JPS58133858A - ガスと噴霧した液体とを接触させる方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、以下に「内部混合噴霧器」と呼ぶ内部混合型
の流体噴霧ノズルアセンブリを使用する、気体と噴霧し
た液体とを接触させる方法に関する。

噴霧器は圧力噴霧器に小分けすることができ、ここで比
較的小さなノズル開口と上述の内部混合噴霧器に液体を
高圧で通すことによって液体のスプレーが形成される。

内部混合噴霧器は小滴の寸法をうまく制御するだけでな
く、圧力噴霧器よりもすぐれた微粒化率を達成できると
いうオリ点を有する。

本発明が関係する方法においては、液体は、加バー下に
おいて噴霧ガスと共に、中空の通路を通じてｌ昆合室と
連絡している複数個の出口を治する内１ｚｌｌ混合１す
１霧器の混合室に供糺される。液体は上記の出口を牡で
噴霧器を云シ、そして拡大しつつあるスプレージェット
の形で、そのスプレージェットと接ｈ」：させるべきガ
スの流れを含む閉じられた空間内に入る。

噴霧器は重質の液体燃料を燃焼させる方法、噴霧乾燥法
、廃液の流れを焼却する方法、ガスの流れから町俗性の
ガス成分または固体のほこ）粒子を除去する洗浄方法お
よび熱いガス流の冷却方法・Ｇ）ような、多くの裡類の
工業的外プロセスにおいて好適に使用される。

能率的な気−液接触を得るためには、微粒化の１」を出
る液体のスプレーがつふれないことが必須である。スプ
レーは、例えば肯シ合った２個の微４・ｌ化の口の同の
距離が小さすきる場合に、つぶれＩＣので、拡大した成
体スル−は互に接近しすぎ、Ｊことになる。欧州％許出
願第ｊｇ≠３７号から公１、Ｌｉの内ｉ矩混１ｊ噴精器
は、上ししの型のスプレー崩壊を排除するのに特に適し
ているように造られている。この公知の混合噴霧器は、
ｒｉ（０）およびｒｉ（０）がそれぞれ出口ｉおよびｊ
からの液体スプレーの拡大直後のジェット半径であシ、
そしてｔ７Ｊが出口１の中心と出口Ｊの中心との距離で
ある場合の比 がＯｏざよ多も小゛さいような場所に、その出口を有し
ている。

上記の型の崩壊現象は混合噴霧器から離れた下流におけ
るスプレージェットと区別すべきである。

この後者の型のスル−崩壊は出口の幾何学的条件および
／または外部条件、例えば噴霧器に沿って流れるガスに
よって引き起こされ、それによってノエ、トスプレーを
互に押し合うので、スル−は単一のジェット中に併合す
る傾向がある。

スプレーの崩壊は別として、スプレーの成触プロセスに
おいて問題を生ずる別の抗原、すなわちガスがジェット
スル−と接触する混合室の１ｌｉｌ」限”＆　（ｃｏｎ
ｆｉｎｅｍｅｎｔ　ｗａｌｌ　）上に液体が衝突する現
車が存在する。スプレーの接触プロセスの型およ０使用
される液体によって、混合室の壁面上の液付の衝突は、
例えば浸食によるゾロセス装置の損修壁面上の沈着によ
るプロセスラインの閉塞および／またけノロセス効率の
減少を招く。

本発明の目的は内部混合噴霧器を使用してがヌと噴霧し
た液体とを接触させる方法を提供することであって、そ
の方法では上述のスプレーの崩壊と液体の衝突の危険が
実質的に排除される。

したがって、本発明は、液体と噴霧ガスの供紹を受ける
ように適合された内部混合室を有すると共に、一端にお
いては内部混合室と各々通じ、力・つ他端においては部
材（ｍｅｍｂｅｒ　）の表面における出口の形で各々終
っている、複数個の内部通路を有する該部材を含む内部
混合噴霧器アセンブリを、６口して、制限壁を有し、か
つガスを含む接触室中に液体の小滴を注入することから
なる、該ガスと噴霧した液体とを接触させる方法におい
て、該噴得器アセンブリの軸に対する該通路の角度が３
０ないし７ｊ０であシ、液体対噴霧ガスの重量比が／：
／ないし７：／であシ、そして該出口において該接触室
に入る小滴のソーター平均滴径（Ｓａｕｔｅｒｍｅａｎ
　ｄｒｏｐ　ｄｉａｍｅｔｅｒ　）がＪＯＯｔｔｍ以下
である、上記方法を提供する。

