JPS58142708A - 絶縁セラミック插入物を用いた積層バスバ−とその製造方法 - Google Patents
絶縁セラミック插入物を用いた積層バスバ−とその製造方法Info
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- JPS58142708A JPS58142708A JP57025221A JP2522182A JPS58142708A JP S58142708 A JPS58142708 A JP S58142708A JP 57025221 A JP57025221 A JP 57025221A JP 2522182 A JP2522182 A JP 2522182A JP S58142708 A JPS58142708 A JP S58142708A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、簿い電気伝導体(バスバー)に関するもので
あり、特に、伝導体の電気容鍛を増加させるだめに薄い
乎らな絶縁体陶器挿入物を絶縁体自身に組込んだ薄い伝
導体の製造法に関するものである。
あり、特に、伝導体の電気容鍛を増加させるだめに薄い
乎らな絶縁体陶器挿入物を絶縁体自身に組込んだ薄い伝
導体の製造法に関するものである。
上記の型の薄い伝導体は、交流・直流信号やその両用回
路を含む多種の回路の増幅器としてしばしば用いられて
おり、低い特性のインピダンスと高いキャパシタンスを
持っている。薄い層にした陶器コンデンサー分野の最近
の技術水阜は、薄い板にした伝導体に直接組入れるのに
適した極薄の金属層又は平らな陶藷絶縁体物の製造11
丁能レベルに達している1、 イ列えは、アメリカ牛!、4’13.778 、7 :
(5によると、複数の陶器層を挿入するだめに、莢状σ
〕絶縁物で包−4i−1だ・対の金属伝導体の−・片の
各表面間を金属コーティングすることによって可能にす
る方法かt丁りされ、又、アメリカ特、)′l 4 、
236.046と4,266.091(後背C゛1.1
1本!1t、l+許出屑l昭和52年第21168号に
相当する)によると、伝導体の両面間にサンドウィッチ
状に挾I才′する金属化された陶器ウェファ−やチップ
をr、’i定するために電気伝導性粘着物の使用か示さ
J−+ている。一方、アメリカ特許4 、236 、0
38によると、1−記の目的に不伝導性粘着物の使用か
示されている。
路を含む多種の回路の増幅器としてしばしば用いられて
おり、低い特性のインピダンスと高いキャパシタンスを
持っている。薄い層にした陶器コンデンサー分野の最近
の技術水阜は、薄い板にした伝導体に直接組入れるのに
適した極薄の金属層又は平らな陶藷絶縁体物の製造11
丁能レベルに達している1、 イ列えは、アメリカ牛!、4’13.778 、7 :
(5によると、複数の陶器層を挿入するだめに、莢状σ
〕絶縁物で包−4i−1だ・対の金属伝導体の−・片の
各表面間を金属コーティングすることによって可能にす
る方法かt丁りされ、又、アメリカ特、)′l 4 、
236.046と4,266.091(後背C゛1.1
1本!1t、l+許出屑l昭和52年第21168号に
相当する)によると、伝導体の両面間にサンドウィッチ
状に挾I才′する金属化された陶器ウェファ−やチップ
をr、’i定するために電気伝導性粘着物の使用か示さ
J−+ている。一方、アメリカ特許4 、236 、0
38によると、1−記の目的に不伝導性粘着物の使用か
示されている。
本発明の最初のII的は、キャパシターチップとそれに
隣接した伝Jq体片間にどの」:うな粘着物をも使用し
ないて1.記のJl;IJの薄層化したバスバーを製造
する方法の供給にある。この1−1的にわいて、バーは
絶縁体の特別な層から生産される。該絶縁体は部分的に
矯1丁された合成樹脂塗装ぎわ、−・定間隔のあいた孔
に備えられる。薄い陶器キャパシター又d、挿入物は、
前記の孔に配置きれ、集積物は陶器挿入物の囲りだけと
噛合うように合成樹脂の−・部がとけ流れ込み、絶縁物
と挿入物が固定されるように150F〜250Fで加熱
され部分的にTit iEされる。その後、挿入物が固
