JPS58135883A - Novel compounds of 3-amino-2-oxoazetidine-1- sulfonic acid derivatives, manufacture, use as drug, composition and intermediate product - Google Patents

Novel compounds of 3-amino-2-oxoazetidine-1- sulfonic acid derivatives, manufacture, use as drug, composition and intermediate product

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JPS58135883A
JPS58135883A JP57184814A JP18481482A JPS58135883A JP S58135883 A JPS58135883 A JP S58135883A JP 57184814 A JP57184814 A JP 57184814A JP 18481482 A JP18481482 A JP 18481482A JP S58135883 A JPS58135883 A JP S58135883A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規化合の3−アミノ−2−オキソアゼチジ
ン−1−スルホン酸の誘導体、それらの製造法、薬剤と
しての使用、これを含む組成物及び得られる中間体生成
物に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to novel compound derivatives of 3-amino-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid, methods for their production, use as medicaments, compositions containing the same and the production of intermediates obtained. relating to things.

しかして1本発明の主題は、次の一般式(D〔ここで、
Rは水素原子、又は多くとも12個の縦素原子を有し、
場合により置換されていることノする線状若しくは分肢
状のアルキル、アルケニル若しくはアルキニル基な表わ
し。
Therefore, one subject of the present invention is the following general formula (D [where,
R has a hydrogen atom or at most 12 vertical atoms;
An optionally substituted linear or branched alkyl, alkenyl or alkynyl group.

Rlel、基−(oat) −x (ここでnは1〜4
の整数を表わし、Xはハロゲン原子、シアノ基、基0−
1’1(凰′1は水素原子又はアルキル基を表わす)を
表わし、又はXは基8−]l’、 (R’□は水素原子
、71〜4個の炭素原子を有するアルキニ基を表わし、
又は1′とR′はそれらが結合している窒素原子と、・
1・、′1′ 共に一素麿を形成する)を表わし、又はXはアジド、チ
オシアナト又はイソチ゛オシ′アナト基を表わす)讐表
わし、 波線は、化合物がcia若しくはtrans形態又はC
1B−trans混合物の形態にあり得ることを示し。
Rel, group -(oat) -x (where n is 1 to 4
represents an integer of , X is a halogen atom, a cyano group, a group 0-
1'1 (凰'1 represents a hydrogen atom or an alkyl group), or X represents a group 8-]l', (R'□ represents a hydrogen atom, an alkini group having 71 to 4 carbon atoms) ,
Or 1' and R' are the nitrogen atoms to which they are bonded,
1.,'1' together form a monovalent group, or
1B-trans mixture.

式(I)の化合物はラセミ又は光学活性形11にあり、 オキシムはayn形である〕 の化合物並びに式(I)の化合物の塩又は酸との塩にあ
る。
The compounds of formula (I) are in racemic or optically active form 11, the oxime is in the ayn form] as well as in the salts of the compounds of formula (I) or in the salts with acids.

基Rの意味としては、次のものがあげられる。The meanings of the group R include the following.

a)メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル
、8eC−ブチル、t−ブチル、ペンチル、イソヘンチ
ル% 5ec−ペンチル、t−ベア f k 。
a) Methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, 8eC-butyl, t-butyl, pentyl, isohentyl% 5ec-pentyl, t-bear f k .

ネオペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、8・C−ヘキ
シル、t−ヘキシル゛、ヘプチル、オクチル。
Neopentyl, hexyl, isohexyl, 8-C-hexyl, t-hexyl, heptyl, octyl.

デシル、つ/デシル、ドデシル基。Decyl, one/decyl, dodecyl group.

b)  ビニル、アリル、1−7’ロペニル、ブテニル
b) Vinyl, allyl, 1-7'lopenyl, butenyl.

ペンテニル、ヘキセニル基。pentenyl, hexenyl group.

C)  エチニル 7 g Aルギル、フチニル基。C) Ethynyl 7g Algyl, phthynyl group.

上記のa)〜C)K示した基は、それ自体、1個又はそ
れ以上の基1例えば、場合により塩形底着しくはエステ
ル化されていてもよいカルlキシル基;メトキシカルl
ニル、エトキシカルボニルのヨ5 ftアルコキシカル
ボニル;カルバモイル;ジメチルカルバモイル;アミノ
;ジメチルアさノ、ジエチルアミノのようなジアルキル
アミノ;メチルエチルのようなアルキルアミノ;塩基、
臭素、よ′う素若しくはふっ素のようなハロゲン;メト
キシ、エトキシ、プーロビルオキシのようなアルコキシ
;メチルチオ、エチルチオのようなアルキルチオ;フェ
ニルのようなアリール;テトラゾリル、ピリジニルのよ
うなアリール−資素環式;場合により置換されていても
よいフェニルチオのようなアリールチオ;メチルのよう
なアルキルで置換されていてもよいテトラゾリルチオ、
゛チアジアゾリルチオのよ5なアリール1素環式チオ等
によって置換されていて−もよい。
The radicals a) to C) K above may themselves contain one or more radicals (1), for example carxyl groups, which may optionally be salt-substituted or esterified;
alkoxycarbonyl; carbamoyl; dimethylcarbamoyl; amino; dialkylamino such as dimethylazano, diethylamino; alkylamino such as methylethyl; base;
Halogens such as bromine, iodine or fluorine; alkoxys such as methoxy, ethoxy, purobyloxy; alkylthios such as methylthio, ethylthio; aryls such as phenyl; aryl-heterocycles such as tetrazolyl, pyridinyl Formula; optionally substituted arylthio such as phenylthio; tetrazolylthio optionally substituted with alkyl such as methyl;
It may be substituted with 5-aryl monocyclic thio such as thiadiazolylthio.

基lの意味としては、%K、水素、メチル、場4rKよ
りエステル化又は塩形成されてい【もよいカルボキシエ
チル、場合によりエステル化又は塩形成されていてもよ
い1−カルボキシ−1−メチルエチル、2−アミノエチ
ル及びジフルオルメチルをあげることができる。
The meaning of the group 1 is %K, hydrogen, methyl, carboxyethyl which may be esterified or salted from 4rK, 1-carboxy-1-methylethyl which may optionally be esterified or salted. , 2-aminoethyl and difluoromethyl.

基IL、としては、特に、クロルメチル、クロルエチル
、クロルプロピル、1−10ルーl−メチルエチル及び
クロルブチル基をあげ′ることかできる。
As radical IL, mention may be made, in particular, of the chloromethyl, chloroethyl, chloropropyl, 1-10-1-methylethyl and chlorobutyl radicals.

また、これと対応する臭素、よ゛う素又はふつ素の基、
特にブロムメチル及びフルオルメチル基があげられる。
Also, corresponding bromine, iodine or fluorine groups,
Mention may especially be made of the bromomethyl and fluoromethyl groups.

また、シアノメチル、シアンエール及び対応するアルキ
ル基もあげられる。    ゛基凰′、としては、前記
のa) Kあげた好ましくは1〜4個の炭素原子を有す
るアルキニ基、11メチル基をあげることができる。
Also included are cyanomethyl, cyanale and the corresponding alkyl groups. Examples of the "group" include alkynyl groups and 11-methyl groups mentioned above in a) K, preferably having 1 to 4 carbon atoms.

基R11としては、また、好ましくは1〜4個の炭素原
子を有するアルキル基、臀にメチル基なあげることがで
きる。
As radicals R11 there can also be mentioned alkyl groups, preferably having 1 to 4 carbon atoms, and also methyl groups.

R1,が表わすεとので赦る褒素纏としては、ピリジル
、1(2,3−11,2,H−11,2,4−又は1.
3゜4−チアジアゾリル1lH−テトラシリ、b、l、
3−チアゾリル、 1,2.3−、1,2,4−又は1
,3.4−トリアゾリルi 1.2.3−、1,2.4
−、 1,2.−一又は1.3.4−オキナシアゾリル
基勢をあげることができる。これらの基は、非置換であ
っても、或いは例えばメチル、エチル、プロぐル、イソ
プロピル、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、イソ
プロピルオキシ、アミノ、ヒドロキシカルボニルメチル
、ジメチルアミノエチル及びジエチルアミノエチル基よ
りなる群から選ばれる1個又はそれ以上の基で置換され
ていてよい。
Examples of rewards that are compatible with ε represented by R1 include pyridyl, 1(2,3-11,2,H-11,2,4- or 1.
3゜4-thiadiazolyl 1lH-tetrasily, b, l,
3-thiazolyl, 1,2.3-, 1,2,4- or 1
,3.4-triazolyl i 1.2.3-,1,2.4
-, 1, 2. -1- or 1.3.4-okinacyazolyl group. These groups may be unsubstituted or may be substituted, for example, by the group consisting of methyl, ethyl, progyl, isopropyl, methoxy, ethoxy, propyloxy, isopropyloxy, amino, hydroxycarbonylmethyl, dimethylaminoethyl and diethylaminoethyl groups. It may be substituted with one or more groups selected from.

特に、1−メチルテトラゾυル、2−メチル−1、3,
4−チアジアゾリル、3−メチル−1,2,4−チアジ
アゾリル、3−メトキシ−1,2,4−チアジアゾリル
、1,3.4−チアジアゾール−5−イル、そして41
に1−メチルテトラゾリル基なあげることができる。
In particular, 1-methyltetrazol, 2-methyl-1,3,
4-thiadiazolyl, 3-methyl-1,2,4-thiadiazolyl, 3-methoxy-1,2,4-thiadiazolyl, 1,3.4-thiadiazol-5-yl, and 41
Examples include 1-methyltetrazolyl group.

エチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ。Ethylamino, ethylamino, diethylamino.

ピペリジノ又はモルホリノ基を表わすことができる。It can represent a piperidino or morpholino group.

1位のスルホ基並びに基Rが含有し得るカルボキシル基
は、塩形成できる。
The sulfo group at position 1 as well as the carboxyl group that the group R may contain can form a salt.

製造し得る塩としては、ナトリウム、カリウム。Salts that can be manufactured include sodium and potassium.

リチウム、カルシウム、マグネシウム及びアンモニウム
塩をあげることができる。また、トリメチルアミン、ジ
エチルアミン、トリエチルアミン、メチルアミン、プロ
ピルアミン、N、N−ジメチルエタノールアミン、トリ
ス(ヒドロキシメチル)ア建ツメタン、エタノールアミ
ン、ピリジン、ピコリゾ、ジシクロヘキシルアミン、N
’、N’−ジペンシリエチレンジアミン、モルホリン、
ベンジルアミン、フロカイン、リジン、アルギニン、ヒ
スチジン、N−メチルグルカミンのような有機塩基の塩
もあげられる。
Mention may be made of lithium, calcium, magnesium and ammonium salts. Also, trimethylamine, diethylamine, triethylamine, methylamine, propylamine, N,N-dimethylethanolamine, tris(hydroxymethyl)a-densumethane, ethanolamine, pyridine, picolizo, dicyclohexylamine, N
', N'-dipensilyethylenediamine, morpholine,
Also mentioned are salts of organic bases such as benzylamine, flocaine, lysine, arginine, histidine, N-methylglucamine.

式(I)の化合物は、これらが少なくとも1個の塩形成
可能アミノ基を含有することからみて、有機又は無機酸
の蝿の形で提供できる。
The compounds of formula (I) can be provided in the form of organic or inorganic acids, in view of the fact that they contain at least one salt-formable amino group.

式(I)の化金物のアミノ基を塩形成できる酸としては
、他にもあるが、酢酸、トリフルオル酢酸。
Examples of acids that can form a salt with the amino group of the metal compound of formula (I) include acetic acid and trifluoroacetic acid.

マレイye11. lr右elt、メpンスルホン酸、
ベンゼンスルホンgl、p−)ルエンスルホン酸、m駿
、臭化水素酸4、硫酸及びりんal勢をあげることがで
きる。また、式(1)の化合物は5分子内塩の形で提供
できる。
Murray ye11. lr right elt, mep sulfonic acid,
Examples include benzenesulfone, p-)luenesulfonic acid, hydrobromic acid, sulfuric acid, and phosphorus. Moreover, the compound of formula (1) can be provided in the form of a pentamolecular inner salt.

好ましい化合物はcIB化合物である。Preferred compounds are cIB compounds.

さらに詳しくは1本発明の主題は1次の一般式() 〔ここでs RIは水素原子、又は場合により1個若し
くはそれ以上のハロゲン原子、カルボキシル。
More particularly, the subject matter of the present invention is represented by the general formula () of the first order () [where s RI is a hydrogen atom, or optionally one or more halogen atoms, carboxyl].

アミノ若しくはシアノ基で置換されていることのある鐘
状若しくは分岐状アルキル基な表わし。
A bell-shaped or branched alkyl group that may be substituted with an amino or cyano group.

n′はl又は2の整数を表わし。n' represents an integer of l or 2.

X′はふっ素原子、2−ピリジニルチオメチル基又はチ
オシアナト基を表わす〕 を有し、ラセミ又は光学活性の、C18形態のsyn異
性体であることからなる化合物並びに式(■りの化金物
の塩基及び酸との塩にある。
X' represents a fluorine atom, a 2-pyridinylthiomethyl group, or a thiocyanato group] and is a racemic or optically active C18 form syn isomer; Found in salts with bases and acids.

また、本発明は、特に、n′が1の数を表わし、X′が
ふっ素原子を表わす前記の一般式(Iりの化金物並びに 置換基凰−が水素原子、又はメチル若しくはジフルオル
メチル基、場合によりエステル化若しくは塩形成されて
いてもよいカルボキシメチル基、アミノエチル若しくは
シアノメチル基、又は場合によりエステル化若しくは塩
形成されていてもよい1−メチル−1−カル&中ジエチ
ル基を表わす化金物を主題とする。
Further, the present invention particularly provides a metal compound of the general formula (I) in which n' represents the number 1 and X' represents a fluorine atom, and the substituent 凰- is a hydrogen atom, or a methyl or difluoromethyl group. , a carboxymethyl group, an aminoethyl or cyanomethyl group, which may optionally be esterified or salted, or a 1-methyl-1-cal & diethyl group, optionally esterified or salted. The subject is hardware.

さらに詳しくは、本発明は、下記の実施例において記載
する化合物、中でも特にラセミ又は光学活性の、cis
 −4−フルオルメチル−3−[2−(2−アミノ−4
−チアゾリル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−
2−オキソアぞチジンー1−スルホン酸ayn異性体、
及びその塩を主題とする。
More particularly, the present invention describes the compounds described in the Examples below, especially racemic or optically active cis
-4-fluoromethyl-3-[2-(2-amino-4
-thiazolyl)-2-methoxyiminoacetamide]-
2-oxoazotidine-1-sulfonic acid ayn isomer,
and its salts as the subject matter.

なお、前記した式(I)の化合物は、この式(I)Kよ
り示した形で、或(1は互変異性のイミン形で存在でき
る。
The compound of formula (I) described above can exist in the form shown by this formula (I)K, or in the form of a tautomeric imine (1).

ラクタム核は次のように番号が付される。The lactam nuclei are numbered as follows:

cigと称する化合物は、次式を有する化合物である。The compound designated cig is a compound having the formula:

trans化合物は1次式を有する化合物である。A trans compound is a compound that has a linear formula.

また、本発明は、前記した式(I)の化合物を製造する
kあたり、次式(II) 〔ここで札はR*(R1は先に示した意味を有する)を
表わすか又はへは反応性官能基が保護されているmtv
表わし、ムは水嵩原子又はスルホ基を表わす〕 のラセミ又は光学活性化合物を次式(ill)(JR’
b 〔ここで、lLbは水嵩原子又はアミノ基の保護基を表
わし、R′、はヒドロキシル基の保護基な表わすか、又
はml、はR(1には先に示した意味を有する)を表わ
すか、又はnl、は反応性官能基が保護されている1凰
を表わす〕 の化合物で処理するととによって次式■)(ここで” 
”b ’ ”b’ lLa及びムは前記の意味を有する
) のラセミ又は光学活性の化合物を得、次いでこの化合物
に必要ならば及び次望ならば下記の反応、a)  Rb
及びIL/bが表わし得る又は8′5及びRaが含有し
得る保護基の加水分解、水添分解又はチオ尿素の作用に
よる分離。
The present invention also provides a method for producing the compound of formula (I) described above, using the following formula (II) [wherein the tag represents R* (R1 has the meaning shown above) or the reaction to mtv whose sexual functional group is protected
and M represents a bulky water atom or a sulfo group] A racemic or optically active compound of the following formula (ill) (JR'
b [Here, lLb represents a bulky water atom or a protecting group for an amino group, R' represents a protecting group for a hydroxyl group, or ml represents R (1 has the meaning shown above) or nl represents 1 凰 in which the reactive functional group is protected] and by the following formula ■) (where "
``b''``b'' lLa and M have the meanings given above) to obtain a racemic or optically active compound, and then subject this compound, if necessary and if desired, to the following reactions: a) Rb
and separation of the protective groups that IL/b may represent or that 8'5 and Ra may contain by hydrolysis, hydrogenolysis or by the action of thiourea.

b)1礼が含有し得るカルボキシル基のエステル化又は
塩形成及びスルホ基の塩形成、 C)アミノ基の酸による塩形成、 d)基ムが水素原子を表わす化合物のスルホン化。
b) Esterification or salt formation of a carboxyl group that may be contained and salt formation of a sulfo group; C) Salt formation of an amino group with an acid; d) Sulfonation of a compound in which the group represents a hydrogen atom.

e)光学活性化合物を得るための分子の分割。e) Resolution of molecules to obtain optically active compounds.

の一つ又はそれ以上を任意の順序で行なうことを特徴と
する式(1)の化合物の製造法K11する。
A method for producing a compound of formula (1) K11, characterized by carrying out one or more of the following in any order.

式(TI)において、Rは一般に基R1であってよい。In formula (TI), R may generally be a group R1.

