JPS5812702B2 - 荷電粒子プロ−ブ径の制御装置 - Google Patents
荷電粒子プロ−ブ径の制御装置Info
- Publication number
- JPS5812702B2 JPS5812702B2 JP52106408A JP10640877A JPS5812702B2 JP S5812702 B2 JPS5812702 B2 JP S5812702B2 JP 52106408 A JP52106408 A JP 52106408A JP 10640877 A JP10640877 A JP 10640877A JP S5812702 B2 JPS5812702 B2 JP S5812702B2
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- JP
- Japan
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- charged particle
- globe
- diameter
- lens
- sample
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- Expired
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- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はＸ線マイクロアナライザー等の荷電粒子プロー
ブ装置におけるグローブ径を所望とする値に設定するた
めの装置に関する。
ブ装置におけるグローブ径を所望とする値に設定するた
めの装置に関する。
荷電粒子プローブ装置にはＸ線マイクロアナライザーや
イオンマイクロアナライザー等の分析装置が含まれるが
、これらの分析装置においては試料面に照射される荷電
粒子グローブの径を電子レンズによって可能な限り細く
することが一般に分析精度向上のため望まれている。
イオンマイクロアナライザー等の分析装置が含まれるが
、これらの分析装置においては試料面に照射される荷電
粒子グローブの径を電子レンズによって可能な限り細く
することが一般に分析精度向上のため望まれている。
しかし乍ら試料表面の平均的な元素構成を測定しようと
する場合には試料に応じて比較的大きなブローブ径を有
する荷電粒子グローブを照射することも必要となる。
する場合には試料に応じて比較的大きなブローブ径を有
する荷電粒子グローブを照射することも必要となる。
従来このグローブ径を測定するには測定試料として螢光
物質を用い、グローブ照射によって試料から螢光を発す
る領域の大きさを光学顕微鏡で観察する方法が広く行わ
れていた。
物質を用い、グローブ照射によって試料から螢光を発す
る領域の大きさを光学顕微鏡で観察する方法が広く行わ
れていた。
即ち従来装置においてはグローブ径を所望の値に設定す
る場合、測定試料を螢光試料と交換し、光学顕微鏡によ
ってグローブ照射領域の螢光を観察しその大きさが所望
の値となるように集束レンズの励磁を調整することが必
要であった。
る場合、測定試料を螢光試料と交換し、光学顕微鏡によ
ってグローブ照射領域の螢光を観察しその大きさが所望
の値となるように集束レンズの励磁を調整することが必
要であった。
本発明は、この様なグローブ径の設定をより容易に行う
ことを目的とするもので、その装置は集束レンズのフォ
ーカス調整を行う通常の制御手段に加えてデフォーカス
電流を発生する制御手段を設けることを特徴とするもの
である。
ことを目的とするもので、その装置は集束レンズのフォ
ーカス調整を行う通常の制御手段に加えてデフォーカス
電流を発生する制御手段を設けることを特徴とするもの
である。
第１図は本発明に使用される集束レンズ電源の一例を示
す略図である。
す略図である。
図中１は荷電粒子ビームを試料（図示せず）上に集束さ
せるためのレンズコイルを示す。
せるためのレンズコイルを示す。
該レンズコイル１は電流制御トランジスター２や基準抵
抗３と直列に接続されており直流電源の出力十Ｂ１が印
加されている。
抗３と直列に接続されており直流電源の出力十Ｂ１が印
加されている。
これらに流れる電流即ちレンズ電流は基準抵抗３の端子
電圧として検出され差動増幅器４０入力ｅ。
電圧として検出され差動増幅器４０入力ｅ。
と等しくなる如く制御される。
即ち差動増幅器４は入力端子に印加される入力電圧に差
が生じると制御トランジスタ２を制御して基準抵抗３及
びレンズコイル１に流れる電流を制御し負帰還による安
定化を計っている。
が生じると制御トランジスタ２を制御して基準抵抗３及
びレンズコイル１に流れる電流を制御し負帰還による安
定化を計っている。
従ってレンズ電流を制御するには制御信号電圧ｅ。
を可変すればよく、従来装置においては第１図の５に示
す如く基準電圧十Ｂ２の出力をポテンショメータ６で電
圧分割することによって任意な電圧信号を発生するフォ
ーカス制御手段の出力が直接制御信号ｅ。
す如く基準電圧十Ｂ２の出力をポテンショメータ６で電
圧分割することによって任意な電圧信号を発生するフォ
ーカス制御手段の出力が直接制御信号ｅ。
とじて用いられていた。
この様な状態は第１図の実施例装置ではスイッチＳを閉
（オン）にて得られる。
（オン）にて得られる。
第１図ではスイッチＳと並列にプローフ径を制御するだ
めのプローブ径制御千段７が設けられている。
めのプローブ径制御千段７が設けられている。
該制御千段７は演算増幅器８と可変抵抗器Ｒ１，Ｒ２か
ら構成され、入力信号ｅｉと出力信号ｅ０される様に働
く。
ら構成され、入力信号ｅｉと出力信号ｅ０される様に働
く。
Ｘ線マイクロアナライザーに第１図の装置を組み込んだ
場合について説明すると、先ず電子プローブを試料面上
に走査して二次電子、反射電子等の信号を検出し、前記
プローブの走査と同期したブラウン管の輝度変調信号と
して用いて走査像を表示する。
場合について説明すると、先ず電子プローブを試料面上
に走査して二次電子、反射電子等の信号を検出し、前記
プローブの走査と同期したブラウン管の輝度変調信号と
して用いて走査像を表示する。
次に該走査像の観察からその走査像の分解能が最も高《
なるようにフォーカス電流調整用のポテンショメータ６
を調整する。
なるようにフォーカス電流調整用のポテンショメータ６
を調整する。
