JPS5814753B2 - photoconductive target - Google Patents

photoconductive target

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JPS5814753B2
JPS5814753B2 JP51004066A JP406676A JPS5814753B2 JP S5814753 B2 JPS5814753 B2 JP S5814753B2 JP 51004066 A JP51004066 A JP 51004066A JP 406676 A JP406676 A JP 406676A JP S5814753 B2 JPS5814753 B2 JP S5814753B2
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JP
Japan
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cadmium
selenide
solid
arsenic
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Application number
JP51004066A
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Japanese (ja)
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JPS5287994A (en
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吉田興夫
長栄勲
林元義明
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Toshiba Corp
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Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication of JPS5814753B2 publication Critical patent/JPS5814753B2/en
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J29/00Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
    • H01J29/02Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
    • H01J29/10Screens on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted or stored
    • H01J29/36Photoelectric screens; Charge-storage screens
    • H01J29/39Charge-storage screens
    • H01J29/45Charge-storage screens exhibiting internal electric effects caused by electromagnetic radiation, e.g. photoconductive screen, photodielectric screen, photovoltaic screen

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Image-Pickup Tubes, Image-Amplification Tubes, And Storage Tubes (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はセレン化カドミウム層またはスルホセレン化カ
ドミウム層あるいは硫化カドミウムおよびセレン化カド
ミウムの混合物層あるいはテルル化カドミウムとセレン
化カドミウムの固溶体層または混合物層、あるいはセレ
ン化亜鉛とセレン化カドミウムの固溶体層または混合物
質層を用いた光導電ターゲットに関する。
Detailed Description of the Invention The present invention provides a cadmium selenide layer, a cadmium sulfoselenide layer, a mixture layer of cadmium sulfide and cadmium selenide, a solid solution layer or a mixture layer of cadmium telluride and cadmium selenide, or a layer of zinc selenide and selenide. The present invention relates to a photoconductive target using a solid solution layer or a mixed material layer of cadmium chloride.

セレン化カドミウム層またはスルホセレン化カドミウム
層あるいは硫化カドミウムおよびセレン化カドミウムの
混合物層を用いた光導電ターゲットを撮像管例えばビジ
コンに適用することは公知である。
It is known to apply photoconductive targets with cadmium selenide layers or cadmium sulfoselenide layers or mixture layers of cadmium sulfide and cadmium selenide to image pickup tubes, such as vidicons.

例えばセレン化カドミウムを用いた光導電ターゲットに
は次の様な構造がある。
For example, a photoconductive target using cadmium selenide has the following structure.

即ち第1図に示す如く光透過性ガラスからなるフエース
プレート11の一方面上に透明導電膜の信号電極12を
設け、この信号電極12上にセレン化カドミウム層13
(CdSe)を設け、この層13上に絶縁体として比抵
抗106〜1014のSb2S3又はSb2Se3又は
As2S3又はAs2Se3又はZnSなどの絶縁体層
14を設けけたものである。
That is, as shown in FIG. 1, a signal electrode 12 made of a transparent conductive film is provided on one side of a face plate 11 made of light-transmitting glass, and a cadmium selenide layer 13 is provided on this signal electrode 12.
(CdSe), and on this layer 13, an insulator layer 14 of Sb2S3, Sb2Se3, As2S3, As2Se3, or ZnS having a specific resistance of 106 to 1014 is provided as an insulator.

また第2図はCdSe層13と絶縁体14の間にセレン
のオキシ酸塩層あるいはセレンのオキシ酸塩と酸化カド
ミウムの混合物層15を設けたターゲットである。
Further, FIG. 2 shows a target in which a selenium oxylate layer or a mixture layer 15 of selenium oxylate and cadmium oxide is provided between the CdSe layer 13 and the insulator 14.

ここにセレンのオキシ酸塩の例としては亜セレン酸カド
ミウム(CdSe03)がある。
An example of a selenium oxyacid salt is cadmium selenite (CdSe03).

まだ、第3図はすでに出願中のものでCdSe層13と
絶縁体層14の間に島状に設けられたセレンのオキシ酸
塩層あるいはセレンのオキシ酸塩と酸化カドミウムの混
合物層16を設けたターゲットである。
However, FIG. 3 shows a case in which an application has already been filed, in which a selenium oxysalt layer or a mixture layer 16 of selenium oxysalt and cadmium oxide is provided in an island shape between the CdSe layer 13 and the insulating layer 14. It is a target.