しかしながら、恥が−(C11m )n”基(Xは%に
?ニトロキシル又はアミノ基な表わす)を表わす場合に
は、これらの基を分離可能な保護基で保護することが有
益であろう。
However, if the group represents a -(C11m)n'' group, where X represents a nitroxyl or amino group, it may be advantageous to protect these groups with a separable protecting group.

アミノ基の保護基は、例えば、アルキル基、好ましくは
t−ブチル又はt−アミル基であつ゛てよく、またアシ
ルの中には脂肪族、芳香族若しくは秦素環式基又はカル
バモイル基な含めることができる。
Protecting groups for amino groups may be, for example, alkyl groups, preferably t-butyl or t-amyl groups, and acyl may also include aliphatic, aromatic or cyclic groups or carbamoyl groups. can.

また、低級アルカノイル基、例えばホルミル、アセチル
、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、
イソバレリル、オキサリル、スタシニル、ピバロイル等
をあげることができる。また、lLbは、低級アルコキ
シ又はシクロアルコキシカルボニル基1例えばメトキシ
カルボニル、エトキシカルボニル、フロボキシカルボニ
ル、1−シクロプロピルエトキシカルボニル、イソプロ
ピルオキシカルボニル、ブチルオキシカルボニル、t−
ブチルオキシカルボニル、ペンチルオキシカルボニル、
ヘキシルオキシカルボニル、ベンゾイル、トルオイル、
ナフトイル、7タ薗イル、メタル。
Also, lower alkanoyl groups such as formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, valeryl,
Examples include isovaleryl, oxalyl, stacinyl, pivaloyl, and the like. In addition, 1Lb is a lower alkoxy or cycloalkoxycarbonyl group 1 such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, fluoroxycarbonyl, 1-cyclopropylethoxycarbonyl, isopropyloxycarbonyl, butyloxycarbonyl, t-
butyloxycarbonyl, pentyloxycarbonyl,
hexyloxycarbonyl, benzoyl, toluoyl,
Naphtoil, 7tazonoil, metal.

フェニルアセチル、フェニルプaピオニル基又ハペンジ
ルオキシカルボニルのようなアルコキシカルlニル基を
表わすことができる。
It can represent an alkoxycarbonyl group such as phenylacetyl, phenylpionyl group or hapendyloxycarbonyl.

アシル基は、例えば、塩素、臭素、よう素又はふっ素原
子で置換されていてよい。例えば、クロルアセチル、ジ
クロルアセチル、トリクロルアセチに、ブロムアセチル
又はトリフルオルアセチル基をあげることができる。
Acyl groups may be substituted, for example, with chlorine, bromine, iodine or fluorine atoms. For example, bromoacetyl or trifluoroacetyl groups can be mentioned in chloroacetyl, dichloroacetyl, trichloroacetyl.

また、低級アラールキル基1例えばベンジル。Also, lower aralkyl groups 1 such as benzyl.

4−メトキシベンジル、フェニルエチル、トリチル、3
.4−ジ、メトキシベンジル又はジフェニルメチルを用
いることもで鎗る。
4-methoxybenzyl, phenylethyl, trityl, 3
.. It is also possible to use 4-di,methoxybenzyl or diphenylmethyl.

トリクールエチルのよ5なハロア關キル1′も用いるこ
とができる。
Other haloacetyl compounds such as trichloroethyl can also be used.

マタ、クロルベ/ソイル、p−ニトロベンゾイル、p−
t−ブチルベンゾイル、フェノキシアセチル、カプリリ
ル、n−デカノイル、アクリロイル又はトリクロルエト
キシカルボニル基を用いることもできる。
mata, chlorbe/soil, p-nitrobenzoyl, p-
It is also possible to use t-butylbenzoyl, phenoxyacetyl, caprylyl, n-decanoyl, acryloyl or trichloroethoxycarbonyl groups.

さらに、メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル、
ナフチルカルバ毫イル晶並びにこれらの対応チオカルバ
モイル基も用いることができる。
Furthermore, methylcarbamoyl, phenylcarbamoyl,
Naphthylcarbamoyl crystals and their corresponding thiocarbamoyl groups can also be used.

上記の列挙は限定的ではなくて、伽のアミン保護基、特
にペプチドの化学において知られた基も同様に使用でき
ることは明らかである。
It is clear that the above list is not limiting and that conventional amine protecting groups, especially those known in peptide chemistry, can be used as well.

ヒドロキシル基の保Saは、下記の列挙から選ぶことが
できる。
The retention Sa of the hydroxyl group can be selected from the following list.

これは1例えば、ホルミル、アセチル、クロルアセチル
、ブロムアセチル、ジクロルアセチル。
Examples include formyl, acetyl, chloroacetyl, bromoacetyl, dichloroacetyl.

トリクロルアセチル、トリフルオルアセチル、メトキク
エチル、フェノキシアセチル、ベンゾイル、ペンゾイル
ホルンル、p−ニトロベンゾイルであってよい。また、
゛エトキシカルボニル、メトキシカルボニル、フロボキ
シヵルボニル、β、β、β−)9/ロルエトキシカルボ
ニル、ペンシルオキシカルlニル、t−ブトキシカルボ
ニル、1−シクロプロピルエトキシカルボニル、テトラ
ヒドロピラニル、テトラヒト交チオピラニル、メトキシ
テトラヒドービラニル、トリチル、ベンジル、4−メト
キシベンジル、ジフェニルメチル、トリクールエチル、
l−メチル−1−メトキクエチル及び7タロイル基もあ
げることができる。
It may be trichloroacetyl, trifluoroacetyl, methoxyethyl, phenoxyacetyl, benzoyl, penzoylhorn, p-nitrobenzoyl. Also,
゛Ethoxycarbonyl, methoxycarbonyl, floboxycarbonyl, β, β, β-) 9/lorethoxycarbonyl, pencyloxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, 1-cyclopropylethoxycarbonyl, tetrahydropyranyl, tetrahuman crossthiopyranyl , methoxytetrahydrobiranyl, trityl, benzyl, 4-methoxybenzyl, diphenylmethyl, tricoolethyl,
Mention may also be made of the 1-methyl-1-methoxyethyl and 7taloyl groups.

フーヒオニル、ブチリル、インブチリル、バレリル、イ
ソバレリル、オキサリル、スクシニル及びピバロイルの
ような他のアシルもあげることができる。
Mention may also be made of other acyls such as fuhionyl, butyryl, imbutyryl, valeryl, isovaleryl, oxalyl, succinyl and pivaloyl.

8らに、フェニルアセチル、フェニルプロピオニル、メ
シル、タールベンゾイル、p−ニトロベンゾイル、p−
1−ブチルベンゾイル、カプリリル、アタリ訪イル、メ
チルカルバモイル、フェニルカルバモイル及ヒナフチル
ヵルパモイル基モアげられる。
8, phenylacetyl, phenylpropionyl, mesyl, tarbenzoyl, p-nitrobenzoyl, p-
Examples include 1-butylbenzoyl, caprylyl, ataritoyl, methylcarbamoyl, phenylcarbamoyl and hinaphthylcarpamoyl groups.

轟然であるが、置換1凰b(これらが水素原子を表わさ
ないときの)の意味並びにR/、が表わし又は含有し得
る保設基(%KR′bがアミンを含むときの)の意味は
、前述の列挙から選ぶことができる。
Although it is obvious, the meaning of the substituted 1-b (when these do not represent a hydrogen atom) and the motive group that R/ may represent or contain (when %KR'b contains an amine) are as follows: , can be selected from the above enumeration.

本発明の方法の好ましい実施態様においては、式(II
)の化合物が式(I[)の化合物の官能性誘導体で処理
される。この官能性誘導体は、例えば、ハロゲン化物、
対称若しくは混成無水物、アミド又は活性化エステルで
あってよい。
In a preferred embodiment of the method of the invention, formula (II
) is treated with a functional derivative of a compound of formula (I[). This functional derivative can be, for example, a halide,
It may be a symmetrical or mixed anhydride, amide or activated ester.

混成無水物の例としては、例えば、クロルぎ酸イソブチ
ルと形成させたもの、埃化ピバロイルと形成させたもの
、そして例えばp〜トルエンスルホン酸と形成させた混
成カルボン酸−スルホン酸無水物があげられる。活性化
エステルの例としては、2.4−ジニトロフェノールと
形成させたエステル、とドロ中ジベンゾチアゾールと形
成させたエステルがあげられる。
Examples of mixed anhydrides include, for example, those formed with isobutyl chloroformate, those formed with dusted pivaloyl, and the mixed carboxylic acid-sulfonic anhydrides formed, for example, with p-toluenesulfonic acid. It will be done. Examples of activated esters include the esters formed with 2,4-dinitrophenol and the esters formed with dibenzothiazole in the slurry.

ハロゲン化物の例としては、塩化物又は臭化物があげら
れる。
Examples of halides include chloride or bromide.

また、酸アジド又は酸アミドもあげることができる。Also included are acid azides and acid amides.

無水物は、N、N−二置換カルボジイミド、例えばLl
N−ジシクロへキシルカルlシイ建ドを作用させるとと
により現場で形成させることができる。
The anhydride is a N,N-disubstituted carbodiimide, such as Ll
It can be formed in situ by reacting with N-dicyclohexylcarboxylate.

アクル化反応は、好ましくは、塩化メチレンのような有
機溶媒中で行われる。しかしながら、他f)illNj
LJfテ)2ヒドロフラン、クロロホルム又はジメチル
ホルムアミドも用いることができる。
The acrylation reaction is preferably carried out in an organic solvent such as methylene chloride. However, other f)illNj
Hydrofuran, chloroform or dimethylformamide can also be used.

駿ハ胃ダン化物が用いられる場合、そして一般的にはハ
四ゲン化水素酸分子が反応中に遊離される場合には、反
応を塩基5例えば水酸化す)9ウム、水酸化カリウム、
炭酸及び重辰酸ナトリウム、炭酸及び重嶽駿カリクム、
酢酸ナトリウム、トリエチ★アミン、ピリジン、モルホ
リン又はN−メチル毛ルホリンの存在下に行うのが好ま
しい。
When a hydroxide is used, and generally when a hydroxide molecule is liberated during the reaction, the reaction is carried out with a base such as hydroxide, potassium hydroxide,
Sodium carbonate and ditarate, carbonate and sodium ditarate,
Preferably, it is carried out in the presence of sodium acetate, triethylamine, pyridine, morpholine or N-methylcarboline.

反応温度は、一般に、周囲温゛度又はそれ以下である。The reaction temperature is generally at or below ambient temperature.

Rbが水素原子を表わすときは、カルボン駿−スルホン
ll′fIh成無水物を用いるのが好ましい。
When Rb represents a hydrogen atom, it is preferable to use a carboxyl-sulfone ll'fIh anhydride.

式(5)の化合物は、Rb、R′5及びRaの意味に応
じて、式(Hの化合物を構成しても又はしなくてもよい
The compound of formula (5) may or may not constitute a compound of formula (H) depending on the meanings of Rb, R'5 and Ra.

式GV)の化合物は、Rbが水素原子を表わすとき、U
 /、がヒドロΦシル基の保護基を表わさないか又は保
護官能基を含有する1凰を表わさないとき、lLaが反
応性官能基が保護されている1和を表わさないとき、そ
してムが水嵩原子を表わさないときに式(I)の化合物
を構成する。
The compound of formula GV), when Rb represents a hydrogen atom, U
/, does not represent a protecting group for a hydroΦyl group or does not represent a group containing a protected functional group, when lLa does not represent a group in which a reactive functional group is protected, and when M does not represent a group in which a reactive functional group is protected; Compounds of formula (I) are constituted when no atoms are represented.

他の場合において、式(5)の化合#/kJK対する1
種又はそれ以上の加水分解若しくは水添分雫剤又はチオ
尿素の作用は、1.がアミノ基の保護基を表わすときの
その町基を除去し、R′、がヒト−キシル基の保護基を
表わすときのそのR′5基を除去し、そして&凰及びR
′わが含有し得るその他の保護基を除去することを目的
とする・ これらの場合の全てに作用させるべき試薬の種類は、蟲
業者に周知である。このような反応の例は、爽験の郁で
さらに示す。
In other cases, the compound of formula (5) #/kJK for 1
The action of one or more hydrolyzing or hydrogenating agents or thiourea is as follows: 1. When represents a protecting group for an amino group, the group R' is removed; when R' represents a protective group for a human-xyl group, the R'5 group is removed;
'The purpose is to remove any other protecting groups that may be present.' The types of reagents that should be used in all of these cases are well known to the insect industry. Examples of such reactions are further shown in Sōken no Iku.

以下に、各種の基を除去するのに用いることりできる手
段を列挙する。もちろん、これに限るものではない。
Listed below are the means that can be used to remove various groups. Of course, it is not limited to this.

基Rbの除去は、酸又は塩基接触分解により、或いはヒ
ドラジ/を用いるととKより行うことができる。
Removal of the group Rb can be carried out by acid or base catalytic decomposition or by using hydrazide.

置換されていることのあるアルコキシ及びシフ四アルコ
キシカルボニル基、例えばt−ベンチルオ中ジカルボニ
ル又はt−ブチルオキシカルボニル;置換され【いても
よいアラルコキシカルボニル基1例えばベンジルオキシ
カルボニル基;そしてトリチル、ジフェニルメチル、t
−ブチル又は4−メトキシベンジル基を除去するには酸
加水分解を用いるのが有利である。
optionally substituted alkoxy and Schifftetraalkoxycarbonyl groups, such as tert-benthylodicarbonyl or t-butyloxycarbonyl; optionally substituted aralkoxycarbonyl groups, such as the benzyloxycarbonyl group; and trityl, diphenylmethyl, t
Advantageously, acid hydrolysis is used to remove the -butyl or 4-methoxybenzyl groups.

用いられる好ましい酸は、塩酸、ベンゼンスルホンII
I又はp−)ルエ/スルホン酸、ぎ酸又はトリフルオル
酢酸よりなる群から選ぶことができる。
Preferred acids used are hydrochloric acid, benzenesulfone II
I or p-) Rue/sulfonic acid, formic acid or trifluoroacetic acid.

しかし、他の無機又は有機酸も用−・ることかできる。However, other inorganic or organic acids can also be used.

トリプルオルアセチルのようなアシル基を除去するため
Kは塩基加水分解を用いるのが好ましい。
Preferably, K uses basic hydrolysis to remove acyl groups such as triple olacetyl.

用いるのが好ましい塩基は、水酸化ナトリウム又はカリ
ウムのような無機塩基である。また、マグネシア、バリ
タ又を1アルカリ金属の炭酸塩着しくけ酸性炭酸塩1例
えば炭酸及び酸性炭酸す)リウム若しくはカリウム又は
その他の塩基も用〜嘱ることができる。
The bases preferably used are inorganic bases such as sodium or potassium hydroxide. Also useful are magnesia, baryta or alkali metal carbonates, acidic carbonates such as carbonic acid and acidic carbonates), lithium or potassium or other bases.

また、酢酸ナトリウム又はカリウムも用〜・ることかで
きる。
Also, sodium or potassium acetate can be used.

ヒドラジンを用いる加水分解は、好ましく 417タロ
イルのような基を除去するために用〜・られる。
Hydrolysis with hydrazine is preferably used to remove groups such as 417taloyl.

また、札基は亜鉛−酢酸系(トリクロルエチル基に対し
て)Kより除去することができ、またジフェニルメチル
ベンジルオキシカルボニルIi i! 好ましくは触媒
の存在下での水素によって除去される。
Also, the tag group can be removed by zinc-acetic acid system (for trichloroethyl group) K, and diphenylmethylbenzyloxycarbonyl Iii! It is preferably removed by hydrogen in the presence of a catalyst.

クロルアセチル基は、勤@aki KよりJ、ム、o、
g。
The chloroacetyl group is J, mu, o,
g.

90.4508(196B)K記載の反応に従って、中
性又は酸性媒体中でチオ尿素を作用させるととKより除
去される。
According to the reaction described in 90.4508 (196B) K, thiourea is removed from K on the action of thiourea in a neutral or acidic medium.

また1文献で既に知られた他の方法、例え−f駿化によ
る分離(4IKベンジル基に対して)を保護基の除去に
用いることもできる。
It is also possible to use other methods already known in the literature, for example separation by -f fluorination (for the 4IK benzyl group), to remove the protecting group.

好ましい基としては、ホル建ル、アセチル、エトキシカ
ルボニル、メタル、)リフルオルアセチル、りpルアセ
チル、トリチルがあげられる。トリチル及びクロルアセ
チル共がIF#に好ましい。
Preferred groups include phoryl, acetyl, ethoxycarbonyl, metal, trifluoroacetyl, polyacetyl, and trityl. Both trityl and chloroacetyl are preferred for IF#.

用いられる酸は、好ましくはトリフルオル酢酸又はぎ酸
である。
The acid used is preferably trifluoroacetic acid or formic acid.

l′5基又はR′b及びRaが含有する保護基の除去は
、これが必要な場合には、Rbの除去について前記した
条件と―似の条件で行われる。
Removal of the l'5 group or the protecting groups contained by R'b and Ra, if necessary, is carried out under conditions similar to those described above for the removal of Rb.

酸加水分解は、他の方法もあるが、置換されていてもよ
いアル中ル又はアラールキル1を除去するのに用いるこ
とができる。
Acid hydrolysis, among other methods, can be used to remove optionally substituted aralkyl or aralkyl 1.

酸としては、埴駿、ぎ酸、トリフルオル酢酸及びp−)
ルエンスルホン酸よりなる群から選ばれるものを用いる
のが好ましい。
As acids, Hanishun, formic acid, trifluoroacetic acid and p-)
Preferably, one selected from the group consisting of luenesulfonic acid is used.

I&lLb又は凰′5の他のもの或いは札又はRaが含
有する保護基は、所望により、尚業者に周知の方法によ
って除去される。それには温和な条件、即好ましい。
The protecting groups contained by I&lLb or others of 凰'5 or tag or Ra are removed, if desired, by methods well known to those skilled in the art. Mild conditions are ideal for this.

