Fukazawa
深沢 千秋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP4050682A priority Critical patent/JPS58156842A/ja
Publication of JPS58156842A publication Critical patent/JPS58156842A/ja
Publication of JPH0330813B2 publication Critical patent/JPH0330813B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/89Investigating the presence of flaws or contamination in moving material, e.g. running paper or textiles

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Textile Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、圧延ライン等において鋼板、アルミIQ  
) 板、銅板等の帯状走行物に圧延ロールに存在するロール
疵により付着した表面疵を検出し、その検出値に基づい
てロール疵を検出する装置に関する。
〔発明の技術的背景とその問題点〕
圧延ラインにおいては、圧延ロールの圧接により被圧延
材である帯状走行物の表面に疵が付着されることがある
。この表面疵には多くの種類の疵が含まれるが、本発明
は四−ルの軸方向に延びるロール疵によって生じた表面
疵に着目したものである。したがって、かかる表面疵は
ロール周長に対応した周期性を何する(第1図参照)。
従来、上記のような周期性表面疵を検出する方法として
、特公昭52−13592号公報に開示されたようなも
のがある。すなわち、この方法は移動中の被検査材(圧
延材)の表面疵の検査Y光学系を含む検出装置により行
うに際し、前記検出装置より被検査材の表面疵を表わす
・ぞルス信号を得。
このパルス信号を複数のレジスタ回路からなるシフトレ
ジスタに入力し、このシフトレジスタに被検査材の移動
速度に同期したシフトノソルス信号な供給して各レジス
タ回路をシフトさせ、前記複数のレジスタ回路のうち定
間隔のレジスタ回路の出力の論理積を条件として、前記
入力、eルス信号のうち周期性を有するパルス信号を検
知することによって、被検査材の表面疵のうち周期性’
Y!する疵を判別するようにしたものである。
この方法によれば、外乱ノイズや他の疵による疵信号が
偶発的に周期性表面疵と同じ間隔で発生した場合に真の
周期性疵か否かを判別することができず、またロール疵
が検出レベルに達しないほどに小レベルであり、かつ、
間引的なものであった場合には論理積を演算することが
できず、検出不可能となるおそれがある。これは、上記
方法には統計的にS/N比を向上させるという考えが配
属されていないことに起因するものである。
一方、統計的手法を用いてS/N比を改善し、前述の方
法よりも一歩進んだ方式を用いたものがある(実願昭5
5−137391号)。しかし、この方式には次のよう
な欠点がある。
第1に1表面疵の付着周期がわずかずつ変動す(4) る場合に表面疵の周期性がずれるので自動検出が困帷と
なる。疵付着周期の変動の発生は主として圧延ロールと
圧延材とのすべり等に起因する。第2に、2以上の異径
ロールが混在する場合に検査対象ロールが1つに限定さ
れてしまうこと1Cより、かかる混在状態にあっては’
lした疵の弁別ができな(なる。第3には、統計的処理
を行っているが故に圧延材コイルが短いものである場合
K SlN比の向上が期待できない。充分なデータが得
られないからである。
〔発明の目的〕
そこで、本発明は2以上の異径ロールによって付着され
た表面疵であってもそれぞれ同時かつ正確に検出しつる
ロール疵検山襞fを提供することを主な目的とする。
〔発明の概要〕
上記目的を達成するために、本発明のロール疵検出装置
は検出ヘッドにより得た表面疵信号に基づいて表面疵信
号の自己相関をリアルタイムで演算し、求めるよう圧し
た点に主な特徴を有する。
[発明の効果] ヒ記%堂を有する本発明によれば、ロール疵又は表面疵
の周期性を自己相関演算により求めることができるため
、異径ロールによる疵が混在していても各疵の弁別を行
うことができ、正確な検出を行うことができる。加えて