このようにして得られたターゲットは何れも光電感度が
抜群によく、多用されている三硫化アンチモン光導電体
の20倍以上あり、一酸化鉛を用いたターゲットの感度
と比較しても問題にならない程よい。
All of the targets obtained in this way have extremely high photoelectric sensitivity, which is more than 20 times that of the commonly used antimony trisulfide photoconductor, and is no problem when compared with the sensitivity of targets using lead monoxide. The less the better.

この評価は放送局の技術者からも認められており、特に
、焼付、暗電流などはほとんど認められず、特性は良好
である。
This evaluation has been recognized by broadcast station engineers, and the characteristics are particularly good, with almost no burn-in or dark current observed.

しかるにこのような従来のターゲットにおいても特に残
像特性について未だ不十分な点が残されており、その改
善が望まれていた。
However, even in such conventional targets, there are still some deficiencies, especially in terms of afterimage characteristics, and improvement thereof has been desired.

本発明は上記の点に鑑みなされたもので、セレン化カド
ミウムを主体とした光導電ターゲットの特性のうち特に
残像特性を更に向上させた光導電ターゲットを提供する
ことを目的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a photoconductive target that further improves the afterimage characteristics among the characteristics of a photoconductive target mainly composed of cadmium selenide.

以下、実施例により本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to Examples.

第4図に示すように、光透過性ガラスからなるフェース
・プレート11の一方面上に沈着した透明導電膜12の
上にセレン化カドミウム光導電体層を設ける。
As shown in FIG. 4, a cadmium selenide photoconductor layer is provided on a transparent conductive film 12 deposited on one side of a face plate 11 made of optically transparent glass.

すなわち、セレン化カドミウム層13と亜セレン酸カド
ミウム層16を設ける。
That is, a cadmium selenide layer 13 and a cadmium selenite layer 16 are provided.

亜セレン酸カドミウム層は島状の層の例を示す。The cadmium selenite layer shows an example of an island-like layer.

さらに、2×10−3Torrより高真空中(例えば2
×10−5Torrの高真空中)で例えば厚さ0.5μ
前後に蒸着した三セレン化ひ素(As2Se3;以下で
はAs40Se60と記述する)の固体層21を設け、
さらに2×10−1〜2×10−2Torr(例えば0
.2Torr)の低真空アルゴン雰囲気中で蒸着した三
セレン化ひ素の多孔質層22を設け、さらに例えば2×
10−5Torrの高真空中で例えば厚さ1.5μ前後
に蒸着した三セレン化ひ素の第二の固体層23を設けて
光導電ターゲツトとして形成する。
Furthermore, in a vacuum higher than 2 x 10-3 Torr (e.g. 2
x 10-5 Torr high vacuum) with a thickness of 0.5μ, for example.
A solid layer 21 of arsenic triselenide (As2Se3; hereinafter referred to as As40Se60) is provided before and after the evaporation,
Furthermore, 2×10-1 to 2×10-2 Torr (e.g. 0
.. A porous layer 22 of arsenic triselenide is provided, which is deposited in a low vacuum argon atmosphere at a pressure of 2 Torr.
A second solid layer 23 of arsenic triselenide deposited in a high vacuum of 10@-5 Torr to a thickness of approximately 1.5 microns, for example, is provided to form a photoconductive target.

第4図の如き多孔質層が形成された光導電ターゲットに
おいては、多孔質層が形成されていない光導電ターゲッ
トよりも残像特性が第5図のように改善されることが判
明した。
It has been found that in a photoconductive target on which a porous layer as shown in FIG. 4 is formed, the afterimage characteristics are improved as shown in FIG. 5 compared to a photoconductive target on which no porous layer is formed.

第5図において実線は多孔質層が有る場合、点線は多孔
質層が無い場合を示す。
In FIG. 5, the solid line indicates the case where there is a porous layer, and the dotted line indicates the case where there is no porous layer.