当然であるが、例えばRb又はR′b又はR1が除去す
ることができるがしかし異なる種11に属する基であり
又はそのような基を含有するときには、前述の列挙に含
まれる数種の薬剤を式GV)の化合物に作用させること
ができる。
Of course, several agents included in the above list may be used, for example, when Rb or R'b or R1 is a group that can be removed but belongs to a different class 11 or contains such a group. A compound of formula GV) can be acted upon.

化合物の環形成は、通常の方法によって行うことができ
る。
Ring formation of the compound can be performed by conventional methods.

例えば、#1形成は、故形の化合物に又はこの酸のl!
謀和物、例えばエタノール溶媒和物若しくは永和愉に無
機塩基、例えば水酸化す) IJウム若しくはカリウム
、炭酸又は重炭酸す) IJウム又はカリウムを作用さ
せることによって得ることができる。りん酸三ナトリウ
ムのような無機酸の塩も用いることができる。さらに、
有機酸の樵も用いることができる。
For example, #1 formation occurs in the late form of the compound or in l! of this acid.
It can be obtained by reacting a complex, such as an ethanol solvate or an inorganic base, such as potassium hydroxide or potassium, carbonate or potassium bicarbonate. Salts of inorganic acids such as trisodium phosphate can also be used. moreover,
Organic acids can also be used.

このような有機酸の塩の列挙は1例えばフランス国製許
第2.476.087号に見られる。
A list of such salts of organic acids can be found, for example, in French Patent No. 2.476.087.

ナトリウム塩としては、酢酸、2−エチルヘキサン酸又
はジエチル酢酸の塩を用いるのが好ましい。
As the sodium salt, it is preferable to use acetic acid, 2-ethylhexanoic acid or diethyl acetic acid salt.

また [形成は、有機塩基又はアミノ酸を作用させて達
成することもできる。
Formation can also be achieved by the action of organic bases or amino acids.

また、翼が酸官能基を含有する化合物の必l!に行うエ
ステル化も標準的な方法で行われ茶。
In addition, it is necessary for compounds whose wings contain acid functional groups! The esterification carried out on tea is also carried out in a standard manner.

ムが水嵩原子を表わす吠面の化合物のスルホン化は、無
水硫酸又はこの無水硫酸の反応性誘導体により行われる
The sulfonation of compounds in which the moiety represents a bulk water atom is carried out with sulfuric anhydride or with reactive derivatives of this sulfuric anhydride.

ピリジン−無水硫酸錯体を用いるのが好ましいが、無水
硫酸とジオキサン又はトリメチルア2/との他の錯体も
用いることができる。
It is preferred to use a pyridine-sulfuric anhydride complex, but other complexes of sulfuric anhydride and dioxane or trimethyla2/ may also be used.

反応は1通常の溶媒、例えば酢酸エチル、クロロホルム
又はジメチルホルムアンド中で行われ、そして周囲温度
で行うことができる。ピリジン−無水硫酸錯体が用いら
れるときは、生成物はピリジニウム蝮の形で単離するこ
とができる。
The reaction is carried out in one common solvent, such as ethyl acetate, chloroform or dimethylformand, and can be carried out at ambient temperature. When a pyridine-sulfuric anhydride complex is used, the product can be isolated in the form of pyridinium hydroxide.

式(If)又は側のラセン体分子の必要により行う分割
は、通常の方法で行うことができる。
Any division of formula (If) or side helical molecules can be carried out by a conventional method.

光学活性カルボン酸又は有機スルホン酸1例えば酒石酸
、ジベンゾイル酒石酸、カンホスルホン酸又はグルタさ
ン酸を用いることができ、そしてそのようにして得られ
た塩の分解は、酸性炭酸ナトリウムのような無機塩基、
又は第三アミン、例えばトリエチルアミンのような有機
塩基に゛より行われる。
Optically active carboxylic or organic sulfonic acids 1 such as tartaric acid, dibenzoyltartaric acid, camphosulfonic acid or glutasic acid can be used, and the decomposition of the salts so obtained is carried out using an inorganic base such as acidic sodium carbonate. ,
or with a tertiary amine, for example an organic base such as triethylamine.

本発明は、%に、ムが水素原子を表わす式(It)の化
合物及び凰、がアミノ基の保護基を表わす式(nDの化
合物が用いられ、そし【、スルホン化がILbがアミノ
基の保護基を表わす式(I%’)の化合物に対して行わ
れることを特徴とする前記の製造法に関する。
In the present invention, a compound of the formula (It) in which M represents a hydrogen atom and a compound of the formula (nD) in which M represents a protecting group for an amino group are used; The present invention relates to the above-mentioned production method, characterized in that it is carried out on a compound of formula (I%') representing a protecting group.

ILbが表わす保護基は、好ましくは、好ましくはトリ
チル基である。
The protecting group represented by ILb is preferably a trityl group.

スルホン化をピリジン−無水硫酸錯体で実施するのが好
ましい。
Preferably, the sulfonation is carried out with a pyridine-sulfuric anhydride complex.

また1本発明の主題は1式(IDの化合物の製造法にあ
り、これは次式(■ N\8゜ (ここで、 R,は先に示した意味を有し、へはイミノ
基の保護基を表わす) の化合物に次式(資) (ここで、Rε及びR5は一方で水素原子を、他方でア
建)基の保護基を表わし、又は札とRIpは一緒になっ
て二価の保護基を表わし、Bはヒドロキシル基又はハロ
ゲンを表わす) の化金物を反応させて次式(9) (ここで、R,L、Rp、RIp及びRIpは前記の意
味を有する) の化合物を得1式(至)の化合物に下記の反応、a)基
Rpの加水分解、水添分解又はチオ尿素の作用による分
離。
The subject matter of the present invention is a method for producing a compound of formula 1 (ID), which is produced by the following formula (■ N\8゜ (where R has the meaning shown above, and In the compound of the following formula (representing a protecting group) (where Rε and R5 represent a hydrogen atom on one hand and an atom on the other hand), or the tag and RIp together represent a divalent group. (wherein R, L, Rp, RIp and RIp have the above-mentioned meanings) by reacting the metal compound of (where B represents a hydroxyl group or a halogen) The compound of formula 1 is obtained by the following reaction: a) separation of the group Rp by hydrolysis, hydrogenolysis or action of thiourea;

b)場合により行う1位のアミンのスルホン化、C)基
R′p及びRIpの加水分解、水添分解又はチオ尿素の
作用による分離、 d)場合により行う光学活性化合物を得るための分子の
分割 を行うことを特徴とする。
b) optional sulfonation of the amine in position 1; C) hydrolysis, hydrogenolysis or separation of the groups R'p and RIp by the action of thiourea; d) optional conversion of the molecule to give the optically active compound. It is characterized by performing division.

保護基l、は、アミンについて先に示した置換基の列挙
の中から選ぶことができる。
The protecting group l can be selected from the list of substituents given above for amines.

しかし、以下に示す理由から、ベンジル基又は2.4−
ジメトキシベンジル基或いは均等物を用いるのが好まし
い。
However, for the reasons shown below, benzyl group or 2.4-
Preferably, a dimethoxybenzyl group or an equivalent is used.

さらに、保−基Rpは不整嶽素原子を含有することがで
き、したがって本発明の主題は、IfIK、Rpが不整
基を含有するイミノ基の保護基を表わす式(■の化合物
を出発時に用い、モして式(匍の化合物が光学活性形態
で単離されることを特徴とする前述の製造法にある。
Furthermore, the protecting group Rp can contain an asymmetric atom, and the subject of the invention therefore provides that ifIK, Rp represents a protecting group for an imino group containing an asymmetric group, starting from a compound of the formula (■), , and the above-mentioned production method, characterized in that the compound of the formula (匍) is isolated in optically active form.

式(至)のこれらの光学活性化合物は、前記の方法に従
って式(I)の光学活性化合物を導く。
These optically active compounds of formula (to) lead to optically active compounds of formula (I) according to the methods described above.

保護基としては、41に1−フェニルエチル基なあげる
ことができる。
As a protecting group, 1-phenylethyl group can be mentioned in 41.

式(@の光学活性化合物の製造例は実験の部でさらに示
す。
An example of the preparation of an optically active compound of the formula (@) is further shown in the experimental section.

基R5及びl−は、上に示した保護基の列挙の中から選
ぶことができる。フタロイル基を用いるのが好ましい。
The groups R5 and l- can be chosen from the list of protecting groups given above. Preference is given to using phthaloyl groups.

基1はハロゲン原子を表わすことができる。酸クロリド
が好ましい。
Group 1 can represent a halogen atom. Acid chlorides are preferred.

1がハロゲン原子を表わすときは、式(ロ)の化金物に
対する式(■の化合物の作用はトリエチルア々ンのよう
な塩基又は亜鉛のような金属の存在下で行われる。
When 1 represents a halogen atom, the action of the compound of formula (2) on the metal compound of formula (2) is carried out in the presence of a base such as triethylamine or a metal such as zinc.

1がヒドロキシル基を表わすときは、その操作は、無水
物、好ましくはトリフルオル酢酸無水物のような脱水触
の存在下に行われる。
When 1 represents a hydroxyl group, the operation is carried out in the presence of an anhydride, preferably a dehydrating catalyst such as trifluoroacetic anhydride.

弐■)の化合物を式(VDの化合物に作用させると優先
的Kci−化合物が得られる。1rsina化合物は、
埴基性媒体中で異性化させるととによって得られる。
When the compound of 2) acts on the compound of formula (VD), a preferential Kci-compound is obtained.1rsina compound is
It is obtained by isomerization in a neutral medium.

生じた化合物をスルホン化する必要があるときは、第−
脱保護反応の目的は基Rpを選択的Kl!保膜すること
である。したがって、上述したようK。
When it is necessary to sulfonate the resulting compound,
The purpose of the deprotection reaction is to selectively convert the group Rp to Kl! It is to maintain a film. Therefore, as mentioned above, K.

好ましくはベルオクソニ硫酸カリウムのような酸化剤に
より脱保護されるベンジル又はジメトキシベンジル基な
用いるのが好ましい。
Preferably, a benzyl or dimethoxybenzyl group is used, which is deprotected by an oxidizing agent such as potassium beroxonisulfate.

水−酢酸混合物又はアセトニトリルのような溶媒中で実
施するのが好ましい。
Preferably it is carried out in a solvent such as a water-acetic acid mixture or acetonitrile.

1位の第二アミンが遊離である化合物の必要ならば行う
スルホン化は、前述のように行われる。
The optional sulfonation of compounds in which the secondary amine in position 1 is free is carried out as described above.

場合により行う第二説保睦反応操作は、基R/p及び8
′9の脱離による3位アミンの遊離化を目的とする。前
述のよ5に、フタルイミド基で実施するときには、その
脱離は、前述のように、ジメチルホルムアミドのような
溶媒中でヒドラジン、好ましくはヒドラジン水和物によ
って行われる。
The optional second theory protection reaction operation is based on the groups R/p and 8
The purpose is to liberate the 3-position amine by eliminating '9. When carried out with the phthalimide group, as described above, the elimination is carried out with hydrazine, preferably hydrazine hydrate, in a solvent such as dimethylformamide, as described above.

当然であるが、特に、式av)の化金物のスルホ/化が
行なわれない場合には、基Rp、 1に’、及び4は一
時に除去することができる。
Of course, the groups Rp, 1' and 4 can be removed at once, especially if no sulfo/conversion of the metal compound of formula av) is carried out.

分割は、上述のように1通常の方法で行われる。The splitting is done in one conventional manner as described above.

本発@に従えば、次式(−) 〔ここで、ムは先に示した意味を有し、nは1・4の整
数を表わし、X′はX(xはハロゲン原子(除く前記の
意味を有する)を表わし、又はX′は1の反応性官能基
が保護されているXを表わす〕の化合物は1次式(l (ここで R?l及びIL′qはそれぞれ水素原子な表
ゎ一5oy又は−NO8の反応性誘導体により処理して
次式OX) □ −(ここで、X’、 A、 R′9及びR′qは先に示
した意C味を有する) の化合物を得、この化合物に4b要により及び所望なら
ば下記の反応、 a)R′q及びR19が水素原子と異なるときにそれら
kより表わされる基の加水分解、水添分解又はチオ尿素
の作用による分離、 b)基ムが水素原子を表わす化合物のスルホン化。
According to the present invention @, the following formula (-) [Here, M has the meaning shown above, n represents an integer of 1.4, and X' is X (x is a halogen atom (excluding the above or X' represents X in which one reactive functional group is protected]. Treatment with a reactive derivative of ゎ15oy or -NO8 to produce a compound of the following formula OX) □ - (where X', A, R'9 and R'q have the meanings indicated above) 4b, optionally and if desired, the following reaction: a) When R′q and R19 are different from a hydrogen atom, the group represented by k is separated by hydrolysis, hydrogenolysis or the action of thiourea. , b) Sulfonation of compounds in which the group represents a hydrogen atom.

C)光学活性化合物を得るた−めの分子の分割のうちの
一つ又はそれ以上を行なうことからなる方法によって製
造することもできる。
C) They can also be produced by a process consisting of carrying out one or more of the following: resolution of the molecule to obtain an optically active compound.

ハロゲン原子を置換しようとする基の反応性誘導体の式
(■)の化合物に対する作用は、通常の条件下で行なわ
れや。
The action of the reactive derivative of the group intended to replace the halogen atom on the compound of formula (■) is carried out under normal conditions.

例えば、ハロゲン原子とメルカプタンとの交換は、好ま
しくはこのメルカプタンのアルカリ金属塩、例えばナト
リウム塩によって行われる。
For example, the exchange of a halogen atom with a mercaptan is preferably carried out with an alkali metal salt of this mercaptan, such as the sodium salt.

ハロゲン原子と酢酸アルカリ金属塩、例えば酢酸ナトリ
ウム又はカリウムとの間の交換により保■されたヒドロ
キシル基の導入が可能となり、これは遊離化できるし、
また所望ならばエステル化することができる。
Exchange between a halogen atom and an alkali metal salt of acetate, such as sodium or potassium acetate, allows the introduction of a retained hydroxyl group, which can be liberated or
It can also be esterified if desired.

もよい)の導入が可能となる。This makes it possible to introduce the following:

アジド基を導入するためKはアルカリ金属アジド、好ま
しくはナトリウムアジドを作用させることができる。ま
た、シアン化又はチオシアン酸アルカリ金属を作用させ
てXがこれらの基を表わす化金物又はインチオどアネー
トを得ることかでする。
In order to introduce an azide group, K can be treated with an alkali metal azide, preferably sodium azide. Alternatively, a metal cyanide or an alkali metal thiocyanate may be reacted to obtain a metal oxide or an inthioanate in which X represents one of these groups.

また、鳩舎により行う脱保護基、スルホン化及び糾合に
より行う後続の反応は、先に示した方法で行われる。
Further, the subsequent reactions performed by deprotecting groups, sulfonation and conjugation performed using pigeonholes are performed by the methods shown above.

特定すれば1本発明の主題は、Raがフルオルメチル基
も真わすことを特徴とする前記の式(I)の製造法にあ
る。
A particular subject of the invention is a process for the preparation of formula (I) as defined above, characterized in that Ra is also a fluoromethyl group.

一般式(I)の化合物は、グラム陰性■、特に大腸菌、
タレプシエラ属、サルモネラ属及びプロテウス属の細菌
に対して非11K良好な抗生物質薬剤を持っている。
The compound of general formula (I) is suitable for Gram-negative ■, especially Escherichia coli,
It has a non-11K good antibiotic agent against bacteria of the genera Talepsiella, Salmonella and Proteus.

これらの化合物は、%K、大腸1症及び関連感染症、プ
四デウス属、タレプシエラ属及びサルモネラ属の細菌感
染症並びにグラム陰性−により引起されるその他の障害
の治療薬剤として用いることができる。
These compounds can be used as agents for the treatment of %K, coliosis and related infections, bacterial infections of the genera P4D, Thalepsiella and Salmonella, and other disorders caused by Gram-negative bacteria.

したがって、本発明の主題は、また、薬剤としC5%に
抗生物質薬剤としての前記の式(I)の化合物並びにそ
れらの製薬上許容できる壌にある。
The subject of the present invention is therefore also the compounds of formula (I) as defined above and their pharmaceutically acceptable forms as medicaments and C5% antibiotic medicaments.

特K、本発明は、薬剤として41に抗生物質薬剤として
の次式(Tす 〔ここで、R1は水素原子、又は場合により1個若しく
はそれ以上のハロゲン原子、カルボキシル。
Particularly, the present invention provides 41 as a drug, an antibiotic drug of the following formula (T [where R1 is a hydrogen atom, or optionally one or more halogen atoms, carboxyl].

アミノ若しくはシアノ基で置換されていることのある線
状若しくは分鋏状アルキル基な表わし。
A linear or scissor-like alkyl group that may be substituted with an amino or cyano group.

n′は1又は2の整数を表わし。n' represents an integer of 1 or 2.

X′はふっ素原子、2−ピリジニリチオメチル基又はチ
オシアナト基を表わす〕を有し、ラセよ又は光学活性の
、 cl−形態のgyn異性体である化合物並びに式(
I′)の化合物の製造上許容できる塩基又は酸との壌を
主題とする。
X' represents a fluorine atom, a 2-pyridinylthiomethyl group or a thiocyanato group], and is a racemic or optically active gyn isomer in the cl-form, as well as compounds having the formula (
The subject matter is the preparation of the compound of I') with an acceptable base or acid.

