JPS5814754B2 - photoconductive target - Google Patents

photoconductive target

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JPS5814754B2
JPS5814754B2 JP51030873A JP3087376A JPS5814754B2 JP S5814754 B2 JPS5814754 B2 JP S5814754B2 JP 51030873 A JP51030873 A JP 51030873A JP 3087376 A JP3087376 A JP 3087376A JP S5814754 B2 JPS5814754 B2 JP S5814754B2
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JP
Japan
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layer
selenide
cadmium
arsenic
rice grain
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JP51030873A
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Japanese (ja)
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JPS5289084A (en
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吉田興夫
長栄勲
林元義明
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Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光導電ターゲットに関する。[Detailed description of the invention] The present invention relates to photoconductive targets.

光導電ターゲット例えばセレン化カドミウム層またはス
ルホセレン化カドミウム層あるいは硫化カドミウムおよ
びセレン化カドミウムの混合物層を用いた光導電ターゲ
ットを撮像管例えばビジコンに適用することは公知であ
る。
It is known to apply photoconductive targets, such as photoconductive targets, with layers of cadmium selenide or cadmium sulfoselenide or mixtures of cadmium sulphide and cadmium selenide to image pickup tubes, such as vidicons.

例えばセレン化カドミウムを用いた光導電ターゲットに
は次の様な構造がある。
For example, a photoconductive target using cadmium selenide has the following structure.

即ち第1図に示す如く光透過性ガラスからなるフエース
プレート11の一方面上に透明導電膜の信号電極12を
設け、この信号電極12上にセレン化カドミウム層13
(CdSe)を設け、この層13上に絶縁体として比抵
抗106〜1014のSb2S3又はSb2Se3又は
As2S3又はAs2Se3又はZn.Sなどの絶縁体
層14を設けたものである。
That is, as shown in FIG. 1, a signal electrode 12 made of a transparent conductive film is provided on one side of a face plate 11 made of light-transmitting glass, and a cadmium selenide layer 13 is provided on this signal electrode 12.
(CdSe), and on this layer 13, as an insulator, Sb2S3 or Sb2Se3 or As2S3 or As2Se3 or Zn. An insulator layer 14 made of S or the like is provided.

また第2図はCdSe層13と絶縁体14のうち絶縁体
14にさらにセレンのオキシ酸塩層あるいはセレンのオ
キシ酸塩と酸化カドミウムの混合物層15を設けたター
ゲットである。
Further, FIG. 2 shows a target in which, among the CdSe layer 13 and the insulator 14, the insulator 14 is further provided with a selenium oxysalt layer or a mixture layer 15 of selenium oxysalt and cadmium oxide.

ここにセレンのオキシ酸塩の例としては亜セレン酸カド
ミウム(CdSeO3)がある。
An example of a selenium oxyacid salt is cadmium selenite (CdSeO3).

また、第3図はすでに出願中のもので絶縁体層14にさ
らに島状に設けられたセレンのオキシ酸塩層あるいはセ
レンのオキシ酸塩と酸化カドミウムの混合物層16を設
けたターゲットである。
Further, FIG. 3 shows a target which is already under application and has a selenium oxysalt layer or a mixture layer 16 of selenium oxysalt and cadmium oxide provided in an island shape on the insulating layer 14.

このようにして得られたターゲットは何れも光電感度が
抜群によく、多用されている三硫化アンチモン光導電体
の20倍以上あり、一酸化鉛を用いたターゲットの感度
と比較しても問題にならない程よい。
All of the targets obtained in this way have extremely high photoelectric sensitivity, which is more than 20 times that of the commonly used antimony trisulfide photoconductor, and is no problem when compared with the sensitivity of targets using lead monoxide. The less the better.

この評価は放送局の技術者からも認められており、特に
、焼付、暗電流などはほとんど認められず、特性は良好
である。
This evaluation has been recognized by broadcast station engineers, and the characteristics are particularly good, with almost no burn-in or dark current observed.

しかるにこのような従来のターゲットにおいても、特に
残像特性について未だ不十分な点が残されており、その
改善が望まれていた。
However, even in such conventional targets, there are still some deficiencies, particularly in the afterimage characteristics, and improvement thereof has been desired.

本発明は上記の点に鑑みなされたもので、残像を減少で
きる光導電ターゲットを提供することを目的とする。
The present invention was made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a photoconductive target that can reduce afterimages.

すなわち、入射光に対して光電変換作用を有する光導電
体層を設け、該層上に前記入射光に対して光電変換作用
を有しない絶縁体層を有するターゲットにおいて絶縁体
層に米粒状層を設けて残像を減少させるものである。
That is, in a target having a photoconductor layer having a photoelectric conversion effect on incident light, and an insulator layer having no photoelectric conversion effect on the incident light, a rice grain layer is formed on the insulator layer. This is to reduce afterimages.

