JPS58123647A - 電子ビ−ム電流の制御方法 - Google Patents
電子ビ−ム電流の制御方法Info
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- JPS58123647A JPS58123647A JP57006359A JP635982A JPS58123647A JP S58123647 A JPS58123647 A JP S58123647A JP 57006359 A JP57006359 A JP 57006359A JP 635982 A JP635982 A JP 635982A JP S58123647 A JPS58123647 A JP S58123647A
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- JP
- Japan
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- electron beam
- electron
- beam current
- current
- welding
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- Pending
Links
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 238000003466 welding Methods 0.000 claims abstract description 25
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/315—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for welding
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Welding Or Cutting Using Electron Beams (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は′電子ビーム溶接機におけるビーム電流の立上
り特性の改善に関するものである。
り特性の改善に関するものである。
現在の電子ビーム溶接機において、ビーム電流の制御は
電子銃部のグリッドバイアス電圧を変化させるととによ
り行なう方法が専ら用いられている。電子ビーム溶接機
において被加工物は、接地電位に置かれるため結果とし
て電子銃の陽極は接地電位側に配置される。従って、電
子銃のグリッド及びフィラメントは電子ビームの加速電
圧分だけ高電位状態におかれる。この状態において電子
銃のグリッド、フィラメント間にバイアス電圧を与える
方法としては、電子銃のフィラメントと高圧電源との間
に適当な抵抗を入れるいわゆる自己バイアス方式と他の
電源よυ′区圧を供給する方式がある。電子銃のビーム
出力電流をフィードバック制御する方式の電子ビームの
溶接機においては、電子銃のフィラメント−、グリッド
間にバイアス電圧を与える方法として他の電源より電圧
を供給する方式が専ら用いられる。さらに電子銃のグリ
、ドバイアスを制御する制御回路の配置方法として、こ
れを電子銃のフィラメント、グリッド回路に直接挿入す
る方式と、低電位側に制御回路を置きその出力として搬
送交流に変調された制御信号をトランスを介して高電位
側に送り、これを高電位側で検波（整流）して元の制御
信号を取出し、これを電子銃のグリッド、フィラメント
間に供給する方式がある。これら二つの方式のうち、特
に高速度のビーム定流制御を行なわない場合は、その取
扱の簡便さにより後者の方式が専ら用いられている。こ
の際電子銃のグリッドバイアスの変化速度はトランスの
二次側に設けられた検波（整流）回路に挿入される搬送
交流除去フィルターの時定数の影響を受ける。このフィ
ルターの時定数は搬送交流の周波数と搬送交流抑制率に
より決足さ扛るためこむ、らは設計時に最適値になるよ
う決定されなければならない。搬送交流の周波数が比較
的低く、検波回路の搬送交流除去フィルターの時定数が
比較的太なる場合にこの方式のフィードバック式ビーム
電流制御回路には一つの問題が生じる。溶接が行なわれ
ていない場合の電子銃のグリッド、フィラメント間には
通常カットオフ電圧またはそれ層上の電圧のバイアス電
圧が供給され、被溶接物を傷つけないため、電子銃のビ
ーム電流はゼロに制御されている。この状態において電