図の例は18mm管の例であり、従来の方法では信号電
流50nAの場合に、減衰の第3フィールドで15〜2
0%、立ち上りの第3フィールドが15〜25%に対し
て、本発明のターゲットでは減衰の第3フィールドが8
〜12%、立ち上がりの第3フィールドが50〜75%
に改善される。
The example in the figure is an example of an 18 mm tube, and in the conventional method, when the signal current is 50 nA, the third field of attenuation is 15 to 2
0%, and the third field of rise is 15-25%, whereas in the target of the present invention, the third field of decay is 8%.
~12%, rising third field 50-75%
will be improved.

特に立ち上がりの残像において改善が著しい。The improvement is particularly remarkable in the afterimage at the beginning of the image.

従来、三硫化アンチモン(Sb2S3)を用いたビジコ
ン・ターゲットで多孔質層と固体層を組み合わせて残像
特性が良化することは知られており、本発明のターゲッ
トにおいても多孔質層による同様の効果と考えられる。
Conventionally, it has been known that the afterimage characteristics of a vidicon target using antimony trisulfide (Sb2S3) are improved by combining a porous layer and a solid layer, and the target of the present invention also has a similar effect due to the porous layer. it is conceivable that.

しかしながら、本発明者等は前述した三セレン化ひ素の
多孔質層および後述する他のひ素−セレン材料等からな
る固体層と多孔質層との組み合わせについては三硫化ア
ンチモンの例とは以下の点で異なることを見出した。
However, the present inventors have found that, regarding the combination of the porous layer of arsenic triselenide described above and the solid layer and porous layer made of other arsenic-selenium materials described later, the following points are different from the example of antimony trisulfide. I found something different.

すなわち、通常の三硫化アンチモンを主としたターゲッ
トにおいては、ガラス基板上の一方面上に透明信号電極
となるネサ膜(Sn02膜)上に固体層−多孔質層−固
体層と形成すると固体層のみのターゲットよりも周知の
ように残像特性が改善される。
In other words, in the case of a target mainly made of normal antimony trisulfide, if a solid layer-porous layer-solid layer is formed on a Nesa film (Sn02 film) that becomes a transparent signal electrode on one side of a glass substrate, a solid layer is formed. As is well known, the afterimage characteristics are improved compared to a single target.

しかるにこの三硫化アンチモンの例では多孔質層は入射
光に対して光電変換機能を有する層として用いられてい
る。
However, in this example of antimony trisulfide, the porous layer is used as a layer having a photoelectric conversion function for incident light.

これに対し、本発明では入射光に対して光電変換を行な
う層はセレン化カドミウムのみであり、その上に形成し
た光電変換の役割を持たない絶縁体層の機能として用い
る三セレン化ひ素層を多孔質層としたものである。
In contrast, in the present invention, the layer that performs photoelectric conversion on incident light is only cadmium selenide, and the arsenic triselenide layer formed on top of it is used as an insulator layer that does not have the role of photoelectric conversion. This is a porous layer.

従来の三硫化アンチモンの例では光に感ずる部分である
光電変換層が多孔質層となっているため、残像特性が改
善される他に分光特性が変化する結果となる。
In the conventional example of antimony trisulfide, the photoelectric conversion layer, which is the part that is sensitive to light, is a porous layer, which not only improves the afterimage characteristics but also changes the spectral characteristics.

三硫化アンチモンの固体層は通常赤色の長波長側に感度
があり、多孔質層は通常固体層より短波長側に感度があ
って、両者を併用することで可視光全域にわたる分光特
性を得ている。
The solid layer of antimony trisulfide is usually sensitive to the long wavelength side of red, and the porous layer is usually more sensitive to the shorter wavelength side than the solid layer, and by using both together, it is possible to obtain spectral characteristics over the entire visible light range. There is.

本発明の場合には、光電変換作用を有する層に設けるの
ではなく、いわゆる光電蓄積の作用を行なう部分に多孔
質層を応用しており、分光特性を変えることなく残像の
みを改善できる。
In the case of the present invention, a porous layer is not provided in a layer having a photoelectric conversion function, but is applied to a portion that performs a so-called photoelectric accumulation function, and only afterimages can be improved without changing spectral characteristics.

