JPS58146917A - クライオスタツト - Google Patents

クライオスタツト

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Publication number
JPS58146917A
JPS58146917A JP57030009A JP3000982A JPS58146917A JP S58146917 A JPS58146917 A JP S58146917A JP 57030009 A JP57030009 A JP 57030009A JP 3000982 A JP3000982 A JP 3000982A JP S58146917 A JPS58146917 A JP S58146917A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
computer
shutter
chamber
valve
preparatory
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP57030009A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0257349B2 (ja
Inventor
Kishio Yokouchi
貴志男 横内
Nobuo Kamehara
亀原 伸男
Kazunori Yamanaka
一典 山中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP57030009A priority Critical patent/JPS58146917A/ja
Publication of JPS58146917A publication Critical patent/JPS58146917A/ja
Publication of JPH0257349B2 publication Critical patent/JPH0257349B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F1/00Details not covered by groups G06F3/00 - G06F13/00 and G06F21/00
    • G06F1/16Constructional details or arrangements

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (1)発明の技術分野 本発明はジ逓セフソン素子等の超低温で作動するコンピ
ュータ用の超低温機器(以下クライオスタットと記す。
)に係り、特にコンピュータをクライオスタット内に出
し入れさせるときの熱流入及びクライオスタット内の液
体冷媒の損失を少なくしたクライオスタットに関する。
(2)技術の背景 ヘリウムや液体窒素等の低温冷媒を満たした従来のクラ
イオスタットとしては通常熱流入を避けるためにその開
口部はできるだけ小さく構成しているために低温作動用
のジロセフソン素子等を用いた形の大きなコンピュータ
を挿入することは不可能である。このような問題を解決
するためには開口部を大きくしなければならないが、熱
の流入あるいはコンピュータに水分および大気が氷結す
る等の問題があった。
(3)従来技術と問題点 従来、クライオスタット内にコンピュータを出し入れし
、低温冷媒中で作動させるようにしたものは提案されて
いない。
クライオスタット中にジロセフソン素子等の超電導体の
トンネル効果測定素子を入れて測定回路を構成するもの
が知られているが、これらはクライオスタンドに挿入す
るものが極めて小さいので開口部は小さく構成されてい
て外気の熱がクライオスタット内に流れ込むことは少な
いが、素子を挿入するときにはあらかじめクライオスタ
ット内を真空状態とし、次に液体窒素等の低温冷媒をク
ライオスタット内に充填させて不純なガスを完全にパー
ジしながら行われている。しかし、ジせセフソン素子で
構成されたコンピュータを動作させるためには開口部を
広くとる必要があり、熱流入も多くなり、液体ヘリウム
の損失量も多くなる欠点を有する。さらにコンピュータ
に付着した水分が氷結し低温になったコンピュータに霜
がつく等の問題があった。
(4)発明の目的 本発明は上記従来の欠点に鑑み、コンピュータをクライ
オスタンドに出し入れする際に該コンピュータの持つ熱
によって液体ヘリウムが損失するのを少なくすると共に
コンピュータに付着した水分が氷結あるいは低温になっ
たコンピュータに霜が付着しないクライオスタンドを提
供することも目的とするものである。
(5)発明の構成 そして、この目的は本発明によれば低温作動用コンピュ
ータを出し入れするようにじた低温冷媒を満たしたクラ
イオスタンドに予備室を配設すると共に該クライオスタ
ットの開口部をシャッタ状になし、上記コンピュータを
予冷、予熱するようにしてなることを特徴とするクライ
オスタットを提供することによって達成される。
(6)発明の実施例 以下、本発明の一実施例を図面によって説明する。
第1図は本発明のクライオスタットを示す絡線的側断面
図であり、1は全体としてクライオスタットであり、2
は硝子または金属を二重構造とした第1のデユアであり
、硝子または金属壁間は真空として熱シールがなされる
。3は第2デユアで第1のデユアと同一構造となされ、
第1及び第2のデユア間は液体窒素4で満たされるかス
ーパインシュレージを介在させ、第2のデユア3内には
液体ヘリウム5が充填されている。
第1および第2デユアの上部にはフランジ6゜7を有し
、第1の開口部を構成し、0リング等を用いて第2のデ
ユア内を気密な状態とする。
第2のデユア3の上部は予備室8となされ、シャッタ9
を介して仕切られている。シャッタ9の構造は例えば第
2図の如く構成されている。
第2図で第2のデユア3の上部はフランジ部3aを有し
、該フランジ部にはゴム等の0リング3bを配し、二分
割にされたシャツタ板9a。
9bよりなるシャッタ9を矢印A、A方向に図示せざる
もシリンダを介して摺動させて、シャッタ9を閉じた状
態では上部の予備室と第2のデユア3を気密に遮蔽させ
るようにして第2の開口部を形成する。予備室8は排気
管10.弁11を介して真空ポンプ12に接続され、さ
らに液体窒素用の貯蔵びん15より供給管13と弁14
を介して予備室に連結されている。
予備室8にはヘリウムガスボンベ16から供給管18と
弁17を介してヘリウムガスが供給される。
予備室8と第2のデユア3の下部室3d間には弁23を
介して側路管22.24を有し、第2のデユア3の下部
室3dには液化機19より供給管20を通じて液化され
たヘリウムが供給され、排気管21内には後述するコン
ピュータ25が下部室3dに挿入されることで発生した
熱によって気化されたへりつ去ガスが液化機19に回収
されるようになされ、液化機はコンピュータ25が発生
する熱を奪う程度の能力を持てばよい。
上記構成において、コンピュータ25をクライオスタン
ド1内に挿入するには、まず第2の開口部を閉蓋状態に
し第1の開口部を開いてコンピュータ25を予備室8内
に挿入し、蓋を閉じて第1の開口部を閉蓋状態にする。
次に弁11を開いて予備室8内の排気を行うために真空
ポンプ12を動作させ減圧させる。
次に弁11を閉じて弁14を開き液体窒素を予備室8に
供給してクライオスタットlと予備室4を予冷する。
次に弁・14を閉じ弁11を再び開いて予備室8を減圧
し、弁11を再び閉じ弁23を開いて予備室8内に第2
のデユア内のヘリウムガスを充填する。
次にシャッタ9のゲートバルブを開いてコンピュータ2
5を点線図示位置から一点鎖線位置に挿入し、第2のデ
ユア3の下部室3dの液体ヘリウム5中にコンピュータ
を挿入する。
次にシャッタ9のゲートバルブを閉じると共に弁23を
閉じて弁11を開いて真空ポンプを作動させて排気を行
う。
次にコンピュータ25を液体ヘリウム5から予備室8を
経て外部に取り出す手順としてはまず弁23を開いてヘ
リウムガスを予備室8内に入れ、シャッタ9のゲートバ
ルブを開いてシャッタを開きコンピュータ25を予備室
8内に引き上げる。
次に弁23を閉じてシャッタ9を閉じる。
次に弁17と弁11を開いてヘリウムガスを予備室に入
れながら排気し、コンピュータ25を予熱し、第1の開
口部を開いてコンピュータ25をクライオスタンド1外
に取り出すことができる。
なお、排気したヘリウムガスは液化機へ送る。
第3図に示すものは本発明のシャッタ9b他の実施例を
示すもので、シャッタ9を回動軸9cを中心にバタフラ
イ型に構成させたものである。
なお、第1及び第2の開口部を共にシャッタ構造として
もよいが第1の開口部を手動の閉蓋型のものとすること
もできる。
(7)発明の効果 以上、詳細に説明したように、本発明のクライオスタッ
トによればコンピュータをクライオスタットに出し入れ
する際にコンピュータの持っていル熱によって第2のデ
ユア3内に貯蔵されている液体ヘリウム5を損失させる
ことも少ないため比較的簡単に素人でも操作できるだけ
でなく入手し難い液体ヘリウムの損失が少ない。さらに
予備室を通して予冷、予熱を行うためコンピュータに付
着した水分が氷結したり、霜が付着したり現象を除去す
ることができる特徴を有するものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のクライオスタットの路線的側断面図、
第2図は第1図のシャッタ部分の一部を切断した斜視図
、第3図はシャッタの他の実施例を示す斜視図である。 1・・・クライオスタット、2,3・・・第1及び第2
のデユア、4・・・窒素、5・・・液体ヘリウム、6.
7・・・フランジ、9・・・シャッタ、9a、9b・・
・シャツタ板、10,13゜1B、20,21,22.
24・・・管、11゜14.17.23・・・弁、12
・・・真空ポンプ、15・・・貯蔵びん、16・・・ヘ
リウムカスボンベ、19・・・液化機。 杢 鵠 ] 7 図 1         9c