、各疵の弁別によって得られる効果は疵の発生原因たる
ロールを特定できることである。
〔発明の実施例〕
m  原理説明 まず、本発明の特徴である自己相関演算の原理について
説明する。第1図(a)に示すように、ロール1で圧延
される帯状走行物(以下、ス) IJツゾという)2は
矢印の方向に走行し、終端において巻取られてコイル3
となる。この過程1cおいて、ロール1に疵があった場
合にはストリップ2の表面に表面疵が発生するが、その
表面疵信号4は同期性を有する(第1図(bl参照)。
この表面疵の発生状態は第2図に示してあり、1図中人
はストリップ2の全幅にわたって付着した表面疵信号を
示し、Bは全幅の例えば1/8幅の表面疵信号を示して
いる。また、↓印は検出対象となる表面疵信号を示して
おり、周期性を有することがわかる。他の線はランダム
疵による信号を示している。各↓部相互間の間隔τはロ
ール1の周長に等しい。
このような表面疵信号4の自己相関関数な求めた場合、
ロール1の周長に対応する周期τで強いピークが表われ
ることがわかった(第1図(C)参照)。
したがって、このピークに着目することにより対象表面
疵の周期性乞正確に検出することができる。
第3図は表面疵検出信号を時間Δt ごとに求めてヒス
トグラムで表わしたものである。ヒストグラムの包絡線
を時間tについての関数f(t)とした場合、自己相関
関数φ(τ)は、 で表わされる。Tは自己相関を求める区間である。
具体的に自己相関を求める場合には次のような演算過程
をとる。
(7) この(2)式に基づき、各瞬時Δtごとに順次演算を繰
返す。つまり、 =’(f(01・f(o+u・Δt)     ・・・
(4−0)+f(Δt)・f(Δt+M・Δt)  ・
・・(4−1)十f(2・Δt)・f(2・Δt+M拳
Δt) ・・・(4−2)+f(3・Δt)−fC3・
Δを十讐・Δt)・・・(4−3)(8) +f(x・Δt)・f(w−Δt+M・Δt))  ・
・・(4−N)上記(4)式において、(4−0)〜(
4−N)に示すように、ストリップ2がΔt1行するご
とにロール1の周長M・Δを前の表面疵信号の積を求め
、前の回の演算値に加えていけば、自己相関を求めるこ
とができる。
(2)  第1の実権例 次に、上述した原理を応用して構成されたロール疵検出
装置の第1の実施例について述べる。その例を第41図
に示す。
第4図において、ス) IJツブ2は矢印で示す方向に
一定速度で移動するものとする。このストリップ2上の
表面疵は光学的に検出ヘッド5により検出される。
検出ヘッド5はストリップ2の進行方向と直角の方向(
すなわち、ストリップ1の幅方向)に光学的に走査して
、予め設定された単位長領域の表面疵信号ケ出力する。
拳位艮領誠は、ス) IJツゾ2の進行方向の単位長Δ
τ とストリップ20幅方向長さくΔω×m)で特定さ
れる。このΔτ×Δωで1つの画素(Sij)を形成す
る。表面疵信号は増幅回路6により増幅され、かつ〜勺
変換され、2値化信号で第1のメモリC以下、ストアレ
ジスタという)7に送られる。
ストアレジスタ7は表面疵信号を順次画素(Δτ×Δω
)ごとに同期信号発生装置8からの同期信号CKに同期
して格納する。この格納される表面疵データはス) I
Jツブ2の幅方向1列分のデータ(S10””−”’m
o、すなわちΔω×m画累分のデータ)である。この1
列分データは並列出力で第2のメモリ(以下1画像メモ
リという)9に与えられる。
画像メモリ9はストリップ2が単位長(Δτ)進むごと
に1列分データを並列入力で記憶する。この場合の記憶
容量はmxn画素分必要であり、ここに、 m≧(ストリップ2の幅/Δω) 1′ll’l≧(最大ロール周長/Δτ)で力)る。こ
のmxn画素分に相当するストリップ2上の領域が前述
の検出領域Tに相当する。なお、1列分のデータの記憶
状態は、 Sijぐ8i(j−1) 但し、(121〜m、j=l−〇) で示され、S、jは1つの画素を表わす。
このようにして画像メモリ9には、順次ストリップ20
単位長Δτごとの1列分データがロール101周長分の
データ(nデータ)が蓄積されることとなる。すなわち
、自己相関をとる区間Tがこれで決定される訳である。
一方、ストアレジスタ7から出力される1列分データは
自己相関演算回路に入力される。自己相関演算回路は乗
算器10.加算器11.第3のメモリ(以下、演算値レ
ジスタという)12により構成され、前記(4)式の演
算を行う。
乗算器10と加1引lは次の(5)式の演算を行い、C
ij +5toXSij+c1j−曲・(5)(i−1