このときレンズに流れるフォーカス電流を■。
、試料面上におけるプローブの径をｄｍとする。
次に、この様なフォーカス状態からグローブ径をｄに拡
大しようとするにはレンズ電流を増加（オーバーフォー
カス）又は減小（アンダーフォーカス）させる必要があ
るがその変化量へ■は略次の様に表わされる。
大しようとするにはレンズ電流を増加（オーバーフォー
カス）又は減小（アンダーフォーカス）させる必要があ
るがその変化量へ■は略次の様に表わされる。
但し、上式で△ｄは△ｄ＝ｄ−ｄｍであり、ｋは最終段
集束レンズの絞り孔径、レンズ絞りと試料間の距離、レ
ンズコイルの巻数、レンズ磁極片構造などが定まると一
定の値となる比例係数である。
集束レンズの絞り孔径、レンズ絞りと試料間の距離、レ
ンズコイルの巻数、レンズ磁極片構造などが定まると一
定の値となる比例係数である。
上式からフォーカス状態にあるプロープ径を一定量△ｄ
犬き《するためには、フォーカス電流■ｏに一定の比例
系数を乗じた変化量△■をフォーカス電流■。
犬き《するためには、フォーカス電流■ｏに一定の比例
系数を乗じた変化量△■をフォーカス電流■。
に加えればよいことが分る。このことは例えば電子プロ
ーブの加速電圧その他の条件が変化して試料面上におけ
るフォーカス電流が変化してもフォーカス電流値■。
ーブの加速電圧その他の条件が変化して試料面上におけ
るフォーカス電流が変化してもフォーカス電流値■。
に一定の係数を乗ずれば常に一定のグローブ径変化が得
られることを意味する。
られることを意味する。
実際の装置設計に際しては発光試料の電子線照射による
発光を観察しながらブローローブ径を表示しておく。
発光を観察しながらブローローブ径を表示しておく。
第２図中ＦＯＣＵＳの目盛位置では第１図のスイッチＳ
が閉（オン）状態にあり、通常正しいフォーカスが得ら
れる様にレンズ電流が調整されている。
が閉（オン）状態にあり、通常正しいフォーカスが得ら
れる様にレンズ電流が調整されている。
切換えスイッチ９を１０μ、１００μ等の目盛に合わせ
ると、これらされ適正なテフォーカス電流へ■ｏが■。
ると、これらされ適正なテフォーカス電流へ■ｏが■。
に加算されてレンズコイルに供給される。
以上の様に構成された装置においては発光試料との試料
交換や光学顕微鏡による観察を行うことなく常に所望と
するグローブ径で試料照射を行うことが可能となるので
Ｘ線マイクロアナライザー等における試料測定に極めて
大きな効果が得られる。
交換や光学顕微鏡による観察を行うことなく常に所望と
するグローブ径で試料照射を行うことが可能となるので
Ｘ線マイクロアナライザー等における試料測定に極めて
大きな効果が得られる。
尚、本発明は以上の実施例装置に限定されるものではな
く例えばグローブ径に応じたデフォーカス電流△■ｏを
本来の最終段集束レンズのコイルとは別個に設けられた
補助レンズコイルに流しても同様の効果が得られる。
く例えばグローブ径に応じたデフォーカス電流△■ｏを
本来の最終段集束レンズのコイルとは別個に設けられた
補助レンズコイルに流しても同様の効果が得られる。
第１図及び第２図は本発明の一実施例を示す略図である
。 １・・・・・・レンズコイル、２・・・・Ｉｈ｝ランジ
スタ、計・・・・・検出抵抗、４・・・・・差動増幅器
。
。 １・・・・・・レンズコイル、２・・・・Ｉｈ｝ランジ
スタ、計・・・・・検出抵抗、４・・・・・差動増幅器
。
Claims (1)
- １ 試料面上に荷電粒子線を細く集束させたグローブと
して照射する集束レンズ系の励磁電流電源に前記グロー
ブのフォーカス合わせを行うためのフォーカス合わせ手
段を設けると共に、該フォーカス合わせ手段からの制御
信号に所望のグローブ径に応じた比例系数を乗じた変化
量を前＋Ｊ御信号に加える制御手段を付加したことを特
徴とする荷電粒子プローブ径の制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52106408A JPS5812702B2 (ja) | 1977-09-05 | 1977-09-05 | 荷電粒子プロ−ブ径の制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP52106408A JPS5812702B2 (ja) | 1977-09-05 | 1977-09-05 | 荷電粒子プロ−ブ径の制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5439684A JPS5439684A (en) | 1979-03-27 |
| JPS5812702B2 true JPS5812702B2 (ja) | 1983-03-09 |
Family
ID=14432842
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP52106408A Expired JPS5812702B2 (ja) | 1977-09-05 | 1977-09-05 | 荷電粒子プロ−ブ径の制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5812702B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58164172U (ja) * | 1982-04-27 | 1983-11-01 | 株式会社島津製作所 | 荷電粒子線のプロ−プ径設定装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4964364A (ja) * | 1972-10-21 | 1974-06-21 |
-
1977
- 1977-09-05 JP JP52106408A patent/JPS5812702B2/ja not_active Expired
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4964364A (ja) * | 1972-10-21 | 1974-06-21 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5439684A (en) | 1979-03-27 |
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