さらに詳しくは、本発明の主題は、S剤、49に抗生物
質剤としての n/が1の数を表わし且つX′がふっ素
原子を表わす前記の式(■りの化合物差びにそれらの製
薬上許容できる塩基又は酸との塩、そして 置換基R1が水素原子、又はメチル若しくはジフルオル
メチル基、場舎によりエステル化若しくは塩形成されて
いてもよいカルlキシメチル基、ア建ノエチル若しくは
シアノメチル基、又は場合によりエステル化若しくは塩
形成されていてもよい1−メチル−1−カルボキシエチ
ル基を表わす前記の式(■′)の化合物並びにそれらの
製薬上許容できる塩基又は酸との塩にある。
More particularly, the subject of the present invention is a compound of the above formula (1), in which 49 represents the number 1 as an antibiotic agent and X' represents a fluorine atom, and the pharmaceutical differences thereof. salts with acceptable bases or acids, and the substituent R1 is a hydrogen atom, or a methyl or difluoromethyl group, a carboxymethyl group, an adenoethyl or cyanomethyl group, which may optionally be esterified or salted; or compounds of the above formula (■') representing a 1-methyl-1-carboxyethyl group which may optionally be esterified or salt-formed, and their salts with pharmaceutically acceptable bases or acids.

また、本発明は1%に、薬剤として、特に抗生物質剤と
しての、実施例に記載の化合物、中でも、4−フルオル
メチル−3−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−
2−メトキシイミノアセトアミド〕−2−オキソアゼチ
ジン−1−スルホ/ml。
The present invention also provides 1% of the compounds described in the examples, especially 4-fluoromethyl-3-[2-(2-amino-4-thiazolyl)-
2-Methoxyiminoacetamide]-2-oxoazetidine-1-sulfo/ml.

cis 、  syn異性体、ラセミ又は光学活性体及
びその製薬上許容できる塩、そして 4−フルオルメチル−3−C2−(2−アt)−4−チ
アゾリル)−2−ジフルオルメトキシイ建ノアセトアミ
ド〕−2−オ中ソアゼチジンー1−スルホン酸、01B
、syn異性体、ラセミ又は光学活性体及びその製薬上
許容できる塩を主題とする。
cis, syn isomers, racemic or optically active forms and pharmaceutically acceptable salts thereof, and 4-fluoromethyl-3-C2-(2-at)-4-thiazolyl)-2-difluoromethoxyi-denoacetamide] -2-Soazetidine-1-sulfonic acid, 01B
, syn isomers, racemic or optically active forms and pharmaceutically acceptable salts thereof.

したがって、本発明は、前記の薬剤の少なくとも1種を
活性成分として含有する製薬組成物まで及ぶ。
The invention therefore extends to pharmaceutical compositions containing at least one of the above-mentioned agents as an active ingredient.

これらの組成物は、経口的に、直腸経路で又は非経口的
に、或いは皮膚及び粘膜への局部適用剤として局所的に
投与することができる。
These compositions can be administered orally, rectally or parenterally, or topically as a topical application to the skin and mucous membranes.

これら組成物は同体または液体であってもよく、人の医
薬として現在使用されている製薬形態、たとえば砂糖被
覆されたまたはそのままの圧縮錠剤、ゼラチンカプセル
、顆粒剤、生薬、注射用製剤、軟膏、クリームおよびゲ
ルとして提供することができ、それらは常法にしたがっ
て作られる。1種またはそれ以上の活性成分を、これら
医薬組成物中に慣用的に使用される補形薬、たとえばメ
ルク、アラビアゴム、乳糖、殿粉、ステアリン酸マグネ
ジfyム、ココアバター、水性または非水性ビ社タル、
動物性または植物性の脂肪物質、パラフィン誘導体、グ
リコール、各種の湿潤剤1分散剤または乳化剤および/
または保存剤の中に配合することができる。
These compositions may be homogeneous or liquid and may be in the pharmaceutical forms currently used in human medicine, such as sugar-coated or intact compressed tablets, gelatin capsules, granules, herbal medicines, injectable preparations, ointments, They can be provided as creams and gels, which are made according to conventional methods. One or more active ingredients may be combined with excipients conventionally used in these pharmaceutical compositions, such as Merck, gum arabic, lactose, starch, magnesium stearate, cocoa butter, aqueous or non-aqueous. Bisha Tal,
Animal or vegetable fatty substances, paraffin derivatives, glycols, various wetting agents, dispersants or emulsifiers and/or
Or it can be incorporated into a preservative.

4!に、これらの組成物は、必要なときに適尚な担体1
例えば無1で非発熱性の水に溶解するよ5にした粉末の
形で提供できる。
4! These compositions can be prepared using a suitable carrier when required.
For example, it can be provided in the form of a non-pyrogenic, water-soluble powder.

投与量は、11すべき病気、患者、投与経路及び対象化
合物によって変り得る。例えば、それは。
The dosage may vary depending on the disease, patient, route of administration, and compound of interest. For example, that.

例1に記載の化合物につい【男性で経口投与の場合1日
当り0.250 g〜4gでよく、又は筋肉内投与の場
合1日3同として0.5009〜1gであってよい。
For the compound described in Example 1, the dosage for men may be from 0.250 g to 4 g per day for oral administration, or from 0.5009 to 1 g three times per day for intramuscular administration.

式(I)の化合物及びそれらの塩は、外科用器具の消毒
剤として用いることもできる。
The compounds of formula (I) and their salts can also be used as disinfectants for surgical instruments.

最後に1本発明の主題は、新規な工業用化金物としての
次の一般式(5) (ここで、Rb、R/b、ム及び札は先に示した意味を
有する) の化合物、そして次式(n) (ここで、ム及びILaは先に示した意味を有し、モし
てムが水素原子を表わすときは札はメチルチオ、ヒドロ
キシメチル、アジドメチル、アミノメチル又はアルコキ
シメチル基な表わし得ないものとする) の化合物にある。
Finally, one subject of the present invention is a compound of the following general formula (5) (wherein Rb, R/b, M and F have the meanings given above) as a new industrialized metal product, and The following formula (n) (where M and ILa have the meanings shown above, and when M represents a hydrogen atom, the tag represents a methylthio, hydroxymethyl, azidomethyl, aminomethyl or alkoxymethyl group. (shall not be obtained).

既知でない式(v)の化金物は、式’BpNu、の保■
されたアミンに式lLa0HOのアルデヒドを、揚台に
よっては水和物1a−OH(OIi)、の形で1作用さ
せるととによって製造することができる。
The unknown metal compound of formula (v) is the compound of formula 'BpNu,
can be prepared by treating the obtained amine with an aldehyde of the formula 1La0HO in the form of the hydrate 1a-OH (OIi), depending on the platform.

このような製造例は実験の部に示す。Examples of such preparation are shown in the experimental section.

なお1本発明の実施例に記載する化合物の他k。In addition to the compounds described in the Examples of the present invention.

下記の化金物も本発明の範囲内で得ることができる化金
物である。ここで、置換基X%R,ム及び1、は式(I
) K示すものである。
The following metal compounds are also metal compounds that can be obtained within the scope of the present invention. Here, the substituents X%R, M and 1 are of the formula (I
) K is shown.

例1:4−タールメチル−3−(2−(2−ア建87m 132f#)!−(!−)ジチルアミノ−4−チアゾ雫
ル)−1−メト命シイ電ノアセトアイド酸−aynJI
1m体を236の塩化メチレンに細えてなる一一波を冷
却し、!II4”fのジシクロへ中ジルカルIジインド
を加え、20分同冷関攪拌したlN−1・a#)塩化メ
チレン?lc箇解した441啼の4−タW#メチルー3
−ア々ノー2−オ命ソアゼチジン壊酸蝮の一波と64t
−のトリエテルア々ンを加える。馬一温度で1時同26
0分かきまぜ、生じたジシクロへ中シル服毒を分離し、
塩化メチレンで洗い、−波に10−の酸性炭酸ナトリ會
ムー飽和濤液と20aの本を纏える。これを次いでかき
まぜ、有機相を再抽出し、乾燥する。
Example 1: 4-tal methyl-3-(2-(2-A building 87m 132f#)!-(!-)ditylamino-4-thiazol)-1-methionoacetoid acid-aynJI
1m body is reduced to 236 methylene chloride and cooled down to 11 waves,! Zircal I diindo was added to the dicyclo of II4"f and stirred in the same cold oven for 20 minutes.
- Ahno 2-O Life Soazetidine A wave of acid vipers and 64t
-Add Trieter Aan. Maichi temperature 1:26
Stir for 0 minutes, separate the Nakashir poison into the resulting dicyclo,
Wash with methylene chloride, add 10-mL acidic sodium carbonate solution, and add 20A of water. This is then stirred and the organic phase is re-extracted and dried.

減圧下に濃縮乾屑した後、その残留物に景少量の酢酸エ
チルを加え−すり砕き、不溶物をF遥し、酢酸エチルで
洗い、再び減圧TK濃縮乾固する。
After concentrating to dryness under reduced pressure, the residue was triturated with a small amount of ethyl acetate, the insoluble matter was filtered out, washed with ethyl acetate, and concentrated to dryness again under reduced pressure.

その残C*を5ののエタノールに溶解し、l@a=のエ
ーテルでゆっくりと希釈する。結晶化を躇紬させ、2時
間かきtぜ、次いで生じた結晶を分層し、エタノール−
エーテル(1−2)梶金物で洗い、68g”fの所電化
金物を得た。
The residue C* is dissolved in 5 parts of ethanol and slowly diluted with 1@a= of ether. The crystallization was stirred for 2 hours, then the resulting crystals were separated into layers and added to ethanol.
Ether (1-2) was washed with Kaji hardware to obtain electrified hardware weighing 68 g''f.

分析: OmmHtsOaNsllO1== 5110
8針算: 0%62.16 HIG4.68 NlG1
5実1111 :   62.4   4.8   1
2.51)スルホン化 17.2a’の乾燥ジメチルホルムア# )”Ell解
した1、72Fのピリジンスルフアン(ビザジ/無水硫
駿鍾体)の一波に上記工程で得た2、403fの生成物
を細えるo@一温度で66一時間かきまぜ、不溶物を一
遍し、ジメチルホルムア建ドで洗い、309ae#)エ
ーテルで希釈し、かきまぜ、10105j腋鐙し、エー
テルを験夫し−再びエーテルで枠金ながら洗った襞、ガ
ム質を20a−のエタノールでiI解させ為G11解し
、か金倉ぜると所電化金物が晶出する・3o分sni<
かきまぜ、−遍し、エタノールで洗い、次いでエーテル
で洗う。
Analysis: OmmHtsOaNsllO1==5110
8 stitch count: 0%62.16 HIG4.68 NlG1
5 fruit 1111: 62.4 4.8 1
2.51) Dry dimethylforma of sulfonated 17.2a'#)"Formation of 2,403f obtained in the above process in one wave of 1,72F pyridine sulfane (visazine/anhydrous pyridine sulfane) dissolved in Ell. Stir the mixture at one temperature for 66 hours, remove any insoluble matter, wash with dimethylformide, dilute with ether, stir, stir, stir, test with ether - ether again. The folds and gum that were washed while using the frame metal were dissolved in 20A-g of ethanol and dissolved in G11, and the electrified metal crystallized when the metal was heated.
Stir, strain, wash with ethanol, then wash with ether.

1目雫の1IIII化会物を得たが−これは4−クール
メチに−3−C2−C2−ト9チルアンノー4脅チアゾ
リル)−2−メト午シイ書ノアセトア書ド〕−2−オキ
ソアゼチジン−!−ス★ホン駿ビプジェタ^である・ b)  )リチル残基の除★ 3・Oqの上で得たピリジンスルホン酸埴と14−の1
.3sの本を含むt酸をso℃となす・溶解した俵、ト
97エ具ルヵルビノールの結晶化が起る。これを50℃
で1・分間装置し、冷却し%0.6Cの本で希釈し、不
溶物を1遍し、本で洗う・fwlK少量のエタノールを
加え、これを減圧′FJlc濃縮乾闘する・水とエタノ
ールを加え、次いで真空TKIII!乾闘させる。その
残留物K 1.2 ccの酸性炭酸す)17りム飽和水
Il波を加える。軽い不溶物を1遍し、水洗した後、−
液KB滴のぎ駿を細見、ひきかく。所11111:虞物
が晶出する・10分間かきまぜ、f遥し、水洗し、エー
テルで洗い、乾燥した俵〜113qの所期化金物を単一
した。
I obtained the 1III chemical compound of the first drop, which was converted into 4-coolmethylene (-3-C2-C2-to-9-thiazolyl)-2-methoxymethane-2-oxoazetidine-! -S★honsunbipujeta^ b)) Removal of lythyl residue★ Pyridine sulfonate obtained above 3.Oq and 14-1
.. When the t-acid containing 3s is brought to 0.degree. C. and dissolved, crystallization of the 97-ester carbinol occurs. This at 50℃
Incubate for 1 minute, cool, dilute with a %0.6C bottle, remove insoluble matter once, and wash with a bottle.Add a small amount of ethanol, and dry-fight this under reduced pressure'FJlc.Water and ethanol. and then vacuum TKIII! Let them fight dryly. To the residue K add 1.2 cc of acidic carbonic acid and 17 ml of saturated water. After applying light insoluble matter once and washing with water, -
I took a close look at the liquid KB drops and scratched them. Place 11111: Possible substances crystallized. Stir for 10 minutes, evaporate, wash with water, wash with ether, and dry bales ~ 113q of expected metals were isolated.

分#  :  ()to]Its(bNsllol=x
  3@y、sg計算二〇−30,11H!jg 3J
4夷ig:   2fj、6   3.2纒造 龜)2−クレルーIK−7エエルメチルエタン 書−乙 4旬のり簡ルアセトアルデヒドを20m−の属植水Ki
l解してなる一波を冷却し、L14fのぺ/シルア建ン
を菫Oa−の水Kil解してなるlFmをかきまぜなが
ら導入すゐ。1・〜15℃で5分両かきまぜた俵、ガム
質と濁ったII鍍を得、これを30ω、次いでzoer
:のペン(ンで抽出する。1m績を乾燥し、−過し−洗
い一真空丁に蒸留乾固する0L34fの生成物を得、こ
れはその重重用いる0134 Fの上で得た生成物を2
0旬の塩化メチレンK1m1解してなる溶液を一50’
CK冷着する。
Minutes #: ()to]Its(bNsllol=x
3@y, sg calculation 20-30, 11H! jg 3J
4 ig: 2fj, 6 3.2 kiln) 2-Klelu IK-7 el methyl ethane Book - Otsu 4th season glue acetaldehyde 20m- genus plant water Ki
Cool a wave formed by dissolving L14f's Pe/Silua in water of Sumire Oa-, and introduce it while stirring. The bales were stirred for 5 minutes at 1-15°C to obtain gummy and cloudy II bales, which were heated to 30ω and then zoer.
Extract with a pen of 100 ml. 2
Add a solution of 1 ml of fresh methylene chloride K to 50'.
CK wears cold clothes.

かき重ぜるとその濃度を保ちながら、20℃で、4fの
7タルイ々ドW#駿クーリドをtoaaの環化メチレン
kll解してなる溶液を導入し、そしてO〜I’Cで1
時聞かきまぜ続け、続いてデ★シテーシ曹ン層フラス:
!El:ぎ、5ogrの脱イオン水と5seの14ル駿
性炭酸すFリクム水濤波で洗い、次いでmll1本(2
1130aF)”t’洗5. 洗浄水ヲill化メチレ
ン(20tりで再抽出し、乾燥し、分離し、洗い、真空
下に濃纏乾闘する。粗製樹脂吠物(6f)を得、これを
yq力でクーマドグツフィーL、5%の硫酸エーテルを
含む塩化メチレンで濤麟す為。凰f=1145の両分を
単離し、乾固させ、161−の硫酸エーテルですり砕き
、分■し、2o:!の硫酸エーテルでS回洗う。真空乾
燥した後、1.25fの生成物を得た。MP=14’l
’C017?Ifの上で得た生成物、31fのベオタソ
エ硫酸カリクム、116ayの水及び1110gll?
の酢酸の温金物を120℃の浴餉申で良くかきまぜなが
ら2s分寓加熱する。
While stirring and maintaining the concentration, a solution prepared by dissolving 4f of 7-taluid W#shun koulide in toaa of cyclized methylene kll was introduced at 20°C, and 1
Continue stirring and then de★cites carbon layer fras:
! El: Wash with 5 og of deionized water and 5 se of 14 liters of carbonic acid, then wash with 1 ml (2 ml) of water.
1130aF)"t' washing 5. Re-extract the washing water with methylene (20t), dry, separate, wash and dry in a concentrated state under vacuum. A crude resin material (6f) was obtained. To rinse with yq force with Kumadoguthufi L and methylene chloride containing 5% sulfuric ether.Both fractions of 凰f = 1145 were isolated, dried, triturated with 161-sulfuric ether, and separated. ■ and washed S times with 2o:! of sulfuric ether. After vacuum drying, 1.25f product was obtained. MP = 14'l
'C017? If the product obtained above, 31f of Beotasoe potassium sulfate, 116 ay of water and 1110 gll?
Heat the hot metal of acetic acid in a 120℃ bath for 2 seconds while stirring well.

次いでこれを肩一温度に冷却し5sOfのりん酸ジ★l
?ムを細えて酸性を中和し、IIIfII&を減圧下に
追出し、g59el!の水と150田の酢酸エチルを加
え、かき會ぜた後、酸性炭酸ナトリウムを少量づつ、ガ
XIo発生が止むまで、加える。媒体を一過し、酢酸エ
テルで洗い、7ツスコ申Kfilンテーシ冒ンし、5O
aII)W#酸エテルで再抽出し、有−II&−乾燥し
、−過し、洗い、減圧下に濃纏乾關する。その残留物i
k!01lfのシリカでクーマドグツフィーする(溶離
剤:25−の酢酸エテルを禽む塩化メチレン)。富んだ
両分を回収し一濃縮乾圃し、ニーテールで嬢解し、分離
し、洗い、乾燥後%5.4’の所間化合物を得た。
Next, this was cooled to shoulder temperature and 5 s of phosphoric acid di★l was added.
? Neutralize the acidity by thinning the mu and expel IIIfII & under reduced pressure, g59el! of water and 150 g of ethyl acetate, stir, and then add acidic sodium carbonate little by little until the generation of moth XIo stops. The medium was filtered, washed with ethyl acetate, exposed to 7 ml of filtrate, and 50 ml of
aII) Re-extracted with W# acid ether, dried, filtered, washed and concentrated under reduced pressure. the residue i
k! Elute with 01lf of silica (eluent: 25-methylene chloride with ethyl acetate). Both enriched fractions were collected, concentrated and dried, disintegrated with a needle, separated, washed and dried to obtain a compound with a concentration of 5.4'.