本発明における絶縁体層は米粒状層のみでもよいし、米
粒状層と通常の固体層の積層でもよいしさらに米粒状層
と多孔質層の積層でもよい。
The insulator layer in the present invention may be a rice grain layer alone, a rice grain layer and a normal solid layer, or a rice grain layer and a porous layer.

以下図面を参照して本発明ターゲットの実施例を説明す
る。
Embodiments of the target of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第4図に示すように光透過性ガラスからなるフェースプ
レート11の一方面上に設けた透明導電膜12の上にセ
レン化カドミウム光導電体層13を設ける。
As shown in FIG. 4, a cadmium selenide photoconductor layer 13 is provided on a transparent conductive film 12 provided on one side of a face plate 11 made of light-transmitting glass.

さらに、セレン化カドミウム層13上に亜セレン酸カド
ミウム層16を設ける。
Further, a cadmium selenite layer 16 is provided on the cadmium selenide layer 13.

亜セレン酸カドミウム層16は島状の層の例を示す。The cadmium selenite layer 16 shows an example of an island-shaped layer.

さらに、2×10−3Torrよりも高真空中(例えば
2X10−5Torrの高真空中)で厚さ例えば0.5
μ前後に三セレン化ひ素(As2Se3;以下ではAs
40←Se60と記述する)の固体層21(ソリッド層
)を蒸着し、さらに2×10−1〜2×10−2Tor
r(例えば0.2Torr)の低真空アルゴン雰囲気中
で三セレン化ひ素の多孔質層22を蒸着し、さらに該層
22上に例えば2×10−5Torrの高真空中で例え
ば厚さ1.5μ前後に三セレン化ひ素の第二の固体層2
3を蒸着して光導電ターゲットとして形成する。
Furthermore, in a vacuum higher than 2 x 10-3 Torr (for example, in a high vacuum of 2 x 10-5 Torr), the thickness is, for example, 0.5
Arsenic triselenide (As2Se3; hereinafter As
A solid layer 21 (described as 40←Se60) is vapor-deposited and further
A porous layer 22 of arsenic triselenide is deposited in a low vacuum argon atmosphere at a pressure of, for example, 0.2 Torr, and then a porous layer 22 of arsenic triselenide is deposited on the layer 22 to a thickness of, for example, 1.5 μm in a high vacuum of, for example, 2×10 −5 Torr. A second solid layer of arsenic triselenide before and after 2
3 is evaporated to form a photoconductive target.

このような製造工程で得た光導電ターゲットの亜セレン
酸カドミウム層16、固体層21、多孔質層22、固体
層23からなる絶縁体層には米粒状層が形成されている
A rice grain-like layer is formed in the insulator layer consisting of the cadmium selenite layer 16, the solid layer 21, the porous layer 22, and the solid layer 23 of the photoconductive target obtained through such a manufacturing process.

この状態を第5図及び第6図に示す。This state is shown in FIGS. 5 and 6.

即ちこの米粒状層は多孔質層22と固体層23の領域に
見られ、この米粒状層の状態を示したのが第5図及び第
6図である。
That is, this rice grain layer is seen in the region of the porous layer 22 and the solid layer 23, and FIGS. 5 and 6 show the state of this rice grain layer.

第5図の写真は多孔質層22を比較的薄《形成した場合
の米粒状層である。
The photograph in FIG. 5 shows a rice grain-like layer when the porous layer 22 is formed relatively thin.

この写真のイは断面写真であり米粒状層の根元にわずか
多孔質層22が残っているように思われるがはっきりし
ていない。
A of this photo is a cross-sectional photo, and it seems that a small amount of porous layer 22 remains at the base of the rice grain layer, but it is not clear.

口は斜方からの米粒状層の表面の写真であり、ハは上方
からの表面写真である。
Mouth is a photograph of the surface of the rice grain layer viewed from an oblique angle, and C is a photograph of the surface from above.

多孔質層22を比較的厚く形成した場合を第6図に示す
FIG. 6 shows a case where the porous layer 22 is formed relatively thick.

第6図はこの場合の米粒状層の写真で、イは断面図であ
り、根元にはっきり多孔質層22の存在が確認できる状
態になっている。
FIG. 6 is a photograph of the rice grain layer in this case, and A is a cross-sectional view, in which the existence of the porous layer 22 can be clearly confirmed at the base.

ロは斜方からの米粒状層の表面写真であり、ハは上方か
らの米粒状層の表面写真である。
B is a surface photograph of the rice grain layer viewed from an oblique angle, and C is a surface photograph of the rice grain layer viewed from above.

このように絶縁体層に米粒状層を有する光導電ターゲッ
トの残像特性は第7図のように改善されている。
As described above, the afterimage characteristics of the photoconductive target having the rice grain layer in the insulating layer are improved as shown in FIG.

