JPS5814487Y2 - ワニス塗装々置 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 この考案はエナメル線等の線条体に対するワニス塗装装
置に関するものである。

エナメル線などの被覆電線においてその電気特性を支配
する要因の一つに該エナメル材料の線条体周囲における
偏向の問題がある。

ここに偏向とはエナメル線を切断し芯線に対するワニス
被覆厚の最大部すと最小部ａとの比ｂ ／ ａで示され
るもので、この比が小さい場合即ち偏向が少ない程その
エナメル線の特性が優れているとされている。

従来のエナメル線などの線条体にワニスを塗装するワニ
ス塗装装置としては例えば第１図の如く、ワニス浴１に
導体２を通してワニス３をその表面に付着させ、更にこ
のワニスの付着した導体２′をダイスホルダー４上に載
置された絞りダイス５のダイス孔に通して余剰のワニス
を除去し図示しない焼付炉中に導き焼付ける作業を所望
の回数反覆するように構成されている。

かかるワニス塗装装置においては、上記絞りダイス５は
導体２線速又はワニス粘度などに応じてダイスホルダー
４上でフロートしながら導体２表面のワニスを掻き落す
作用を継続して行なっている。

この場合、掻き落されたワニスはダイスホルダー４の両
側から均一に流れ落ちるとは限らずその流れに偏りを生
ずることが多く、このため流れの多い方向に絞りダイス
５が変位する傾向があり結果的に導体２の周囲に上記偏
向を発生する。

考案者等はかかる問題を解決するべく、第２図に示すよ
うに上記ダイスホルダー４の通線孔を取り囲むように側
壁４′を形成し、絞り取られたワニスをこの部分に一次
貯溜させ該側壁４′から溢れて流下するようにして上記
流れの偏りを防止することを提案し多大の成果を収める
ことができた（実公昭５２−３８６１３）。

尚第２図において第１図と同一部分には同一符号を付し
説明を省略した。

しかしかかる第２図示のワニス塗装装置においても、線
速を上げることによるワニス絞り取り量の増加、又はワ
ニス粘度の変化などによりワニス流下量の増大によって
、上記ワニスの貯溜部分に複雑なワニス流れを生ずるこ
とがあり、上述の偏向発生が完全に解消されないことが
あった。

考案者等はかかる問題を解決すべく鋭意検討を行った結
果、上記ダイスホルダーでのワニス流れを少なくしかつ
左右均一化することが有効であることを見出しこの考案
を完成したのである。

即ちこの考案は、底壁に所定間隔で直列に所望数の通線
孔を穿設すると共に少なくとも一側壁に溢口が設けられ
た液面安定浴と、前記通線孔に対応する通線孔を有し各
通線孔を上下に対応位置合せして上記液面安定浴内に水
平に取付けられたダイスホルダーと、該ダイスホルダー
上に各通線孔に絞り孔を対応させて載置された絞りダイ
スと、前記ダイスホルダーの両側に、該ダイスホルダー
の間及び液面安定浴底面間にも夫々流路を残して配置し
た隔板と、前記液面安定浴の上記溢口を所望の高さで塞
ぐスライド閉塞板と、からなるワニス塗装装置である。

以下第３図〜第５図によりこの考案の一実施例を説明す
る。

導体２をワニス浴１に通してワニス３を導体２の表面に
付着させ、余剰のワニスを絞りダイス５により掻き取る
ことは従前装置と同様でありその詳細な説明はこれを省
略する。

この考案の絞りダイス５は、底壁１０′に所定の間隙で
直列に所望数の通線孔１１，１１・・・が設けられた液
面安定浴１０中に、この通線孔１１，１１・・・に対応
する通線孔１１’、 １１’・・・を有し、各通線孔１
１，１１・・・、１１’、１１’・・・を上下に対応位
置合せして取付けられているダイスホルダー１２上にそ
の絞り孔５′を対応させて載置されている。

そしてこの液面安定浴１０の側壁１０″には溢日用の長
溝１３が縦方向に設けられて居り、この長溝１３を所望
の高さで閉塞し得るスライド閉塞板１４が蝶ねじ１５で
取付けられている。

又１６．１６は、前記ダイスホルダー１２の通線孔１１
，１１’・・・群と平行な両側に略等距離にあり、液面
安定浴１０の底面に対して適当な流路１７を残して対設
された隔板である。

この考案は以上のように構成されて居り、導体２が通線
されると、ワニス浴１において表面に付着したワニスが
絞りダイス５により絞り取られ液面安定浴１０中に貯溜
される。

そしてこの通線の継続により液面安定浴１０中のワニス
には図の矢印方向の流れを生ずる。

この時特に上記ダイスホルダー１２の両側に隔板１６が
対設されていることによりダイス５の左右方向ヘワニス
流れに偏りを生ずる恐れが激減され、該絞りダイス５の
上述したフロート状態を乱すことがない。

モして又ワニスの粘度の高低に応じて上記スライド閉塞
板１４を上下に変位させ、オーバフローレベルを上下さ
せることにより溢口１３からワニスを流下させて隔板外
側の液面を上下させることにより隔板内側の液面を同一
レベルに保持し絞りダイス５のワニスへの浸漬深さを一
定に保つ事により常に最適状態を維持できるようにして
いる。

他の方法としてワニス浴１にワニスを供給せずに代わり
にワニス供給配管１９を設け、液面安定浴１０中の隔板
外側に直接供給して行なう事も可能である。

以上の如く本考案によれば、ワニス浴に浸漬されてフロ
ートしつつワニス絞りを行う絞りダイスが、そのフロー
ト状態が乱されることなく最適のワニス絞り作用を行い
得るものであり、これにより上述のワニス偏肉の発生を
著しく減少させることができる効果は工業的にまことに
大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図及び第２図は従来のワニス塗装装置の概略説明図
、第３図は本考案のワニス塗装装置の概略説明図、第４
図は同要部の拡大図、第５図は同要部の平面図である。 ２．２′・・・・・・導体、３・・・・・・ワニス、５
・・・・・・絞りダイス、１０・・・・・・ワニス液面
安定浴、１１，１１’・・・・・・通線孔、１２・・・
・・・ダイスホルダー、１３・・・・・・溢口（長溝）
、１４・・・・・・スライド閉塞板、１５・・・・・・
ワニス供給配管、１６・・・・・・隔板、１１・・・・
・・流路。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 底壁に所定間隔で直列に所望数の通線孔を穿設すると共
   に少なくとも一側壁に溢口が設けられた液面安定浴と、
   前記通線孔に対応する通線孔を有し各通線孔を上下に対
   応位置合せして上記液面安定浴内に水平に取付けられた
   ダイスホルダーと、該ダイスホルダー上に各通線孔に絞
   り孔を対応させて載置された絞りダイスと、前記ダイス
   ホルダーの両側に、該ダイスホルダーの間及び液面安定
   浴底面間にも夫々流路を残して配置した隔板と、前記液
   面安定浴の上記溢口を所望の高さで塞ぐスライド閉塞板
   と、からなるワニス塗装装置。