好ましくは、隣接する各一対の出口に関して比ｒＨ（０
）　＋　ｒｊ（０） ｉｊ 、　（ここでｒｉ（ｏ）およびｒｊ（Ｏ）はそれぞれ出
口１およびｊの拡大直後のジェット半径であシ、そして
Ｊｊは出口ｉの中心と出口ｊの中心との距離である） が０．ｒよシも−Ｊ１さく、 そのアセンブリにおいて、比Ｎ／ｌｈα（ここでＮはア
センブリの出口の数であシ、そしてαはアセンブリの軸
に対する内部通路と出口の角度である） が／ｊ、を以下であり、そして比Ｘｉ／Ｒ（ここでＸ、
は出口１と、該出口から出たスプレーが７個の出口を使
用したときに制限壁に衝突するｆ・Ｚ置との下流に向っ
た距離であシ、そしてＲは制限をの゛ト径である） がノ、７．５ないしｊ、乙オの範囲である、ような様式
で、出口が互に関して位置するように、該通路が噴霧器
内に置かれる。

本発明は多くの重要な局面を治している。初めに、本発
明と従来技術との重大な差異は、従来技４ｔ＋−Ｉにお
いて使用されたノズルが屡々圧力であって、液体の噴霧
化が貧弱なととであった。これらの加用、ノズルは小滴
の寸法をうまく制御しなかったが、本発明では噴霧ガス
（例えば水蒸気）は高圧であって、多量のエネルギーを
系に加える。したがって、小滴の大きさをうまく制御す
ることがここに可能となった。小滴の寸法が大きくなる
ほど、液体とガスとの間の熱交換または物質交換に要す
る時間が益々長く（シたがって接触室も益々大きく）な
るので、小滴の寸法は重要である。

後述の実施例によって示されるように、本発明の方法は
またすぐれたスプレーノぞターンをもたらす。スプレー
パターンは接触操作にとって極めて重要であって、過度
に広いスプレー・ぞターンはスズソータエットを壁に直
接衝突させると同時に、過度に崩壊したスプレーはガス
と十分混合しない。

液体の小滴が制限壁に衝突する危険はソーター平均滴径
を２０Ｑμｍ以下に選ぶことによって最小になる。実施
例で示したように本発明方法は成体の衝突とスプレーの
崩壊を生じなかった。

本発明は５ＣＯＴ（５ｈｅｌｌ　ＣＩａｕｇ　Ｏｆｆ−
ＧａｓＴｒｅａｔｉｎｇ　）法において都合よく適用す
ることができる。この５ＣＯＴ法は水素からなる還元ガ
ス、または水素と一酸化炭素との混合物と共にクラウス
法のテールガスの流れを高温まで加熱することを含んで
いる。クラウス法のテールガスは、典型的には硫化水素
、二酸化硫黄、二酸化炭素、−酸化炭素および水素を含
み、その残りは主として望素である。該還元ガスは外部
の供給源から供給しても、あるいはインラインバーナー
で化学量論的な量以下の燃焼から供給してもよい。次い
で合体したガスの流れをアルミナに担持させたモリプ７
ｊ７酸コ・ぐルト触媒を含む反応器の頂部に通す。ガス
が下方に向って触媒上を流れるにしたがって、二酸化値
黄、二硫化炭素および硫化カルがニルを含む硫黄化合物
は硫化水素に転化される。その後ガスはとげ却され、そ
して冷却したガスは硫化水素が１戒収されるアミン吸収
塔に通される。負荷された吸収剤は再生され、そして再
生された奴収剤は再び吸収塔で使用できる。再生によっ
て発生した硫化水素Ｑよりラウス装置に循環される。