分析:C■鳥M宜O1= 264.67計算: Os5
4.416 M % 3.43夷濶:s4.7  3.
5 5.3tの上で得た生成物を5.4ωの塩化メチレンに
細えてなゐ■濁液に、12a−のヒドラジン水1N物の
ジメチJ/ホルムア建ドII疲(jayのヒドラジ7水
和物と26ayとするに要するジメチルホルムア建ド)
を滴下する。集めた羨%20分聞装置し1次いでそれを
完全alto@解させるのに十分な量(63・etりの
11埴駿を州を3とするように加える・肩囲濃度で18
時聞かきまぜ、生じたフタルにドツジドをV遍し、水洗
し−次いでエタノール、最llkエーテルで洗い、乾燥
した後、2.844t#)生成物を得た。ジメチルホに
ムア建ドと水を滅ETK遣出し、その残留物を2−エタ
ノールで涛解し、エタノールを追出し−得られた生成物
に21&−のエタノールを加える。45分間かきまぜ、
生じた曽晶を分1し、エタノール及びエーテルで洗った
後、最終的K 2.4 fi・fの所期化合物を得た。
Analysis: C ■ Bird M y O1 = 264.67 Calculation: Os5
4.416 M % 3.43 Yiwa: s4.7 3.
5 The product obtained above was diluted with 5.4ω methylene chloride. To the suspension, 12a-hydrazine water 1N dimethyl Dimethylformad (required for 26ay)
drip. Collected envy% 20 minutes in the device, then add enough amount to completely solve alto@(63・et 11 Hani Shun to make the state 3・Shoulder circumference concentration 18
After stirring from time to time, the resulting phthalate was coated with dotjide, washed with water, then washed with ethanol, then washed with ether, and after drying, a 2.844 t#) product was obtained. Dispense the water and water into dimethyl chloride, dissolve the residue in 2-ethanol, drive off the ethanol, and add 21&- ethanol to the resulting product. Stir for 45 minutes,
After separating the resulting crystals and washing with ethanol and ether, the final K 2.4 fi·f of the desired compound was obtained.

a)輪金 1251の2−(2−)リールアミノ−4−チアゾ9羨
)−2−メトキシイ々ノ酢酸、syn員性体、21ωの
塩化メチレン及び5rsqのジシタpへキシルカルメジ
イミドの温金物を冷水浴中で20分間かきまぜる。11
Iを取9除き、587Fの4−(1−メチル−5−メル
★ブドー1.!、3.4−テトツゾール)メチル−3−
アンノー意−オキノアゼチジン埴駿埴を1(jayの塩
化メチレンKII解してなる一波及びQ、311a−の
トリエチルア建ンを細える・層間濃度で111N20分
かきまぜ、減圧TK濃濃縮漏し%−過し、塩化メチレン
で洗い、エーテルで仕上げし、乾燥した後、1.594
fの生成物(ジシタロヘキシλ尿素を含む)を単一した
ー b)スルホン化 !、!S會4tの上で得た生成物とo、sstのピシジ
ンス殿ファン(ピッジン無水硫駿錯体)を6.6Cのジ
メチ★ホルムア々ドKjlえてなる梶会愉をγ・時開か
會重ぜる。ジクク四ヘキシル腋素な2遍し、最少量のジ
メテ身ネルムア建ドで洗い1P筐をIh2@ejtaの
エーテルで希釈する。十分kか會まぜ、不薯物を一遍し
、エーテルで洗い、生成物を−Isにし一メタノールに
溶解した俵、所層生職物を結晶化させる。これを1遍し
、メタノールで洗い、エーテルで仕上げ、乾燥し、@2
oq。
a) Warm metal product of 2-(2-)lylamino-4-thiazo9-enzyme)-2-methoxyisoacetic acid of ring metal 1251, syn member, methylene chloride of 21ω and dicita p-hexyl carmediimide of 5rsq Stir in a cold water bath for 20 minutes. 11
By removing 9 of I, 587F of 4-(1-methyl-5-mer*budo1.!, 3,4-tetotuzol)methyl-3-
Unknown meaning - One wave of oquinoazetidine Hanishunani dissolved in methylene chloride KII of 1 (jay) and triethyl chloride of Q, 311a - Stir for 20 minutes with 111N at interlayer concentration, reduced pressure TK concentrated concentration leakage % - After washing with methylene chloride, working up with ether and drying, 1.594
The product of f (containing dicitalohexy λ urea) is subjected to single b) sulfonation! ,! The product obtained above S meeting 4t and O, SST's Piscidins fan (Pidgin anhydrous sulfur complex) are mixed with 6.6C dimethic acid formalde Kjl. . Wash twice with dimethic hexyl axillary, wash with the minimum amount of dimethic acid, and dilute 1P with ether of Ih2@ejta. Mix thoroughly, wash the intestine once, wash with ether, convert the product to -Is, dissolve in methanol, and crystallize the organic product in places. Apply this once, wash with methanol, finish with ether, dry, @2
oq.

所m生成物を得た。A product was obtained.

ン鹸 @2*”fの上の工程で得た生成物と0.8 fflの
水と1.62−のt酸との混合物を・O′Cに12牙闘
加熱し、次いでトリフェニルカルピノ−yが晶出す為。
A mixture of the product obtained in the above step, 0.8 ffl of water and 1.62 m of t acid was heated to .O'C for 12 days, then triphenylcal Because Pinot-y crystallizes.

冷却し、少量の水で希釈することによって所期生成物も
晶出する。媒体を10分周か會まぜ、−過し、水洗し、
次いで3鋪エーテ慶ですり砕(0不IIIIIを水で濤
解し、意Cの酸性炭酸す)!?ム麹和水濤波を細太、次
いでかきまぜ一不濠物を一過し、水流し、111塩酸を
−2とするまで纏えると所m生成物、が晶出する。5分
間かきまぜ、一過し、水洗し、エーテルで仕上げ、乾燥
した後、2114qの所iw生成物を得た。
The expected product also crystallizes out on cooling and dilution with a small amount of water. Mix the medium for 10 minutes, strain, wash with water,
Then, grind it in a 3-hole aetekei (dissolve 0F III with water and add acidic carbonic acid to C)! ? The mixture is stirred in a thin stream of koji and water, and then the unmoat is passed through, water is poured, and 111 hydrochloric acid is mixed until the concentration is -2, and the product is crystallized. After stirring for 5 minutes, filtering, washing with water, working up with ether, and drying, the iw product 2114q was obtained.

分析: OB15aOaM・B、172H麿0=48叡
51計算: 0%2tj、631111G3.31 f
lZ5J1 g’jil177夷It :  2m、S
   &4  25.li   111.8纒造1 7.6fの4−クールメチル−3−フタルイミド−2−
オキノアゼチジン、cis (例1f)c)の製造で得
た)、5.41Fの1−メチル−5−メルカプト−1,
2,3,4−テトラゾール(二水和物)、4.3fのよ
う化ナトリウム及び571L−のジメチルホルムア建ド
の■濁液を100’CK加熱し、この濃度で3時間か電
型ぜ続ける。次いでこれを冷却し−o、’rstの水と
119g=の酢酸エチA−に注入し1洗い、激しくかき
會ぜ、デカンテーシ藁ンし、75t1次いで4s旬の*
*エチルで再抽出し、所期生成物である不溶物を濾過す
る。15Qa−の水で洗い、再抽出し、乾燥し、F遇し
た後、これを滅f:下に小春穂に濃縮し、2回−過し、
酢酸エチルで洗う。不嬢性生成物を一緒にし、乾燥し、
最後に5.1Fの所期生成物を単離した。
Analysis: OB15aOaM・B, 172H Maro 0 = 48 Ei 51 Calculation: 0%2tj, 631111G3.31 f
lZ5J1 g'jil177夷It: 2m, S
&4 25. li 111.8 Kinetsu 1 7.6f 4-coolmethyl-3-phthalimide-2-
oxinoazetidine, cis (obtained in the preparation of Example 1f) c)), 1-methyl-5-mercapto-1 of 5.41F,
A suspension of 2,3,4-tetrazole (dihydrate), 4.3f sodium iodide, and 571L dimethylformad was heated to 100°C, and electrostatic molding was continued at this concentration for 3 hours. . This was then cooled, poured into 119 g of ethyl acetate A, 119 g of water, washed, stirred vigorously, decanted and washed with 75 t of water and 119 g of ethyl acetate.
*Re-extract with ethyl and filter the insoluble material which is the desired product. After washing with 15 Qa water, re-extracting, drying, and F treatment, this was concentrated to a small spring ear and filtered twice.
Wash with ethyl acetate. Combine the nonwoven products, dry,
Finally, the expected product of 5.1F was isolated.

分析:01.■、、o、w、s 1/4ムcolt =
 36137計算:0囁49.1711%3.851%
22.94夷i1:   49.2   3.7  2
3.05.845fの上で得た生成物を1&5αの乾燥
ジメチルホルムアンドに加えてなる懸濁疲K 1 mの
℃ドラジン本和物を滴下し、屑mii度で20F間か電
型ぜ、19(ILFの水と霊4cMのIN埴駿を加。
Analysis: 01. ■,, o, w, s 1/4 mu colt =
36137 calculation: 0 whisper 49.1711% 3.851%
22.94i1: 49.2 3.7 2
3.05.845F The product obtained above was suspended in 1 & 5α dry dimethyl formand, and 1 m of dorazine hydrate was added dropwise to the suspension, and the mixture was heated at 20F for 20F. 19 (Added ILF's water and spirit 4cM IN Hani Shun.

え為。3の最終−とした俵、混合物を封じ、周囲温度で
一夜かきまぜ続け、次いで生じた7タルヒドラジ、ドを
一過し、水洗し、減圧下に濃縮@罐する。エタノールを
添加し、すり砕き、濃縮1Ellシ、熱メタノールを細
えて溶液となし、濃縮乾−した俵、生成物が晶出する。
For a reason. The final bale of 3 was sealed and the mixture was kept stirring at ambient temperature overnight, then the resulting 7-talhydrazide was filtered off, washed with water, and concentrated under reduced pressure. Add ethanol, triturate, concentrate to 1 liter, reduce to solution with hot methanol, concentrate to dry bales, and the product crystallizes out.

20gCFのメタノールを加え、すり砕き、冷却し、分
離し、冷メタノールで洗い、エーテルで仕上げることK
よって2.49tの所III生成物を2同得た。
Add 20 g CF of methanol, grind, cool, separate, wash with cold methanol and finish with ether.
Therefore, 2.49 t of product III were obtained.

シ)イ署ノアセトア之ド〕−2−オキノアぜチジノー1
−スルホン酸、cis 、 syn 、ラセミ体6.3
tの2−(!−)ηチルア建ノー4−チアyvル>−z
−<2−トリチルアンノエトキシ)4 t / 酢酸s
 syn員性体を40a−の塩化メチレンと1. ! 
4 a−のト呼エチルア々ンに溶解してなる溶液Kl@
IFの塩化トシルを加える。
C) A sign no aceto ano do]-2-okino azechijino 1
-Sulfonic acid, cis, syn, racemate 6.3
t's 2-(!-)η Chiruaken no 4-chia yvru>-z
-<2-tritylamnoethoxy)4 t/acetic acid s
syn member with 40a-methylene chloride and 1. !
4 Solution Kl of a- dissolved in ethyl athane
Add IF tosyl chloride.

4・分周かきまぜた後、15g5rの4−タールメチル
ー3−ア電ノー2−オキソア(テジン埴駿蝮を4・Cの
塩化メチレンと2.4a−のトシエチルア々ンEll解
してなるII波を一度に加え、肩一温度で2時間かきま
ぜ続け、次いで激しくかき重ぜながら水を細えるaデヵ
ンテーシ冒ンし、塩化メチレンて再抽出し、有−榴を乾
燥し、−過し1濃輸乾闘し、その残留物をシ9i1でタ
ーマドグツフィーL(IFl剤:エーテル)た俵、4.
Ifの所間生廁物を得た。mf=&8゜ 工1111.4−り關ルメチル−3−(2−1−)−1
鴫−−1H■−■――雫−−−■−―−−鹸−―■−■
■1−−■−、、、、、、、□い、、、、、□1.ユ、
、、、1.......ユ、1..1.1.□響−−−
謄伽□−□□いりム 4.9fの上記工程で得た生成物、2.、@tのビ!ジ
ンスルフアン及び2sa−のジメチルホルムアミドの混
合物を周間温度で4日周かきまぜる。次・いでこれを5
ooa″のエーテルを含む1tの水に注入する。
4. After stirring for frequency division, 15 g of 5r of 4-talmethyl-3-a-electron-2-oxoa (II wave obtained by dissolving 4-C of methylene chloride and 2.4a- of toethylamine) was prepared. Add all at once and continue stirring at shoulder temperature for 2 hours, then decantate the water while stirring vigorously, re-extract with methylene chloride, dry the filtrate, and add 1 concentrated filtrate. bales of which the residue was treated with Termadogutfi L (IFl agent: ether) with Shi9i1; 4.
If I got a new product from Tokoro. mf=&8゜〜〜1111.4-Rysylmethyl-3-(2-1-)-1
Shizuku--1H ■-■ -- Shizuku --- ■ --- Ken -- ■-■
■1--■-、、、、、、□い、、、、、□1. Yu,
,,,1. .. .. .. .. .. .. Yu, 1. .. 1.1. □Hibiki---
2. The product obtained in the above step of Tsuga□-□□Irimu 4.9f. , @t no bi! The mixture of dinsulfane and 2sa-dimethylformamide is stirred at ambient temperature for 4 days. Next, do this 5
ooa'' of ether in 1 t of water.

不Il物をすり砕き、−過し、エーテルで洗い、乾燥し
、@]fの所間生成物を得た・ 1r=L4(IIl剤 *化メチレン%酢酸エチルーエ
タノール(is−z・−1s))。
The residue was ground, filtered, washed with ether, and dried to give the intermediate product of @]f. 1s)).

33弧の水を含む4意旬のぎ駿KIIiえてなる53f
の上記生成物の懸濁波を125#1155〜藝・℃とす
る。次いで冷却し%3・ωの水で希釈した後、生じたト
リ7エエルカルピノー★を一過し、水洗し、40℃の水
浴で濃縮乾固する・その残留物を2ml水−エタノール
混合物で溶解し、次いで濃縮乾闘し1水を細え1酸性炭
酸ナトリクム飽和水溶疲を−がわずかにアルカリ性とな
るように、1111える。
53f that contains 33 arcs of water
The suspension wave of the above product is 125°C to 1155°C. Then, after cooling and diluting with %3·ω water, the resulting Tri7EelCarpineau* was passed through, washed with water, and concentrated to dryness in a 40°C water bath.The residue was dissolved in 2 ml of a water-ethanol mixture. Then, concentrate and dry to reduce 1 water and add 1 acid sodium carbonate to 1111 so that the saturated water solution becomes slightly alkaline.

不濤物を一過し1水で洗い、21i蝮酸を声を4〜5と
するように加える。結晶化を躇始させ、1時−かき會ぜ
%−過し1水洗し、次いてエーテルで洗った俵、γ・・
岬の所期生成物を得た・分析:C■璽110@N@I裁
C1 計算: 013185 M2S、54 夷II:   3G1  3.8 ジン、5yn 1、527 fの2−(2−)リチルア建ノー4−チア
ゾツル)!−)リチルオキシイ之ノ跡蒙のナトリウム塩
と419q1)@化トシ^を15fflの塩化メチレン
に加えてなる混合物を40分間か會重ぜ、次いで342
qの4−り■ルメチルー3−ア々ノー2−オキツアゼテ
ジン埴駿埴を15旬の塩化メチレンに加えてなる濃液と
o、 s arのトリエチルア窒ンを加える。
Remove any impurities, wash with water, and add 21i chlorinated acid to make the volume 4 to 5. Crystallization was initiated, the bales were stirred for 1 hour, filtered, washed with water, and then washed with ether, γ...
The desired product of the cape was obtained / Analysis: C ■ 110 @ N @ I judgment C1 Calculation: 013185 M2S, 54 Yi II: 3G1 3.8 Gin, 5yn 1, 527 f of 2-(2-) lythyl Kenno 4-Thiazotsuru)! -) A mixture of the sodium salt of lythyloxytinycin and 419q1) in 15 ffl of methylene chloride was mixed for 40 minutes, and then 342
A concentrated solution prepared by adding q's 4-rimethyl-3-arno-2-oxazetedine hanishun to 15 ml of methylene chloride and 0 and sar of triethylanitone are added.

灘舎愉を2時間かきまぜ、本を加え、次いでかきまぜ、
デカンテーシ冒ンしたII−塩化メチレンで再抽出し、
有−稲を乾燥し、次いで一過する。
Stir Nadashayu for 2 hours, add books, then stir.
Re-extracted with decanted II-methylene chloride,
The rice is dried and then allowed to pass.

−液を減圧下に濃縮乾固し、シ9iI″Cクロマトダヲ
フイーする(溶離剤:エーテル)。
- The solution was concentrated to dryness under reduced pressure and chromatographed with 9iI''C (eluent: ether).

接媒を蒸発させた後、73@qの鐘舎物を11jI!す
る。
After evaporating the solvent, the bell tower of 73@q was heated to 11jI! do.