定された絶縁物しJl、伝導体間に配置され、バーを完
成する/ζめにプラスチック被覆物で薄層化される。
隣接した伝Jq体片間にどの」:うな粘着物をも使用し
ないて1.記のJl;IJの薄層化したバスバーを製造
する方法の供給にある。この1−1的にわいて、バーは
絶縁体の特別な層から生産される。該絶縁体は部分的に
矯1丁された合成樹脂塗装ぎわ、−・定間隔のあいた孔
に備えられる。薄い陶器キャパシター又d、挿入物は、
前記の孔に配置きれ、集積物は陶器挿入物の囲りだけと
噛合うように合成樹脂の−・部がとけ流れ込み、絶縁物
と挿入物が固定されるように150F〜250Fで加熱
され部分的にTit iEされる。その後、挿入物が固
定された絶縁物しJl、伝導体間に配置され、バーを完
成する/ζめにプラスチック被覆物で薄層化される。
この方法で、挿入物の両面iJ1、挿入物の金属化され
た而と伝導体の而との間に何んの粘着物をも介さずに伝
導体との隣接面において直接接続できる。
た而と伝導体の而との間に何んの粘着物をも介さずに伝
導体との隣接面において直接接続できる。
さて、図面を参照してみると、先ず、(41kl・般に
絶縁ブランク又はラミネートを示している。該ラミネー
トは、一対の隔っだ側ウエフ(111Illを有し、又
、側ウエフ(41H旬V」、平行に横に伸び/(絶縁体
片(4りによって連結されている。各絶縁体片(44は
、以下に示す電気伝導体に組込1J′する。1:うに形
成されている。絶縁体片(IAの各々it f図の具体
例に於いては、7ミルmilの厚さである)それ白身に
複数の間隔のあいた縦に伸びた長方形の孔−を有してい
る。音孔−で固定される薄いキャパシターは、例えば、
[At Si Mag 128:う1という商標でミネ
ソタ ミニングアンドマニファクチャー コーポレイシ
ョンがら売ら)1ているハリューム・チタナーテの化合
物のような絶縁体陶器物質からイ/[られ、以下に述べ
る/J’法で固定される。
絶縁ブランク又はラミネートを示している。該ラミネー
トは、一対の隔っだ側ウエフ(111Illを有し、又
、側ウエフ(41H旬V」、平行に横に伸び/(絶縁体
片(4りによって連結されている。各絶縁体片(44は
、以下に示す電気伝導体に組込1J′する。1:うに形
成されている。絶縁体片(IAの各々it f図の具体
例に於いては、7ミルmilの厚さである)それ白身に
複数の間隔のあいた縦に伸びた長方形の孔−を有してい
る。音孔−で固定される薄いキャパシターは、例えば、
[At Si Mag 128:う1という商標でミネ
ソタ ミニングアンドマニファクチャー コーポレイシ
ョンがら売ら)1ているハリューム・チタナーテの化合
物のような絶縁体陶器物質からイ/[られ、以下に述べ
る/J’法で固定される。
図で示された具体例の各仲人物(様は、7〜1゜ミルの
厚さを白!7.少tc くとも組)γに使用される前記
の絶縁Oh J’、 (h!Iより厚く形成されている
。
厚さを白!7.少tc くとも組)γに使用される前記
の絶縁Oh J’、 (h!Iより厚く形成されている
。
図面に於いてil、4<さ11ていないが、各挿入物(
14)の両面C1、蒸発沈殿塗装ろ゛どによる金属の極
く薄い層のコーチインク當によって金属化されているか
理解されるへきである。
14)の両面C1、蒸発沈殿塗装ろ゛どによる金属の極
く薄い層のコーチインク當によって金属化されているか
理解されるへきである。
各フランク(州rat、、切断や押抜形成で形成され、
その44利C′11、梁かいプラスチック絶縁物質(商
標名INOMJ=:Xi E、 I、I)uPnnt
dcNcmours andCo、、 、L]c、な
と)か使用される1、又、−そσ)物’C!f &:1
ii1以って一部を合成樹脂塗装て矯+l(;7わてい
/でものである。この押出力f成によって、フランク曲
に長方形の孔(4■を形成するたG−1てはなく、絹1
γ作業に利用される円状孔1ailを形成する。説明さ
れている具体例に於いて、音孔(4場は、縦幅(1士3
“ 約4、横幅は絶縁体J=i’ t4Zの幅の約↓をそわ
それ有している。
その44利C′11、梁かいプラスチック絶縁物質(商
