JPS58154229A - Inspecting apparatus for both surfaces of masked substrate - Google Patents

Inspecting apparatus for both surfaces of masked substrate

Info

Publication number
JPS58154229A
JPS58154229A JP57036546A JP3654682A JPS58154229A JP S58154229 A JPS58154229 A JP S58154229A JP 57036546 A JP57036546 A JP 57036546A JP 3654682 A JP3654682 A JP 3654682A JP S58154229 A JPS58154229 A JP S58154229A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mask substrate
inspection
substrate
support member
mask
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP57036546A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinichi Yamamoto
真一 山本
Kuniya Shimazaki
島崎 邦弥
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp, Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP57036546A priority Critical patent/JPS58154229A/en
Publication of JPS58154229A publication Critical patent/JPS58154229A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • G03F1/84Inspecting

Abstract

PURPOSE:To simultaneously inspect both surfaces of a masked substrate as well as eliminate the adhesion of dust and the production of any minute flaw during inspection, by supporting only peripheral parts of the masked substrate, projecting a spot of light from each side of the substrate, and providing TV cameras. CONSTITUTION:The inspection apparatus has support members 16 for supporting a masked substrate B through the engagement with only respective peripheral parts of the substrate B; projectors 21, 22 for projecting spots of light onto different parts on both surfaces of the substrate B, respectively; and a pair of TV cameras 23, 24 disposed facing the light incident positions on the masked substrate B, respectively. By this constitution, it is possible to inspect both surfaces of the masked substrate simultaneously and automatically. In addition, there is absolutely no possibility of the adhesion of dust to the reverse surface of the masked substrate as well as the production of any minute flaw during inspection.

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明はリングラフィ等に使用するマスク基板検査装
置に関し、特にマスク基板の両面を同時に自動的に検査
できるマスク基板両面検査装置に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a mask substrate inspection apparatus used in phosphorography, etc., and more particularly to a mask substrate double-sided inspection apparatus that can automatically inspect both sides of a mask substrate at the same time.

〔発明の技術的背景〕[Technical background of the invention]

IC等の製造工程に於てフォトリングラフィに使用する
マスク基板は極めて平坦なガラス板の一面にクロムもし
くはクロムと酸化クロム等の金属を蒸着又はスパッタリ
ングして製作され、その金網面に回路図形を主として光
学的方法でパターニングした後、マスクとしてフォ贅う
フイエ程に供される。このマスクに描かれた回路図はフ
ォトリングラフィ工程でウェハ上に転写されるので、マ
スク基板に微小なごみが付着していたり、あるいは傷が
あったりすると、その部分の回路が損傷し、IC等の製
造過程に於て大量の不良凸金発生する原因となる。従っ
て、回路7図形のパターニングの前にマスク基板の表面
検査を行うことが必要である。
Mask substrates used for photolithography in the manufacturing process of ICs, etc. are manufactured by vapor-depositing or sputtering chromium or metals such as chromium and chromium oxide on one surface of an extremely flat glass plate, and circuit patterns are printed on the wire mesh surface. After patterning is done mainly by optical methods, it is used as a mask. The circuit diagram drawn on this mask is transferred onto the wafer in a photolithography process, so if there is minute dust or scratches on the mask substrate, the circuit in that area will be damaged and ICs etc. This causes a large amount of defective convex metal to be generated in the manufacturing process. Therefore, it is necessary to inspect the surface of the mask substrate before patterning the circuit 7 figure.

この検査は極〈最近まで以下に記載するように肉眼によ
る方法で行われていた。すなわち、この方法は、暗室に
て投光器でマスク基板の斜め上からスポット光″t″あ
て、この時に光の当っている部分にごみが付着してい゛
たり、あるいは傷があると、その部分で光が乱反射する
ため、その部分を肉眼でみると、高輝度の点として認識
できる、という原理に基くものである。このような方法
は、(a)測定者の個人差によって判定が異なるため、
正確さに欠ける、伽)暗室で高輝度のものを見るので眼
が疲れやすく、多数のマスク基板の検査を行うと判定が
狂ってくる、(C)測定者から発生するごみによりマス
ク基板が汚染される、(d)検査速度が遅い、等の欠点
がある。
Until very recently, this test was performed by visual methods, as described below. In other words, in this method, a spotlight "t" is directed diagonally above the mask substrate using a projector in a dark room, and if there is dust or scratches on the area that is being illuminated, the spot light is removed. It is based on the principle that because light is diffusely reflected, the area can be recognized as a point of high brightness when viewed with the naked eye. This method has the following problems: (a) Judgments vary depending on the individual differences of the measurer;
Lack of accuracy. (C) Eyes get tired easily because of looking at high brightness in a dark room, and judgment becomes incorrect when inspecting a large number of mask substrates. (C) Mask substrates are contaminated by dust generated by the tester. (d) The inspection speed is slow.

そこで本発明者は、別に特許出願を行ったが、最近のI
C及びLSIの高集積化に伴い、マスクパターンのウェ
ハ上に転写を行うマスクアライナの1′1・ 転写能力が向上し、□マスク表面のみならず、マスク裏
面の欠陥が転写することもめるため、マスク基板におけ
る清浄度を更に向上させることが必要−となってきてお
り、前記装置ではこのような必要性を満すことが困難と
なってきた。
Therefore, the inventor filed a separate patent application, but the recent I
With the increasing integration of C and LSI, the transfer ability of the mask aligner that transfers the mask pattern onto the wafer has improved. It has become necessary to further improve the cleanliness of mask substrates, and it has become difficult for the above-mentioned apparatuses to satisfy this need.

