JPS58121293A - N−ホスホノメチルグリシンの製造方法 - Google Patents

N−ホスホノメチルグリシンの製造方法

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JPS58121293A
JPS58121293A JP57211179A JP21117982A JPS58121293A JP S58121293 A JPS58121293 A JP S58121293A JP 57211179 A JP57211179 A JP 57211179A JP 21117982 A JP21117982 A JP 21117982A JP S58121293 A JPS58121293 A JP S58121293A
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sulfur dioxide
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    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/3804Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明&−LN−ホスホノメチルグリシンの製造方法に
関するものである。
本発明の方法に、アミノメタンホスホン酸を水性溶媒中
で二酸化イオウの存在下でグリオキサールと反応させて
次式l: O で表わさねるN−ホスホノメチルグリシンを製造するこ
とよりなる。
N−ホスホノメチルグリシンに 非常に広いスペクトル
を有し、残留作用が殆んどまたは全くない除草剤である
。その製造及び用途は米国特許第4799.758号明
細書に開示さねている1、グリシン、ホルムアルデヒド
および亜すン耐をモル比1:1:1で反応させると、所
望のN−ホスホノメチルグリシンの代りンこ、主にN。
N−ビス−ホスホノメチルグリシンか生成することは知
られている(米国特許第3.95へ370号明細書参照
)。この生成物は、次いで電気分解でホスホノメチルグ
リシンに転換できる(米国特許第4835.000号明
細書)。
上記方法に伴う困難を克服するため、N−ホスホノメチ
ルグリシンを製造するにあたり、「(−にN−置換グリ
シンをホルムアルデヒドおよび亜リン酸と反応させて和
尚するN−fl換N−ホスホノメチルグリシンを得、次
にこの生成物から最初から窒素原子上に存在していた置
換基を除去する方法が提案されている。すなわち、例え
ば米国特許第6.95へ370号明細書に−rユ、N−
ホスホノメチルグリシンの製造のために、N−ベンジル
エチルグリシネートをホルムアルデヒドおよび亜リン酸
と、同時にエステル基を加水分解しながら反応させてN
−ベンジル−N−ホスホノメチルグリシンを得、次いで
強い臭化水素醗でベンジル基を臭化ベンジルとして除去
する力泳が開示されている。この方法により、N−ホス
ホノメチルグリシンが約40%のI+51で得られる。
この方法は、収率が低いことおよび副生成物として生ず
る臭化ベンジルの催涙作用のために商業上N−ホスホノ
メチルグリシンを大造するVcFi有利でない。
したがって、本発明の目的は、N−ホスホノメチルグリ
シンが良好な収率で得られ、生ずる副生成物が取扱い容
易で環境上有利な方法を提供することにある。
本発明によれば、次式■: O で表わされるアミノメタンホスホン酸を、水性溶媒中で
次式I: OHC−CIO(110 で表わされるグリオキサールと二酸化イオウの存在下に
反応させ、得られた生成物を単離す/:)ことによりN
−ホスホノメチルグリシンを製箔する方法が提供される
本発明の反応を行なうには、二つの好ましい方法がある
第一の有利な反応力法に、アミノメタンホスホン酸およ
びグリオキサールを水に%[+させ、次いでこの懸濁液
に二酸化イオウを導入することである。
この方法では、二酸化イオウカスの導入は反応溶液を冷
却してまたは冷却[7ないで行なってよい。しかしなが
ら、有利には、二酸化イオウガスが導入される間に反応