標名INOMJ=:Xi E、 I、I)uPnnt
dcNcmours andCo、、 、L]c、な
と)か使用される1、又、−そσ)物’C!f &:1
ii1以って一部を合成樹脂塗装て矯+l(;7わてい
/でものである。この押出力f成によって、フランク曲
に長方形の孔(4■を形成するたG−1てはなく、絹1
γ作業に利用される円状孔1ailを形成する。説明さ
れている具体例に於いて、音孔(4場は、縦幅(1士3
“ 約4、横幅は絶縁体J=i’ t4Zの幅の約↓をそわ
それ有している。
押出形成作業、又は、切断作業後、各フランク(4[)
idl、絶縁挿入物、又に1キヤパシター(41)か
孔←3)に配Eiされる準組1r地点に送られる。挿入
物(44)は、孔■にずつぼり嵌められるか、もし、嵌
らないときd−1孔□の処理が必要である。よって、孔
(431にウェファ−+44)を固定するために、少な
くとも孔(旬からウェファ−(44)か、フランク(a
lt−/J)T1f気伝導体の組)“1期間中に落下し
ないで人手で処理できるように、各フラウン(40)は
、それ白身に組入′l−られる挿入物(44)と共に、
比11つ的に低い温度処理を受ける。例えば150F〜
2507;”の範囲に維持された加熱ユニットに置かれ
たりする。
idl、絶縁挿入物、又に1キヤパシター(41)か
孔←3)に配Eiされる準組1r地点に送られる。挿入
物(44)は、孔■にずつぼり嵌められるか、もし、嵌
らないときd−1孔□の処理が必要である。よって、孔
(431にウェファ−+44)を固定するために、少な
くとも孔(旬からウェファ−(44)か、フランク(a
lt−/J)T1f気伝導体の組)“1期間中に落下し
ないで人手で処理できるように、各フラウン(40)は
、それ白身に組入′l−られる挿入物(44)と共に、
比11つ的に低い温度処理を受ける。例えば150F〜
2507;”の範囲に維持された加熱ユニットに置かれ
たりする。
この処理は、挿入物(41)の境界端と噛合うために溶
は流れるだめの未矯市塗装部分をフランク(40)に作
り出す。このようにして連結したフラウン顛と挿入物(
14)か固′/i!される。挿入物(伺)と共に部分的
に矯正塗装された各準絹Vl物(40)は、下記に述べ
る方法で最終的バーとして組立られるように手処理され
ることか可能になる。
は流れるだめの未矯市塗装部分をフランク(40)に作
り出す。このようにして連結したフラウン顛と挿入物(
14)か固′/i!される。挿入物(伺)と共に部分的
に矯正塗装された各準絹Vl物(40)は、下記に述べ
る方法で最終的バーとして組立られるように手処理され
ることか可能になる。
挿入物(44)を伴った準組立物(40の低温処理(1
50F〜250’F )は、ブランク(411)の完全
合成樹脂塗装を伴わないことか注目される。それは屯に
、合成樹脂の・部か挿入物(・11)と接触するように
?6j 71込むだけである。明らかに、準組Aン物か
合成(1”!、1脂を囲む低温から引込められると、挿
入物(1・1)C1連合したフランクに冷えて固定され
る。取((’ iJられた挿入物(44)と共にフラン
ク(囮をバスバーに集積するだめの「・続は、11本の
特公昭56−30921号公報に記・liQ aれてい
るとおりである。例えば、集積固定体(50i (第2
図)と複数の金属フランク(1(θ(20) (301
を使用し、絶縁体の初めのフランク層(40)は円状孔
(41i)にピンt52)によって数句けられる。初め
のフランク層顛は、それ白身に孔(1;→や挿入物(4
4)を有していないことを除くとフランク(4(違の外
形に類似する。金属フラジfl11+の側ウエフ(11
)は−・番底び〕絶縁フランク層+4((,1にこの金
属ブランクかイ1′装置するようにビンCl2)によ−
)て取f−1げらi′+る。挿入物(41)を含む半製
品の準組立物311)の内の1つ目1挿入物(伺)か金
属フランク(10)の側ウエフ(II)間を伸びる1′
−右な伝導体/4’ (+21の中央に示される方法で
金1娼ブランク(10)に取イ」けられる。
50F〜250’F )は、ブランク(411)の完全