〔背景技術の問題点〕[Problems with background technology]

第1図はマスク基板の表面検査を自動化した別出願に開
示の検査装置の概略構成を示したものである。同図に於
τ1はマスク基板載置台であり、この載置台1は左右方
向及び紙面に直交する方向に動くことができ、駆動軸2
を介してパルスモータの如き駆動装置6によって駆動さ
れるようになっている。検査すべきマスク基板Bはその
金属蒸着面mf:上に向けた状態でマスク基板載置台1
上に置かれ、そのガラス部gの裏面はマスク基板載置台
1の上面に全面で接触している。マスク基板載置台1の
斜め上方には光源4及び集束レンズ5を内蔵した投光器
6゛が配置され、また、投光器6カ・らマスク基板B上
に投射されるスポット光の入射点Pに対向してテレビカ
メラ7が設置されている。8はマスク基板載置台1・の
位置を検出するための位置検出器であって、この位置検
出器には例えば適当な機械的連結手段9を介してマスク
基板載置台1の動きが伝達される。10は駆動装置6を
制御するマスク基板載置台制御装置、11はテレビカメ
ラ7の光学系及び光電変換部などを制御するカメラ制御
装置であり、マスク基板載置台制御装置10とカメラ制
御装置11及び位置検出器8は主制御装置12に電気的
に接続されている。
FIG. 1 shows a schematic configuration of an inspection apparatus disclosed in a separate application that automates the surface inspection of a mask substrate. In the same figure, τ1 is a mask substrate mounting table, and this mounting table 1 can move in the left-right direction and in the direction perpendicular to the plane of the paper.
It is designed to be driven by a drive device 6 such as a pulse motor via the motor. The mask substrate B to be inspected is placed on the mask substrate mounting table 1 with its metal vapor deposition surface mf facing upward.
The back surface of the glass portion g is in full contact with the upper surface of the mask substrate mounting table 1. A projector 6' having a built-in light source 4 and a focusing lens 5 is disposed obliquely above the mask substrate mounting table 1, and the projector 6 faces the incident point P of the spot light projected onto the mask substrate B. A television camera 7 is installed. Reference numeral 8 denotes a position detector for detecting the position of the mask substrate mounting table 1, and the movement of the mask substrate mounting table 1 is transmitted to this position detector, for example, via a suitable mechanical coupling means 9. . 10 is a mask substrate mounting table control device that controls the drive device 6; 11 is a camera control device that controls the optical system and photoelectric conversion unit of the television camera 7; the mask substrate mounting table control device 10, the camera control device 11, and Position detector 8 is electrically connected to main controller 12 .

主制御装置12にはまた、キイボードもしくはテープリ
ーダなどの入力装置16やプリンターもしくは複写器な
どの出力装置14と、及びモニター用テレビ受像機15
などが電気的に接続されている。前記装置に於てマスク
基板B上の点Pに異物Mが付着しているとそれが光を散
乱させ、テレビカメラ7に高輝度点として撮影され基板
の異物がわかる。
The main control device 12 also includes an input device 16 such as a keyboard or tape reader, an output device 14 such as a printer or a copier, and a monitor television receiver 15.
etc. are electrically connected. In the above device, if a foreign matter M adheres to a point P on the mask substrate B, it scatters light and is photographed by the television camera 7 as a high brightness point, allowing the foreign matter on the substrate to be seen.

前記構成の別出願のマスク基板自動検査装置に於ては、
検査できる面がマスク基板Bの一方の面のみであるため
、マスク基板Bの他の面における付着ごみや、きすなど
を検出できないという欠点がある上に、マスク基板へB
の裏面全体がマスク基板載置台1の表面に接触するため
、マスク基板載置台1上のごみがマスク基板裏面に付着
したり、あるいはマスク基板裏面がマスク基板載置台表
面との接触によって微小な傷を受けたりする恐れがあっ
た。
In the mask substrate automatic inspection device of the separate application having the above configuration,
Since the surface that can be inspected is only one side of the mask substrate B, there is a drawback that it is not possible to detect adhering dust or scratches on the other side of the mask substrate B.
Since the entire back surface of the mask substrate mounting table 1 contacts the surface of the mask substrate mounting table 1, dust on the mask substrate mounting table 1 may adhere to the back surface of the mask substrate, or the back surface of the mask substrate may cause minute scratches due to contact with the surface of the mask substrate mounting table. There was a fear that I would be exposed to

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

この発明の目的は、前記の如き別出願のマスク基板自動
検査装置の欠点を除き、マスク基板裏面をも同時に検査
できるとともに検査中にマスク基板裏面へのごみ付着や
微小きずの発生の恐れがないマスク基板両面検査装置を
提供することである。
The purpose of the present invention is to eliminate the drawbacks of the mask substrate automatic inspection device of the separate application as described above, to be able to simultaneously inspect the back side of the mask substrate, and to eliminate the risk of dust adhering to the back side of the mask substrate or generation of minute scratches during the inspection. An object of the present invention is to provide a mask substrate double-sided inspection device.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

この発明によるマスク基板両面検査装置は、マスク基板
の周縁部のみに係合して該マスク基板を支持する支持部
材を有するとともに該マスク基板の両面のそれぞれ異な
る個所にスポット光を投射する禰の投光器及び該マスク
基板上の該スポット光入射位置に対向して配置された一
対のテレビカメラを有していることを特薇とする。−こ
のような構成の本発明の装置によれば、マスク基板の両
面を同時に自動検査でき、且つ検査中に該マスク基板の
裏面にごみ付着や微小きすを発生する恐れは全くない。
The mask substrate double-sided inspection device according to the present invention has a supporting member that engages only the peripheral edge of the mask substrate to support the mask substrate, and a light projector that projects spot light onto different locations on both sides of the mask substrate. and a pair of television cameras arranged opposite to the spot light incident position on the mask substrate. - According to the apparatus of the present invention having such a configuration, both sides of the mask substrate can be automatically inspected at the same time, and there is no fear of dust adhesion or minute scratches occurring on the back side of the mask substrate during inspection.

また、この発明の好適実施例に於ては、マスク基板が検
査中は勿論、検査の前後に於ても終始、その周縁部のみ
で装置各部に接触するように装置が構成されているため
、検査中は勿論、検査前後に於てもマスク基板の両面へ
のごみ付着及び微小きず発生の恐れが全くなく、従って
、この発明の装置によれば、ICやLSI等の製造工程
に信頼性のある検査データを提供できる。
Furthermore, in a preferred embodiment of the present invention, the apparatus is configured so that only the peripheral edge of the mask substrate contacts each part of the apparatus not only during the inspection but also before and after the inspection. There is no fear of dust adhering to both sides of the mask substrate or the generation of minute scratches, not only during the inspection, but also before and after the inspection. Therefore, according to the apparatus of the present invention, reliability can be improved in the manufacturing process of ICs, LSIs, etc. Can provide certain test data.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下に第2図乃至第6図を参照して本発明の実施例につ
いて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to FIGS. 2 to 6.

