JPS5815654A - 研磨方法 - Google Patents
研磨方法Info
- Publication number
- JPS5815654A JPS5815654A JP11319681A JP11319681A JPS5815654A JP S5815654 A JPS5815654 A JP S5815654A JP 11319681 A JP11319681 A JP 11319681A JP 11319681 A JP11319681 A JP 11319681A JP S5815654 A JPS5815654 A JP S5815654A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fiber
- center
- core
- axis
- grinding rod
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B19/00—Single-purpose machines or devices for particular grinding operations not covered by any other main group
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Light Guides In General And Applications Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光通信に使用する光フアイバコネクタもしくは
ファイバ付半導体素子を作るために有効層 である研磨方法に関するものである。通常、ファイバと
7アイパを接続するためには、ファイバ1が中心軸に接
着され、かつファイバ端部が同一面に露呈している精度
のよい外形寸法を有する中と21−用い、精度のよい円
形寸法を有するガイド3K、両ファイバの中とを各々の
方向から挿入することによって為される(図1参照)0
尚、ファイバー1は樹脂4によシ中子2へ固定される0
中ご端部が平面である場合には光7アイパ端面同志が接
触してキズをつけやすいため、端部は凹面に研磨 lされ、直接ファイバとファイバが接触しない様にする
方法がとられている。7アイパ・ファイバ間距離社10
μ惰以下に設計される(図2参照)0磨 この凹面研舅は次の様に行われる。図3の如く中と2に
ファイバ1(先端の必要部は裸)を挿入し、ファイバ先
端部は中と2の端面かられずか出した状態で接着する。
ファイバ付半導体素子を作るために有効層 である研磨方法に関するものである。通常、ファイバと
7アイパを接続するためには、ファイバ1が中心軸に接
着され、かつファイバ端部が同一面に露呈している精度
のよい外形寸法を有する中と21−用い、精度のよい円
形寸法を有するガイド3K、両ファイバの中とを各々の
方向から挿入することによって為される(図1参照)0
尚、ファイバー1は樹脂4によシ中子2へ固定される0
中ご端部が平面である場合には光7アイパ端面同志が接
触してキズをつけやすいため、端部は凹面に研磨 lされ、直接ファイバとファイバが接触しない様にする
方法がとられている。7アイパ・ファイバ間距離社10
μ惰以下に設計される(図2参照)0磨 この凹面研舅は次の様に行われる。図3の如く中と2に
ファイバ1(先端の必要部は裸)を挿入し、ファイバ先
端部は中と2の端面かられずか出した状態で接着する。
接着剤としては通常エポキシを用いている。次に図4に
示す如く球面の研罫板5磨 磨 しかし乍らこの凹面研pにおいては研騨面の球中心の方
向に中と中心軸を向けるという難かしさかある。仁の問
題点に鑑み、本発明で祉回転軸を研磨 1面と垂直にすることによって位置調整を安易にしたも
のである。図5に本発明の基本構成を示す07は先端部
が球面(もしくは緩かな凸面)をなす磨 磨 研馴面には研〃剤としてダイヤモンドペーストや、その
他の材料(5iot t CeOs fxどのコロイド
)などが必要に応じて補給される。
示す如く球面の研罫板5磨 磨 しかし乍らこの凹面研pにおいては研騨面の球中心の方
向に中と中心軸を向けるという難かしさかある。仁の問
題点に鑑み、本発明で祉回転軸を研磨 1面と垂直にすることによって位置調整を安易にしたも
のである。図5に本発明の基本構成を示す07は先端部
が球面(もしくは緩かな凸面)をなす磨 磨 研馴面には研〃剤としてダイヤモンドペーストや、その
他の材料(5iot t CeOs fxどのコロイド
)などが必要に応じて補給される。
本発明はファイバ付の光半導体素子にも適用される。図
6は中子(ファイバ内蔵)付発光ダイオード累子を示す
。Slサブマウント8上の発光ダイオードチップ9と先
球ファイバ1の取シ付けられたステンレス製の如き中と
10とは、ファイバ端光出力が最大になる様に樹脂11
によシ接着される。図7はレセプタクル12に挿入し、
おさえねじ13によシ伝送体ファイバ14と接続した状
磨 面になった研V棒7はベアリング15で保持され回転す
る機構を有し、歯車16によシ動力が連結磨 される。一方、研磨すべき発光ダイオード素子はホルダ