５ＣＯＴ法の重要な局面は還元反応器に向うガスの温度
を制御することである。典型的には反比：器の所望の温
度は約ツタ０℃であるが、水素を発生。

させるために化学量論的な量以下の燃焼が使用される或
種の環境においては遥かに高い温度に遭遇し、例えば幾
つかの装置において鉱≠７ｊ℃という温度が屡々認めら
れる。したがって、反応器中の触媒と接触させる前にガ
スの流れを１６　ＡＪする必要が生ずる。従来は、炉と
反応器との間の比較的小さな（例えばり乙、ｊｃｒｎ）
結合ラインにおいて（標準的な市販の噴射ノズルを使用
して）加圧水０スプレー償却によって、このような流れ
を直接冷却した。典型的には、炭素鋼の結合ラインの最
初の部分には耐火物をライニングする。耐火物の損傷を
防止するためにスプレーの衝突は最小にしなければなら
ない。さらに、冷却操作中に生成したサワー水によって
ラインの露出した炭素鋼部分が腐食されるのを防止する
ために、耐火物を表打ちした部分内ですべてのスプレー
を蒸発させなければならない。従来のノズルは、無視で
きない量のスル−水が、裏打ちされていない管に達し、
そこで重大な腐食の懸念を生ずるという点で満足でなか
った０ ８ＣＯＴ法における本発明の適用は、理想的には炉と反
応器との間の結合ラインにあシ、そのノズルは典型的に
は、それが結合ラインの中−心線近くにあるようにライ
ンの中に置かれる。冷却すべき熱いガス状の流れの典型
的な組成およびその他の典型的な操作条件は米国特許第
≠、／　！；３．乙７≠号および第≠、００／、３ｇ乙
号明細書およびカナダ特許第７３’１．？３７号に開示
されておシ、これらの品示されたものは疹考のため本明
鵬−中に記載ちれている。典型的には反応器の装入物の
流れを約１Ｉ−７！；℃ないし約２９０℃に冷却するの
が望ましい。

本発明はまた流動接触分解装置の再生器から出た熱いガ
ス状のオーバーヘッドの流れを冷却するために使用する
こともできる。このような流れは主として一酸化炭素、
二酸什炭素、窒素および水を含み、そして屡々乙ｚＯ℃
またはそれ以上の温度を有する。本発明は温度を制御の
下に維持すると共にアフター・ぐ−ニングの発生を防止
するのに役立つ。接触分解装置における再生器の一般的
な条件は米国特許第３．０７．２．９１．２号および第
３．７３７．１３３号明細書に記載されておシ、このよ
うな条件は参考のため本明細書中に記載されている。

本発明において企図されている冷却液は水、炭化水素溶
剤および重質炭化水素を包含しておシ、水が特に好まし
い。噴霧ガスは水蒸気、空気、窒素、酸素およびメタン
を包含しておシ、水蒸気がＩＦ、￥に好ましい。

噴霧がスの圧力は、出口において合体した冷却液−噴霧
ガスについて臨界的なまたはほぼ臨界的な（臨界的の０
．７倍）２相の速度をつくシだすのに十分でなければな
らない。水蒸気を使用するとき、その温度は混合室また
は通路において過剰の凝縮を起こさないように十分高く
なければならない。５ＣＯＴ法において使用される水蒸
気に関する噴霧ガス圧力は典型的には約／乙、ｊバール
である。

液体の噴霧ガスに対する重量比は、好ましくは２：／な
いし乙：／の範餌にある。

多くの場合ノズルアセンブリの形は円筒形であシ、そし
て通路も典型的には真直ぐな円筒形の通路である。好ま
しい具体例においては、アセンブリにおいて液体と噴霧
ガスを混合するためにプラグまたは同様な装置が使用さ
れる。

出口（および通路）の数は（各ノズルについて約６ない
し７２個と仮定して）通常最初に選定される。それ故、
出口の寸法は必要な冷却量、したがって必要な冷却液と
噴霧ガスの量に左右される。

接触室の制限壁土に液体が衝突するのを防止し、かつス
プレーの崩壊を防止するためには多くの要求を満たさな
ければならない。

接触室の制限壁に液体が衝突するのを防止するのにまず
第一に必要な条件は、スプレー中の個々の小滴が個々の
弾道について行かないでスグレーノエ、ト中に残るよう
な寸法を有することである。

しかも出口を去る小滴のソーター平均径は２００８ｍ以
下でなければならない。ソーター平均径（ＳＭＤ）は次
のように定義される。

Σ（ＮｔＤｌ） ｉ＝ｉ ＳＭＤ　＝　　　　　　　　　　（１）この式において
Ｎｉは直径範囲Ｄ１における小滴の数である。

ノズルアセンブリの設計は、好ましくは小滴のＳＭＤが
７００μｍ以下になるような設計である。小滴の直径に
関する典型的な寸法は、２００ないし／Ｉ−０μｍ１そ
して好ましくは／２夕ないしょ０μｍである。５ＣＯＴ
法の好ましい具体例においてはＳＭＤはｇｏμｍないし
１１ｔＯｔｉｍである。