〜m、j=l〜n) その演算結果C11を演算値レジスタ12に蓄積する。
その結果、演算値レジスタ12には前記(4)式の右辺
Σf(n−Δt)aj’(n−1eΔt)−Q の演算値が蓄積されたことになる。なお、データ/9ス
13は(5)式における右辺のCijを加算するために
フィートノ々ツクするものである。このようにして求め
られた自己相関演算値データは比較器14に送られる。
比較器14は1列分の自己相関演算値データ(例えばC
1n−Cmn)について予め定められた閾値を■する設
定値りとを順次比較し、1列分の自己相関演算値データ
中の最大値を出力する。この比較演算は1列分の自己相
関演算値データ中の各データ(例えば、cln t C
2n・・・Cmn)ごとに行われる。
その結果1例えばデータCktfJ′−最大値であった
とすると、Δτ×Lの周長を1゛するロールにより生じ
た疵であるとしてロールを特定することができ、かつス
トリップ2の幅方向位置Δω×にの位置に表面疵が発生
したことを検出することができる。
なお、演算値レジスタ12の内容(C1j)は自己相関
をとる区間(T)に比例して大きな値となるが、これは
サンプル数N(=T/Δτ)で割ることにより平均化さ
れ、真の自己相関値C’(=C/N’)で与えられるも
のとする。すなわち、  1/Nすることにより(4)
式の演算と一致することとなる。
このようにして、順次各列の自己相関演算値が求められ
、比較器14により最大値が求められ、その周期性が検
出されるが、実際の圧延ラインにはロール1とストリッ
プ2とのすべり等圧起因する周期の変動があることは先
に述べた通りである。
この変動分を補償するものとして補償回路15が設けら
れている。
補償回路15は予め経験的に求められた周期変動分±γ
〔闘〕 に基づいて次の補償演算を行う。
S” =(si(j−p)*””1(j−p+x)〜J B I J m St (J ” ” )〜Si+p−
最大値)・・・(6)ただし、p=r/Δτで与えられ
る。
(3)第2の実施例 次に、第5図に第1芙施例(第4図)よりもさらに具体
化したロール疵検出装置の第2の実施例を示す。なお、
信号処理は2値化して行うことが前提である。@4図と
同様の部分については同一の符号を用いて説明する。
まず、第1実柿例(第4図)と第2実施例(第5図)と
の異る部分を説明する。第4図におけるストアレジスタ
7に相当する部分は第5図においてゲート16.シフト
レジスタ17.ゲート18.シフトレジスタ19で構成
される。以下同様に、画像メモリ9はその容−(mXn
)と同じくなる数のシフトレジスタ20−1〜20−m
 および入力段にゲート2シ、〜2し。1で構成される
。補償回路15はシフトレジスタ22−□〜22−□□
およびORゲート73−□〜23− n、で構成される
。乗算器10はANDゲート24−1〜24−mに対応
し、加算器11は加算器25−□〜謳−□に対応する。
演算値レジスタ12はシフトレジスタ26−1〜26−
mで構成される。シフトレジスタ26−1〜26− n
lの出力はセレクタ27を介して比較器14に送られる
。セレクタnは各し、クスタ26−1〜26−mを順次
切替えることによって1列分データ中の各画素を個々に
比較するために必要なものである。
欠に一連の動作を説明する。検出ヘッド5により検出さ
れた表面疵信号は増幅回路6にて増幅され、かつ2値化
されてゲート16を介してシフトレジスタ17に入力さ
れる。ラインが単位長Δτだけ進む間、複数回走査して
得られる表面疵信号はゲート16で論理和演算されてシ
フトレジスタ17ニ蓄えられる。このシフトレ・クスタ
17のビット数mは周期性疵の他にストリップ2上に生
ずるランダム発生疵との分嘔が充分段くなろよ5に選ぶ
必要がある。
例えば、第2図に示すように全幅の疵信号Aが多(て検
出すべき表面疵信号との分離が期待できない場合でもス
トリップ幅を8分割して得られる疵信号別に、例えば表
面疵が発生しているB帯のものを見ればその周期性から
ランダム発生疵との分離が充分期待できることが叩解さ
れよう。
次に、ストリップ2が単位長Δτ進むと、シフトレジス
タ]7の内容はゲート18を介してシフトレL IJノ ジスタ19に転送される。この内容はゲート21−0〜
2】−□を介して並列にシフトレジスタか一□〜加−□
のまず第1ビツト目に転送される。
ここで、ストリップ2が次の単位長Δτだけ進むまでの
間に、シフトレジスタ22−1〜22−mおよびORゲ
ート23−□〜23−mから構成される補償回路と、A