即ち18mmビジコン管に適用した場合の特性で従来の
方法では信号電流50nAの場合に、減衰の第3フィー
ルドで15〜20%、立ち上りの第3フィールドが15
〜25%に対して、本発明のターゲットでは減衰の第3
フィールドが8〜2%、立ち上がりの第3フィールドが
50〜75%に改善される。
In other words, when applied to an 18 mm vidicon tube, in the conventional method, when the signal current is 50 nA, the third field of attenuation is 15 to 20%, and the third field of rise is 15%.
~25%, whereas the target of the present invention has a third
The field is improved to 8-2%, and the rising third field is improved to 50-75%.

特に立ち上がりの残像において改善が著しい。The improvement is particularly remarkable in the afterimage at the beginning of the image.

このような作用をもつ米粒状層は、多孔質層一固体層の
順序で形成する場合に、固体層を蒸着すると垂直方向に
形成される。
A rice grain layer having such an effect is formed in the vertical direction when the solid layer is deposited when the porous layer and the solid layer are formed in this order.

これは、明らかではないが、多孔質層の一部を核にして
いると思われる。
Although it is not clear, this seems to be based on a part of the porous layer.

製造時は比較的薄い多孔質層(ポーラス層)を形成した
のち固体層(ソリッド層)を形成すると、実際に完成さ
れた光導電ターゲットには多孔質層がなくなり、消滅す
る場合もある。
During manufacturing, if a relatively thin porous layer is formed and then a solid layer is formed, the porous layer may disappear in the actually completed photoconductive target and may even disappear.

また多孔質層が極度に厚く、その上に米粒状層が形成さ
れると画像を得るためにビジョンのターゲット!圧を極
めて高くする(例えば100■以上)ことが必要で、実
用的ではない。
In addition, the porous layer is extremely thick, and a rice grain layer is formed on top of it to obtain the vision target! The pressure must be extremely high (for example, 100 cm or more), which is not practical.

多孔質層の残りが僅かにあって、その上に固体層を蒸着
したことによる米粒状層が形成されるとターゲット電圧
が50V以下の実用範囲となって、残像の最適な撮像管
が得られる。
If there is a small amount of remaining porous layer and a grain-like layer is formed by depositing a solid layer on top of it, the target voltage will be within the practical range of 50V or less, and an image pickup tube with optimal afterimages will be obtained. .

従来、三硫化アンチモン(Sb2S3)を用いたビジコ
ン・ターゲットで多孔質層と固体層を組み合わせて残像
特性が良化することは知られており本発明のターゲット
においても多孔質層による同様の効果と考えられる。
Conventionally, it has been known that the afterimage characteristics of a vidicon target using antimony trisulfide (Sb2S3) are improved by combining a porous layer and a solid layer, and the target of the present invention also has a similar effect due to the porous layer. Conceivable.

しかしながら、前述した三セレン化ひ素の多孔質層およ
び後述する他のひ素−セレン材料等からなる固体層と多
孔質層の製造工程で得た光導電ターゲットは三硫化アン
チモノの例とは以下の点で異なっている。
However, the photoconductive target obtained in the manufacturing process of the porous layer of arsenic triselenide described above and the solid layer and porous layer made of other arsenic-selenium materials described later has the following points in contrast to the antimono trisulfide example. It's different.

すなわち、通常の三硫化アンチモンを主としたターゲッ
トにおいては、ガラス基板上の一方面上に透明信号電極
となるネサ膜(Sn02膜)上に固体層−多孔質層−固
体層と形成すると固体層のみのターゲットよりも周知の
ように残像特性が改善される。
In other words, in the case of a target mainly made of normal antimony trisulfide, if a solid layer-porous layer-solid layer is formed on a Nesa film (Sn02 film) that becomes a transparent signal electrode on one side of a glass substrate, a solid layer is formed. As is well known, the afterimage characteristics are improved compared to a single target.

しかるにこの三硫化アンチモノの例では多孔質層を設け
るのは入射光に対して光電変換機能を有する層として用
いられている。
However, in this example of antimono trisulfide, the porous layer is used as a layer having a photoelectric conversion function for incident light.

これに対し本発明では入射光に対して光電変換を行なう
層はセレン化カドミウムのみであり、その上に形成した
光電変換の役割を持たない絶縁体層に米粒状層を設けて
いる。
In contrast, in the present invention, the layer that performs photoelectric conversion on incident light is only cadmium selenide, and the rice grain-like layer is provided on the insulator layer that does not play a role in photoelectric conversion.

従来の三硫化アンチモンの例では光に感ずる剖分である
光電変換層が多孔質層となっているため残像特性が改善
される他に分光特性が変化する結果となる。
In the conventional example of antimony trisulfide, the photoelectric conversion layer, which is sensitive to light, is a porous layer, which not only improves the afterimage characteristics but also changes the spectral characteristics.