第2図はこの発明の第一実施例(第6図乃至第5図)と
第二実施例(第6図)とに共通する基本原理を図式化し
て示したものでミ主として検出及び制御関係の概略構成
を示したものである。第2図に示すように本発明の装置
に於てはマスク基板Bはその周縁部のみに係合する支持
部材16によって支持され、この支持部材16はそれに
連結された移動兼位置決め装置17により図に於て紙面
に直交する方向と紙面に平行な左右方向との二方向へ(
該マスク基板の板面に平行に)動かされるようになって
いる。移動兼位置決め装置17は支持部材16に直接又
は間接的に連結された連結部材18と、連結部材18の
他端に連結された駆動装置19とから構成されている。
FIG. 2 diagrammatically shows the basic principle common to the first embodiment (FIGS. 6 to 5) and the second embodiment (FIG. 6) of the present invention, mainly related to detection and control. This figure shows the schematic configuration of . As shown in FIG. 2, in the apparatus of the present invention, the mask substrate B is supported by a support member 16 that engages only its peripheral edge, and this support member 16 is operated by a moving and positioning device 17 connected thereto. In the two directions, the direction perpendicular to the paper surface and the left and right direction parallel to the paper surface (
(parallel to the plate surface of the mask substrate). The moving and positioning device 17 includes a connecting member 18 connected directly or indirectly to the supporting member 16, and a driving device 19 connected to the other end of the connecting member 18.

連結部材18としては、たとえば送りねじとナツトの組
合せか、もしくは単なるロッドが使用される。また、駆
動装置19としては、たとえばパルスモータ、もしくは
微小送り可能な液圧シリンダ装置などが使用される。(
該移動兼位置決め装置17は支持部材16の移動方向毎
に設ける必要があるので実際の装置では一対の移動兼位
置決め装置17が装備されるが、第2図には一基のみを
示した。
The connecting member 18 can be, for example, a combination of a lead screw and a nut or a simple rod. Further, as the drive device 19, for example, a pulse motor or a hydraulic cylinder device capable of minute feeding is used. (
Since the moving/positioning device 17 needs to be provided for each direction of movement of the support member 16, the actual device is equipped with a pair of moving/positioning devices 17, but only one is shown in FIG.

駆動装置19にはそれを電気的に制御するための移動兼
位置決め用制御装置20が電気的に接続されており、こ
の制御装置20としてはたとえばNC(数値制御)装置
等が使用される。
A movement and positioning control device 20 for electrically controlling the drive device 19 is electrically connected to the drive device 19, and as this control device 20, for example, an NC (numerical control) device or the like is used.

支持部材16に把持されたマスク基板Bの両面側にはそ
れぞれ投光器21及び22とテレビカメラ23及び24
とが配置され(ミラーと)・−7ミラーを利用した1台
の投光器でもよい)、投光器21及び22からマスク基
板Bの両面に投射した光線の入射点をそれぞれのテレビ
カメラ26及び24で監視するようになっている。各投
光器21及び22からマスク基板Bに投射された光の入
射点P1及びP2がマスク基板の両側で互いに異なるよ
うに、各投光器21及び22のそれぞれの配置位置は異
なっており、また、テレビカメラ26及び24もそれぞ
れの入射点P□及びP2に向けて互いに異なった位置に
(互いに対向しない位置に)設置されている。各テレビ
カメラ26及び24にはそれぞれカメラ制御器25及び
26が電気的に接続され、カメラ制御器25及び26は
移動兼位置決め用制御装置20とともに主制御装置27
に電気的に接続されている。主制御装置27にはまた、
支持部材16の移動位置を検出するための位置検出器2
8が電気的に接続されており、位置検出器28の出力信
号が印加されるようになっている。位置検出器としては
、たとえばレーザ干渉式検出器を用いてもよいが、フィ
ードバックを必要としなければ、位置検出器28ヲ設け
なくともよい。
Floodlights 21 and 22 and television cameras 23 and 24 are provided on both sides of the mask substrate B held by the support member 16, respectively.
(may be one projector using a -7 mirror), and the incident points of the light beams projected onto both sides of the mask substrate B from the projectors 21 and 22 are monitored by the respective television cameras 26 and 24. It is supposed to be done. The respective arrangement positions of the projectors 21 and 22 are different so that the incident points P1 and P2 of the light projected onto the mask substrate B from the projectors 21 and 22 are different from each other on both sides of the mask substrate. 26 and 24 are also installed at different positions (positions not facing each other) toward the respective incident points P□ and P2. Camera controllers 25 and 26 are electrically connected to each television camera 26 and 24, respectively, and the camera controllers 25 and 26 are connected to a main controller 27 along with a movement and positioning controller 20.
electrically connected to. The main controller 27 also includes:
Position detector 2 for detecting the moving position of the support member 16
8 are electrically connected, and the output signal of the position detector 28 is applied thereto. For example, a laser interference type detector may be used as the position detector, but if feedback is not required, the position detector 28 may not be provided.

主制御装置27は演算機能及び記憶機能を有する例えば
ミニコンピユータ等の装置であり、たとえばキイボード
やテープリーダ等の入力装置29が接続されるとともに
、プリンタ等の出力装置側。
The main control device 27 is a device such as a minicomputer having a calculation function and a storage function, and is connected to an input device 29 such as a keyboard or a tape reader, as well as an output device such as a printer.

及び同じく出力装置としての2台のテレビ受像機31.
32等が接続されている。このテレビ受像機31.62
は各々、テレビカメラ23.24の出力信号を映像とし
て映し出すためのもので、マスク基板Bの各々の面の表
面状態を監視するモニタとなっている。
and two television receivers 31, also serving as output devices.
32 etc. are connected. This TV receiver 31.62
are for displaying the output signals of the television cameras 23 and 24 as images, and serve as monitors for monitoring the surface condition of each surface of the mask substrate B.