NDゲート24−0〜24−m、加算器5−0〜25□
。およびレジスタ26−1〜26−mから構成される自
己相関演算回路は、次の(7)式の演算ヲ実行する。
C1j=Sio@Sij′十cij・・曲 (7)但し
、i = 1〜m、j=l〜n C1j :レジスタZLi中の1番目のレジスタ5io
=シフトレジスタ19のi番目のビット内容Sij :
シフトレ・クスタ加中の1番目のビットの内容また、S
ij′は表面疵信号の周期変動分±r [01乞補償す
る値で、補償回路(22−□〜η−□、23−0〜2L
n1)  により、次の(8)式にて求められる。
(16) S・・’=s・ ・   VS・ ・ IJ  山−p) 山−p+1)”” VSij■81’(j+1)i(j+p)  ””8)
■・・・VS ここに、■は論理和を意味し、p=γ/Δτである。
この(8)式の演算はシフトレジスタ加−□〜20−□
およびシフトレジスタ22−□〜匹−,nをリング状に
シフトすることにより簡単に実行することができる。
このようにして求められた値cijはサンプル数N (
=T/Δτ)で割ったものが真の意味の自己相関を与え
るものである。なお、自己相関の演算原理は第3図およ
び(1)〜(4)式に示した通りである。
次いで、レジスタ26−1〜%−□の内容は各1列分デ
ータについて各ビットごとにセレクタnの切替えにより
比較器14に入力され、設定値りと比較され、その結果
信号0が出力される。
以下同様にして順次nx(JrxJωxm)分のデー 
  −タについて比較の結果、得られた信号中、同期性
表面疵がストリップ20幅方向ωに対応するレジスタ内
容1番目で、かつ進行方向τの内容j番目のものであっ
た場合、ピーク値として自己相関値が得られる。この状
態を第6図に示す。このようなピーク信号はロール疵で
あれば周期的に発生するはずであり、したがってロール
疵を容易に検出することができる。
以上に示した構成により得られる効果は次の通りである
■ 圧延ライン中の異径ロールによる疵が混在しても、
各表面疵を明確に判別し、検出することができる。これ
は、本発明の特徴である表面疵信号の自己相関を求める
ことにより、信号のエネルギスペクトルにおいて周期性
をもつ表面疵信号部分がピークとなって現われることに
より判別することができるからである。
■ 同期性表面疵の周期性が変動したとしても、正確な
検出を行うことができる。これは、既知の変動分±γ〔
寓杓 により自己相関演算のためのデータに補正を加え
る補償回路を備えたことに基づ(ものである。
げ っ ■ 検出に当ってのSハ比を向上させることができる。
すなわち、自己相関を求める区間T(又はC1q) Δτ×n)はストリップ2の幅方向に複数(m)に分割
されているためより細かなデータが得られ、その結果演
算値の正確さを向上することができるからである。この
ことは、ランダム発生疵や非周期性疵の信号と周期性疵
の信号との分離をよくすることを可能とし、さらには従
来のように短いストリップの場合に充分な精度を得られ
ないという点を改良しうる。
■ 表面疵の発生をライン稼動中において自動検出する
ことができる。これは、検出ヘッドにより常時ストリッ
プ表面上を走査させておくことで順次性しいデータにつ
いてリアルタイムで自己相関値を求めることができるか
らである。
■ ロールに関する情報を容易に得ることができる。こ
れは上述した自己相関原理により各ロールの疵の周期性
を判別することができるため、その周期に対応する周長
のロールン特定できることを意味する。さらに、自己相
関を求める領域をストリップの幅方向に複数分割してい
るため疵の幅方向位置(つまり、ロールの軸方向位置)
を特定することかできる。
■ 自己相関演算に当ってのデータを蓄積するメモリ(
第2のメモリ)は少なくて済む。つまり、自己相関tと
る区間Tをラインに存在する最大径ロールの周長に対応
させ、かつ演算をストリップの嚇位長Δ丁ごとに更新す
ることで、充分な精度を得られるからである。
■ さらに、自己相関演算を行う区間を表面疵の周期変
動分子γ〔關〕の相当分だけ波長することによって一層
精度の高い、SA比の良い検出が可能となる。
(4)第2実施例の変形例 第5圀の実施例に示したロール疵検出装置は第7図のよ
うにも変形しうる。すなわち、第5図のレジスタ22 
〜22   0Rゲート23−1〜23−m。
−1−171’ ANDゲート24−1〜24− m %加算器5−0〜
25−mに代えて、セレクタ26 、34により各レジ
スタ21−0〜22−1nヲ順次走査することにより、