三硫化アンチモノの固体層は通常赤色の長波長側に感度
があり、多孔質層は通常固体層より短波長側に感度があ
って、両者を併用することで可視光全域にわたる分光特
性を得ている。
The solid layer of antimono trisulfide is usually sensitive to the long wavelength side of red, and the porous layer is usually more sensitive to the shorter wavelength side than the solid layer, and by using both together, it is possible to obtain spectral characteristics over the entire visible light range. There is.

本発明の場合には、光電変換作用を有する層に設けるの
ではなく、いわゆる蓄積の作用を行なう部分に米粒状層
を応用しており、分光特性を変えることなく残像のみを
改善できる。
In the case of the present invention, the rice grain-like layer is not provided in a layer having a photoelectric conversion function, but is applied to a portion that performs a so-called accumulation function, and only the afterimage can be improved without changing the spectral characteristics.

三硫化アンチモンのビジョンの例と異なる点として次の
事実も判明した。
The following fact was also found to be different from the antimony trisulfide vision example.

三セレン化ひ素をSnO2膜上に固体層で蒸着すると、
本発明者の一人がすでに報告したように蓄積形ビジョン
となる(Japanese Journal of A
pplied Pbysics第6巻、第7号875〜
882頁1967年)。
When arsenic triselenide is deposited as a solid layer on a SnO2 film,
As one of the inventors has already reported, it becomes an accumulative vision (Japanese Journal of A
pplied Pbysics Volume 6, No. 7 875~
882 pages 1967).

三セレン化ひ素の固体層の代わりに第4図に示したセレ
ン化カドミウム層13と亜セレン酸カドミウム層16を
除いた層、すなわち、三セレン化ひ素の固体層一多孔質
層一固体層をガラス基板−ネサ膜上に形成したターゲッ
トにおいては通常のビジコン動作をなさず、第8図の点
線に示すように蓄積形ビジコンの特性を示す。
Instead of the solid layer of arsenic triselenide, a layer excluding the cadmium selenide layer 13 and the cadmium selenite layer 16 shown in FIG. 4, that is, a solid layer of arsenic triselenide, a porous layer, and a solid layer is used. A target formed on a glass substrate-NESA film does not exhibit normal vidicon operation, but exhibits the characteristics of a storage type vidicon as shown by the dotted line in FIG.

時刻t−toにおいて光を照射すると照射時間と共に信
号電流が増加し、適当時間後のt=to+Tにおいて光
を遮断すると、信号電流は元の値に戻らず、長時間にわ
たってゆっくりとした減衰カーブを描く。
When light is irradiated at time t-to, the signal current increases with the irradiation time, and when the light is cut off at t=to+T after an appropriate time, the signal current does not return to its original value but follows a slow attenuation curve over a long period of time. draw.

多孔質層を併用しても通常の三硫化アンチモンのビジコ
ンのように残像特性が改善されることはない。
Even if a porous layer is used in combination, the afterimage characteristics will not be improved as in the case of ordinary antimony trisulfide vidicon.

しかし第4図の構成のターゲットでは、t=toにおい
て光照射を開始すると、極めて短時間のうちに一定の信
号電流直に到達し、t=to+Tにおいて光を遮断する
と極めて短時間のうちに元の暗電流値に戻る。
However, in the target with the configuration shown in Figure 4, when light irradiation is started at t=to, a constant signal current is reached in an extremely short time, and when the light is cut off at t=to+T, the signal current returns to normal within an extremely short time. Return to dark current value.

これをさらに詳しく観察したのが前述の第7図であり、
米粒状層による残像改善が実現される。
This is observed in more detail in Figure 7 above.
Afterimage improvement is realized by the rice grain layer.

上述したようにセレン化カドミウムを主とする光電変換
層上に絶縁層を形成する場合、その絶縁層に米粒状層を
設けることにより残像特性が改善できる。
As described above, when an insulating layer is formed on a photoelectric conversion layer mainly made of cadmium selenide, the afterimage characteristics can be improved by providing a rice grain-like layer on the insulating layer.

このような効果を可能ならしめる材料としてはこれまで
述べてきた三セレン化ひ素(As40Se60)に限ら
ず、As60se40,As50Se50,As30S
e70,AS20Se30などAsとSeの適当なモル
比の材料について有効である。
Materials that can make this effect possible are not limited to arsenic triselenide (As40Se60), which has been mentioned so far, but also As60se40, As50Se50, As30S.
It is effective for materials with an appropriate molar ratio of As and Se, such as e70, AS20Se30.

AsとSe冫の割合はAs55Se45,AS52Se
48などでも良いことは勿論である。
The ratio of As and Se is As55Se45, AS52Se
Of course, a value such as 48 would also be acceptable.