合成樹脂塗装を伴わないことか注目される。それは屯に
、合成樹脂の・部か挿入物(・11)と接触するように
?6j 71込むだけである。明らかに、準組Aン物か
合成(1”!、1脂を囲む低温から引込められると、挿
入物(1・1)C1連合したフランクに冷えて固定され
る。取((’ iJられた挿入物(44)と共にフラン
ク(囮をバスバーに集積するだめの「・続は、11本の
特公昭56−30921号公報に記・liQ aれてい
るとおりである。例えば、集積固定体(50i (第2
図)と複数の金属フランク(1(θ(20) (301
を使用し、絶縁体の初めのフランク層(40)は円状孔
(41i)にピンt52)によって数句けられる。初め
のフランク層顛は、それ白身に孔(1;→や挿入物(4
4)を有していないことを除くとフランク(4(違の外
形に類似する。金属フラジfl11+の側ウエフ(11
)は−・番底び〕絶縁フランク層+4((,1にこの金
属ブランクかイ1′装置するようにビンCl2)によ−
)て取f−1げらi′+る。挿入物(41)を含む半製
品の準組立物311)の内の1つ目1挿入物(伺)か金
属フランク(10)の側ウエフ(II)間を伸びる1′
−右な伝導体/4’ (+21の中央に示される方法で
金1娼ブランク(10)に取イ」けられる。
それ以後、第2図からもわかるように、金属フランク(
20)は最初の絶縁フランク(州のトップに組合わされ
、それか「)2番に1の絶縁フランク(4Qで包址れる
。その後、金に一4フランク(、(0)は組X′/、物
];に位置し、最終的外絶縁層(1())で覆われる。
20)は最初の絶縁フランク(州のトップに組合わされ
、それか「)2番に1の絶縁フランク(4Qで包址れる
。その後、金に一4フランク(、(0)は組X′/、物
];に位置し、最終的外絶縁層(1())で覆われる。
該絶縁フランク層f4iiiJ、底又d、最初の絶縁フ
ランク層(41ηと類似したものである。
ランク層(41ηと類似したものである。
1−記の組入′l:段階か終r後、前記の日本の特許公
報による手段で部分的に薄層化される。絶縁と伝導ブラ
ンクの側ウエフは外され、各伝導体の最終的薄層化が/
f]4められる。この最終的薄層化段階幻、絶縁フラン
ク帰f4+[(411の合成樹脂塗装σ)矯1′:、を
も完rさせる。
報による手段で部分的に薄層化される。絶縁と伝導ブラ
ンクの側ウエフは外され、各伝導体の最終的薄層化が/
f]4められる。この最終的薄層化段階幻、絶縁フラン
ク帰f4+[(411の合成樹脂塗装σ)矯1′:、を
も完rさせる。
第3図をみると、1.記の方法で薄層化さ、(I/へバ
スバーの−・部所面部分か示さねており、各バーの挿入
物(44) cx〕相対した金属化I JT /て8両
向か、金属伝導体(121i塑、(32(/’)隣接し
た向い合一) lt−表面に、縦に−・定間隔を置いて
直接接触17ているのか分る。例えば、中央伝導体Qり
かアース伝導体として使用されれば、以前σ)この型の
バスバーに比へて極端に高いキャパシタンスか隣接した
伝導体f121 、 C(3と伝導体c!りの間に得ら
J′する。川に、この例に於いて、このM、すσ)バス
バーかそれ自身に含塘れる陶器挿入物(旬の複数・\の
粉砕比となる一点での屈曲に於いても、その高いキャパ
シタンスか実質的に変化しない。
スバーの−・部所面部分か示さねており、各バーの挿入
物(44) cx〕相対した金属化I JT /て8両
向か、金属伝導体(121i塑、(32(/’)隣接し
た向い合一) lt−表面に、縦に−・定間隔を置いて
直接接触17ているのか分る。例えば、中央伝導体Qり
かアース伝導体として使用されれば、以前σ)この型の
バスバーに比へて極端に高いキャパシタンスか隣接した
伝導体f121 、 C(3と伝導体c!りの間に得ら
J′する。川に、この例に於いて、このM、すσ)バス
バーかそれ自身に含塘れる陶器挿入物(旬の複数・\の
粉砕比となる一点での屈曲に於いても、その高いキャパ
シタンスか実質的に変化しない。
第3図に示2 F+だ具体例において、各伝導体(1カ
、(2り、C(21ノ多神のタフ又iJ、4i子(I4
)、(24)、C(41)6測J)ショートを防ぐため