子銃のフィラメント、グリッド間のバイアス電圧は電子
銃のリーク電流、ビーム電流制御回路自体の熱的、その
他の要因により時間と共に多少カリとも変動するが電子
銃のビーム電流はゼロであるように調整されている。こ
のような状態において溶接を開始しようとすると、電子
銃のグリッドバイアス回路に挿入された搬送交流除去フ
ィルターの時定数とカットオフ電圧より大きくなったバ
イアス電圧により決まるビーム電流ＯＮの時間遅れが生
じ、さらにこの時間遅れが一定しなくなる。
電子銃部のグリッドバイアス電圧を変化させるととによ
り行なう方法が専ら用いられている。電子ビーム溶接機
において被加工物は、接地電位に置かれるため結果とし
て電子銃の陽極は接地電位側に配置される。従って、電
子銃のグリッド及びフィラメントは電子ビームの加速電
圧分だけ高電位状態におかれる。この状態において電子
銃のグリッド、フィラメント間にバイアス電圧を与える
方法としては、電子銃のフィラメントと高圧電源との間
に適当な抵抗を入れるいわゆる自己バイアス方式と他の
電源よυ′区圧を供給する方式がある。電子銃のビーム
出力電流をフィードバック制御する方式の電子ビームの
溶接機においては、電子銃のフィラメント−、グリッド
間にバイアス電圧を与える方法として他の電源より電圧
を供給する方式が専ら用いられる。さらに電子銃のグリ
、ドバイアスを制御する制御回路の配置方法として、こ
れを電子銃のフィラメント、グリッド回路に直接挿入す
る方式と、低電位側に制御回路を置きその出力として搬
送交流に変調された制御信号をトランスを介して高電位
側に送り、これを高電位側で検波（整流）して元の制御
信号を取出し、これを電子銃のグリッド、フィラメント
間に供給する方式がある。これら二つの方式のうち、特
に高速度のビーム定流制御を行なわない場合は、その取
扱の簡便さにより後者の方式が専ら用いられている。こ
の際電子銃のグリッドバイアスの変化速度はトランスの
二次側に設けられた検波（整流）回路に挿入される搬送
交流除去フィルターの時定数の影響を受ける。このフィ
ルターの時定数は搬送交流の周波数と搬送交流抑制率に
より決足さ扛るためこむ、らは設計時に最適値になるよ
う決定されなければならない。搬送交流の周波数が比較
的低く、検波回路の搬送交流除去フィルターの時定数が
比較的太なる場合にこの方式のフィードバック式ビーム
電流制御回路には一つの問題が生じる。溶接が行なわれ
ていない場合の電子銃のグリッド、フィラメント間には
通常カットオフ電圧またはそれ層上の電圧のバイアス電
圧が供給され、被溶接物を傷つけないため、電子銃のビ
ーム電流はゼロに制御されている。この状態において電
子銃のフィラメント、グリッド間のバイアス電圧は電子
銃のリーク電流、ビーム電流制御回路自体の熱的、その
他の要因により時間と共に多少カリとも変動するが電子
銃のビーム電流はゼロであるように調整されている。こ
のような状態において溶接を開始しようとすると、電子
銃のグリッドバイアス回路に挿入された搬送交流除去フ
ィルターの時定数とカットオフ電圧より大きくなったバ
イアス電圧により決まるビーム電流ＯＮの時間遅れが生
じ、さらにこの時間遅れが一定しなくなる。
この発明はかかる欠点を除去するためのもので、溶接を
行なっていない場合においても電子銃よシのわずかのビ
ーム電流を流すことによってフィードバック制御回路を
作動させることによｐ溶接直前の電子銃のグリッド、フ
ィラメント間バイアス電圧を安定化すると共に被溶接物
保護のため電子ビームを充分にデフォ−ガスさせること
を特徴とする。
行なっていない場合においても電子銃よシのわずかのビ
ーム電流を流すことによってフィードバック制御回路を
作動させることによｐ溶接直前の電子銃のグリッド、フ
ィラメント間バイアス電圧を安定化すると共に被溶接物
保護のため電子ビームを充分にデフォ−ガスさせること
を特徴とする。
この構成の一実施例を第１図により説明する。
１は電子ビーム電流０Ｎ−ＵＦｉｉ”信号入力端子、２
は電子ビーム電流設定器、３は電子ビーム電流制御回路
、４はトランス、検波回路、搬送交流除去フィルターよ
り成る回路、５は電子銃、６は電子レンズ電流設定器、
７は電子レンズ電流制御回路、８は電子レンズコイルで
ある。電子ビーム電流ＯＦＦ時電子ビーム電流設定器２
の出力は電子銃部の高圧リーク電流より太く、且つ溶接
時のビーム電流に比し充分小さい値に設定される。また
電子ビーム電流ＯＦ’ １７時に電子ビーム電流制御回
路３を作動させておく事により電子銃５よりはわずかの