ソーター平均径は次の式から見積ることができる。

上で使用された種々の用語は次のように定義される。

ふえ出口／個当シの液体の質量流量 二　出口／個当シの噴霧ガスの質量流量Ｐ　噴霧ガス供
給混合物 ヒＮ／Ｗ？で表わした運動量フラックスδ　Ｎで表わ、
した、運動量流量ａｎＸδ”、ａｎは各σ　Ｎ７ｍで表
わした表面張力 ρａ　雰囲気ガスの密度 通路の角度は、大部分接触室の個々の寸法およ／゛ び液体と接触すべきガスの速度によって左右される。接
触室の直径が大きくなるほど、接触室の側面または壁面
に衝突を経験しないで角度を益々大きくすることができ
る。さらに、ガスの速度が大きくなるほど、角度を益々
大きくすることができる。

から見積ることができる。

この式においてρ　、Ｒ１αおよびＧは上述のようまた
はそれよりも大きく選んだ場合に接触室の制限壁にスプ
レーが衝突するのを阻止できることがわかった。この必
要条件は後に示される実施例から容易に引き出すことが
できる。

雰囲気ガスの与えられた密度および与えられたできる。

雰囲気ガスの速度を増大させると、出口から出るスプレ
ーの外側へ拡がる率が減少し、それによって噴霧器アセ
ンブリの制限壁にスル−が衝突する危険が減少する。

液体の衝突は別として、この接触操作の有害な作用、す
なわちスプレーの崩壊に関する別の重要な原因が存在す
る。過度に崩壊したスプレーは、接触させるべきガス、
例えば耐却しようとする熱いガスと十分に混合しない。

これは得られる面却率に有害な作用を及ぼす。混合噴霧
器の不正確な設計または正確な混合１９ｊ霧器による間
違った接触操作によってスル−の崩壊が引き起こされる
。

噴霧器に備えた出口が多過き′るかおよび／または噴霧
器アセンブリの軸に対する内側通路と出口の（（１度を
余シ小さく選択するときには、混合噴霧器の設計による
スプレーの崩壊が起こシ得る。

」二に）ピ義した比Ｎ／ｓｉｎαを／　１．６以下に選
ぶ場合には、噴霧器の間違った設計によるスプレ〜の崩
壊が阻止される。噴霧器アセンブリの軸と出口との角度
αは好ましくは３３０ないしｊＯｏの範囲にある。出口
の数は、適当には乙ないし１０個の範囲で選択される。

出口の数が少ないと、接触室における液体／ガスの接触
に役立つ面積の利用効果が低下する。出口の数が７０を
超えると、液体／ガス接触に役立つ面積の利用について
は殆ど改善されないのに、スプレーの崩壊の危険は比較
的高くなる。

雰囲気ガスがジェットスプレーを出口から噴霧２ｇアセ
ンブリの軸に向って押進める場合にもスプレーの崩壊が
生じ、これは最も極端な場合ジェットスル−を単一のジ
ェットに併合させてしまう。

これが起きたときには、雰囲気ガスの極く僅かな部分し
か出口からの液体と接触しない。最後に述突する現象に
関して前に論じたのと同じ方法で見積る。

上記のことをすべて考慮に入れると、接触室の壁に衝突
しないで、接触室の所望の部分内で蒸発する制御された
小滴を供給する噴霧ノズルアセンブリを設計することが
できる。

゛　本発明をよシ完全に説明するために添附図面を参照
する。添附図面において第１図は本発明方法において使
用される内部混合型の流体噴霧ノズルアセンブリの（第
２図の線／−／に沿った）縦断面を図解しておシ；第！
図は同じノズルを上からみた図であシ；第３図は本発明
による噴霧器を有する接触室の概要図であシ、そして第
≠図は試験結果をグラフで表わしたものである。

第１図と第２図は本発明によって使用され、そして好ま
しくは円筒状の形をした複数個の通路３と通じている混
合室−２を備えた部材を含む内部混合噴霧器を示してい
る。部材／にはそれぞれ噴霧ガスと液体を室２に導入す
るための開口≠とｊが備えられている。通路３は本明細
書に説明されている原理に従って部材／の中に位置が定
められておシ、すなわち軸（７−７）に対する通路３の
角度αは、適当には３０°ないし７ｊ０である。出口ま
たは終端口乙は接触室（図示せず）に開口している。ノ
ズルアセンブリはフランツ接続どの使用によって接触室
につなぐことができる。