本発明者等の一人は他の発明者と共に第1図の如き構造
のターゲットにおいて、絶縁体層の比抵抗を所望の値に
するために低抵抗の材料を多孔質層として高抵抗化する
ことを述べたが、本発明においてはすでに十分な高抵抗
の材料をも含めて多孔質層として残像特性を改善するも
のである。
One of the inventors of the present invention, together with other inventors, proposed that in a target having a structure as shown in Fig. 1, in order to make the specific resistance of the insulating layer a desired value, a porous layer of a low-resistance material was used to increase the resistance. However, in the present invention, the afterimage characteristics are improved by forming a porous layer including a material having a sufficiently high resistance.

三硫化アンチモンのビジコンの例と異なる点として次の
事実も判明した。
The following fact was also found to be different from the antimony trisulfide vidicon example.

三セレン化ひ素をSnO2膜上に固体層で蒸着すると、
本発明者の一人がすでに報告したように蓄積形ビジコン
となる,(Japanese Journal of
Applied Physics第6巻、第7号875
〜882頁1967年)。
When arsenic triselenide is deposited as a solid layer on a SnO2 film,
As one of the inventors has already reported, it becomes a storage type vidicon (Japanese Journal of
Applied Physics Volume 6, Issue 7 875
~882 pages 1967).

三セレン化ひ素の固体層の代わりに第4図に示したセレ
ン化カドミウム層と亜セレン酸カドミウム層を除いた層
、すなわち、三セレン化ひ素の固体層一多孔質層一固体
層をガラス基板一ネサ膜上に形成したターゲットにおい
ては通常のビジコン動作をなさず、第6図の点線に示す
ように蓄積形ビジコンの特性を示す。
Instead of the solid layer of arsenic triselenide, the layers shown in Figure 4 except for the cadmium selenide layer and the cadmium selenite layer, that is, the solid layer of arsenic triselenide, the porous layer, and the solid layer are replaced with glass. The target formed on the substrate-nesa film does not perform normal vidicon operation, but exhibits the characteristics of a storage type vidicon as shown by the dotted line in FIG.

時刻t=toにおいて光を照射すると照射時間と共に信
号電流が増加し、適当時間後のt=to+Tにおいて光
を遮断すると、信号電流は元の値に戻らず、長時間にわ
たってゆっくりとした減衰カーブを描く。
When light is irradiated at time t=to, the signal current increases with the irradiation time, and when the light is cut off at t=to+T after an appropriate time, the signal current does not return to its original value but follows a slow attenuation curve over a long period of time. draw.

多孔質層を併用しても通常の三硫化アンチモンのビジコ
ンのようK残像特性が改善されることはない。
Even if a porous layer is used in combination, the K afterimage characteristics will not be improved as in the usual antimony trisulfide vidicon.

しかし第4図の構成のターゲットでは、t=toにおい
て光照射を開始すると、極めて短時間のうちに一定の信
号電流値に到達し、t−=to+Tにおいて光を遮断す
ると極めて短時間のうちに元の暗電流値に戻る。
However, in the target with the configuration shown in Figure 4, when light irradiation is started at t=to, a certain signal current value is reached in an extremely short period of time, and when light is cut off at t-=to+T, the signal current value is reached within an extremely short period of time. Returns to the original dark current value.

これをさらに詳しく観察したのが前述の第5図であり、
多孔質層による残像改善が実現される上述したようにセ
レン化カドミウムを主とする光電変換層上に絶縁層を形
成する場合、その絶縁層の一部を多孔質層とすることに
より残像特性が改善できる。
This is observed in more detail in Figure 5 above.
Afterimage improvement is realized by a porous layer.As mentioned above, when an insulating layer is formed on a photoelectric conversion layer mainly made of cadmium selenide, afterimage characteristics can be improved by making a part of the insulating layer a porous layer. It can be improved.

このような効果を可能ならしめる材料としてはこれまで
述べてきた玉セレン化ひ素(As40Se60)に限ら
ず、AS60Se40,As50Se50As36Se
70,AS20Se80などAsとSeの適当なモル比
の材料について有効である。
Materials that make this effect possible are not limited to the arsenic selenide (As40Se60) mentioned above, but also AS60Se40, As50Se50As36Se, etc.
It is effective for materials with an appropriate molar ratio of As and Se, such as 70, AS20Se80.

AsとSeの割合はAS55Se45,AS52Se4
8などでも良いことは勿論である。
The ratio of As and Se is AS55Se45, AS52Se4
Of course, a number such as 8 is also fine.