ジン−1−スルホ/酸ビダジニクム 1、241 Fの工程ムにおけるようにして得た生成物
と64・りのビ号ジンスルアアン(ビψジン無本硫酸錨
体)を曝、$勿の乾燥ジメチルホルムア電ドKIIII
してなる接液を屑一温度で4−岡装置す為・ 次いでこれを309atのエーテルに注ぎ、すり砕き一
不−物を一過し与エーテルて洗い、10aFのメタノー
ル中ですり砕き%15分閤動きまぜ、−過し、メタノー
ル、次いでエーテルで洗い、乾燥し、そしてIJ2Fの
所畷生處物を得た。
Zin-1-sulfo/vidazinicum 1,241 The product obtained as in the process of 241F was exposed to 64. Dendo KIII
In order to prepare the wetted liquid in a 4-Oka apparatus at a temperature of 10%, it was ground, poured into 309at of ether, and the impurities were passed through, washed with ether, and ground in 10aF methanol to give a concentration of 15%. The mixture was shaken, filtered, washed with methanol and then ether, and dried to obtain IJ2F raw material.

1.11の上記1薯で得た生成物を9.1fflf)@
・stew細えてなる■濶綾を1s分躇−・℃となす・
例3の1薯Cで記載したように実施することによって1
18岬の1lriI生威物を得た。
9.1fflf) @
・Stew becomes thin ■ Wait for 1 s -・℃・
By carrying out as described in Example 3, 1.C.
Obtained 1lriI product from Cape 18.

セトアンド〕−2−オキソア(チジンー1−XkO0−
15f#)!−(2−)シチルア電ノー4−チアゾ9ル
)−意−メシキシイ建ノ酢酸、gyn員性体、7amの
アセトン及び1L311fの塩化トシルを温合する。2
・℃でS・tHか金型ぜた後、温金物を一過し、0.2
118Fの4−フルオルメチ)h、@−アミノー2−オ
キノアゼチジン埴酸埴、cll、テ廖の塩化メテレy及
びL42ellのト呼エチルア建ンを含有する溶液を加
える・45分開−會まぜ、次いで蒸発乾四した11%水
を加え、1IJllI物を伜書、次いで分層し1ア七ト
ンですり枠金1再び分■する。生成物を酢酸エチル中て
すり砕くことにより精製する。Oo・!!4Fの所間生
成物を得た。
Setoand]-2-oxoa(thidine-1-XkO0-
15f#)! -(2-)Methyl-acetic acid, gyn-membered form, acetone of 7am, and tosyl chloride of 1L311f are heated. 2
・After heating the mold with S・tH at ℃, pass through the hot metal, and 0.2
Add a solution containing 118F of 4-fluoromethyl)h, @-amino-2-oxinoazetidine, cll, methane chloride and L42ell of ethyl chloride, mix for 45 minutes, and then evaporate to dryness. Add 11% water, add 11% water, then divide into layers, grind with 1 ton and divide again into 1 layer. The product is purified by trituration in ethyl acetate. Oo・! ! An intermediate product of 4F was obtained.

分 析 :   0tsM+n0sNslF   S4
L@2計算! 01@t07MIG4.ll2M修11
8111’ji5.’)01%B、49夷濶: ・4.
・  41  114   SJ   &4甑[1fの
工■ムて得た生成物1・411Fのビψジンスルアアン
及び4.ICのジメチルホルムアンドの温金物を20℃
″c8畠時陶か電型f易。
Analysis: 0tsM+n0sNslF S4
L@2 calculation! 01@t07MIG4. ll2M Shu11
8111'ji5. ')01%B, 49夷濶: ・4.
・ 41 114 SJ & 4 Koshiki [Product obtained by the process of 1f 1・411F's bijinsuruaan and 4. IC dimethylformand hot metal at 20℃
``c8 Hatake Tokito or Denka fyi.

凍いてこれを2・OCのエーテ★に注ぎ1生威物を驚l
し、メタノールを加え、次いでかきまぜ、得られた4k
II&物を分離し、乾燥することによって0.473 
Fの所S生成物を得た。
Freeze it and pour it on 2・OC's Ete★ to surprise 1 living creature.
Add methanol and stir, resulting in 4k
II & 0.473 by separating and drying
At F, S product was obtained.

b)ml)エチル ・、47・Vの上で得た生成物を33−の本を會む1.
87m6flllHC■濁させ、5トl・℃に5分周、
次いて1Φ’CE13分閤加熱し、さらに1.2my 
f)g酸を細え、次いて再び70’CK15分関加1す
為。意・℃に冷却し、r道した後、P液にエタノールを
細え−次いで濃縮tgするOそのIIIF物に水とエタ
ノールを加え1再び濃縮乾−する・その残留物を水El
l解し%1. 曝ffiの10−重炭酸す)9?ムを加
える・V通し12M塩酸を細えて−2とし、水を蒸発さ
せ、その残留物を水ですり砕き%−過し、水洗し、次い
でエーテルて洗い一乾燥した後、6.14・fの所間生
成物を得た・縦(分解を伴う)−:240℃・ 分析 :  C3・II凰冨0@N、g鵞?  =  
3811@計算 :  0S31.50f13.171
s11L31111101 mF%4jl夷濶:   
SIJ   31  1ts   1@、5   Ll
l)■−メチルーM−メトキタフルオルアセトアイド 21.2f#)*化フにオルアーチルと12・1の塩化
メチレンを混会し、不活性ガス’FK+S℃に冷却し、
温度を20℃以下に保ちながらIOgのメトキシメチル
ア書ンをゆっくりと導入し−次いで全体を20℃で2時
間かきまぜる。−遍し、薯謀を減圧下に追出し、残留物
を減圧蒸留したll−30,滲fの所間生成物を得た。
b) ml) Ethyl, 47.V.
87 m 6 full HC ■ turbid, heated to 5 liters °C for 5 minutes,
Next, heat for 1Φ'CE for 13 minutes, and further heat for 1.2 my
f) Reduce the g acid and then add again 70'CK for 15 minutes.・After cooling to ℃ and heating, add ethanol to the P solution and then concentrate.Add water and ethanol to the IIIF product and concentrate and dry again.
I understand %1. 10-bicarbonate of exposureffi) 9? Add 12M hydrochloric acid through V to make -2, evaporate the water, grind the residue with water, filter, wash with water, then wash with ether and dry, then add 6.14.f A product was obtained at a temperature of 240°C (with decomposition).Analysis: C3/II 0@N, g? =
3811 @ calculation: 0S31.50f13.171
s11L31111101 mF%4jl夷濶:
SIJ 31 1ts 1@, 5 Ll
l) ■-Methyl-M-methokitafluoroacetoid 21.2f #) * Mix fluoride with oleacyl and 12.1 methylene chloride, cool to inert gas 'FK + S °C,
IOg of methoxymethyl acetate is slowly introduced while keeping the temperature below 20°C - the whole is then stirred at 20°C for 2 hours. - The mixture was then expelled under reduced pressure, and the residue was distilled under reduced pressure to obtain intermediate products of 11-30 and 30,000 ml.

1P*a= 93℃02)フルオルアセトアルデヒド水
和物 7.8fの上記工程で得た生成物を133ωのテトツヒ
ドvm79ylc@解り、、 0〜+2”CK冷却し、
74a!の水素化ジイソブチルアル宅ニウムのIMヘキ
ナンS値をゆつ(りと導入する。温度を周囲濃度にゆっ
くりと真し、28勿の濃塩酸と11mの本との拠金物に
冷却しながら注ぎ、かき重ぜ、次いで大気圧Tに1iI
Fした俵、38Cの生成物(水で希釈書れティる)を得
た( IP= 7!!−166、!1℃) S)4−フルオルメチル−3−7タルイ建ドー2−オ命
ノー1−(1−フェニルエチy)アゼチジ/% clg ・・ωの上記工11におけるようKして得た筒筐を1・
・勿の本で希釈する。これを水浴中でIs分間冷却し、
次いでtS−の1)Lσ−7エエルエチルアセンを細え
、10f関かきまぜ、デ遥−し、水洗し、次いで13・
鐙の塩化メチレンをP液に加える0梶合物を完全に溶解
するまで加熱還流し一デカンテーシNぺし、畜機輻を乾
燥し、次いで不活性ガス丁に一50℃に冷却する◎60
ayの塩化メチレンに溶解した154Fの埴化ツタルイ
建ドアセチルと塩化メチレンに溶解した10.4a−の
トリエチルアiンをゆっくりと加える。温度をかきまぜ
ながら1時間で20℃に戻す・25ayf)10−重炭
酸ナトリウムと60旬の水を加え、次いでかき重ぜ、デ
カンテーシ璽ンし、塩化メチレンで抽出し%IFIII
を−IIIにし、乾燥し一漉纏乾一し、残留物を79力
でクーマトダラフイーし、lO襲のエチルエーテルを含
む塩化メチレyで濤−することKよって137fの所間
生虜物を得た。
1P*a=93℃02) The product obtained in the above step of fluoroacetaldehyde hydrate 7.8f is cooled to 133ω tetrohydride vm79ylc@understanding, 0~+2''CK,
74a! Slowly introduce the IM hequinane S value of diisobutylaluminum hydride of 100 ml. Slowly bring the temperature to ambient concentration and pour with cooling into a solution of 28 molar concentrated hydrochloric acid and 11 molar reactor. Stir, then 1iI to atmospheric pressure T
A product of 38C (diluted with water) was obtained (IP = 7!!-166, !1℃). 1-(1-phenylethyl)azetidi/% clg ..The cylindrical casing obtained by K as in step 11 above for ω is 1.
- Dilute with a book. This was cooled in a water bath for Is minutes,
Next, 1) Lσ-7 ethyl acene of tS- was reduced, stirred at 10 f, dried, washed with water, and then 13.
Add methylene chloride in the stirrup to the P solution.Heat and reflux the mixture until it is completely dissolved. Dry the livestock rack for 1 decantation, then cool to -50°C in an inert gas oven.◎60
Slowly add 154F acetyl trichloride dissolved in methylene chloride and 10.4a triethylamine dissolved in methylene chloride. While stirring, return the temperature to 20°C in 1 hour.25ayf) Add 10-sodium bicarbonate and 60% water, then stir, decant, and extract with methylene chloride to yield %IFIII.
137f. I got it.

%@ : O*eMsyOaN*F = 3!!137
計算: 0168.17 H%4.811 f17Jj
s F’jG5.31夷濶:   @L!   4.1
  7.8  !L64)4−フルオルメチ#−3−7
タルイ建ドー2−オ中ソアイチジン、cis、ラセミ体
117tの上記工■で得た生成物を鵞OO衡のアセト=
 ) 9 #K1m1解し、1sORの水を加える。
%@: O*eMsyOaN*F = 3! ! 137
Calculation: 0168.17 H%4.811 f17Jj
s F'jG5.31 Yiyang: @L! 4.1
7.8! L64) 4-fluoromethi #-3-7
The product obtained in the above process (2) of 117t of racemic body of soaitidine, cis, and 2-O-2-O was added to the acetate of
) 9 #Dissolve 1ml of K and add 1sOR of water.

滉舎物を還流させ、次いで212tの遥硫濠アン4 a
c ?ムをs2wの水に溶解してなる溶液を15分間で
導入し〜全体を1時$1125分還流し続ける。
The waste was refluxed, and then the 212t long sulphurous moat Anne 4a
c? A solution prepared by dissolving 2W of water in s2W of water was introduced over a period of 15 minutes, and the whole was kept under reflux for 1 hour and 1125 minutes.

次いでこれを冷却し1塩化ナトリウムを飽和させ、デカ
ンテーシ■yル、塩化ナトリウム飽和水II液で洗い、
酢酸エチルで再抽出し、有III相を−111にし、乾
燥し、接媒を111発させる。残留物をシリカでりν!
トダラフイーシ、塩化メチレンと酢酸エチ)(7!−2
5)11合物でm1ll L 、得られた結晶をエチル
エーテルで洗い、9.75@fの所II生成物を得た。
Next, it was cooled, saturated with sodium monochloride, decanted, washed with sodium chloride saturated water II solution,
Re-extract with ethyl acetate, bring phase III to -111, dry and evaporate solvent to 111. Remove the residue with silica!
Todara fish, methylene chloride and ethyl acetate) (7!-2
5) The obtained crystals were washed with ethyl ether to give 9.75@f of product II.

11スベク) # (OIIOIm) 841 @ ai’ (−)[H)、1790.177
0及び1721!im−”(OxO/−9り)A及び7
タルイセド)の吸収 B)4−7Jkl#ルメチル−3−ア建ノー2−オキソ
ア(チジンIMWII#1s cigl、24tl)上
記工程で得た生成物を1.!−のジオキナンに■濁さ曽
、次いt”lccのヒドラジン水和物を2・Cのジオキ
ナンKfIII解してなるS波を加える・これをjIW
i温度で4s分岡保ち1次いで5CのINI[酸を加え
、傘体を15−開か會tザ続ける0次いでこれを濃−乾
固し、氷とtSSのINI酸を細見、かきまぜ、次いで
f過する。r#1にエタノールを加え、次いで濃縮乾固
する。a質物にメタノール、次いでエタノールを加え1
再び濃−乾固する。結晶をメタノールから再結晶する・ 0.391fの所1a!生成物を得た。
11 Subek) # (OIIOIm) 841 @ ai' (-) [H), 1790.177
0 and 1721! im-” (OxO/-9ri) A and 7
B) Absorption of 4-7Jkl #Methyl-3-Adeno-2-Oxoa (Tidine IMWII #1s cigl, 24tl) The product obtained in the above step was absorbed in 1. ! - To the dioquinane, add turbidity, then add S wave formed by decomposing hydrazine hydrate of t"lcc to dioquinane KfIII of 2.C. Add this to jIW
Hold at temperature for 4s. Then add 5C of INI [acid, open the canopy for 15 minutes and continue to heat. Then concentrate to dryness, add ice and INI acid of tSS, stir, then f pass Add ethanol to r#1 and then concentrate to dryness. Add methanol and then ethanol to the a substance and add 1
Concentrate and dry again. Recrystallize the crystals from methanol・1a at 0.391f! The product was obtained.

MP(分解)=220℃。MP (decomposition) = 220°C.

(!ia s j17n sラセミ体 ・、611の2−(2−)リチルア建ノー4−チアゾリ
ル)−4−(1−1−ブトキシカルブニル−1−メチル
エトキシ)イオノ酢酸5ynJl性体、5aのア七トン
及び6.17m”のトリエチルアミンを混合し−次いt
”o、12@rの塩化トシルを加え、暴・分間かきまぜ
SP通し、0.158f#)4−フルオルメチル−3−
ア々ノー2−オキソア(チジン壊酸111 ei#をs
aFの塩化メチレンに湊解してなる11液と6SK”の
トリエチルアミンを一波にかきまぜながら加える。20
℃で5s分間かき會ぜた後、II媒をIIJIさせvI
Ii化メチレンと水を加え、!#f)1・襲重炭酸す)
91)ムをか自重ぜながら細える。デカンテーン璽ンし
、塩化メチレンで袖幽した後、有−顧を一纏にし、乾燥
し、漉纏乾−す為、残留物をシリカでり四!トゲラフイ
ーし、エチルエーテルで@IIL、0.l113Fの所
期生成物を得た。       、 #1M時に層いたチアゾール化合物はフランス關時許#
 !、 421.・・6号に記載されている。
(!ia s j17n s racemic form, 2-(2-)richyl-4-thiazolyl)-4-(1-1-butoxycarbunyl-1-methylethoxy)ionoacetic acid 5ynJl form of 611, 5a of Mix 7 tons and 6.17 m'' of triethylamine - then t
Add 12@r of tosyl chloride, stir vigorously for minutes, pass through SP, 0.158 f#) 4-fluoromethyl-3-
Arano 2-oxoa (tidine cleavage acid 111 ei #s
Add 11 liquid obtained by dissolving aF in methylene chloride and 6SK" triethylamine in one wave while stirring. 20
After stirring at ℃ for 5 s, medium II was mixed with vI
Add methylene II and water! #f) 1. Assault bicarbonate)
91) Slimming down while weighing down. After decanting and rinsing with methylene chloride, the mixture was rolled up into a bundle, dried, and the residue was washed with silica to dry it. Sprinkle with ethyl ether @IIL, 0. The expected product of 1113F was obtained. , The thiazole compound layered at #1M was manufactured by France.
! , 421. ...described in No. 6.

ア建ノー4−チアゾリル)−2−(1−カルIキ工程ム
で得た生成物とossrのピリジンスルフアンを31C
のジメチル本ルムア建ドEll解する・ これを20℃で62時間かきまぜ、水に注t。
The product obtained in the 4-thiazolyl)-2-(1-cal I reaction system and the pyridine sulfane of ossr were combined at 31C
This dimethyl solution is mixed at 20°C for 62 hours and then poured into water.

かきまぜ、分離し−得られた沈巌を乾燥し%051魯−
の所期生成物を得た・ b)嵐ト雫チル 上記工程で得た生成物を1lffif))呼アルオル酢
酸に濠解し%!O’CKIS分保ち、次いで2−旬のイ
ソプービルエーテ慶な纏え、全体を一過する。生成物を
酢酸エチル中で15分関す9砕會、f遥し一乾燥し、、
11次い!生成物を1a−010−重炭酸ナト9?ムを
含む少量の水K11l解し、再び一過し、PillK!
夏塩酸を一意となるまで加え、再  。
Stir, separate, and dry the resulting simmering radish.
The desired product was obtained. b) The product obtained in the above step was dissolved in 1lffif)) dichloroacetic acid. O'CKIS is maintained, and then the second season's isopouvir ete is well-organized, and the whole thing is passed through. The product was triturated in ethyl acetate for 15 minutes, dried, and
11th time! The product is 1a-010-natobicarbonate9? Dissolve a small amount of water containing 11 liters of water, let it pass again, and then PillK!
Add summer hydrochloric acid until uniform and re-add.