ただし、AsがSeよりも多くなるとAsがSeと十分
に反応せず、As単体が遊離して害をおよぼす場合があ
り、モル比でAsが60%程度つまりAs60Se40
までが実用的である。
However, if As exceeds Se, As will not react sufficiently with Se, and As alone may become liberated and cause harm.
It is practical.

モル比でSeが多くなる場合にはAs単体の遊離は問題
とならず、むしろ薄膜とした後でのセレンの結晶化によ
る画質の劣化が問題となる。
When the molar ratio of Se increases, the release of As alone is not a problem, but rather the problem is deterioration of image quality due to crystallization of selenium after forming a thin film.

したがって、AsはSeの結晶化を防ぐ意味でモル比2
%程度でも良い。
Therefore, As has a molar ratio of 2 to prevent Se crystallization.
It may be around %.

また、AsSe系に限らず、As−S系、As−Te系
あるいはAs−SSe,As−S−Te,As−Se−
Teの材料についても米粒状層の形成は有効である。
In addition, it is not limited to AsSe, but also As-S, As-Te, As-SSe, As-S-Te, As-Se-
Formation of a grain-like layer is also effective for Te material.

なお、第8図の特性はAs−Seを主とした材料につい
て起る場合が多い。
Note that the characteristics shown in FIG. 8 often occur with materials mainly composed of As-Se.

なお、第4図の製造の説明で絶縁体層として三セレン化
ひ素を主として述べたが固体層と多孔質層の材料は異な
っても良い。
Although arsenic triselenide was mainly used as the insulating layer in the explanation of the manufacturing process shown in FIG. 4, the solid layer and the porous layer may be made of different materials.

例えば、最初の固体層の形成には三セレン化ひ素(As
40Se60)、多孔質層の形成にはニセレン化ひ素(
A8!5oSe50)、第二の固体層の形成に再び三セ
レン化ひ素(As40Se60)を使用しても良い。
For example, arsenic triselenide (As) is used to form the first solid layer.
40Se60), arsenic diselenide (
A8!5oSe50), arsenic triselenide (As40Se60) may be used again to form the second solid layer.

ニセレン化ひ素の方が三セレン化ひ素より多孔質層の形
成制御が容易であり製造上の利点が多い。
Arsenic diselenide allows easier control of formation of a porous layer than arsenic triselenide, and has many manufacturing advantages.

また、As−Seの固体層−多孔質層上にAs−S系の
固体層が形成される場合のように、材料の組み合わせは
どのようにしても良い。
Furthermore, the materials may be combined in any manner, such as in the case where an As-S solid layer is formed on an As-Se solid layer-porous layer.

なお第4図の上記実施例では固体層Sを形成したのち、
多孔質層Pを設け、該層上に固体層Sを設けた略称S−
P−Sとしたが、第9図に示す如く島状亜セレン酸カド
ミウム層16上に多孔質層22を設け、該層22上に固
体層23を設けてもよい。
In the above embodiment shown in FIG. 4, after forming the solid layer S,
Abbreviation S- in which a porous layer P is provided and a solid layer S is provided on the layer.
P-S, however, as shown in FIG. 9, a porous layer 22 may be provided on the island-like cadmium selenite layer 16, and a solid layer 23 may be provided on the layer 22.

この場合の米粒状層を第10図及び第11図に示す。The rice grain layer in this case is shown in FIGS. 10 and 11.

即ち第10図は多孔質層22が比較的薄い場合の米粒状
層の写真である。
That is, FIG. 10 is a photograph of a rice grain layer when the porous layer 22 is relatively thin.

イは断面写真であり、米粒状層の根元には多孔質層の確
認は困難であることがわかる。
A is a cross-sectional photograph, and it can be seen that it is difficult to confirm the porous layer at the base of the rice grain layer.

口は米粒状層の表面を斜方から見た写真であり、ハは米
粒状層の表面の上方からみた写真である。
Mouth is a photograph of the surface of the rice granule layer viewed from an oblique angle, and C is a photograph of the surface of the rice granule layer viewed from above.

多孔質層22を比較的厚くした場合の米粒状層を第11
図に示す。
The rice grain layer when the porous layer 22 is made relatively thick is the 11th layer.
As shown in the figure.

イの写真は断面写真であり、米粒状層の根元に多孔質層
のあることがわかる。
The photo in A is a cross-sectional photo, and it can be seen that there is a porous layer at the base of the rice grain layer.

口は米粒状層の表面を斜方から見た写真であり、ハは米
粒状層の表面を上方からみた写真である。
Mouth is a photograph of the surface of the rice granule layer viewed from an oblique angle, and C is a photograph of the surface of the rice granule layer viewed from above.