ただし、AsがSeよりも多くなるとAsがSeと十分
に反応せず、As単体が遊離して害をおよぼす場合があ
り、モル比でAsが60%程度つまりAS60Se40
まで実用的である。
However, if As exceeds Se, As may not react sufficiently with Se, and As alone may become liberated and cause harm.
It's very practical.

モル比でSeが多くなる場合にはAs単体の遊離は問題
とならず、むしろ薄膜とした後でのセレンの結晶化によ
る画質の劣化が問題となる。
When the molar ratio of Se increases, the release of As alone is not a problem, but rather the problem is deterioration of image quality due to crystallization of selenium after forming a thin film.

したがって、AsはSeの結晶化を防ぐ意味でモル比で
2係程度でも良い。
Therefore, in order to prevent the crystallization of Se, the molar ratio of As may be about 2.

また、As−Se系に限らず、As−S系、As−Te
系あるいはAs−S−Se,As−S−Te,As−S
e−Teの材料についても多孔質層の形成は有効である
In addition, not only As-Se type but also As-S type, As-Te type
system or As-S-Se, As-S-Te, As-S
Formation of a porous layer is also effective for e-Te material.

なお、第6図の特性はAs−Seを主とした材料につい
て起る場合が多い。
Note that the characteristics shown in FIG. 6 often occur with materials mainly composed of As-Se.

なお、第4図の構造で絶縁体層として三セレン化ひ素を
主として述べたが固体層と多孔質層の材料は異なっても
良い。
Although arsenic triselenide is mainly used as the insulating layer in the structure shown in FIG. 4, the solid layer and the porous layer may be made of different materials.

例えば、最初の固体層には三セレン化ひ素(As40S
e60)、多孔質層には二セレン化ひ素(AS50Se
50)、第二の固体層に再び三セレン化ひ素(As40
Se60)を使用しても良い。
For example, the first solid layer contains arsenic triselenide (As40S).
e60), arsenic diselenide (AS50Se) is used in the porous layer.
50), arsenic triselenide (As40) is added again to the second solid layer.
Se60) may also be used.

三セレン化ひ素の方が三セレン化ひ素より多孔質層の形
成制御が容易であり製造上の利点が多い。
Arsenic triselenide has many manufacturing advantages because it is easier to control the formation of a porous layer than arsenic triselenide.

また、As−Seの固体層一多孔質層上にAs−S系の
固体層が形成される場合のように、材料の組み合わせは
どのようにしても良い。
Furthermore, the materials may be combined in any manner, such as in the case where an As-S solid layer is formed on an As-Se solid layer and a porous layer.

また、固体層−多孔質層−固体層の組み合わせに限らず
、第7図のように固体層−多孔質層とするか、あるいは
第8図のように多孔質層−固体層、さらには第9図のよ
うに多孔質層−固体層−多孔質層としても良い。
Furthermore, the combination is not limited to a solid layer-porous layer-solid layer, but a solid layer-porous layer as shown in FIG. 7, or a porous layer-solid layer as shown in FIG. As shown in FIG. 9, the structure may be a porous layer-solid layer-porous layer.

また、固体層と多孔質層を交互に重ねても良い。Further, solid layers and porous layers may be alternately stacked.

種々実験した結果では多孔質層上に固体層が蒸着される
場合に残像特性の改善が著しい。
The results of various experiments show that when a solid layer is deposited on a porous layer, the afterimage characteristics are significantly improved.

また、多孔質層−固体層の順序の場合に、固体層を蒸着
すると多孔質層の一部を核にして垂直方向に米粒状の層
が形成されることが観察された。
In addition, in the case of the porous layer-solid layer order, it was observed that when the solid layer was deposited, a rice-grain-shaped layer was formed in the vertical direction with part of the porous layer as the nucleus.

この場合、多孔質層が極度に厚く、その上に米粒状層が
形成されると画像を得るためにビジコンのターゲット電
圧を極めて高くする(例えば100V以上)ことが必要
で、実用的ではない。
In this case, if the porous layer is extremely thick and a rice grain layer is formed on it, it is necessary to set the target voltage of the vidicon extremely high (for example, 100 V or more) in order to obtain an image, which is not practical.