び−遍し、水b−躯をIIJIさせ、次いで冷却し、結
晶を分1し、エーテルで洗い、0.0*4fの所II生
處物を得た。
The water mixture was immersed in water, then cooled, and the crystals were separated and washed with ether to obtain 0.0*4 f.

W(分解)ユ230℃0 鴫スベタトル(]*10 : 90 dig )1.5
 ppH(CIIIB ) s 178〜4.84 p
pIII (Ha及び細雪1)、522−5.2’!−
5,32及び5.371)I)11(〜4)、L81p
pml(IIsチアゾ−+gyn)、121及びL l
 1 ppm (WHOO)のピーク3.1参fの!−
(2−)リチルア々ノー4−チアゾリル)−2−メトキ
シイミノ酢酸、gyn員性体を59810郷化メチレン
に畷濁させる。かきまぜながらICの)リエチルア電ン
、次いで1.38fの塩化トシルを加える0全体を周囲
温度で400分間きまぜ続け、次いで1.1 @ ! 
Fの4−チアシアナトメチル−3−アミノ−2−オキソ
ア(チジン塩酸aimを40Cの塩化メチレンに濤解し
てなるS縦と2旬のトリエチルアミンを5分間で加える
。この混合物を4時間かきまぜ続け、水洗し、次いで4
のの1M塩酸を含有する水で洗い、乾燥し、濃縮乾固す
る。残留物を酢酸エチ)KIFIFL。
W (decomposition) Yu 230℃ 0 Shizubetatle (]*10: 90 dig) 1.5
ppH (CIIIB) s 178-4.84 p
pIII (Ha and Saiyuki 1), 522-5.2'! −
5,32 and 5.371) I) 11(~4), L81p
pml (IIs thiazo-+gyn), 121 and L l
1 ppm (WHOO) peak 3.1 f! −
(2-)Rythyl ano-4-thiazolyl)-2-methoxyiminoacetic acid, gyn-membered form, is suspended in 59810 methylene. of IC) while stirring, then add 1.38f tosyl chloride 0 Continue stirring the whole at ambient temperature for 400 minutes, then 1.1 @!
Add 4-thiacyanatomethyl-3-amino-2-oxoa (triethylamine prepared by dissolving thidine hydrochloride aim in 40C methylene chloride) over 5 minutes. Stir this mixture for 4 hours. Continue washing with water, then 4
Wash with water containing 1M hydrochloric acid, dry, and concentrate to dryness. The residue was purified with ethyl acetate (KIFIFL).

冷却しS&威した結晶を分離し、メタノールで洗い、乾
燥し、0.701Fの所期生成物を得た。母液をms乾
−させ、残留物v1/リカでターマトダッフイーし、り
aロホルムとメタノールとの混合物(83−7)C’濤
離し、さらに1.0@Ifの所m生成物を得た。
The cooled, S&sol; crystals were separated, washed with methanol, and dried to yield the desired product at 0.701F. The mother liquor was dried for ms, the residue was termatized with v1/lica, and a mixture of lyroform and methanol (83-7)C' was distilled off to give m product at 1.0@If. .

亀)スルホン酸ビリジニク五の取得 1.7fの工程ムで得た生成物、12ωのジメチルネル
ムア宅ド及び1.1・tのピリジンスルファ/の混合物
を20℃で10時間かき亥ぜる。次いでこれをエーテル
中kかきまぜながら注ぎ1生じた沈殿をメタノールで濤
解し、冷却し、次いで結晶を分離し、6544fの所期
生成物2@で得た0b)li)リチル 41のSSSの水を會むぎ駿を6O’CK加熱し、次い
で東421の上で得た生成物を加え、全体な優・℃て鵞
・間両かきまぜる。20℃に冷却した後、49myのエ
チルエーテルなO〜+5℃で1時開か金倉ぜながら加え
る。沈殿を分離し、エチルエーテルで洗い、6.1m重
炭酸ナトツク入水濠液ですり砕く。C過したlI%P液
をIM壌駿により−2まで酸性化し、冷却し、生じた結
晶を分離す為、これを水洗し、乾燥し、6.28’lt
の所期生成物を得t。MP(分解) z 2 @ S 
IC。
Turtle) Obtaining Viridinic Sulfonate A mixture of the product obtained in Step 1.7f, 12ω of dimethyl chloride, and 1.1·t of pyridine sulfur is stirred at 20°C for 10 hours. . This was then poured into ether with stirring.1 The resulting precipitate was dissolved with methanol, cooled, and the crystals were then separated to give the desired product of 6544f. Heat the barley to 60°C, then add the product obtained above and stir until the mixture reaches 100°C. After cooling to 20° C., 49 my of ethyl ether was added at 0 to +5° C. for 1 hour while stirring. Separate the precipitate, wash with ethyl ether, and triturate with 6.1 m bicarbonate of water. The C-filtered 1I%P solution was acidified to -2 with IM oil, cooled, and the resulting crystals were washed with water and dried to obtain 6.28'lt.
The desired product was obtained. MP (decomposition) z 2 @ S
I.C.

+11t : o、1x1.w・O・1. (430,
54)計算:0襲!11.4211−2.88 N%1
1199應−2288実測:  31.2   B、2
19.7  22.64−チオシアナトメチJIy−3
−アきノー2−オキソ26.5Fの4−り隨羨メチに−
3−フタルイ建ドー2−オキソアゼチジン、 eiJt
%30fのよう化ナトリウム及び80Cのジメチル本ル
ムア擢ドを混合し、2時間120℃となし、次いで冷却
し、800ωの水と10Lal’の酢酸エチルとの混合
物中にかt!まぜながら注ぐ、生じた結晶なデ過し、水
洗し、次いで酢酸エチルにより無色になるまで、最俵に
エチルエーテルで洗う。母液を溶解し一デカンテーシM
/し、有儂槓を乾燥し、濃縮乾■し、酢酸エチルで溶解
し、−過し、酢酸エチルで洗い、乾燥する。これKより
214 Fの所期生成物を二同で得た。
+11t: o, 1x1. w・O・1. (430,
54) Calculation: 0 attack! 11.4211-2.88 N%1
1199㇉-2288 actual measurement: 31.2 B, 2
19.7 22.64-Thiocyanatomethyl JIy-3
-Akino 2-Oxo 26.5F 4-I'm so jealous-
3-phthalide-2-oxoazetidine, eiJt
% 30f of sodium iodide and 80C of dimethyl chloride were mixed and brought to 120°C for 2 hours, then cooled and poured into a mixture of 800Ω of water and 10L of ethyl acetate. Pour while stirring, filter out the crystals that form, wash with water, then wash with ethyl ether until colorless with ethyl acetate. Dissolve the mother liquor and add one decant
/Then, dry the turmeric, concentrate to dryness, dissolve in ethyl acetate, filter, wash with ethyl acetate, and dry. Two desired products of 214 F were obtained from this K.

1、78 tの上で得た生成物とz釦のジメチルホルム
アζドとの混合物をかきまぜながら15℃となし、次い
で1.5tのチオシアン酸カリクムを3時1sse分か
きまぜながら加える。水に注いだ蓑、沈謄ヲ牙離し、水
洗し、乾燥する。次いでこれを熱イソプ胃ビ★エーテ羨
中ですり砕き、分離し、乾燥する。1.2SPの所期生
成物を得た。
The mixture of the product obtained above and dimethylformamide in the Z button was brought to 15° C. with stirring, and then 1.5 t of potassium thiocyanate was added with stirring for 3:01 sse. Pour the mino into water, remove it, wash it with water, and dry it. This is then ground in a hot sieve, separated and dried. 1.2 SP of the expected product was obtained.

1.41Fの上記工程て得た生成物をl5seの熱ジオ
キtンと温合し、次いで冷却し、0.3田のとドラジン
水和物を20℃で50分間にゎたりか會重ぜながらゆっ
くりと加える。次いで7.5旬の1M埴駿を加え、全体
を15時筒かきtfllけ1沈謄を分離し、水流する。
The product obtained from the above step at 1.41 F was warmed with l5se of hot dioxidant, then cooled and combined with 0.3 ml of dorazine hydrate at 20° C. for 50 minutes. Add slowly. Next, add 7.5-season 1M Hanishun, stir the whole thing for 15 hours, separate 1 drop, and rinse with water.

P液をとり、蒸発乾固す為a6.自14Fの所期生成物
を得た。
Take the P solution and evaporate it to dryness a6. The desired product of 14F was obtained.

オルメトd&’4<−ノアセトア々ド〕−2−オ!ノア
(チジン、aim、ayn 、ラセミ体0.914ff
)2−(2−ト9fkli7−4−チアゾリル)ジフル
オルメト中ジイミノ酢酸Nayn JQ性体、7crの
7竜シン及び0..25L−のFリエチル7(ンを混合
し、次いで&339 Fの塩化トシルな50分間でかき
まぜながら加える。次いで0.23Fの4−フルオルメ
チル−3−アンノー2−オ今ソア(テジン塩酸埴c1虐
な7a″の塩化メチレンecIF解してなる漆液と(L
45111!Fのトリエチルア々ンをかきまぜながら1
時5sSO分で纏える。
Ormet d&'4<-Noaceto-Ado]-2-O! Noah (chijin, aim, ayn, racemic body 0.914ff
) 2-(2-t9fkli7-4-thiazolyl)difluorometho diiminoacetic acid Nayn JQ form, 7cr 7ryushin and 0. .. Mix 25 L of ethyl chloride and then add 339 F of tosyl chloride with stirring for 50 minutes. Then add 0.23 F of 4-fluoromethyl-3-anno-2-oxychloride (Tejin hydrochloride) with stirring. 7a'' methylene chloride ecIF solution and (L
45111! While stirring the triethylamine in F.
It can be completed in 5 seconds SO.

溶媒なaimさせ、塩化メチレンと本な加え、次いで3
m”の101重脚酸ナトリウムでかきまぜながら加える
。デカンテーシ冒2L、水性相を塩化メチレンで抽出し
%ill相を−JI K L %溶媒を漸脅させ、!1
fII物をエタノールで溶解し、冷却し、結晶を分離し
、これをエタノール、次いでニーチルで洗い、乾燥した
俵%O,5S7fの所m生成物を得た。
Aim the solvent, add methylene chloride, then add 3
Add with stirring 101 m of sodium bipodate. Decant 2 L, extract the aqueous phase with methylene chloride and gradually remove 10% of the phase with -JI K L % of the solvent.
The fII product was dissolved in ethanol, cooled, and the crystals were separated and washed with ethanol and then with nityl to give a dry bale of %O, 5S7f product.

±!イ々ノーーk)7(上 −z−オキソアゼνa)ス
ルホン駿ビリジエクムの取得 工程ムで得た生成物と0.37fのビリジンス★7アン
を3.75?のジメチルホルムアンドに溶解すゐ。その
滴液を20℃で72時間かきまぜ、150aのエーテル
に注ぎ、−過し、エーテルで洗い、生成物をエタノール
Kll解する。かきまぜ、生じた着晶を一過し、エチル
エーテルで洗い、乾燥しに’s 6.504fの所期生
成物を得た。
±! 3.75? Dissolved in dimethylformand. The droplets are stirred for 72 hours at 20 DEG C., poured into 150 ml of ether, filtered and washed with ether, and the product is dissolved in ethanol. After stirring, the resulting crystallization was filtered off, washed with ethyl ether, and dried to give the desired product with a weight of 6.504 f.

b)11)リチル 6、76 fの上で得た生成物を4釦の33≦の水を禽
むぜ酸と混会す為。この混合物を60’Cで15分聞か
會まぜ、水で希釈し、濾過し、P液にエタノールな細え
、乾固させ、水とエタノールとの混合物でIIIFL、
、再びI!闘させ、水で―解し、2m’の10−重炭酸
ナトリクムを加える。不溶物を一過し、2M埴酸を接液
に加えてl4(2となし、次いでこれを漉−し、結晶化
させる。結晶を一過し、水洗し、エチルエーテルで洗い
、を燥り、6.312fの所期生成物を得た@ 分析:01・■8.0・N、g童18 針算:0%28.78 H%2A111%16.781
1137567%15J6夷jll:  28j   
2j   16s134  15.4)Q[lスヘク)
#(DWO) I 6M1x4.39及び4.941)
pEm (−on、−y) ノピーク、5.21−5.
26−5.3及び5.35 pp鳳(lI3cig)の
ピーク、6.38−7.15及び7.1$3 pP!1
1 (−0HF、) ノピーク7.01pp鳳(IIs
チアゾール)のピーク、9.66及びil、76pp鳳
(−0ONN )のビータ。
b) 11) Rityl 6, 76 To mix the product obtained above with 4 buttons of 33≦ water and mint acid. The mixture was stirred at 60'C for 15 minutes, diluted with water, filtered, diluted with ethanol to the P solution, dried and washed with IIIFL in a mixture of water and ethanol.
, I again! Mix, dissolve with water and add 2 m' of 10-sodium bicarbonate. Insoluble matter is filtered out, 2M citric acid is added to the wetted solution to obtain 14 (2), which is then filtered and crystallized. The crystals are filtered out, washed with water, washed with ethyl ether, and dried. , the desired product of 6.312f was obtained @ Analysis: 01・■8.0・N, g child 18 Calculation: 0%28.78 H%2A111%16.781
1137567%15J6夷jll: 28j
2j 16s134 15.4) Q [l shek)
#(DWO) I 6M1x4.39 and 4.941)
pEm (-on, -y) Nopeak, 5.21-5.
26-5.3 and 5.35 pp Otori (lI3cig) peaks, 6.38-7.15 and 7.1$3 pP! 1
1 (-0HF,) Nopeak 7.01pp Otori (IIs
thiazole) peak, 9.66 and il, 76pp Otori (-0ONN) beater.

11スペクトル(OHOI、) 1770al−” (0xOI−ラクタム)、1@7s
m−”(アンド)、1640gm5″″1(アンド1)
、1585dll(共役系)、1530 am−” (
97ソール) 、12 @ 1−1276 am−’ 
(−10111)、1 e) 52cm−’ (−0−
X−O−)の吸収 ルホン駿s C1l s 87n sラセを体工―ム:
4−フルオルメチル−3−C2−C2−&Ie@f#)
!−(2−)リチ、v7tノー4−チアシリk)−意一
ト亨チルオキシイ々ノ酢駿gyn異性体、1geのア七
トン及び0.17a−のトシエチルア擢ンを温会し〜次
いで0.22@fの塩化トシルを加える。この混合物を
1時開かきまぜ、次いでSaの塩化メチレンに溶解した
6、155Fの4−ツルオルメチル−3−ア電ノー!−
オキソア(テジン埴駿埴と611!f))リエチルア着
ンを纏え、2・分間かきまぜる。再び塩化メチレンを纏
え、さらに1時同30分かきまぜ、乾固し、塩化メチレ
ンと水を加え、かきまぜ、デカンテーシ冒ンし、盲嶺輻
を乾燥し、溶媒をl[JIさ曽、残IF物を1/シカで
夕W!トダラフイーし、エチルエーテルて壊■した後%
o、5ssrの所間生成物を得たO アミノ−4−チアゾリル)−2−ヒドーキシイ宿龜)ス
★ホン酸ビリジエク真の禦得 例4の工Ii1に示すように爽施し、上記工程ムで得た
生成物より出発して、所間生成物を得た。
11 spectrum (OHOI,) 1770al-” (0xOI-lactam), 1@7s
m-" (and), 1640gm5""1 (and1)
, 1585dll (conjugated system), 1530 am-” (
97 Sole), 12 @ 1-1276 am-'
(-10111), 1 e) 52cm-' (-0-
Absorption of X-O-
4-Fluoromethyl-3-C2-C2-&Ie@f#)
! -(2-)rich, v7t, 4-thiashilik) - one methyloxyisogin isomer, 1ge of acetate and 0.17a- of tosethylamine are warmed and then 0. Add 22@f tosyl chloride. This mixture was stirred for 1 hour, then 6,155F dissolved in methylene chloride of Sa was added to 4-toluomethyl-3-adenano! −
Add oxoa (Taejin Hanjuncho and 611!f)) and stir for 2 minutes. Add methylene chloride again, stir for 1 hour and 30 minutes to dryness, add methylene chloride and water, stir, decantate, dry the blind ridge, and remove the solvent. 1/Evening with deer! After mixing with Todarafi and breaking with ethyl ether%
o, 5ssr of intermediate product was obtained. Starting from the product obtained, an intermediate product was obtained.

b)脱)リテル 1114の工Ii1に示すように実施し、上記工程で得
た生成物より出発して、所璽生虜物を得た・SI−の水
を含む1secのタールア竜トアルデにド水11物をS
・Cの水に連鋳する。この筒筐をかき會ぜ、28に−の
(イ)(l−7エエル)エテルアミノをe〜+5℃で加
える。6分周かき會ぜた後、沈殿を分離し、水洗する。
b) Removal) Process of Littel 1114 was carried out as shown in Ii1, and starting from the product obtained in the above step, a raw material was obtained. Water 11 things S
・Continuously cast in C water. Stir the tube and add (a) (l-7 ether) eteramino to 28 at e~+5°C. After stirring for 6 minutes, the precipitate was separated and washed with water.