いわば時分割で処理するようにしたものである。したが
って信号処理はシリアルに行われ、処理速度が遅(なる
(ΔJJ が、シフトレジスタ28、ORゲート四、 ANDゲー
ト加、加算器31を各レジスタ21−1〜22−mごと
に設ける必要はな(、単一でよいから構成が簡略化され
るという利点がある。32 、33はセレクタであり、
あ、27と同期的に動作するものとする。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)は圧延ラインの概略図、(b)は表面疵発
生状態と圧延ラインとの関係を示した説明図、(C)は
表面疵信号の自己相関数を示す説明図、第2図はストリ
ップに付着した表面疵の態様を示す説明図、 第3図は表面疵検出信号を時間Δt ごとに求めてヒス
トグラムで表わした説明図、 第4図は本発明によるロール疵検出装置の第1の実施例
7示すブロック図、 第5図は本発明によるロール疵検出装置の2g2の実施
例を示すブロック図。 第6図はストリップ上のある自己相関区間における表面
疵信号のエネルギスペクトルを3次元で示した説明図、 第7図は第2の実1八例の変形例を示すブロック図であ
る。 1・・・ロール、2・・・ストリップ(帯状走行物)、
5・・・検出ヘッド、7・・・ストアレ、ジスタ(第1
のメモリ)、9・・・画像メモリ(第2のメモリ)、1
0・・・乗算器、 11・・・加算器、12・・・演算
値レジスタ(第3のメモリ)、14・・・比較器、Δτ
・・・単位長、Δω・・・幅方向単位長、D・・・設定
値。 出頼人代理人   猪  股     清(23) 235−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、走行する帯状走行物に圧接されたロールにより当該
    帯状走行物に付着した表面疵を検出する装置において。 前記帯状走行物の表面をその幅方向に走査して表面疵を
    検出する検出ヘッドと、 前記表面疵の検出信号を入力して帯状走行物の走行方向
    単位長領域内の表面疵データを記憶する第1のメモリと
    、 前記第1のメモリからその記憶された表面疵データを順
    次読出して少なくとも前記単位長領域よりも大なる一定
    の検出領域における表面疵データを蓄積する第2のメモ
    リと、 前記第2のメモIJ K蓄積された表面疵データにより
    表面疵信号の自己相関乞リアルタイムで演算する自己相
    関演算回路と、 各自己相関演算値と予め設定された設定値とを順次比較
    して自己相関演算値の最大値を求める比較器と、 を備えたことを特徴とするロール疵検出装置。 2、特許請求の範囲第1項記載の検出装置において、単
    位長領域は帯状走行物の走行方向単位長さと幅方向長さ
    とで特定される領域であることを特徴とするロール疵検
    出装置。 3゜特許請求の範囲第1項または第2項記載の検出装置
    において、検出領域は前記ロールのうち最大径ロールの
    周長に相当する長さと帯状走行物の幅方向長さとで特定
    される領域であることを特徴とするロール疵検出装置。 4、特許請求の範囲第1項、第2項または第3項記載の
    検出装置におい【、自己相関演算回路における演算は次
    式で行われることWt特徴とするロール疵検出装置。 ここに、φ(τ)二表面疵の自己相関関数T :検出領
    域 τ :ロール局長(表面疵の周期) 5、特許請求の範囲第4項記載の検出装置において、自
    己相関演算は帯状走行物が単位長領域進行するごとに行
    うことを特徴とするロール疵検出装置。 6、%許端求の範囲第4項または第5項記載の検出装置
    において、自己相関演算を行う区間である検出領域Tを
    表面疵の周期変動分だけ拡長じて自己相関演算を行うこ
    とケ特徴とするロール疵検出装置。 7、特許請求の範囲第4項、第5項または第6項記載の
    検出装置において、自己相関演算は単位長領域を帯状走
    行物の幅方向に複数分割し、分割された各領域ごとに行
    うことを特徴とするロール疵検出装置。