ー17のガイド穴18に挿入され、後方よシパネ19で
圧力が加えられる。また図9の様にホルダー17を横移
動もしく社大きな周運動させ磨 ることにより研窟面はきれいになる。
6は中子(ファイバ内蔵)付発光ダイオード累子を示す
。Slサブマウント8上の発光ダイオードチップ9と先
球ファイバ1の取シ付けられたステンレス製の如き中と
10とは、ファイバ端光出力が最大になる様に樹脂11
によシ接着される。図7はレセプタクル12に挿入し、
おさえねじ13によシ伝送体ファイバ14と接続した状
磨 面になった研V棒7はベアリング15で保持され回転す
る機構を有し、歯車16によシ動力が連結磨 される。一方、研磨すべき発光ダイオード素子はホルダ
ー17のガイド穴18に挿入され、後方よシパネ19で
圧力が加えられる。また図9の様にホルダー17を横移
動もしく社大きな周運動させ磨 ることにより研窟面はきれいになる。
面図9図3はファイバーを中子より突出して固着磨
した断面図9図4は従来の凹面研V装置の構成を磨
示す斜視図1図5は本発明にて用いた研事装置の基本構
成を示す正面図9図6は中子端面を凹面研磨 験した発光ダイオード素子の断面図9図7Fi図6の素
子をマウントした状態÷の断面図2図8は本膳 発明実施例にて用いた研春装置の斜視図9図9は図8の
ホルダを横移動9周運動させる構成の部分断面図である
。 慶 図中、lFiファイバー、2は中子、7は研職伸。 17はホルダー、19は押えバネを示す。 〜
成を示す正面図9図6は中子端面を凹面研磨 験した発光ダイオード素子の断面図9図7Fi図6の素
子をマウントした状態÷の断面図2図8は本膳 発明実施例にて用いた研春装置の斜視図9図9は図8の
ホルダを横移動9周運動させる構成の部分断面図である
。 慶 図中、lFiファイバー、2は中子、7は研職伸。 17はホルダー、19は押えバネを示す。 〜
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 磨 先端が曲面の研麿柳をファイバー露出面と中心磨 軸を並行とさせて対向配置し、研四棒とファイバ磨 一側を相対的に回転させてファイバ一端面を研き磨 することを特徴とする研!方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11319681A JPS5815654A (ja) | 1981-07-20 | 1981-07-20 | 研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11319681A JPS5815654A (ja) | 1981-07-20 | 1981-07-20 | 研磨方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5815654A true JPS5815654A (ja) | 1983-01-29 |
Family
ID=14605979
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11319681A Pending JPS5815654A (ja) | 1981-07-20 | 1981-07-20 | 研磨方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5815654A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009041040A (ja) * | 2007-08-06 | 2009-02-26 | Ulvac Japan Ltd | 真空蒸着方法および真空蒸着装置 |
US10612126B2 (en) | 2014-06-13 | 2020-04-07 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Method for producing a coating and optoelectronic semiconductor component having a coating |
-
1981
- 1981-07-20 JP JP11319681A patent/JPS5815654A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009041040A (ja) * | 2007-08-06 | 2009-02-26 | Ulvac Japan Ltd | 真空蒸着方法および真空蒸着装置 |
US10612126B2 (en) | 2014-06-13 | 2020-04-07 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Method for producing a coating and optoelectronic semiconductor component having a coating |
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