に、バーの縦に故意に段々ずらしているのかわかる。然
し乍ら、例えタフ(14I C+、+1が故意に縦にr
7)いに置かれたとしても、そして第11図にあるよう
にIT:、確に孔合せされたタブ(1イ)と(34+か
故意にlj:いに接続されたとしても伝導体(221と
伝導体+12) C(2)の間のバーのキャパシタンス
は第:3図に示しにバスバーよりも更に増大する。
、(2り、C(21ノ多神のタフ又iJ、4i子(I4
)、(24)、C(41)6測J)ショートを防ぐため
に、バーの縦に故意に段々ずらしているのかわかる。然
し乍ら、例えタフ(14I C+、+1が故意に縦にr
7)いに置かれたとしても、そして第11図にあるよう
にIT:、確に孔合せされたタブ(1イ)と(34+か
故意にlj:いに接続されたとしても伝導体(221と
伝導体+12) C(2)の間のバーのキャパシタンス
は第:3図に示しにバスバーよりも更に増大する。
第5図には、もう1つの型のバーか示されている。そこ
に示されている番号d−1先の具体例で示され/ζ香号
と同様の意1床かもたノ1ている。
に示されている番号d−1先の具体例で示され/ζ香号
と同様の意1床かもたノ1ている。
このバーに於いては、四番1]の金属伝導体ノ湯が44
加されており、又、該伝導体(ハ)は、金属伝導体0渇
、(32の一面で接触している金属化g fi iこ表
面を持って複数の挿入物(個を含む絶縁体片旧によって
伝導体02から区分されている。そして、この具体例に
於いて伝導体+82) 1qJ−1少なくとも一方(d
ilから一定間隔のあいた突き出しているタフ(84)
をイ1し、汁−)、該タブ(84)は伝導体(1’3
(/1タフ’ (2+1と接続されている。タブQ・1
)とタフ州)を連結ざゼるこの方法は、伝導体O2とC
121の相ノ1、関係にt、iいて整flrjされてお
り、連結された伝導体(22と3カかアースの役割をす
るとき、連結された伝導体C2)姉に比較して各伝導体
(121(33間のキャパシタンスは著しく増加する。
加されており、又、該伝導体(ハ)は、金属伝導体0渇
、(32の一面で接触している金属化g fi iこ表
面を持って複数の挿入物(個を含む絶縁体片旧によって
伝導体02から区分されている。そして、この具体例に
於いて伝導体+82) 1qJ−1少なくとも一方(d
ilから一定間隔のあいた突き出しているタフ(84)
をイ1し、汁−)、該タブ(84)は伝導体(1’3
(/1タフ’ (2+1と接続されている。タブQ・1
)とタフ州)を連結ざゼるこの方法は、伝導体O2とC
121の相ノ1、関係にt、iいて整flrjされてお
り、連結された伝導体(22と3カかアースの役割をす
るとき、連結された伝導体C2)姉に比較して各伝導体
(121(33間のキャパシタンスは著しく増加する。
第3〜5図に示されたハスバーの説明に関連して、説明
[1的によって、各構成部利σ)大きさが拡大されてい
ることを説明しておく。
[1的によって、各構成部利σ)大きさが拡大されてい
ることを説明しておく。
挿入物(44)を含んだ絶縁体層を使用した出願者の新
しいバスバーに組込まれた配分されたキャパシタンスに
よって極端にコンパクトな信頼性の高いバスバーの生産
を可能にし、又、挿入物の両面と、伝導体との間に、い
かなる粘着物を用いる必要性も餠除している。又、絶縁
体層の陶器キャパシターや挿入物(4イ)の11tや配
列の選択によって予定容tKをイ1するバスバーの設計
をnl’能にしている。史に、容11 、、目1iにバ
ーの正確に孔あけされた飛び出した側タブ04)、C?
4)、c(41等の接続によって必要11つ希望の容置
に簡弔にバー製造期間中に変更することかできる。
しいバスバーに組込まれた配分されたキャパシタンスに
よって極端にコンパクトな信頼性の高いバスバーの生産
を可能にし、又、挿入物の両面と、伝導体との間に、い
かなる粘着物を用いる必要性も餠除している。又、絶縁
体層の陶器キャパシターや挿入物(4イ)の11tや配
列の選択によって予定容tKをイ1するバスバーの設計
をnl’能にしている。史に、容11 、、目1iにバ
ーの正確に孔あけされた飛び出した側タブ04)、C?