多孔質層の残りが僅かにあって、その上に固体層を蒸着
したことによる米粒状層が形成されるとターゲット電圧
が50V以下の実用範囲となって、残像の良好な撮像管
が得られる。
If there is a small amount of remaining porous layer and a grain-like layer is formed by depositing a solid layer on top of it, the target voltage will be within the practical range of 50V or less, and an image pickup tube with good afterimages will be obtained. .

なお、上述の説明では第4図のようにセレン化カドミウ
ムを主とする光電変換層とその上に形成された島状の亜
セレン酸カドミウム層を例として述べたが、第1図のよ
うなセレン化カドミウム層を主とした層のみの場合でも
、また第2図のようなセレン化カドミウムを主とした層
上に亜セレン酸カドミウム層が形成された場合にも適用
できることは明らかである。
In the above explanation, as shown in Fig. 4, a photoelectric conversion layer mainly made of cadmium selenide and an island-shaped cadmium selenite layer formed thereon were used as an example. It is clear that the present invention can be applied both to the case where only a layer mainly consists of cadmium selenide, or to the case where a cadmium selenite layer is formed on a layer mainly composed of cadmium selenide as shown in FIG.

その例を第11図に示す。絶縁層を固体層−多孔質層−
固体層とした例である。
An example is shown in FIG. The insulating layer is a solid layer - a porous layer -
This is an example of a solid layer.

本発明による複合ターゲットの実施例では第1層にセレ
ン化カドミウムを使用した例について述べたが、適当な
量の硫化カドミウム、例えば重量比で硫化カドミウム/
セレン化カドミウム=1/2を含んだ固溶体(スルホー
セレン化カドミウム)ないしは混合物であってもよい。
In the embodiment of the composite target according to the present invention, an example was described in which cadmium selenide was used in the first layer.
It may be a solid solution (cadmium sulfoselenide) containing 1/2 of cadmium selenide or a mixture.

また、硫化カドミウムとセレン化カドミウムの各層が重
畳されたものでもよい。
Alternatively, layers of cadmium sulfide and cadmium selenide may be superimposed.

また、テルル化カドミウムとセレン化カドミウムを含ん
だ固溶体ないし混合物であってもよい。
Further, it may be a solid solution or a mixture containing cadmium telluride and cadmium selenide.

またテルル化カドミウムとセレン化カドミウムの各層が
重畳されたものであってもよい。
Alternatively, each layer of cadmium telluride and cadmium selenide may be superimposed.

また、セレン化亜鉛とセレン化カドミウムを含んだ固溶
体ないし混合物であっても良いし、セレン化亜鉛とセレ
ン化カドミウムの各層が重畳されたものでもよい。
Further, it may be a solid solution or a mixture containing zinc selenide and cadmium selenide, or it may be a layer in which zinc selenide and cadmium selenide are superimposed.

また、他の材料でもセレン化カドミウムと固溶体を形成
するか、あるいは混合できるか、または重畳できるもの
なら何んでも良い。
Further, any other material may be used as long as it forms a solid solution with cadmium selenide, or can be mixed with or superimposed with cadmium selenide.

これら複合ターゲットには例えば99.999%の高純
度材料のセレン化カドミウムをそのまま使用することが
できる。
For example, 99.999% high purity cadmium selenide can be used as is for these composite targets.

あるいは、不純物として、タリウムの他に、良く知られ
ているような銅、金インジウム、ガリウム、アルミニウ
ム、ハロゲン類 アルカリ金属、アルカリ土類金属等の一種ないし数種を
含んでも良い。
Alternatively, in addition to thallium, one or more of well-known impurities such as copper, gold indium, gallium, aluminum, halogen alkali metals, and alkaline earth metals may be included.

セレン化カドミウムを主とした第一層の役割は従来のタ
ーゲット構造と同様に光感度を得ることであり、光吸収
はこの第一層で行なわれる。
The role of the first layer, which is mainly made of cadmium selenide, is to obtain photosensitivity, similar to the conventional target structure, and light absorption takes place in this first layer.

この意味でこの層を光電変換層と呼べる。In this sense, this layer can be called a photoelectric conversion layer.

上記実施例においては亜セレン酸カドミウムを述べたが
、これに酸化カドミウムが混在していてもよい。
Although cadmium selenite was used in the above embodiments, cadmium oxide may also be mixed therein.