第6図乃至第5図は第2図に示した本発明装置の第一実
施例であり、特に、マスク基板B′t−水平に支持する
方式のマスク基板両面検査装置の要部構造を示したもの
である。この実施例では、マスク基板Bの側縁部のみに
保合、す戸一対の支持部材36が第一のスライド34に
iパり付けられ、マスク基板Bは支持部材33によって
把持されるようになっている。支持部材66は第一のス
ライド64に固定されたエアシリンダもしくはソレノイ
ドなどにより第一のスライド64に対して第4図の矢印
aの方向に相対摺動可能でアリ、該エアシリンダもしく
は該ソレノイドと支持部材66とはマスク基板Bを把持
するための把持装置を構成している。支持部材63の先
端部分33aはマスク基板BO側縁部に係合するように
ゴム等の柔軟材で構成されるとともに該先端部分にはマ
スク基板の側縁部に対応して凹部が形成されている。
6 to 5 show a first embodiment of the apparatus of the present invention shown in FIG. 2, and particularly show the main structure of a double-sided mask substrate inspection apparatus of a type in which the mask substrate B't is horizontally supported. It is something that In this embodiment, a pair of supporting members 36 are attached to the first slide 34, holding only the side edges of the mask substrate B, so that the mask substrate B is held by the supporting members 33. It has become. The support member 66 is movable relative to the first slide 64 in the direction of arrow a in FIG. 4 by means of an air cylinder or solenoid fixed to the first slide 64. The support member 66 constitutes a gripping device for gripping the mask substrate B. The tip portion 33a of the support member 63 is made of a flexible material such as rubber so as to engage with the side edge of the mask substrate BO, and a recess is formed in the tip portion corresponding to the side edge of the mask substrate. There is.

第一のスライド64には回転のみ可能にナツト65が固
定され、該ナツトには第6図に示すようにパルスモータ
67で駆動される送りねじ66が螺合しており、送りね
じ660回転によって第一のスライド64は第6図及び
第4図の矢印すの方向に移動することがで、きる。この
送りねじ66は固定フレーム(図示せず)に回転のみ可
能に支持されている。第一のスラ養イド64はマスク基
板B’t−隔てて二つの部分に分割されているが、この
両部会はマスク基板Bを迂回する一対の連結腕(第5図
にはその一方のみが描かれている)Aによって互VC連
結されており互に一体となって動くことができる。第一
のスライド34ヲ矢印すの方向に案内するためのガイド
を上面に備えた第二のスライド38が第一のスライド6
4を支えており、この第二のスライド68もまた、第6
図乃至第5図に見られるようにマスク基板Bを隔てて二
部分に分割されるとともにマスク基板Bを迂回する一対
の連結腕68A(第5図にはその一方のみが描かれてい
る)によって該両部会が一体的に連結されている。
A nut 65 is fixed to the first slide 64 so that it can only rotate, and as shown in FIG. 6, a feed screw 66 driven by a pulse motor 67 is screwed into the nut. The first slide 64 can be moved in the direction of the arrow in FIGS. 6 and 4. The feed screw 66 is rotatably supported by a fixed frame (not shown). The first slide slide 64 is divided into two parts separated by the mask substrate B't, and both parts are separated by a pair of connecting arms (only one of which is shown in FIG. 5) that bypasses the mask substrate B. They are mutually VC-connected by A) and can move together as one. A second slide 38, which has a guide on the top surface for guiding the first slide 34 in the direction of the arrow, is connected to the first slide 6.
This second slide 68 also supports the sixth slide.
As seen in FIGS. 5 to 5, a pair of connecting arms 68A (only one of which is shown in FIG. 5) is divided into two parts with the mask substrate B in between and bypasses the mask substrate B. Both subcommittees are integrally connected.

この第二のスライド68は左右に分割されたフレーム6
9上に支持され、該フレーム上のガイド39aに沿って
第6図の矢印Cの方向に移動することができる。第二の
スライド58 K回転のみ可能に取り付けられたナツト
40(第4図参照)が送りねじ41に螺合しており、送
りねじ41はパルスモータ42によって回転されるよう
に連結されている。この送り、ねじ41はフレーム69
に回転のみ可能に支持されている。
This second slide 68 is a frame 6 divided into left and right parts.
9 and can be moved in the direction of arrow C in FIG. 6 along guides 39a on the frame. A nut 40 (see FIG. 4), which is attached to the second slide 58 so that it can rotate only by K, is threaded onto a feed screw 41, and the feed screw 41 is connected to be rotated by a pulse motor 42. This feed and screw 41 are connected to the frame 69
It is supported so that it can only be rotated.

第−及び第二のスライド64及び68ヲそれぞれ駆動す
るための二つのパルスモータ37及ヒ42は前記の制御
装置20によって制御さnる。
The two pulse motors 37 and 42 for driving the first and second slides 64 and 68, respectively, are controlled by the control device 20 described above.

フレーム69の上方位置と下方位置にはマスク基板Bの
両面に向がって投光器21及び22と、テレビカメラ2
゛3及び24とがそれぞれ配置されておりこれらの投光
器21及び22とテレビカメラ26及び24とは先に第
2図に於て説明したように、マスク基板Bの異なる位置
に向けて配置される。
At the upper and lower positions of the frame 69, projectors 21 and 22 and a television camera 2 are installed facing both sides of the mask substrate B.
These projectors 21 and 22 and television cameras 26 and 24 are arranged facing different positions on the mask substrate B, as previously explained in FIG. 2. .

マスク基板Bの両側線を把持する一対の支持部材66間
には、第3図及び第5図の上方及び下方からそれぞれ、
矢印d、eのようにローダ46とアンローダ44が侵入
しうるようになっており、検査前のマスク基板はローダ
46に乗って両支持部材66間に供給され、検査後のマ
スク基板はアンローダ44によって両支持部材63間か
ら取り出される。この場合、両支持部材63の間の位置
でローダ43及びアンローダ44が上下動して両支持部
材66間へのマスク基板の受は渡しが行われ、また、両
支持部材66は図示せぬ機構によって互に進退動されて
マスク基板を把持したり、あるいは解放したりしてマス
ク基板の受は渡しを行う。
Between the pair of support members 66 that grip both side lines of the mask substrate B, from above and below in FIGS. 3 and 5,
The loader 46 and the unloader 44 can enter as shown by arrows d and e, and the mask substrate before inspection is mounted on the loader 46 and supplied between both supporting members 66, and the mask substrate after inspection is carried by the unloader 44. It is taken out from between both support members 63 by. In this case, the loader 43 and the unloader 44 move up and down between the support members 63, and the mask substrate is transferred between the support members 66. The mask substrate is transferred by moving forward and backward to grip or release the mask substrate.

(第3図乃至第5図に示した第一実施例の概略的制御系
は第2図に示した通りであるが、第2図11Cはローダ
及びアンローダに関する制御系が省略されている。) 第6図に示す第二実施例は第6図乃至第5図に示した第
一実施例よりも更に合理的なマスク基板取扱い方式に則
って装置各部が構成されている。
(The schematic control system of the first embodiment shown in FIGS. 3 to 5 is as shown in FIG. 2, but the control system related to the loader and unloader is omitted in FIG. 2, 11C.) In the second embodiment shown in FIG. 6, each part of the apparatus is constructed in accordance with a more rational mask substrate handling method than in the first embodiment shown in FIGS. 6 to 5.