4)、c(41等の接続によって必要11つ希望の容置
に簡弔にバー製造期間中に変更することかできる。
(4f)又は少なくとも蓄電要素を構成する1淘藷縁片
縁挿入物(44)を含んだ絶縁体(421によって示さ
れた高置j14絶縁準組、′f品rJ、バスバーに組込
斗れることに気が(NJかれる。例えば、第;う図でσ
属(ノヨ導体c22)がアースとして機能すると、挿入
物t14) G。
れた高置j14絶縁準組、′f品rJ、バスバーに組込
斗れることに気が(NJかれる。例えば、第;う図でσ
属(ノヨ導体c22)がアースとして機能すると、挿入
物t14) G。
片
含む隣接の絶縁体(42は、隣接の伝導体+12と(:
32に流わ5る電流で発生するいかなる′電子騒音をも
、1、−と過してし址う。この意味で、出願人の準組1
”l物(41又は(421は、ここに述べた方法で用い
られるとき文字どおりにコンデンサーとしての役割を果
す。つ捷り、コンデンサーの製造において使われる。
32に流わ5る電流で発生するいかなる′電子騒音をも
、1、−と過してし址う。この意味で、出願人の準組1
”l物(41又は(421は、ここに述べた方法で用い
られるとき文字どおりにコンデンサーとしての役割を果
す。つ捷り、コンデンサーの製造において使われる。
型組(7、晶(4υと連合された挿入物山)の重要性i
1、具体例の方法によって引用され、又、この発明から
外れずに変更しつる。同様に、挿入物(44)の外形の
変更は、説明された具体例に於いて使用された伝導体の
数と外形との変更によって+iJ能になる。例えば、第
5図で示された具体例は、金属伝導体C(2のタフ(3
4)に正しく孔を合せられ接続されたタフ(14)によ
って製造される。それによって1つ置きの金属伝導体(
12と金属伝導体C32は、金属伝導体0721と金属
伝導体侶2とによって連絡され挾捷れる。又、該伝導体
(ハ)i8邊は、それぞれのタブ241(ト)4)によ
って連絡される。このように、バーに於ける伝導体の数
によって希望の容量を得るために接続される金属伝導体
の接続方法は数種が存在する。
1、具体例の方法によって引用され、又、この発明から
外れずに変更しつる。同様に、挿入物(44)の外形の
変更は、説明された具体例に於いて使用された伝導体の
数と外形との変更によって+iJ能になる。例えば、第
5図で示された具体例は、金属伝導体C(2のタフ(3
4)に正しく孔を合せられ接続されたタフ(14)によ
って製造される。それによって1つ置きの金属伝導体(
12と金属伝導体C32は、金属伝導体0721と金属
伝導体侶2とによって連絡され挾捷れる。又、該伝導体
(ハ)i8邊は、それぞれのタブ241(ト)4)によ
って連絡される。このように、バーに於ける伝導体の数
によって希望の容量を得るために接続される金属伝導体
の接続方法は数種が存在する。
第1図は本発明に従って作られた型の薄層化のバスバー
に組込まれるように適応された絶縁物の特別な層の断片
図、第2図は本発明に従って作られたバスバーに組込ま
れるのに適応された第1図で示された型の特別な薄層化
の方法を示した集積固定体の断片1覆、第3図rrJ、
本発明の1つの具体例に従って薄層化された集積された
バスバーの側断面図、第4図は第;3図で示されたバス
バーの一部修正型の側断面図、第5図はこの型のハスバ
ーのもう1つの例の第4図にカ′(似しだ側断面図であ
る。 符号の説明 0υr2υ(至)・金属ブランク、Ol) 側ウェブ
、03 C17JC33伝導体、 (141041
C’A ・一端子又はタブ、+41 絶縁ブランク(
ラミネート・型組立物)、顛・・・層(ブランク層)、
+411 佃ウェブ、(4り・・絶縁体片、 −
・孔、 (44)・・挿入物(キャパシター・ウェファ=)、(
461・・・円状孔、 槌・・集積固定体、5z
・・・ピン、 侶3・金属伝導体、紹) タブ
又U、端子。 特許出願人 工ルドレ コーボネンツ インコーポレ
ーションFIG I FIG 2 手 続 補 正 書 (自発) FIG 3 FIG 4 8 補正の内容 昭和57年4月14[1 1事件の表示 特願昭57−025221号 2、発明の名称 絶縁体陶器挿入物を用いて薄板にした 電気伝導体とその製造法 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 エルドレ コーポネンツ インコーポレーシ
ョン代表者 ジャック エイ、エルドレ 国 籍 アメリカ合衆国 4、代理人 5、 補正命令の日付 6、 補正により増加する発明の数 (1) 明細書第7頁8行〜9行の0内の記載を「特
公昭56 30921号」と補正する。 以 上
に組込まれるように適応された絶縁物の特別な層の断片
図、第2図は本発明に従って作られたバスバーに組込ま
れるのに適応された第1図で示された型の特別な薄層化
の方法を示した集積固定体の断片1覆、第3図rrJ、
本発明の1つの具体例に従って薄層化された集積された
バスバーの側断面図、第4図は第;3図で示されたバス
バーの一部修正型の側断面図、第5図はこの型のハスバ
ーのもう1つの例の第4図にカ′(似しだ側断面図であ
る。 符号の説明 0υr2υ(至)・金属ブランク、Ol) 側ウェブ