また、カドミウムとセレンと酸素からなる複雑な中間化
合物、例えば、Cd3Se4O11(3Cd−SeO3
・SeO2)が亜セレン酸カドミウムに混在していても
よい。
In addition, complex intermediate compounds consisting of cadmium, selenium, and oxygen, such as Cd3Se4O11 (3Cd-SeO3
・SeO2) may be mixed with cadmium selenite.

多孔質層の材料には実施例に述べた三セレン化ひ素など
のひ素−セレン化物や三硫化ひ素などのひ素−硫黄化物
の他に、硫化ゲルマニウム、セレン化ゲルマニウム、硫
化タリウム、セレン化タリウム、三硫化ビスマス、三セ
レン化ビスマス、セレン化亜鉛、硫化亜鉛、テルル化カ
ドミウム、三硫化アンチモン、三セレン化アンチモン、
フツ化カルシウム、フツ化マグネシウム、フツ化アルミ
ニウム、フツ化ナトリウム、氷晶石および酸化鉛などの
材料が使われる。
In addition to arsenic-selenides such as arsenic triselenide and arsenic-sulfides such as arsenic trisulfide mentioned in the examples, the materials for the porous layer include germanium sulfide, germanium selenide, thallium sulfide, thallium selenide, Bismuth trisulfide, bismuth triselenide, zinc selenide, zinc sulfide, cadmium telluride, antimony trisulfide, antimony triselenide,
Materials used include calcium fluoride, magnesium fluoride, aluminum fluoride, sodium fluoride, cryolite, and lead oxide.

また、多孔質層を形成するには実施例で述べたアルゴン
雰囲気中の蒸着が有効であるが、アルゴンのみならず窒
素や他の不活性ガスでも良く、さらには酸素が含まれて
いても良い。
In addition, to form a porous layer, vapor deposition in an argon atmosphere as described in the examples is effective, but not only argon but also nitrogen or other inert gases may be used, and even oxygen may be included. .