すなわち、第6図に示す実施例では、検査中及び検査の
前後ともマスク基板がその周縁部のみで把持されると同
時に常に鉛直な状態に保持され、その結果、マスク基板
の面に対するごみの付着や微小きずの発生を効果的に防
止できる。また、装置の占有面積が小さくてすみ、マス
ク基板の受は渡し機構も単純となる等の利点も有してい
る。
That is, in the embodiment shown in FIG. 6, the mask substrate is held only at its peripheral edge during the inspection and before and after the inspection, and is always held in a vertical state. It can effectively prevent the occurrence of small scratches. Further, the device has the advantage that the area occupied by the device is small and the mechanism for receiving and transferring the mask substrate is simple.

第6図に於て、45は検査前のマスク基板Bt−収納し
ておく未検査品収納カセットであり、この未検査品収納
カセット45は多数のマスク基板Bを立てた状態で収納
しうるように多数の平行なマスク基板収納溝を備えた天
板46及び底板47ヲ有しており、天板46は底板47
上に立設された数本の柱48の上に乗架されている。底
板47は天板46及び底板47のそれぞれのマスク基板
収納溝に対して直角方向に移動しうるスライド49上に
固定され、スライド49は送りねじ50及びパルスモー
タ51で構成された送り装置によってマスク基板Bの板
面と直交する方向に間歇的に且つ一定距離ずつ送られる
ようになっている。未検査品収納カセット45の後方(
すなわち第6図に於ては左側の位置)には未検査品収納
カセット45内から検査前のマスク基板Bt−一枚ずつ
検査装置本体部52へ送り出すための押出装置56が設
置されている。
In FIG. 6, numeral 45 is an uninspected product storage cassette that stores mask substrates Bt before inspection, and this uninspected product storage cassette 45 is designed to store a large number of mask substrates B in an upright state. The top plate 46 and the bottom plate 47 are provided with a large number of parallel mask substrate storage grooves, and the top plate 46 is connected to the bottom plate 47.
It is mounted on several pillars 48 erected above. The bottom plate 47 is fixed on a slide 49 that can move in a direction perpendicular to the respective mask substrate storage grooves of the top plate 46 and the bottom plate 47, and the slide 49 is configured to move the mask substrate by a feed device composed of a feed screw 50 and a pulse motor 51. It is intermittently fed in a direction perpendicular to the surface of the substrate B by a constant distance. Behind the uninspected product storage cassette 45 (
That is, in the left position in FIG. 6), there is installed an extrusion device 56 for feeding uninspected mask substrates Bt one by one from the uninspected product storage cassette 45 to the inspection apparatus main body 52.

この押出装置56は、所定位置に固定されたシリンダ5
4と、該シリンダのロッド55の先端に固定されたマス
ク基板係合部材56とを有しており、シリンダ54ハス
ライド49の移動と同期して作動される。この押出装置
53と前記カセット45とはいわゆる口〜ダを構成して
いる。
This extrusion device 56 has a cylinder 5 fixed at a predetermined position.
4 and a mask substrate engaging member 56 fixed to the tip of the rod 55 of the cylinder, and the cylinder 54 is operated in synchronization with the movement of the slide 49. This extrusion device 53 and the cassette 45 constitute a so-called mouth.

未検査品収納カセット45の前側、すなわち第6図に於
て右側にはカセット45に対して静止している第一の接
続レール57が配置され、この接続レール57には該カ
セット内のマスク基板収納溝に整列する唯−条の溝が設
けられている。この接続レール57ハ未検査品収納カセ
ット45から押出装置53によって押し出されたマスク
基板Bを検査装置本体部52へ通過させるガイドとなっ
ており、スライド49が図示矢印量の方向に送られる度
毎に未検査品収納カセット45内のマスク基板収納溝の
一つと一直線上に整列する。
A first connection rail 57 that is stationary with respect to the cassette 45 is arranged on the front side of the uninspected product storage cassette 45, that is, on the right side in FIG. A single groove is provided that aligns with the storage groove. This connecting rail 57 serves as a guide for passing the mask substrate B pushed out by the extrusion device 53 from the uninspected product storage cassette 45 to the inspection device main body 52, and every time the slide 49 is sent in the direction of the arrow shown in the figure. is aligned with one of the mask substrate storage grooves in the uninspected product storage cassette 45.

第一の接続レール57に隣接して配置された検査装置本
体部52は、マスク基板支持部材を兼ねた第一のスライ
ド58と、第一のスライド58ヲ支持して上下方向に動
きうる第二のスライド59とを有している。第一のスラ
イド58はその上面に第一0接続し〜ル57の溝に整列
する溝58a(第7図)を備えるとともにこの溝58a
の側方に立設された柱60ヲ有しており、柱60の頂端
部にはマスク基板の上縁部にのみ係合する係合片61が
設けられている。この保合片61の下端には第7図に示
すようにスライド58上の溝58aと平行な溝61aが
貫通して設けられ、こ(2J16Ia内をマスク基板B
の上縁部が通過できるようになっている。第一のスライ
ド58はその上の溝58aと平行に配設された送りねじ
62に螺合しており、送りねじ62に連結されたパルス
モータ66の回転に応じて送りねじ62の軸線に沿って
動かされる。
The inspection device main body 52 disposed adjacent to the first connection rail 57 includes a first slide 58 that also serves as a mask substrate support member, and a second slide 58 that supports the first slide 58 and is movable in the vertical direction. It has a slide 59. The first slide 58 is provided with a groove 58a (FIG. 7) on its upper surface that is aligned with the groove of the first connecting lever 57, and this groove 58a
It has a pillar 60 erected on the side, and an engagement piece 61 that engages only with the upper edge of the mask substrate is provided at the top end of the pillar 60. As shown in FIG. 7, a groove 61a parallel to the groove 58a on the slide 58 is provided at the lower end of the retaining piece 61 so as to pass through the groove 61a.
The upper edge of the can pass through. The first slide 58 is screwed into a feed screw 62 disposed parallel to the groove 58a thereon, and rotates along the axis of the feed screw 62 in accordance with the rotation of a pulse motor 66 connected to the feed screw 62. It moves me.