JP4050682A 1982-03-15 1982-03-15 ロ−ル疵検出装置 Granted JPS58156842A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4050682A JPS58156842A (ja) 1982-03-15 1982-03-15 ロ−ル疵検出装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4050682A JPS58156842A (ja) 1982-03-15 1982-03-15 ロ−ル疵検出装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58156842A true JPS58156842A (ja) 1983-09-17
JPH0330813B2 JPH0330813B2 (ja) 1991-05-01

Family

ID=12582431

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4050682A Granted JPS58156842A (ja) 1982-03-15 1982-03-15 ロ−ル疵検出装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58156842A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61221454A (ja) * 1985-03-26 1986-10-01 住友建設株式会社 コンクリ−ト躯体の構築方法
EP0316961A2 (en) * 1987-11-20 1989-05-24 Kabushiki Kaisha Toshiba Roll mark inspection apparatus
EP0358236A2 (en) * 1988-09-09 1990-03-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of measuring period of surface defect
JP2005241356A (ja) * 2004-02-25 2005-09-08 Jfe Steel Kk 周期性疵検出方法および装置
WO2009123296A1 (ja) 2008-03-31 2009-10-08 Jfeスチール株式会社 周期性欠陥検出装置及びその方法
WO2020137151A1 (ja) 2018-12-25 2020-07-02 Jfeスチール株式会社 学習済みモデルの生成方法、学習済みモデル、表面欠陥検出方法、鋼材の製造方法、合否判定方法、等級判定方法、表面欠陥判定プログラム、合否判定プログラム、判定システム、及び鋼材の製造設備

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5176372B2 (ja) * 2007-04-05 2013-04-03 新日鐵住金株式会社 疵検査方法、疵検査装置、及びコンピュータプログラム

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57184958A (en) * 1981-05-11 1982-11-13 Nippon Steel Corp Roll mark detecting device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57184958A (en) * 1981-05-11 1982-11-13 Nippon Steel Corp Roll mark detecting device

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61221454A (ja) * 1985-03-26 1986-10-01 住友建設株式会社 コンクリ−ト躯体の構築方法
EP0316961A2 (en) * 1987-11-20 1989-05-24 Kabushiki Kaisha Toshiba Roll mark inspection apparatus
US4958307A (en) * 1987-11-20 1990-09-18 Kabushiki Kaisha Toshiba Roll mark inspection apparatus
EP0594220A2 (en) * 1987-11-20 1994-04-27 Kabushiki Kaisha Toshiba Roll mark inspection apparatus
EP0594220A3 (en) * 1987-11-20 1994-06-01 Toshiba Kk Roll mark inspection apparatus