いずれも、第4図の場合と同様に残像特性を減少する効
果がある。
Both have the effect of reducing the afterimage characteristics as in the case of FIG. 4.

第12図は第9図に示した固体層23の表面にさらに多
孔質層22を設けたPSP構造の例である。
FIG. 12 shows an example of a PSP structure in which a porous layer 22 is further provided on the surface of the solid layer 23 shown in FIG.

なお、米粒状層が走査表面に露出している場合には電子
ビームのランデイング特性を良好ならしめるために、走
査側表面に多孔質層な設けても良い。
In addition, when the rice grain layer is exposed on the scanning surface, a porous layer may be provided on the scanning side surface in order to improve the landing characteristics of the electron beam.

この場合の多孔質層の厚さは薄くても良く、走査表面に
僅かに形成される程度でも良い。
The thickness of the porous layer in this case may be thin, and may be formed only slightly on the scanning surface.

なお、上述の説明では第4図のようにセレン化カドミウ
ムを主とする光電変換層とその上に形成された島状の亜
セレン酸カドミウム層を例として述べたが、第1図のよ
うなセレン化カドミウム層を主とした層のみの場合にも
、また第2図のようなセレン化カドミウムを主とした層
上に亜セレン酸カドミウム層が形成された場合にも適用
できることは明らかである。
In the above explanation, as shown in Fig. 4, a photoelectric conversion layer mainly made of cadmium selenide and an island-shaped cadmium selenite layer formed thereon were used as an example. It is clear that this method can be applied both to the case of only a layer mainly composed of cadmium selenide, and also to the case where a cadmium selenite layer is formed on a layer mainly composed of cadmium selenide, as shown in Fig. 2. .

その例を第13図と第14図に示す。Examples are shown in FIGS. 13 and 14.

絶縁層を固体層−多孔質層−固体層とした例である。This is an example in which the insulating layer is a solid layer, a porous layer, and a solid layer.

本発明による複合ターゲットの実施例では第1層にセレ
ン化カドミウムを使用した例について述べたが、適当な
量の硫化カドミウム、例えば重量比で硫化カドミウム/
セレン化カドミウム=1/2を含んだ固溶体(スルホー
セレン化カドミウム)ないしは混合物であってもよい。
In the embodiment of the composite target according to the present invention, an example was described in which cadmium selenide was used in the first layer.
It may be a solid solution (cadmium sulfoselenide) containing 1/2 of cadmium selenide or a mixture.

また、硫化カドミウムとセレン化カドミウムの各層が重
畳されたものでもよい。
Alternatively, layers of cadmium sulfide and cadmium selenide may be superimposed.

また、テルル化カドミウムとセレン化カドミウムを含ん
だ固溶体ないし混合物であってもよい。
Further, it may be a solid solution or a mixture containing cadmium telluride and cadmium selenide.

またテルル化カドミウムとセレン化カドミウムの各層が
重畳されたものであってもよい。
Alternatively, each layer of cadmium telluride and cadmium selenide may be superimposed.

また、セレノ化亜鉛とセレン化カドミウムを含んだ固溶
体ないし混合物であっても良いし、セレン化亜鉛とセレ
ン化カドミウムの各層が重畳されたものでもよい。
Further, it may be a solid solution or a mixture containing zinc selenide and cadmium selenide, or it may be a layer in which zinc selenide and cadmium selenide are superimposed.

また、他の材料でもセレン化カドミウムと固溶体を形成
するか、あるいは混合できるか、または重畳できるもの
なら何んでも良い。
Further, any other material may be used as long as it forms a solid solution with cadmium selenide, or can be mixed with or superimposed with cadmium selenide.

これら複合ターゲットには例えば99.999%の高純
度材料のセレン化カドミウムをそのまま使用することが
できる。
For example, 99.999% high purity cadmium selenide can be used as is for these composite targets.

あるいは、不純物として、タリウムの他に、良く知られ
ているような銅、金、インジウム、ガリウム、アルミニ
ウム、ハロゲン類、テルル、アンチモン、ビスマス、鉛
、スズ、アルカリ金属、アルカリ土類金属等の一種ない
し数種を含んでも良い。
Alternatively, in addition to thallium, impurities include well-known copper, gold, indium, gallium, aluminum, halogens, tellurium, antimony, bismuth, lead, tin, alkali metals, alkaline earth metals, etc. Or it may contain several types.

セレン化カドミウムを主とした第一層の役割は従来のタ
ーゲット構造と同様に光感度を得ることであり、光吸収
はこの第一層で行なわれる。
The role of the first layer, which is mainly made of cadmium selenide, is to obtain photosensitivity, similar to the conventional target structure, and light absorption takes place in this first layer.

この意味でこの層を光電変換層と呼べる。In this sense, this layer can be called a photoelectric conversion layer.