第一のスライド58含支持している第二のスライド59
には第一のスライド58會案内するための案内溝59a
をその上面に備えているとともに鉛直方向に延在する送
りねじ64に螺合している。送りねじ64にはパルスモ
ータ65が連結・され、パルスモータ65の回転に応じ
て第二のスライド59は送りねじ64の軸線に沿って上
下動される。第二のスライド59の上下動が正確に且つ
円滑に行われるように、図示せぬ固定フレームに立設し
たガイドバー66が第二のスライド59 ′fr案内す
るようになっている。
The first slide 58 includes a supporting second slide 59
There is a guide groove 59a for guiding the first slide 58.
is provided on its upper surface and is screwed into a feed screw 64 extending in the vertical direction. A pulse motor 65 is connected to the feed screw 64, and as the pulse motor 65 rotates, the second slide 59 is moved up and down along the axis of the feed screw 64. In order to move the second slide 59 up and down accurately and smoothly, a guide bar 66 erected on a fixed frame (not shown) guides the second slide 59'fr.

検査装置本体部52には第一のスライド58上のマスク
基板Bの両側に面して投光器21及び22とテレビカメ
ラ23及び24とがそれぞれ対になって配置されるが、
これらの位置関係は第2図と同じである。
Projectors 21 and 22 and television cameras 23 and 24 are arranged in pairs in the inspection device main body 52, facing both sides of the mask substrate B on the first slide 58, respectively.
These positional relationships are the same as in FIG.

検査装置本体部52の右側には前記第一の接続レール5
7と同一構造の第二の接続レール67が配置され、この
第二の接続レール67の更に右側に隣接して良品収納カ
セット68と不良品収納カセット69が並列して配置さ
れている。これらの両力セット68及び69は前記の未
検査品収納カセット45と全く同じ構造であり、それぞ
れ平行なマスク基板収納溝を備えた天板70及び71と
底板72及び76とを有するとともに天板70及び71
ヲ支持する柱74及び75ヲ有している。また両力セッ
ト68及び69はそれぞれ別のスライド76及び77ヲ
有しているが、両スライド76及び77は共通の送りね
じ78に螺合しているため、送りねじ78に連結すれた
パルスモータ79の回転に応じて両カセッ)68.69
はマスク基板収納溝に対して直角方向に同時に送られる
・  、・1 両カセッ) 68.69の後方すなわち第6図に於て右
方の位置には、シリンダ81とこのシリンダ810ロツ
ド82の先端に設けられた把持部材86とから成る取出
装置80が設けられ、この取出装置80と前記の両力セ
ット68及び69によってアンローダが構成されている
The first connection rail 5 is located on the right side of the inspection device main body 52.
A second connection rail 67 having the same structure as 7 is arranged, and a good product storage cassette 68 and a defective product storage cassette 69 are arranged in parallel adjacent to the second connection rail 67 on the right side. These double-sided sets 68 and 69 have exactly the same structure as the uninspected product storage cassette 45, and have top plates 70 and 71 and bottom plates 72 and 76, respectively, each having parallel mask substrate storage grooves. 70 and 71
It has pillars 74 and 75 that support it. Furthermore, although the double force sets 68 and 69 have separate slides 76 and 77, since both slides 76 and 77 are screwed together with a common feed screw 78, the pulse motor connected to the feed screw 78 Both cassettes depending on the rotation of 79) 68.69
68. At the rear of 69, that is, at the right position in FIG. 6, are the cylinder 81 and the tip of the cylinder 810 and rod 82. A take-out device 80 is provided which includes a gripping member 86 provided at the top, and this take-out device 80 and the above-mentioned double force set 68 and 69 constitute an unloader.

該取出装置80の把持部材86はマスク基板Bの縁部を
柔らかく把持する一対の指を備え、この指はそれぞれの
基端部に於て枢着されるとともにその先端が互に進退動
できるように構成されている。
The gripping member 86 of the extraction device 80 has a pair of fingers that softly grip the edge of the mask substrate B, and these fingers are pivotally attached at their base ends, and their tips can move forward and backward relative to each other. It is composed of

以上の如き構造を有する第6図の装置の作動について以
下に簡単に説明する。
The operation of the apparatus shown in FIG. 6 having the above structure will be briefly explained below.

未検査品収納カセット45内に収容されている未検査マ
スク基板Bの検査を行うときには、パルスモータ51及
び送りねじ50によってカセット45のスライド49が
矢印量方向に間けっ的に送られてカセット45中の未検
査マスク基板Bの一枚が接続レール57に整列するよう
にスライド49が位置決めされる。スライド49の停止
後、押出装置56ノシリンダs4d、作動されると、ロ
ッド55の先端のマスク基板係合部材56によって該未
検査マスク基板Bはカセット45内から接続レール57
上に押し出されるとともに接続レール57の上を通って
検査製置部本体52の第一スライド58上に移載される
。この場合、該マスク基板の上端縁が第一スライド58
上の柱60に設けられた保合片61の溝61aに入った
後に押出装置56のシリンダ54によってマスク基板係
合部材56は後退し、従って第一のスライド58上には
検査すべきマスク基板Bのみが残される。ついで、パル
スモータ66及び65が駆動されて第一のスライド58
及び第二のスライド59がそれぞれ送りねじ62及び6
4の軸線に平行に動かされ、その結果、投光器21及び
22からマ哀り基板に投射されたスポット光はマスク基
板Bの面を順次走査し、マスク基板上の状態は連続的に
2台のテレビ受像機31.32(第2図)に写し出され
る。一方、この場合、マスク基板の表面状態とスポット
光の走査位置とは出力装置60のプリンター等によって
印刷記録として打ち出される。
When inspecting the uninspected mask substrate B stored in the uninspected product storage cassette 45, the slide 49 of the cassette 45 is intermittently fed in the direction of the arrow by the pulse motor 51 and the feed screw 50. The slide 49 is positioned so that one of the uninspected mask substrates B therein is aligned with the connection rail 57. After the slide 49 has stopped, when the extrusion device 56 and the cylinder s4d are activated, the uninspected mask substrate B is moved from the inside of the cassette 45 to the connecting rail 57 by the mask substrate engaging member 56 at the tip of the rod 55.
It is pushed upward, passes over the connection rail 57, and is transferred onto the first slide 58 of the inspection and preparation section main body 52. In this case, the upper edge of the mask substrate is located at the first slide 58.
After entering the groove 61a of the retaining piece 61 provided on the upper pillar 60, the mask substrate engaging member 56 is retracted by the cylinder 54 of the extrusion device 56, so that the mask substrate to be inspected is placed on the first slide 58. Only B is left. Then, the pulse motors 66 and 65 are driven to move the first slide 58.
and the second slide 59 are connected to the feed screws 62 and 6, respectively.
As a result, the spot lights projected onto the mask substrate B from the projectors 21 and 22 sequentially scan the surface of the mask substrate B, and the state on the mask substrate is continuously It is projected onto a television receiver 31, 32 (Fig. 2). On the other hand, in this case, the surface condition of the mask substrate and the scanning position of the spot light are output as a print record by a printer or the like of the output device 60.