混合−に0ないし30℃、4?に5ないし20℃に冷却
される。導入される二酸化イオウガスの爺は、懸濁液を
?、f明化するに要する量と混合物を飽和するに十分な
量の間になるよう調節する。しかしながら、反応溶液が
二酸化イオウで飽和されることが有利である。
第二の有利な反応力法は、アミノメタンホスホン酸を水
に懸濁し、次いでこの懸濁液にグリオキサールと二酸化
イオウを同時に導入することである。
この方法では、グリオキサールと二酸化イオウガスの添
加は、有利にはアミノメタンホスホン酸の予備加熱され
た懸濁液中に行なう。懸濁液の温度に好ましくFi30
ないし90’C1特に35ないし75℃である。
この方法で使用する二酸化イオウの量は、グリオキサー
ルとビス−アダクトを形成するに盛装な当量より少なく
てよい。二酸化イオウの好ましい量は、グリオキサール
1モル当りα3ないし1.5モルである。最も好ましい
量は、グリオキサール1モル当り二酸化イオウガスα5
ないし1.0モルである。
両刃法において、各々必畳量の二酸化イオウまたはグリ
オキサールおよび二酸化イオウの導入が完了した後、溶
液を60ないし120℃の温度で加熱する。85℃およ
び反応混合物の沸点の間の温度が有利である。反応溶液
を5ない1120分間加熱する。有利な反応時間は15
ないし60分、特に20ないし40分である。導入され
た二酸化イオウガスは、加熱の間に再度遊離され、回収
される。
本発明の反応において、使用するグリオキサールはモノ
マーの水溶液とl−て用いてもよくポリマーとして用い
てもよい。
高収率を得るには、反応生成物が水に溶解性であるから
水の量を出来るだけ少なくすることが有利である。特に
グリオキサールの希釈水溶液を使用するときは、溶媒と
して更に水を添加することを省略することができる。
本発明の反応においては、二酸化イオウは、二酸化イオ
ウガス(亜硫酸ガス)の形である代りに結合形であって
もよい。この点で菅に適するのに、亜硫酸のアルカリ金
属塩およびアルヵリ土類金属塩、特に亜硫酸水素ナトリ
ウム、カリウムまたはカルシウムである。
グリオキサールをアミノメタンホスホン酸および亜硫酸
水素のアルカリ金属塩の懸濁液中に添加する方法を採用
する場合は、非常に少量の亜硫酸水素塩を使用できる。
グリオキサール1モル当り(LO5モルより少量の禅硫
酸水素ナトリウムを用いても収率を極端に下けることは
ない。
この場合、反応混合物を75pより高い温度に加熱する
ことは、二酸化イオウガスが発生して出発物質の十分な
転換が達せられる前に反応を停止させる恐れを避けるた
めに好ましくない。
反応はグリオキサール1モル当り亜硫酸水素のアルカリ
金属塩の濃度がα01モルでも進行するが、この濃度が
低くなるにつれて反応速度が遅くなる。亜硫酸水素のア
ルカリ金属塩を低濃度に用いるときは、反応時間F′i
6時間迄要する。
本発明の反応の出発成分として、グリオキサールと亜硫
酸との付加物およびその塩も使用できる。この目的に格
別適するものとして、市販のグリオキサール−ビス−(
tal!P水素ナトリウム)ハイドレートがあけられる
二酸化イオウをその塩またはとわらとグリオキサールと
の反応生成物に代えることは、本発明の方法を寮験室に
おいて非常に容易な操作で行いうる点で有利であるが、
しかし7ながら、本発明の方法を商業スケールで行なう
場合に虹、二酸化イオウガスを使用することも、コスト
の点から、特に反応中に再び放出さrた二酸化イオウガ
スを回収して次のバッチの反応で再使用できるために有
利である。
本発明の方法の有利な態様に、アミノメタンホスホン酸
およびグリオキサールの水中の懸濁液を5ないし20℃
で二酸化イオウで飽和させ、生じた溶液f85ないし1
05℃で20ないし40分間加熱し、生成物を結晶化に
より単離することよりなる。
本発明の方法の他の有利な態様に、3Dないし90℃で
アミノメタンホスホン酸のM濁液中に、グリオキサール
と二酸化イオウを同時に導入1−1生じた溶液を85な
いし105℃で20ないし40分間加熱し、生成物を結
晶化して単離1“ることよりなる。
本発明の方法の他の有利な態様は、75℃を越えないa