上記実施例においては亜セレン酸カドミウムを述べたが
、これに酸化カドミウムが混在していてもよい。
Although cadmium selenite was used in the above embodiments, cadmium oxide may also be mixed therein.

また、カドミウムとセレンと酸素からなる複雑な中間化
合物、例えば、Cd3Se4O11(3CdSeO3・
SeO2)が亜セレン酸カドミウムに混在していてもよ
い。
In addition, complex intermediate compounds consisting of cadmium, selenium, and oxygen, such as Cd3Se4O11 (3CdSeO3.
SeO2) may be mixed with cadmium selenite.

多孔質層の材料には実施例に述べた三セレン化ひ素など
のひ素−セレン化物や三硫化ひ素などのひ素一硫黄化物
の他に、硫化ゲルマニウム、セレン化ゲルマニウム、硫
化タリウム、セレン化タリウム、三硫化ビスマス、三セ
レン化ビスマス、セレン化亜鉛、硫化亜鉛、テルル化カ
ドミウム、三硫化アンチモン、三セレン化アンチモン、
フッ化カルシウム、フツ化マグネシウム、フツ化アルミ
ニウム、フツ化ナトリウム、氷晶石および酸化鉛などの
材料が使われる。
In addition to arsenic-selenides such as arsenic triselenide and arsenic monosulfides such as arsenic trisulfide mentioned in the examples, the materials for the porous layer include germanium sulfide, germanium selenide, thallium sulfide, thallium selenide, Bismuth trisulfide, bismuth triselenide, zinc selenide, zinc sulfide, cadmium telluride, antimony trisulfide, antimony triselenide,
Materials used include calcium fluoride, magnesium fluoride, aluminum fluoride, sodium fluoride, cryolite, and lead oxide.

また、多孔質層を形成するには実施例で述べたアルゴン
雰囲気中の蒸着が有効であるが、アルゴンのみならず窒
素や他の不活性ガスでも良く、さらには酸素が含まれて
いても良い。
In addition, to form a porous layer, vapor deposition in an argon atmosphere as described in the examples is effective, but not only argon but also nitrogen or other inert gases may be used, and even oxygen may be included. .