検査終了後、該マスク基板が良品であることが主制御装
置27に於て自動的に判定されると、パルスモータ79
及び送9ねじ78の作動によって良品収納カセット68
のマスク基板収納溝の一つが接続レール67に整列する
ようにスライド76が位置決めされる。ついで、取出装
置80のシリンダ81が作動されてロッド82の先端の
把持部材86が第一のスライド58上に進出し、把持部
材86の一対の指によって第一のスライド58上のマス
ク基板の側縁部が把持される。マスク基板を把持した後
にシリンダ81は進動され、把持部材83に把持された
マスク基板は第一のスライド58上から接続レール67
ヲ通って良品収納カセット68内に引き込まれる。以上
のようにして検査後のマスク基板が良品収納カセット6
8内に収納された後、把持部材83は該マスク基板を離
し、シリンダ81は更に把持部材83ヲカセツト68内
から外へ引き出す。
After the inspection, if the main controller 27 automatically determines that the mask substrate is a good product, the pulse motor 79
and the good product storage cassette 68 by the operation of the feed 9 screw 78.
The slide 76 is positioned such that one of the mask substrate storage grooves is aligned with the connection rail 67. Next, the cylinder 81 of the take-out device 80 is activated, and the gripping member 86 at the tip of the rod 82 advances onto the first slide 58, and the pair of fingers of the gripping member 86 grips the side of the mask substrate on the first slide 58. The edges are gripped. After gripping the mask substrate, the cylinder 81 is moved, and the mask substrate gripped by the gripping member 83 is moved from the top of the first slide 58 to the connecting rail 67.
It passes through and is drawn into the good product storage cassette 68. As described above, the mask substrate after inspection is placed in the non-defective storage cassette 6.
8, the gripping member 83 releases the mask substrate, and the cylinder 81 further pulls the gripping member 83 out of the cassette 68.

このように、第二実施例の装置に於ては検査中は勿論、
検査の前後に於てもマスク基板が鉛直状態に保たれてい
るので、ごみ付着やきす発生などの問題を生ずることが
ない。
In this way, in the device of the second embodiment, of course, during inspection,
Since the mask substrate is maintained vertically before and after the inspection, problems such as dust adhesion and scratches do not occur.

ス 以上のように、この発明によれば、マーク基板の両面を
同時に自動検査することができ、且つマスク基板の表面
は勿論、裏面にもごみ付着やきず発生の恐れなしに自動
検査を行うことのできるマスク基板両面検査装置が得ら
れる。
As described above, according to the present invention, both sides of a mark substrate can be automatically inspected at the same time, and the automatic inspection can be performed not only on the front side of the mask substrate but also on the back side without fear of dust adhesion or scratches. A mask substrate double-sided inspection device is obtained.

なお、図示実施例ではマスク基板を投光器及びテレビカ
メラに対して相対移動させる構造の装置を示したが、マ
スク基板を固定して投光器とテレビカメラとを動かすよ
うな構造としてもよい。
Although the illustrated embodiment shows an apparatus having a structure in which the mask substrate is moved relative to the projector and the television camera, a structure may be adopted in which the mask substrate is fixed and the projector and the television camera are moved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

$1図は別出願のマスク基板片面検査装置の概略図、第
2図は本発明のマスク基板両面検査装置の概念図、第6
図乃至第5図は本発明の第一実施例の要部概略図で第6
図及び第5図は平面図、第4図は第5図のTV−IV矢
視断面図、第6図は本発明の第二実施例の斜視図、第7
図は第6図の一部分の横断面図である。 B・・・マスク基板、16.67)L (ssj’・本
支持部材、20・・・移動兼位置決め制御装置、34,
38,49,58,59,76゜77・・・スライド、
27・・・主制御装置、21.22・・・投光器、23
.24・・・テレビカメラ、31,62・・・テレビ受
像機、36,41.50,62,64.78・・・送り
ねじ、37,42,51 。 63.65,79・・・パルスモータ、45・・・未検
査品収納カセット、68・・・良品収納カセット、69
・・・不良品収納カセット、56・・・押出装置、80
・・・取出装置。 特許出願人 東京芝浦電気株式会社 第1図 92図 第3図 第4図
Figure 1 is a schematic diagram of a mask substrate single-sided inspection device of a separate application, Figure 2 is a conceptual diagram of a mask substrate double-sided inspection device of the present invention, and Figure 6 is a schematic diagram of a mask substrate double-sided inspection device of the present invention.
Figures 5 to 5 are schematic diagrams of the main parts of the first embodiment of the present invention.
5 and 5 are plan views, FIG. 4 is a sectional view along the TV-IV arrow in FIG. 5, FIG. 6 is a perspective view of the second embodiment of the present invention, and FIG.
The figure is a cross-sectional view of a portion of FIG. 6. B...Mask substrate, 16.67)L (ssj'/book support member, 20...Movement and positioning control device, 34,
38,49,58,59,76°77...slide,
27... Main control device, 21.22... Floodlight, 23
.. 24...TV camera, 31,62...TV receiver, 36,41.50,62,64.78...Feed screw, 37,42,51. 63.65,79... Pulse motor, 45... Uninspected product storage cassette, 68... Good product storage cassette, 69
... Defective product storage cassette, 56 ... Extrusion device, 80
...Take-out device. Patent applicant Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. Figure 1 Figure 92 Figure 3 Figure 4