、03 C17JC33伝導体、 (141041
C’A ・一端子又はタブ、+41 絶縁ブランク(
ラミネート・型組立物)、顛・・・層(ブランク層)、
+411 佃ウェブ、(4り・・絶縁体片、 −
・孔、 (44)・・挿入物(キャパシター・ウェファ=)、(
461・・・円状孔、 槌・・集積固定体、5z
・・・ピン、 侶3・金属伝導体、紹) タブ
又U、端子。 特許出願人 工ルドレ コーボネンツ インコーポレ
ーションFIG I FIG 2 手 続 補 正 書 (自発) FIG 3 FIG 4 8 補正の内容 昭和57年4月14[1 1事件の表示 特願昭57−025221号 2、発明の名称 絶縁体陶器挿入物を用いて薄板にした 電気伝導体とその製造法 3 補正をする者 事件との関係 特許出願人 名 称 エルドレ コーポネンツ インコーポレーシ
ョン代表者 ジャック エイ、エルドレ 国 籍 アメリカ合衆国 4、代理人 5、 補正命令の日付 6、 補正により増加する発明の数 (1) 明細書第7頁8行〜9行の0内の記載を「特
公昭56 30921号」と補正する。 以 上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1) 高いキャパシタンスをイーする薄層パスバー
の製造方法で、合成樹脂塗装J i’tだ層をイーする
プラスチックの絶縁体物質を使用し、薄く柔らかくそわ
白身に少tr くとも1つ以[。の孔体 を有する絶縁片を有し、該孔にrl、両表面を金属化し
た薄いウェファ−状の絶縁体陶器挿入物か嵌められ、前
記絶縁体片&:′11、−そ−[/’)一部分を前記挿
入物の端と噛合うようにp、%市塗装びれ、該噛合によ
って前記絶縁体片に関i−で・般的に同一<Ig而にあ
る前記孔にl’l’l ML挿大人物−・おlI:いに
絶糺さ一1ノる/こめに置き、プラスチック絶縁間)し
フ物−1′J前記(!<導体を薄層化17.1’tjf
記挿入物の金属イI智Σ、11/こ而でもって前記伝導
体の向い合つ/(而かll′l接接触する。;に方法3
、(2) 特許請求の範囲(1)で示さノ′1だノブ
法で、一定片 間隔のl’l+に伸ひ/こ複数び)前記絶縁体を含み、
i”lii記絶縁体物′1°″fかL:ンi(7+、備
ざわるフランクを1 イJし、該絶縁11・Ql、、たフランクの2つの側方
部分間に伸びぞ、11自身に一定間隔のあいた複数び)
孔をイーし、該音孔に(11そjlぞh +fij記挿
入物1 かH;tiかわ、前記フランクは、目1j記絶縁体に挿
入物を固定するために部分的に矯汀−さ11、該フラン
クiJ、 r?if記の部分的に固定され/ζブランク
と同様の外++tをイ■する2つの金属フランク間に孔
をIFシく合せて1面かれる0、っ」:))、2つの外
絶縁被農物間に集積されたフランク4層状化し、該被覆
物c、L前記の部分的に矯+lXされたブランクと同様
の外形をイ1し、前記フランクと被覆物の部分と孔合せ
をすること/「<前記絶縁体層を分離する該方法。 (3)薄層化されたバスバーで、少なくとも3つの乎ら
な金属伝導体を有し、該各伝導体は伝導体白身の少/c
くとも一端から伸びだ複数の回路連結突出部を備え、複
数の絶縁体層の最初の層は異った一対の前記伝導体を絶
縁するためにその間にはさ捷れ、他の絶縁層は前記回路
連結突出部の場所を除C・て前記伝導体の外面を薄層に
覆い、陶諸挿入物はそれ白身が隣接している各伝導体の
表面と直接白身の両面か接触するように前記絶縁層の最
初の各層に組込寸れるもσ)で、最初の一対の前記伝導
体の内の1つの少なくとも1つ息子の突出部と、1記の
他の1つの伝導体の1つ以1−の突出部を接k 3ぜる
ツノ法で、それによってh2ρノの−・対の伝導体と3
a +−+の伝導体間のキャパシタンスを増加させる
バスバー。 (4)特許請求の範囲(3)で示されだ薄層化されたハ
スバーで、絶縁体の前記のイ・1加された層に4つの薄
層化された伝導体があり、絶縁体層の前記の最初の複数
層によってお互いに分離され、前記の最初の一対の伝導
体がバスバーに於いて残った伝導体に関して交tjHに
配置されているバスバー。 (5) 薄層化された電気バスバー・コンデンサーの
製作に使用される絶縁体片で、薄く柔らかいプラスチッ
クの層を有し、該層Q゛[少なくとも1つの孔を備え、
またそれ白身に部分的に矯正された合成樹脂塗装を有し
、薄い陶ぼ::ry)挿入物は前記孔と同し形状をし、
それよりも僅かに小さいもので、前記挿入物を前記孔に
固定する方法で実質的にプラスチックの[)11記層と
同一・平向にし、前記4117人物のI/Nりだけと噛
合うように流れ込む前記合成樹脂塗装の部分を有する該
方法を有するも、の。 (6) 特許請求の範囲(5)で示された絶縁体片で
、前記挿入物に1薄くウェファ−状r〕層で、該層はバ
リュウム・チタン化合物であり、その両面は金属化され
ているもの。 (7)特ji’ Jf’f求の範囲(6)で示された絶
縁体片で、1)11記挿入物は、それ白身が嵌められる
プラスチックの前記層より僅かに飛び出すように、僅か