噴霧液でガスを冷却するために、７個または一個以上の
供給管（図示せず）のような供給源を経て、加圧下に冷
却液を開口ｊ１そして噴霧ガスを開口ｔにおいて混合室
ノの中に導入する。混合された流体は通路３に強制的に
通され、次いで出口乙を通シ、そこで流体は圧力の低下
によって膨張する。出口乙は好ましくは円形であシ、そ
して好ましくは図示したように部材／の外側表面とある
角度をなしている。一般に出口は、液体供給−流体供給
開口から若干離れた位置において噴霧器の周囲に一定の
間隔をあけて配置されている。例えば、噴霧器が一般に
、図面の具体例において示したように円筒形である場合
には、出口は、本明細書に説明した関係に従って円錐台
形の断面の側面において一定の′間隔をあけて配置され
、その円錐台形断面の小さな方の基部は噴霧器の液体−
流体供給開口の向い側にある「円筒」の「基部」であシ
、そして円錐台形断面の側面は１円筒」の側面または壁
面で終っている。

本発明は以下の実施例によってさらに詳しく説明される
。

実施例 ５ＣＯＴ法の装置において運転条件（温度を除いて）を
似せるために種々の実験を行った。その実験において使
用した装置は第３図において略図で示されている。熱い
ガス状の反応剤の流れの代シに周囲の空気を使用した。

空気！／はエアプロア（図示せず）によって供給し、半
径／、♂３ｍの直角エルボを有する金属ダクトアセンブ
リ！２′の中に注入した。ダクトアセンブリ（接触室）
は０．９６ｍの内径を有していた。周囲空気の流量は流
振指／Ｉ：ｈ　−２３によって測定し、これをＶａ（ｒ
ｎ／ｓ　）として表の中に記録する。エルボの下流に種
々のノズルアセンブリ２≠を挿入し、噴霧空気の供給、
、２ｊと？ｌｉ却水の供給、２乙も用意した。

運転条件とその結果を下の表に示す。噴霧器の１：り１
１に対するノズル通路の角度および出口の数によって種
々のノズルを表わした。したがって、４ｔＯ８−７０と
いう表示は小さな混合室、１０個の出口および通路に関
してＩＩｔＯｏの角度を有するノズルアセンブリを意味
する。冷却水の供給、噴霧空気の供給および周囲空気の
速度の相対的な量を変化させた。ｐｔは液体の冷却水の
供給圧力と定義され、表面張力σは０．０７．２Ｎ／ｍ
である。

（以下余白） 各々の運転について、小滴のソーター平均滴径け、２０
０μｍよシも小さかった。上に示したように４〜発明力
法において使用したスプレーノズルはすぐれた・Ｐター
ンを有していた。これらのすぐれた結果は、極めて困難
な適用、すなわち垂直断面において有効な耐火物ライニ
ングを約３；、３ｍＬ、か持たない僅かＯｏり乙ｍの内
径の耐火物２イニング炭木鋼ラインにおいて得られた。

！；θ°−７０ホ〜ルのチップによるｊつの場合のうち
の３つの場合については、極端な場合ダクト壁にスプレ
ージェットが直接衝突し、３ｊ０−７０ホールのチップ
による包囲ガスの貧弱な飛沫同伴によってスプレーは崩
壊することが示される。多くの場合ダクトの中の空気の
速度を≠、乙ないしり、、２　ｍ／ｓ　（Ｃ調整するこ
とによってダクトの壁からスプレージェットを移動させ
て離すことができた。本発明によって使用されるノズル
、すなわちｌＩ−θ°−１０ノズルチ、プはほどよく広
いパターンを生ずることが判明し、パクトの空気流量が
約半分よりも少なくなるまで表に挙げた試験結果をグラ
フにして第ｊ図に示す。この第弘図において、比Ｘｉ／
ＲをＸ軸上にグロットし、比Ｎ／ｌｈαをＸ軸上にノロ
ットした。この図で使用した符号は下記の意味を有する
二〇　噴霧器の表面に対して直角な内部通路を有するノ
ズルによシ、衝突も崩壊もない。

・　グ０片寄った内部通路を有するノズルによシ、衝突
も崩壊もない。

△　制限壁に衝突 　ノズルの設計によるスプレーの崩壊 口　包囲ガスの流入によるスプレーの崩壊用≠図では弘
つの領域、すなわち、領域Ｉ：制限壁に対するスプレー
の衝突、領域■：ノズルの設計によるスプレーの崩壊、
領域ｍ：包囲ガスの影響によるスプレーの崩壊および領
域■：衝突も崩壊もなし、に分けることができる。