以上、述べたように光電変換作用の元い層に多孔質層を
適用することにより残像特性のすぐれた撮像管が得られ
る。
As described above, by applying a porous layer to the layer that is not responsible for photoelectric conversion, an image pickup tube with excellent afterimage characteristics can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来のセレン化カドミウムを用いた光導電ター
ゲットを説明するための断面図、第2図は第1図の他の
構造を示す断面図、第3図は第1図の他の構造を示す断
面図、第4図は本発明に係る光導電ターゲットの一実施
例の製法を説明するための断面図、第5図及び第6図は
第4図のターゲットの米粒状層の写真、第7図は従来の
光導電ターゲットと本発明の光導電ターゲットをビジコ
ンに内蔵した時の残像特性の比較を示す特性曲線図、第
8図は本発明ターゲットのセレン化カドミウムを主とす
る光電変換層とセレン化ひ素とからなる光導電ターゲッ
トとセレン化ひ素のみからなる光導電ターゲットの光応
答特性の比較を示す特性曲線図、第9図は第4図の他の
実施例の製法説明図、第10図及び第11図は第9図の
ターゲットの米粒状層の写真、第12図は第9図の他の
実施例の製法説明図、第13図及び第14図は第4図の
他の実施例の製法説明図である。 11・・・・・・フェース、プレート、12・・・・・
・透明導電膜、13・・・・・・CdSe層、14・・
・・・・絶縁体層、16・・・・・・亜セレン酸カドミ
ウム層、21,23・・・・・・固体層、22・・・・
・・多孔質層。
Fig. 1 is a cross-sectional view for explaining a conventional photoconductive target using cadmium selenide, Fig. 2 is a cross-sectional view showing another structure of Fig. 1, and Fig. 3 is another structure of Fig. 1. FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining the manufacturing method of one embodiment of the photoconductive target according to the present invention, FIGS. 5 and 6 are photographs of the rice grain layer of the target in FIG. 4, Figure 7 is a characteristic curve diagram showing a comparison of afterimage characteristics when a conventional photoconductive target and the photoconductive target of the present invention are built into a vidicon, and Figure 8 is a photoelectric conversion mainly using cadmium selenide in the target of the present invention. A characteristic curve diagram showing a comparison of the photoresponse characteristics of a photoconductive target consisting of a layer and arsenic selenide and a photoconductive target consisting only of arsenic selenide, FIG. 9 is a manufacturing method explanatory diagram of another example of FIG. 4, Figures 10 and 11 are photographs of the rice grain layer of the target in Figure 9, Figure 12 is an explanatory diagram of the manufacturing method of another example of Figure 9, and Figures 13 and 14 are the same as Figure 4. It is a manufacturing method explanatory diagram of an example. 11...Face, plate, 12...
・Transparent conductive film, 13...CdSe layer, 14...
... Insulator layer, 16 ... Cadmium selenite layer, 21, 23 ... Solid layer, 22 ...
...Porous layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 人射光の光電変換を行う光導電体層と、該光導電体
層上に設けられた入射光の光電変換機能を有しない絶縁
体層とを備え、前記絶縁体層の少なくとも一部を、低真
空蒸着により形成された多孔質層を核としてこの多孔質
層上に、蒸着により形成された米粒状層で構成してなる
ことを特徴とする光導電ターゲット。 2 前記米粒状層は米粒の長手方向がターゲット面に対
してほぼ垂直方向に向いていることを特徴とする特許請
求の範囲第1項記載の光導電ターゲット。 3 前記米粒状層はセレン化ヒ素である特許請求の範囲
第1項記載の光導電ターゲット。 4 前記米粒状層としてひ素−セレン化物、ひ素−硫黄
化物、ひ素−テルル化物、ひ素−硫黄−セレンの化合物
、ひ素−硫黄テルルの化合物、ひ素−セレンーテルルの
化合物、硫化ゲルマニウム、セレン化ゲルマニウム、硫
化タリウム、セレン化タリウム、三硫化ビスマス、三セ
レン化ビスマス、セレン化亜鉛、硫化亜鉛、テルル化カ
ドミウム、三硫化アンチモン、三セレン化アノチモン、
フツ化カルシウム、フツ化マグネシウム、フツ化アルミ
ニウム、フツ化ナトリウム、氷晶石もしくは酸化鉛を用
いた特許請求の範囲第1項記載の光導電ターゲット。 5 前記光電変換層はセレン化カドミウムまたはスルホ
セレン化カドミウムあるいは硫化カドミウムおよびセレ
ン化カドミウムの混合物層、あるいはテルル化カドミウ
ムとセレン化カドミウムの固溶体層または混合物層、あ
るいはセレン化亜鉛とセレン化カドミウムの固溶体層ま
たは混合物質層である特許請求の範囲第1項記載の光導
電ターゲット。 6 前記絶縁体層は、高真空蒸着により形成された固体
層とこの固体層上に形成された前記米粒状層との積層構
造を有することを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
の光導電ターゲット。 7 前記絶縁体層は、低真空蒸着により形成された多孔
質層とこの多孔質層上に高真空蒸着により形成された前
記米粒状層との積層構造を有することを特徴とする特許
請求の範囲第1項記載の光導電ターゲット。 8 前記絶縁体層は、前記光導電体層上に形成された前
記米粒状層を有することを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の光導電ターゲット。
[Scope of Claims] 1. A photoconductor layer that performs photoelectric conversion of incident light, and an insulator layer provided on the photoconductor layer that does not have a photoelectric conversion function of incident light, the insulator layer 1. A photoconductive target comprising a porous layer formed by low-vacuum vapor deposition as a core, and a rice grain-like layer formed by vapor deposition on the porous layer. 2. The photoconductive target according to claim 1, wherein the rice grain layer has a longitudinal direction of the rice grains oriented substantially perpendicular to the target surface. 3. The photoconductive target according to claim 1, wherein the rice grain layer is arsenic selenide. 4 As the rice grain layer, arsenic-selenide, arsenic-sulfide, arsenic-telluride, arsenic-sulfur-selenium compound, arsenic-sulfur tellurium compound, arsenic-selenium-tellurium compound, germanium sulfide, germanium selenide, sulfide Thallium, thallium selenide, bismuth trisulfide, bismuth triselenide, zinc selenide, zinc sulfide, cadmium telluride, antimony trisulfide, anotimony triselenide,
The photoconductive target according to claim 1, which uses calcium fluoride, magnesium fluoride, aluminum fluoride, sodium fluoride, cryolite or lead oxide. 5. The photoelectric conversion layer is cadmium selenide, cadmium sulfoselenide, a mixture layer of cadmium sulfide and cadmium selenide, a solid solution layer or mixture layer of cadmium telluride and cadmium selenide, or a solid solution layer of zinc selenide and cadmium selenide. or a mixed material layer, the photoconductive target according to claim 1. 6. The light according to claim 1, wherein the insulating layer has a laminated structure of a solid layer formed by high vacuum evaporation and the rice grain-like layer formed on this solid layer. conductive target. 7. Claims characterized in that the insulator layer has a laminated structure of a porous layer formed by low vacuum evaporation and the rice grain-like layer formed on this porous layer by high vacuum evaporation. The photoconductive target according to item 1. 8. The photoconductive target according to claim 1, wherein the insulator layer has the rice grain layer formed on the photoconductor layer.
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