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 低温作動用コンピュータを出し入れするようにした低温
    冷媒を満したクライオスタットに予備室を配設すると共
    に該クライオスタットの開口部をシャッタ状になし、前
    記コンピュータを予冷、予熱するようにしてなることを
    特徴とするクライオスタンド。
JP57030009A 1982-02-26 1982-02-26 クライオスタツト Granted JPS58146917A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57030009A JPS58146917A (ja) 1982-02-26 1982-02-26 クライオスタツト

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP57030009A JPS58146917A (ja) 1982-02-26 1982-02-26 クライオスタツト

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS58146917A true JPS58146917A (ja) 1983-09-01
JPH0257349B2 JPH0257349B2 (ja) 1990-12-04

Family

ID=12291868

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP57030009A Granted JPS58146917A (ja) 1982-02-26 1982-02-26 クライオスタツト

Country Status (1)

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JP (1) JPS58146917A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5038571A (en) * 1988-11-18 1991-08-13 Fujitsu Limited Production and use of coolant in cryogenic devices

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4970590A (ja) * 1972-11-10 1974-07-08

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4970590A (ja) * 1972-11-10 1974-07-08

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5038571A (en) * 1988-11-18 1991-08-13 Fujitsu Limited Production and use of coolant in cryogenic devices
EP0554966A2 (en) * 1988-11-18 1993-08-11 Fujitsu Limited Cryogenic device

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Publication number Publication date
JPH0257349B2 (ja) 1990-12-04

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