以上、述べたように光電変換作用のない層に多孔質層を
適用することにより残像特性のすぐれた撮像管が得られ
る。
As described above, by applying a porous layer to a layer that does not have a photoelectric conversion function, an image pickup tube with excellent afterimage characteristics can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来のセレン化カドミウムを用いた光導電ター
ゲットを説明するための断面図、第2図は第1図の他の
構造を示す断面図、第3図は第1図の他の構造を示す断
面図、第4図は本発明に係る光導電ターゲットの一実施
例を説明するための断面図、第5図は従来の光導電ター
ゲットと本発明の光導電ターゲットをビジコンに内蔵し
た時の残像特性の比較を示す特性曲線図、第6図は本発
明ターゲットのセレン化カドミウムを主とする光電変換
層とセレン化ひ素とからなる光導電ターゲットとセレン
化ひ素のみからなる光導電ターゲットの光応答特性の比
較を示す特性曲線図、第7図と第8図と第9図は第4図
の他の構造を示す断面図、第10図は本発明を第1図の
ターゲットに適用したー実施例を示す図、第11図は本
発明を第2図のターゲットに適用した一実施例を示す図
である。 11・・・フエース・プレート、12・・・透明導電膜
13・・・CdSe層、14・・・絶縁体層、15・・
・CdSeO3層、16・・・島状のCdSeO3層、
21・・・As40se60の固体層、22・・・As
40Se60の多孔質層、23・・・As40Se60
の固体層。
Fig. 1 is a cross-sectional view for explaining a conventional photoconductive target using cadmium selenide, Fig. 2 is a cross-sectional view showing another structure of Fig. 1, and Fig. 3 is another structure of Fig. 1. FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining one embodiment of the photoconductive target according to the present invention, and FIG. Figure 6 is a characteristic curve diagram showing a comparison of the afterimage characteristics of a photoconductive target of the present invention consisting of a photoelectric conversion layer mainly made of cadmium selenide and arsenic selenide, and a photoconductive target consisting only of arsenic selenide. Characteristic curve diagrams showing a comparison of photoresponse characteristics; Figures 7, 8, and 9 are cross-sectional views showing other structures in Figure 4; Figure 10 shows the present invention applied to the target in Figure 1; FIG. 11 is a diagram showing an embodiment in which the present invention is applied to the target shown in FIG. 2. DESCRIPTION OF SYMBOLS 11... Face plate, 12... Transparent conductive film 13... CdSe layer, 14... Insulator layer, 15...
・CdSeO3 layer, 16... Island-shaped CdSeO3 layer,
21... Solid layer of As40se60, 22... As
Porous layer of 40Se60, 23...As40Se60
solid layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 人射光の光電変換を行う光導電体層と、該光導電体
層上に設けられた入射光の光電変換機能を有しない絶縁
体層とを備え、前記絶縁体層を、少なくとも高真空蒸着
により形成された固体層と低真空蒸着により形成された
多孔質層との積層構造としたことを特徴とする光導電タ
ーゲット。 2 絶縁体層は固体層多孔質層固体層の積層構造である
特許請求の範囲第1項記載の光導電ターゲット。 3 絶縁体層は多孔質層固体層多孔質層の積層構造であ
る特許請求の範囲第1項記載の光導電ターゲット。 4 絶縁体層はAs40Se60の固体層、該固体層上
に設けたAs50Se50の多孔質層、該多孔質層上に
設けたAS40Se60の固体層である特許請求の範囲
第1項記載の光導電ターゲット。 5 光電変換層としてセレン化カドミウムまたはスルホ
セレン化カドミウムあるいは硫化カドミウムおよびセレ
ン化カドミウムの混合物層、あるいはテルル化カドミウ
ムとセレン化カドミウムの固溶体層または混合物層、あ
るいはセレン化亜鉛とセレン化カドミウムの固溶体層ま
たは混合物質層を用いた特許請求の範囲第1項記載の光
導電ターゲット。 6 多孔質層としてひ素−セレン化物、ひ素−硫黄化物
、ひ素−テルル化物、ひ素−硫黄−セレンの化合物、ひ
素−硫黄−テルルの化合物、ひ素一セレンーテルルの化
合物、硫化ゲルマニウム、セレン化ゲルマニウム、硫化
タリウム、セレン化タリウム、三硫化ビスマス、三セレ
ン化ビスマス、セレン化亜鉛、硫化亜鉛、テルル化カド
ミウム、三硫化アンチモン、三セレン化アンチモン、フ
ッ化カルシユム、フツ化マグネシウム、フッ化アルミニ
ウム、フツ化ナトリウム、氷晶石もしくは酸化鉛を用い
た特許請求の範囲第1項記載の光導電ターゲット。
[Scope of Claims] 1. A photoconductor layer that performs photoelectric conversion of incident light, and an insulator layer provided on the photoconductor layer that does not have a photoelectric conversion function of incident light, the insulator layer 1. A photoconductive target having a laminated structure of at least a solid layer formed by high vacuum evaporation and a porous layer formed by low vacuum evaporation. 2. The photoconductive target according to claim 1, wherein the insulating layer has a laminated structure of a solid layer, a porous layer, and a solid layer. 3. The photoconductive target according to claim 1, wherein the insulating layer has a laminated structure of a porous layer, a solid layer, and a porous layer. 4. The photoconductive target according to claim 1, wherein the insulating layer is a solid layer of As40Se60, a porous layer of As50Se50 provided on the solid layer, and a solid layer of AS40Se60 provided on the porous layer. 5 As a photoelectric conversion layer, cadmium selenide, cadmium sulfoselenide, a mixture layer of cadmium sulfide and cadmium selenide, or a solid solution layer or mixture layer of cadmium telluride and cadmium selenide, or a solid solution layer of zinc selenide and cadmium selenide, or A photoconductive target according to claim 1, which uses a mixed material layer. 6 As a porous layer, arsenic-selenide, arsenic-sulfide, arsenic-telluride, arsenic-sulfur-selenium compound, arsenic-sulfur-tellurium compound, arsenic-selenium-tellurium compound, germanium sulfide, germanium selenide, sulfide Thallium, thallium selenide, bismuth trisulfide, bismuth triselenide, zinc selenide, zinc sulfide, cadmium telluride, antimony trisulfide, antimony triselenide, calcium fluoride, magnesium fluoride, aluminum fluoride, sodium fluoride The photoconductive target according to claim 1, which uses cryolite or lead oxide.
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