電子ビーム電流（例えばＱ、５ｍＡ、）が流れる。同時
にレンズ電流設定器６の出力は溶接時に比し充分に犬、
または小とし、（例えば５０係以上）電子レンズ８の電
流を変えることにより電子ビームを充分デフォーカスさ
せておく。そして溶接開始と共にこれら電子ビーム電流
設定器２および電子レンズ′電流設定器６の出力を溶接
設定値とすることにより溶接を行う。このようにして溶
接開始時の電子ビーム電流立上り遅れ時間を安定化する
ことにより溶接開始位置精度を高めることができ特に間
欠５− 溶接においては効果的である。
は電子ビーム電流設定器、３は電子ビーム電流制御回路
、４はトランス、検波回路、搬送交流除去フィルターよ
り成る回路、５は電子銃、６は電子レンズ電流設定器、
７は電子レンズ電流制御回路、８は電子レンズコイルで
ある。電子ビーム電流ＯＦＦ時電子ビーム電流設定器２
の出力は電子銃部の高圧リーク電流より太く、且つ溶接
時のビーム電流に比し充分小さい値に設定される。また
電子ビーム電流ＯＦ’ １７時に電子ビーム電流制御回
路３を作動させておく事により電子銃５よりはわずかの
電子ビーム電流（例えばＱ、５ｍＡ、）が流れる。同時
にレンズ電流設定器６の出力は溶接時に比し充分に犬、
または小とし、（例えば５０係以上）電子レンズ８の電
流を変えることにより電子ビームを充分デフォーカスさ
せておく。そして溶接開始と共にこれら電子ビーム電流
設定器２および電子レンズ′電流設定器６の出力を溶接
設定値とすることにより溶接を行う。このようにして溶
接開始時の電子ビーム電流立上り遅れ時間を安定化する
ことにより溶接開始位置精度を高めることができ特に間
欠５− 溶接においては効果的である。
第１図は本発明の方法に用いる制御回路を示すブロック
図である。 １・・・・・・電子ビーム電流０Ｎ−ＯＦＦ信号入力端
子、２・・・・・・電子ビーム電流設定器、３・・・・
・・電子ビーム電流制御回路、４・・・・・・トランス
、検波回路、搬送交流除去フィルターより成る回路、５
・・・・・電子銃、６・・・・・・電子レンズ電流設定
器、７・・・・・・電子レンズ電流制御回路、８・・・
・・・電子レンズコイルである。 ６一
図である。 １・・・・・・電子ビーム電流０Ｎ−ＯＦＦ信号入力端
子、２・・・・・・電子ビーム電流設定器、３・・・・
・・電子ビーム電流制御回路、４・・・・・・トランス
、検波回路、搬送交流除去フィルターより成る回路、５
・・・・・電子銃、６・・・・・・電子レンズ電流設定
器、７・・・・・・電子レンズ電流制御回路、８・・・
・・・電子レンズコイルである。 ６一
Claims (1)
- フィードバック式電子ビーム電流制御の電子ビーム溶接
機において、溶接を行なっていない場合においても電子
銃よりわずかのビーム電流を流すことによってフィード
バック制御回路を作動させ、溶接直前の電子銃のフィラ
メント、グリッド間バイアス電圧を安定化すると共に被
溶接物保護のため電子ビームを充分にデフォーカスさせ
ることを特徴とする電子ビーム電流の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57006359A JPS58123647A (ja) | 1982-01-19 | 1982-01-19 | 電子ビ−ム電流の制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57006359A JPS58123647A (ja) | 1982-01-19 | 1982-01-19 | 電子ビ−ム電流の制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58123647A true JPS58123647A (ja) | 1983-07-22 |
Family
ID=11636164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57006359A Pending JPS58123647A (ja) | 1982-01-19 | 1982-01-19 | 電子ビ−ム電流の制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58123647A (ja) |
-
1982
- 1982-01-19 JP JP57006359A patent/JPS58123647A/ja active Pending
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