EP0358236A2 (en) * 1988-09-09 1990-03-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method of measuring period of surface defect
JP2005241356A (ja) * 2004-02-25 2005-09-08 Jfe Steel Kk 周期性疵検出方法および装置
WO2009123296A1 (ja) 2008-03-31 2009-10-08 Jfeスチール株式会社 周期性欠陥検出装置及びその方法
US9008975B2 (en) 2008-03-31 2015-04-14 Jfe Steel Corporation Apparatus for detecting periodic defect and method therefor
WO2020137151A1 (ja) 2018-12-25 2020-07-02 Jfeスチール株式会社 学習済みモデルの生成方法、学習済みモデル、表面欠陥検出方法、鋼材の製造方法、合否判定方法、等級判定方法、表面欠陥判定プログラム、合否判定プログラム、判定システム、及び鋼材の製造設備
KR20210091309A (ko) 2018-12-25 2021-07-21 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 학습 완료 모델의 생성 방법, 학습 완료 모델, 표면 결함 검출 방법, 강재의 제조 방법, 합부 판정 방법, 등급 판정 방법, 표면 결함 판정 프로그램, 합부 판정 프로그램, 판정 시스템 및, 강재의 제조 설비

Also Published As

Publication number Publication date
JPH0330813B2 (ja) 1991-05-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0358236B1 (en) Method of measuring period of surface defect
KR101288734B1 (ko) 주기성 결함 검출 장치 및 그 방법
US4958307A (en) Roll mark inspection apparatus
JP4516884B2 (ja) 周期性欠陥検査方法及び装置
JPS58156842A (ja) ロ−ル疵検出装置
JP5471818B2 (ja) 帯状材料の周期性欠陥検査方法および装置
FR2823300B1 (fr) Procede de detection de defauts de planeite
JP2002162364A (ja) ロール起因欠陥の判定方法および装置
JP3491147B2 (ja) 欠陥検出方法及び欠陥検出装置
CN112872045B (zh) 一种带钢在卷取过程中的报警方法、装置及电子设备
JPH0786478B2 (ja) 周期疵検出装置
Spinola et al. Image processing for surface quality control in stainless steel production lines
JP4351810B2 (ja) 周期性欠陥検出装置
JP2004125686A (ja) 鋼板の疵検出方法、鋼板の疵検出装置、コンピュータプログラム及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体
US6654775B1 (en) Optimized system and method for parallel leading one/zero anticipation
CN113408346A (zh) 一种基于迁移学习的光纤预警系统事件分类方法
JP2005265639A (ja) 帯状体のロール疵検出方法およびその装置
JPH01136055A (ja) 周期疵検出装置
JPS63222244A (ja) 表面検査装置
CN112558157B (zh) 一种基于多波联合的静校正方法及装置
JPH10176997A (ja) 周期疵検出方法及び装置
JP2510430B2 (ja) 連続焼鈍炉におけるストリップの表面欠陥検査方法
WO2023102657A1 (en) Web position tracking
JPH0781821B2 (ja) 継目検出方法
JPS60218010A (ja) 帯状物体の中心線プロフイ−ル測定方法