に+tij記層よりも厚くなっているもの。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57025221A JPS58142708A (ja) | 1982-02-18 | 1982-02-18 | 絶縁セラミック插入物を用いた積層バスバ−とその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57025221A JPS58142708A (ja) | 1982-02-18 | 1982-02-18 | 絶縁セラミック插入物を用いた積層バスバ−とその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58142708A true JPS58142708A (ja) | 1983-08-24 |
Family
ID=12159905
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57025221A Pending JPS58142708A (ja) | 1982-02-18 | 1982-02-18 | 絶縁セラミック插入物を用いた積層バスバ−とその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58142708A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102017222427A1 (de) | 2016-12-16 | 2018-06-21 | Yazaki Corporation | Verdrahtungselement, Herstellungsverfahren für ein Verdrahtungselement und Verdrahtungselementverbindungsstruktur |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54120868A (en) * | 1978-03-11 | 1979-09-19 | Ito Kenichi | Capacitorrbuilttin laminated bas |
JPS5546433A (en) * | 1978-09-30 | 1980-04-01 | Nippon Mektron Kk | Laminated bus with builttin capacitor |
JPS5618309A (en) * | 1979-07-19 | 1981-02-21 | Rogers Corp | Bus bar for high capacitance multilayer and method of manufacturing same |
JPS5637690A (en) * | 1979-09-05 | 1981-04-11 | Nippon Mektron Kk | Laminated bus for circuit board |
-
1982
- 1982-02-18 JP JP57025221A patent/JPS58142708A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54120868A (en) * | 1978-03-11 | 1979-09-19 | Ito Kenichi | Capacitorrbuilttin laminated bas |
JPS5546433A (en) * | 1978-09-30 | 1980-04-01 | Nippon Mektron Kk | Laminated bus with builttin capacitor |
JPS5618309A (en) * | 1979-07-19 | 1981-02-21 | Rogers Corp | Bus bar for high capacitance multilayer and method of manufacturing same |
JPS5637690A (en) * | 1979-09-05 | 1981-04-11 | Nippon Mektron Kk | Laminated bus for circuit board |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102017222427A1 (de) | 2016-12-16 | 2018-06-21 | Yazaki Corporation | Verdrahtungselement, Herstellungsverfahren für ein Verdrahtungselement und Verdrahtungselementverbindungsstruktur |
US10468161B2 (en) | 2016-12-16 | 2019-11-05 | Yazaki Corporation | Wiring member, manufacturing method of wiring member, and wiring member connection structure |
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