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 リソグラフィに使用するマスク基板の周縁部のみに
係合して該マスク基板を支持する支持部材と、該支持部
材を介して該マスク基板をその板面に平行に移動させ且
つ位置決めする移動兼位置決め装置と、該マスク基板の
両面側に配置され該マスク基板の各々の板面の相異なる
位置にスポット光を投射する投光器と、該マスク基板へ
のスポット光の入射位置の各々に対向して該マスク基板
の両側に配置された一対のテレビカメラと、該移動兼位
置決め装置を制御して、該マスク基板の全面を該スポッ
ト光によって走査させるとともに該テレビカメラの制御
を行う制御装置と、該主制御装置に接続されたテレビ受
像機及び入力装置並びに出力装置とを含むマスク基板両
面検査装置。 2 検査前のマスク基板を該支持部材に自動的に送り込
むローダと、検査終了後のマスク基ら 板を該支持部材力\自動的に取り出すアンローダとを含
む特許請求の範囲第1項記載のマスク基板両面検査装置
。 6 該支持部材が該マスク基板の面を上下方向に向けて
該マスク基板を支持するように構成されている特許請求
の範囲第1項記載のマスク基板両面検査装置。 4 該支持部材が該マスク基板を縦置きに支持するよう
に構成されている特許請求の範囲第1項記載のマスク基
板両面検査装置。 5 該支持部材及び該ローダ並びに該アンローダが該マ
スク基板を縦置き状態で支持し且つ移動させる構造とし
て構成されるとともに、該アンローダが不良品選別機能
を有している特許請求の範囲第2項記載のマスク基板両
面検査装置。
[Claims] 1. A support member that engages only the peripheral edge of a mask substrate used for lithography to support the mask substrate, and a support member that moves the mask substrate parallel to the plate surface through the support member. A moving/positioning device for positioning, a projector disposed on both sides of the mask substrate for projecting spot light onto different positions on each plate surface of the mask substrate, and a positioning device for adjusting the incident position of the spot light onto the mask substrate. A pair of television cameras placed on opposite sides of the mask substrate and the moving and positioning device are controlled to scan the entire surface of the mask substrate with the spot light and control the television cameras. A mask substrate double-sided inspection device including a control device, a television receiver connected to the main control device, an input device, and an output device. 2. The mask according to claim 1, which includes a loader that automatically feeds the mask substrate before inspection to the support member, and an unloader that automatically takes out the mask substrate after inspection by the force of the support member. Double-sided board inspection equipment. 6. The mask substrate double-sided inspection apparatus according to claim 1, wherein the support member is configured to support the mask substrate with the surface of the mask substrate facing up and down. 4. The mask substrate double-sided inspection apparatus according to claim 1, wherein the support member is configured to vertically support the mask substrate. 5. Claim 2, wherein the supporting member, the loader, and the unloader are configured to support and move the mask substrate in a vertical position, and the unloader has a defective product sorting function. The mask substrate double-sided inspection device described above.
JP57036546A 1982-03-10 1982-03-10 Inspecting apparatus for both surfaces of masked substrate Pending JPS58154229A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57036546A JPS58154229A (en) 1982-03-10 1982-03-10 Inspecting apparatus for both surfaces of masked substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57036546A JPS58154229A (en) 1982-03-10 1982-03-10 Inspecting apparatus for both surfaces of masked substrate

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS58154229A true JPS58154229A (en) 1983-09-13

Family

ID=12472760

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57036546A Pending JPS58154229A (en) 1982-03-10 1982-03-10 Inspecting apparatus for both surfaces of masked substrate

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS58154229A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5328555A (en) * 1992-11-24 1994-07-12 Applied Materials, Inc. Reducing particulate contamination during semiconductor device processing
KR100544501B1 (en) * 2001-11-28 2006-01-24 주식회사 포스코 Apparatus for detecting surface defects on cold rolled strip
WO2006057125A1 (en) * 2004-11-24 2006-06-01 Asahi Glass Company, Limited Method and device for inspecting defect of transparent plate body

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5328555A (en) * 1992-11-24 1994-07-12 Applied Materials, Inc. Reducing particulate contamination during semiconductor device processing
KR100544501B1 (en) * 2001-11-28 2006-01-24 주식회사 포스코 Apparatus for detecting surface defects on cold rolled strip
WO2006057125A1 (en) * 2004-11-24 2006-06-01 Asahi Glass Company, Limited Method and device for inspecting defect of transparent plate body
US7420671B2 (en) 2004-11-24 2008-09-02 Asahi Glass Company, Limited Defect inspection method and apparatus for transparent plate-like members
EP2161567A1 (en) * 2004-11-24 2010-03-10 Asahi Glass Company, Limited Defect inspection method and apparatus for transparent plate materials
US7796248B2 (en) 2004-11-24 2010-09-14 Asahi Glass Company, Limited Defect inspection method and apparatus for transparent plate-like members
JP4793266B2 (en) * 2004-11-24 2011-10-12 旭硝子株式会社 Defect inspection method and apparatus for transparent plate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6954268B2 (en) Defect inspection apparatus
US4764791A (en) Work alignment apparatus for double-sided exposure of a work
JP2008064595A (en) Substrate inspecting device
JP2007294727A (en) Imaging apparatus, surface mount machine using the same, component test device, and screen printing device
CN113245242A (en) Glass slide defect detecting and sorting system
US6392423B2 (en) Method for testing integrated circuit devices
JPH11281526A (en) Device and method for inspecting display
US4200393A (en) Method of positioning a semiconductor member by examining it and a die bonding apparatus using the same
KR100504334B1 (en) A method and electronic part inspection apparatus for vision system
JPS58154229A (en) Inspecting apparatus for both surfaces of masked substrate
JP4002429B2 (en) Exposure apparatus having foreign substance inspection function and foreign substance inspection method in the apparatus
JP2022010822A (en) Inspection device
JP2675307B2 (en) Preliner equipment
JPS59108934A (en) Optical inspecting apparatus for lens
KR100402253B1 (en) Test apparatus of electronic parts using vision system
JPH05273288A (en) Method and apparatus for inspection of printed-circuit board
KR102234312B1 (en) Parts sorting apparatus for manufacturing a diagnostic kit
JPH11248643A (en) Detection device for foreign matter in transparent film
JP2730054B2 (en) Electronic component inspection equipment
JP2661266B2 (en) Circuit alignment apparatus for flexible printed wiring board and transparent substrate and method of using the same
JP2000046747A (en) Method and apparatus for inspecting appearance of liquid crystal substrate
CN110034060B (en) Stripping device
JPH05249049A (en) Apparatus for inspecting external appearance of component
JP3033617B2 (en) Nozzle inspection device
JP2006040921A (en) Part mounting apparatus