沈殿を塩化メチレンと夕pμホルムとの混合物により1
1解し、乾燥す為・II波を不活性ガスを一50″Cm
冷却し1次いで4.stの7タルイ建ド酢酸クロリドを
2s■の塩化メチレフに溶解したもの及び2,74al
−のトリエチルアミンを20mの塩化メチレンK11l
解してな為ものをゆっくりと岡−に加える。濃度を上昇
させ、2時間30分か會まぜ続け一水と重炭酸ナト9?
ムとの温舎物に注ぎ、クールホルムで抽出し、乾燥し、
溶媒を蒸発さ曽た後、残留物をエタノール″t’1ll
lt、た。不薯物を一過し、エタノールと塩化メチレン
との混合物で洗う・C波をとり、濡愉慶でJIIIL、
濃縮さ曽−結晶化させる・二層で1.364tの縮重を
得た・母液をとり一シリカでターマトダツフイーし、り
襲−ホルムと酢酸エチルとの漉会物(S−Z)で溶離す
る。1.5 II Fの紬晶を得た。金体″cLf14
4tの所III生成物を得た。これは単一のジアステレ
オマーから璃る。
The precipitate was dissolved in a mixture of methylene chloride and pμform.
1. To dissolve and dry - II wave inert gas at -50"Cm
Cool 1 then 4. A solution of st 7-tallic acid chloride in 2s methylene chloride and 2,74al
- triethylamine to 20m methylene chloride K11l
Once you understand it, slowly add it to the hole. Increase the concentration and continue mixing for 2 hours and 30 minutes with 1 part water and 9 parts sodium bicarbonate.
Pour it into a warm room with a glass of water, extract it with cool form, dry it,
After evaporating the solvent, the residue was dissolved in 1 liter of ethanol.
lt,ta. Pass through the intestines, wash with a mixture of ethanol and methylene chloride, remove the C wave, and rinse with JIIIL.
Condensed - Crystallized - Obtained a degeneracy of 1.364t in two layers - Take the mother liquor and terminate it with silica, then recombine - Strain mixture of form and ethyl acetate (S-Z) Elute with A pongee crystal of 1.5 II F was obtained. Gold body “cLf14
4t of product III was obtained. It consists of a single diastereomer.

・3tの工穣ムで得た生成物を2旬のア竜ト二)lルと
墨会し、か金倉ぜながら會0A−會z℃とする◎010
2fの過硫酸アン毫ニウムを2Cの水Kll解してなる
溶液をゆっくりと加え、1時間4s分かきまぜ、次いで
水に注ぎ、酢酸エチ★で抽出し、有−相をチオ硫酸ナト
リウム水ill液で洗い、乾燥し1濤媒をm尭さ曽て、
o、Os@rの断端生成物を得た。α、=+10.5@
±1@(aaolm)、)[p−172℃0 例えば偶i、2s 4又は5で記載したように合成を続
は為ことによって、式(1)Ell!!iす為光学活性
化金物を得た。
・Meet the product obtained from the 3 tons of engineering with the second season of Aryu Tojiru, and have a meeting with Kanakura at 0A-010 ◎010
A solution prepared by dissolving 2F of ammonium persulfate in 2C of water was slowly added, stirred for 1 hour and 4 seconds, then poured into water, extracted with ethyl acetate, and the organic phase was dissolved in sodium thiosulfate. Wash it with water, dry it, and soak it with one drop of detergent.
o, a stump product of Os@r was obtained. α, = +10.5@
±1@(aaolm), )[p-172℃0 For example, even i, 2s By continuing the synthesis as described in 4 or 5, equation (1) Ell! ! An optically activated metal article was obtained for i.

何11:・L!ii!L8111− 下記の処方を有する注射眉纒剤を調製した。What 11:・L! ii! L8111- An injectable anti-brow agent having the following formulation was prepared.

4轡ツルオルメチ)Iy−3−〔2−(2−アンノー4
−チアゾVル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−
2−オキソアゼチジン−1−スルホl′酸、C1# %
 s7n sラセミ体−−−−500q−曹本性補―剤
 −−−−−−−−一−−−−−5m−1ユ」:皇グj
量− 下記の処方に相当するカプセルを調製した。
4轡Tsururuormechi) Iy-3-[2-(2-Anno 4
-ThiazoVru)-2-methoxyiminoacetamide]-
2-oxoazetidine-1-sulfolic acid, C1#%
s7n s racemic body----500q-carbonaceous supplement----1----5m-1yu'': Koguj
Amount - Capsules were prepared corresponding to the following formulation.

4−フルオルメチル−3−(!−(!−アミノー4−チ
アゾリル)−2−メトキシイミノアセトアミド〕−2−
オキソアゼチジン−1−スル傘ン酸、cis s gi
n sラセミ体−−−−2504補駒剤−−−−−1カ
プセル400”Fとするに十分な量−達の試験管を用意
し、これらに同量づつの無菌栄養培地を分注す為。それ
fれの試験管に、試験すぺ金化合物の量を増加させなが
ら分配し、次いでそれヤれの試験管vcall菌株を接
種する・37℃のオープン^て24時Mまたは48時間
培養したaS増殖抑止を履法によって評価する。
4-fluoromethyl-3-(!-(!-amino-4-thiazolyl)-2-methoxyiminoacetamide]-2-
Oxoazetidine-1-sulfanoic acid, cis s gi
Prepare test tubes containing enough ns racemic 2504 supplement to make 1 capsule 400"F, and dispense the same amount of sterile nutrient medium into each tube. Dispense increasing amounts of the test compound into separate test tubes, then inoculate each test tube with the vcall strain.Incubate at 37°C for 24 hours or 48 hours. The suppression of aS proliferation will be evaluated by the following method.

この方決6czれば、最少抑止濃度(M、 1.0. 
)(fit/yalで褒わす)を濶庫することができる
If this option is 6cz, the minimum inhibitory concentration (M, 1.0.
) (reward with fit/yal).

以下の結果が得られた。The following results were obtained.

例1の化合物 例5の化金物 何6の化合物 例8の化会物 (C07D 417/14             
 −205100          7242−4 
C2131007138−4C 277100)          7306−4C2
571007132−4C 277100)          7306−4CO
発 明 者 アラン・ボネ フランス国すブリ・ガルガン・ アレ・リュシアン・ミシャール 9 手続補正書(方式) %式% 事件の表示・ 昭和57年 特願第184814  号
補正をする者 1物 事件との関係           特許出願人名 称
 ルセルーユタラフ 代理人 補正命令通事の日付 昭和58年2月22日゛    
  汐力) 、  \ 補IFの対象 補正の内容  別紙の通り 明細書の浄書(内容に変更なし) 735
Compound of Example 1, Metal compound of Example 5, Compound 6, Chemical compound of Example 8 (C07D 417/14
-205100 7242-4
C2131007138-4C 277100) 7306-4C2
571007132-4C 277100) 7306-4CO
Inventor Alain Bonnet French Country Subri Gargan Allée Lucien Michal 9 Procedural amendment (method) % formula % Indication of the case / 1984 Patent Application No. 184814 Person making the amendment Relationship with the 1-property case Patent Applicant Name: Rousselle-Yutarah Agent Amendment Order Date: February 22, 1982
(Shioriki), \ Contents of subject amendment of supplementary IF Reprint of specification as attached (no change in content) 735

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)  次の一般式(I) 〔ここで、1は水嵩原子、又は多くとも12個の炭素原
子を有し、場合によ′り置換されていることのある纏゛
状着しくは分肢状のアルキル、アルケニル若しくはアル
キニル基を表わし、 R,は、基−(on、)n−x (ここでnは1〜4の
整数を表わし、Xはハロゲン原子、シアノ基、基0−R
/、 (B/、は水素原子又はアルキル基な表わす)を
表わし、又はXは基8−R’、 (B#、は水素原子、
ア又はR′とR1はそれらが結合している窒素原子と共
に複*mを形成する)を表わし、又はXはアジド、チオ
シアナト又はイソチオシアナト基を表わす)を表わし。 波線は、化合物がcis若しくはtrans形園又はc
is−1rana混合物の形態にあり得ることを示し・
、式(I)の化合物はラセミ又は光学活性形態にあり、 オキシムはayn形である〕 の化合物並びに式(I)の化合物の塩又は酸との塩。 (2)次の一般式(1′) 〔ここで、R6は水嵩原子、又は場合により1個若しく
はそれ以上のハロゲン原子、カルボキシル、アミノ若し
くはシアノ基で置換されていることのある線状若しくは
分岐状アルキル基を表わし、n′は!又は2の整数を表
わし、 X′はふっ素原子、2−ビリジニルチオメチル基又はチ
オシアナト基を表わす〕 を有し、ラセ之又は光学活性の、 cia形態のayn
異性体である特許請求の範囲第1項記載の化合物並びに
式(Iりの化合物の塩基及び酸との塩である化合物。 f3)  n’が1の数を表わし xlがふっ素原子を
表わす特許請求の範囲第2項記載の式(Iりの化合物。 ((転) 置換基R,が水素原子、又はメチル若しくは
ジフルオルメチル基、場合によりエステル化若しくは塩
形成されていてもよいカルボキシメチル基。 アミノエチル着しくはシアノメチル基、又は場合により
エステル化若しくは塩形成されていてもよいl−メチル
−1−カルボキシエチル基を表わす特許請求の範囲第1
又は2項記載の式(■りの化合物。 四 ラセミ又は光学活性の、cia −4−フルオルメ
チル−3−[2−(2−アミノ−4−チアゾリル)−2
−メトキシイミノアセトアミド〕−2−オキソアゼチジ
ン−1−スルホン酸、 gyn異性体、及びその塩であ
る特許請求の範囲第1項記載の式(■りの化合物。 −特許請求の範囲第1項記載の式(I)の化合物を製造
するKあたり、次式(It) 〔ここでRaはRr (Riは特許請求の範囲第1II
記載の意味を有する)を表゛わすか又はILaは反応性
官能基が保護されているR1を表わし、ムは水素原子又
はスルホ−を表わす〕 の2セミ又は光学活性化合物を次式(m)〔ここで、I
Lbは水素原子又はアミノ基の保護基を表わし、R′ 
はヒドロキシル基の保護基を表わすか、又は翼′ゎはl
(Rは特許請求の範囲第1項記載の意味を有する)を表
わすか、又はBl、は反応性官能基が保護されている基
Rを表わす〕の化合物で処理するととKよって次式(5
)(ここで、Rb、R′b、Ra及びムは前記の意味を
有する) のラセミ又は光学活性の化合物を得1次いでこの化合物
に必要ならば及び所望ならば下記の反応、a )  R
b及びR′わが表わし得る又はR′。及びRlLが含有
し得る保護基の加水分解、水添分解又はチオ腋素の作用
による分離、 b)基R′bが含有し得るカルボキシル基のエステル化
又は塩形成及びスルホ基の塩形成、C)アミノ基のII
IKよる塩形成。 d)基ムが水素原子を表わす化合物のスルホン化、e)
光学活性化合物を得るための分子の分割。 の一つ又はそれ以上を任意の順序で行なうことを特徴と
する式(I)の化金物の製造法。 作) 実施するにあたって、ムが水素原子を表わす式(
n)の化合物及びRbがアミノ基の保護基を表わす式(
m)の化合物が用いられ、そしてスルホン化が礼がアミ
ノ基の保護基を表わす式(Iv)の化合物に対して行わ
れることを特徴とする特許請求の範囲第6項記載の式(
I)の化合物の製造法。 (2)方法の開始時に用いられる式(I[)の化合物が
、次式(V) HR \/a (ここで、Raは特許請求の範四第4項記載の意味を有
し、へはイ々)基の保護基を表わす)の化合−に次式(
至) (ここで、 R’p及びlL′pは一方で水素原子を、
他方でア建)基の保護基を表わし、又はR′pとR1は
一緒になって二価の保護基を表わし、Bはヒドロキシル
晶又はハ四ゲンを表わす) の化金物を反応させて次式(期 (ここで、”awFLり−”p及びR1,は前記の意味
を有する) の化合物を得、式(匍の化合物に下記の反応。 a)基Rpの加水分解、水添分解又はチオ尿素の作用に
よる分離、 b)場合により行う1位のアミンのスルホン化。 C)基R′及びR′pの加水分解、水添分解又はチオ尿
素の作用による分離、 d)場合により行う光学活性化合物を得るための分子の
分割 を行5ことを特徴とする特許請求の範囲第6項記載の方
法。 (9)へか不整炭素原子を含むイミノ基の保勝基を表わ
す式(V)の化合物より出発して実施し、そして式(鴇
の化金物が光学活性形態で単離されることを特徴とする
特許請求の範囲318項記載の方法。 鱒 基lLaがフルオルメチル基を表わすことを特徴と
する特許請求の範囲第6〜9項のいずれかに記の方法。     □ (ロ)薬剤としての特許請求の範囲tpJI項記載の式
(I) K相当する化金物及びそれらの製薬上許容でき
る塩。 ■ 特許請求の範囲第2〜4項のいずれかに記載の式(
I/)に相当する化合物よりなる特許請求の範囲第11
項記載の薬剤。 −特許請求の範11j15項記載の化合物よりなる特許
請求の範囲第11項記載の薬剤。 −特許請求の範@911〜13項のいずれかに記載の薬
剤の少なくとも1種を活性成分として含有する製薯組成
物。 に)新規工業用化合物としての次の一般式W)(ここで
、R,、R′b、ム及びへは特許請求の範囲第6項記載
の意味を有する) の化金物。 (ロ)新規工業用化合物としての次式(n)(ここで、
ム及びR&!特許請求の範囲第6項記載の意味を有し、
そしてムが水素原子を表わすときは札はメチルチオ、ヒ
ドロキシメチル、アジドメチル、アミノメチル又はアル
コキシメチル基な表わし得ないものとする) の化合物。
[Scope of Claims] (1) The following general formula (I) [where 1 is a water bulk atom or an optionally substituted carbon atom having at most 12 carbon atoms] Represents an alkyl, alkenyl, or alkynyl group in the form of a chain or a branch, R, is a group -(on,)n-x (where n represents an integer of 1 to 4, and X is a halogen atom, a cyano atom, group, group 0-R
/, (B/ represents a hydrogen atom or an alkyl group), or X is a group 8-R', (B# is a hydrogen atom,
a or R' and R1 together with the nitrogen atom to which they are bonded form a complex m, or X represents an azide, thiocyanato or isothiocyanato group. The wavy line indicates that the compound is cis or trans or c
is-1rana in the form of a mixture.
, the compound of formula (I) is in racemic or optically active form, and the oxime is in the ayn form] as well as salts of the compound of formula (I) or salts with acids. (2) The following general formula (1') [Here, R6 is a water bulk atom, or a linear or branched atom which may optionally be substituted with one or more halogen atoms, carboxyl, amino or cyano groups. represents an alkyl group, and n' is! or an integer of 2;
A compound according to claim 1 which is an isomer, and a compound which is a salt of a compound of formula (I) with a base and an acid. f3) A patent claim in which n' represents the number 1 and xl represents a fluorine atom. Compounds of the formula (I) described in Item 2. ((Transition) Substituent R is a hydrogen atom, or a methyl or difluoromethyl group, or a carboxymethyl group which may optionally be esterified or salted. Claim 1 representing an aminoethyl-attached or cyanomethyl group, or an optionally esterified or salt-formed l-methyl-1-carboxyethyl group
or a compound of formula (1) according to item 2. (4) racemic or optically active cia-4-fluoromethyl-3-[2-(2-amino-4-thiazolyl)-2
-Methoxyiminoacetamide]-2-oxoazetidine-1-sulfonic acid, gyn isomer, and its salt; Per K for producing the compound of formula (I), the following formula (It) [where Ra is Rr (Ri is Claim 1II)]
or ILa represents R1 in which a reactive functional group is protected, and M represents a hydrogen atom or a sulfo]. [Here, I
Lb represents a hydrogen atom or a protecting group for an amino group, and R'
represents a protecting group for the hydroxyl group, or
(R represents the meaning given in claim 1) or Bl represents the group R whose reactive functional group is protected], the following formula (5
) (wherein Rb, R'b, Ra and M have the meanings given above) 1. This compound is then subjected to the following reactions, if necessary and if desired: a) R
b and R' can represent or R'. and separation by hydrolysis, hydrogenolysis or action of thioaxillary of the protective group that RlL may contain, b) esterification or salt formation of the carboxyl group that the group R'b may contain and salt formation of the sulfo group, C ) II of the amino group
Salt formation by IK. d) Sulfonation of compounds in which the group represents a hydrogen atom, e)
Resolution of molecules to obtain optically active compounds. A method for producing a metal compound of formula (I), characterized in that one or more of the following are carried out in any order. In carrying out the implementation, the formula (
n) and the formula (where Rb represents a protecting group for an amino group)
m) and the sulfonation is carried out on a compound of formula (Iv) in which the sulfonation represents a protecting group for the amino group.
Method for producing the compound of I). (2) The compound of formula (I[) used at the start of the process has the following formula (V) The following formula (representing a protecting group)
(to) (Here, R'p and lL'p are hydrogen atoms on the one hand,
On the other hand, R′p and R1 together represent a divalent protective group, and B represents a hydroxyl crystal or a hydroxyl group). A compound of the formula (where "awFL-"p and R1 have the meanings given above) is obtained, and the compound of the formula (4) is subjected to the following reaction: a) Hydrolysis, hydrogenolysis or separation by the action of thiourea; b) optional sulfonation of the amine in position 1; C) separation of the groups R' and R'p by hydrolysis, hydrogenolysis or action of thiourea; d) optional splitting of the molecule to obtain an optically active compound. The method described in scope item 6. (9) carried out starting from a compound of formula (V) representing a protective group of an imino group containing an asymmetric carbon atom, and characterized in that the metal compound of the formula The method according to claim 318. The method according to any one of claims 6 to 9, characterized in that the trout group lLa represents a fluoromethyl group. □ (b) The method according to claim 318 as a drug Range tp Metal compounds corresponding to the formula (I) K described in JI and pharmaceutically acceptable salts thereof.■ Formula (
Claim 11 consisting of a compound corresponding to I/)
Drugs listed in section. - The drug according to claim 11, comprising the compound according to claim 11j15. - A potato composition containing as an active ingredient at least one of the drugs described in any one of claims @911-13. B) A metal compound of the following general formula W) as a new industrial compound (where R, , R'b, M and H have the meanings given in Claim 6). (b) The following formula (n) as a new industrial compound (where,
Mu and R&! has the meaning set forth in claim 6,
When the group represents a hydrogen atom, the tag cannot represent a methylthio, hydroxymethyl, azidomethyl, aminomethyl or alkoxymethyl group).
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