【図面の簡単な説明】

添附図面の第１図は本発明において使用される内部混合
型の流体噴霧ノズルアセンブリの縦断面図であシ、第２
図はそのノズルアセンブリのマｒ面図であり、第３図は
本発明による噴霧器を有する接触室の概要図であシ、そ
して第を図は本発明の効果を示す試験結果をグラフで表
わしたものである。 ／・・・部材、２・・・混合室、３・・・通路、＋、１
・・・開口、乙・・・出口、♂・・・フランジ結合１．
２．２・・・ダクトアセンブリ１．２３・・・流量指示
器、２≠・・・ノズルアセンブリ。 代理人の氏名　　川原１）−穂 Ｃへ４ 第１頁の続き 優先権主張　１［株］１９８２年１１月１５日■イギリ
ス（ＧＢ）［有］８２３２５３４

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）数体と噴霧ガスの供給を受けるように適合された
   内部混合室を有すると共に、一端においては内部混合室
   と各々通じ、かつ他端においては部（Ａの表面における
   出口の形で各々終っている、複数個の内部通路を有する
   該部材を含む内部混合噴霧器アセンブリを通して、制限
   壁を有踵かつガスを含む接触室中に液体の小滴を注入す
   ることか。 らなる、該ガスと噴霧した液体とを接触させる方法にお
   いて、該噴霧器アセンブリの軸に対する該通路の角度が
   ３０°ないし７３０であシ、液体対噴霧がスの重量比が
   ／：／ないし７：／であり、そして該出口において該接
   触室に入る小滴のソーター゛ど均滴径が、２００マイク
   ロメーター以下である、上記方法。 （２）　　熱いガス状の流れを冷却液の小滴と接触させ
   ることによって、該Ｉ７Ｉ［、れを冷却するために上記
   の方法を特徴する特許請求の範囲第（１）項記載の方法
   。 （３ン　　噴霧ガスとして水蒸気を使用する場合に、該
   冷却液が水である、特許請求の範囲第（２）項記載の方
   法。 （４）該熱いガス状の流れが、流動接触分解装置から出
   た再生器の熱いオーバーへラドガスの流れからなる、特
   許請求の範囲第（２）項または第（３）項記載の方法。 （５）該熱いガス状の流れが、クラウス法のオフがス処
   理プロセスにおける還元反応器に向う装入物の流れから
   なる、特許請求の範囲第（２）項または第（３）項記載
   の方法。 （６）該噴霧器アセンブリの表面において出口が環状に
   均一に配置されている、特許請求の範囲第（１）項ない
   し第（５）項のいずれか一つに記載の方法。 （７）接触室を通る流れを引き起こすガスと併流方向で
   液体の小滴を該接触室中に注入する、特許請求の範囲第
   （１）項ないし第（６）項のいずれか一つに記載の方法
   。 （８）　　出口における該小滴の速度が臨界的であるか
   、捷たは臨界的な二相の速度の少なくとも０．７倍であ
   る、特許請求の範囲第（１）項ないし第（７）項のいず
   れか一つに記載の方法。 （９）　　ノーター平均滴径がｌｌｏないし２００　ａ
   ｍである、特許請求の範囲第（１）項ないし第（８）項
   のいずれか一つに記載の方法。 ０Ｑ　　隣接する各一対の出口に関して比（ここでｒｉ
   （０）およびｒ４（０）はそれぞれ出口ｉおよびＪの拡
   大直後のジェット半径であシ、そしてＪ３は出口ｌの中
   心と出口Ｊの中心との距離である） が００ｇよりも小さく、 そのアセンブリにおいて、比Ｎ／５ｉｆＩα（ここでＮ
   はアセンブリの出口の数であシ、そしてαはアセンブリ
   の軸に対する内部通路と出口の１１１度である） 、’ｆｉ／！；、６以下であシ、そして比Ｘ□／Ｒ（こ
   こでＸｉは出口ｌと、該出口から来たスプレーが７個の
   出口を使用したときに制限壁に衝突する位置との下流に
   向った距離であり、キしてＲは制限壁の半径である） が２．７ｊないしＳ、＆　Ｓの範囲である、ような様式
   で出口が互に関して位置するように、該通路が噴霧器内
   に置かれている、特許請求の範囲第（１）項ないし第（
   ９）項のいずれか一つに記載の方法。