度で、グリオキサールをアミノメタンホスホン酸と少な
くともα01モルの亜硫酸水素のアルカリ金輌塩の懸濁
液中に添加し、混合物を75℃を趣えない温度でα5な
いし5時間加熱し、そして生成物を結晶化して単離する
ことよりなる。
反応体のアミノメタンホスホン酸とグリオキサールに、
原則として等モル量で反応させる。
以下の実施例により本発明をさらに詳しく説明する。
実施例に 酸化イオウガス(亜硫酸ガス)を10ないし15℃で激
しい攪拌および冷却下に、アミノメタンホスホン酸11
.1f(α1モル)および40チ水性グリオキサール1
1.4yd([11モル)を水40ntlに懸濁した液
中に、澄明溶液が得られるまで導入した。さらに室温で
α5時間攪(′[した後、溶液を0.5時間還流すると
、この間に二酸化イオウが激しく発生し、溶液に暗褐色
VC変化した。その後、この反応混合物を5℃に冷却し
、生じた沈澱を分離し、少量の氷水で洗浄して水から再
結晶した。収量は純粋なN−ホスホノメチルグリシンa
1り(48% >であった二分解点236℃。
実施例2 アミノメタンホスホン酸11.1SF(11モル)およ
び80%ポリマー性グリオキサール7、2 f(α1モ
ル)を水4o−に懸濁した液を二酸化イオウで処理し、
さらに実施例1に記載したように処理した:収量FiN
−ホスホノメチルグリシンy、 7 f (aaslで
あった二分解点244℃。
実施例3 二酸化イオウガスを、冷却せずに激しく攪拌しながら、
アミノメタンホスホン酸11.1f(α1モル)および
80%ポリマー性グリオキサール7、29 ((11モ
ル)を水4o−に懸濁させた液中に飽和するまで導入す
ると、その間に溶液は黄−オレンジ色に変化し、温度が
42℃に上昇した、続いて溶液を攪拌および還流すると
、この間に溶液の色は暗褐色に変化した。溶液を熱時p
過(7、次いで5℃に冷却し、しかる後沈澱を分離し、
少量の氷冷水で洗浄して乾燥した。
N−ホスホノメチルグリシンの収量は1α6f(62,
8%)であった二分解点235℃。
実施例4 グリオキサール−ビス−(亜硫酸水素ナトリウム)ハイ
ドレート15.6?((1055モル)およびアミノメ
タンホスホン酸5.sf(α05モル)を水30sd中
に懸濁させた液を攪拌下に還流した。
温度が85℃に達したとき二酸化イオウの発生が開始し
、溶明溶液が生じ、これを40分間還流した一0反応混
合物を室温に冷却した後、32嗟塩酸11s/((L1
1モル)を添加[7、混合物を蒸発濃縮した。油状残渣
を56チ塩酸4(llWdを加えてすりつぶし、沈澱し
た塩を次いで分離し、溶液を再び蒸発濃縮した。得られ
た油状物をエタノール150ゴを加えて結晶化した。こ
の懸7絢液にプロピレンオキシドを加えてコンゴレッド
中性とし、沈澱を分離し、エタノールで洗浄し。
て乾燥した。水から再結晶してN−ホスホノメチルグリ
シン4.5F(552%)を得た二分解点228℃。
実施例5 アミノメタンホスホン酸22.2f(CL2モル)およ
びグリオキサール−ビス−(亜硫酸水素ナトリウム)ハ
イドレート58v(12モル)を5N塩酸水溶液80−
に懸濁した液を攪拌下に温陣が95℃に達するまで徐々
に加熱した。反応容器の内温が70℃に達したとき、二
酸化イオウの激しい発生が生じ、溶液の色d明るい褐色
になる。ガスの発生が終了した後、反応混合物を還流下
[Q、5時間沸騰させ、次いで徐々に0℃に冷却した。
析出した沈澱f濾過し、氷冷水およびアセトンで洗浄し
、次いで乾燥した。こうして、N−ホスホノメチルグリ
シン2α29(59゜8チ)を得た。この生成物に25
6℃で分解しながら溶融した。
実施例6 二酸化イオウガス26 f ((14モル)およびグリ
オキサールの40%水溶液58f(α4モル)を同時V
こ40℃の温度で水16〇−中のアミノメタンホスホン
酸a 4.4 f (α4モル)の懸濁液中に導入した
。得られた溶液を50分間還流すると、その間に二酸化
イオウの発生が起った。次いで溶液を5℃に冷却し、生
じた沈澱を分離して少量の氷水で洗浄して乾燥した。収
量tiN−ホスボッメチルグリシン44t(65チ)で
あった:分解点〉250℃。
実施例7 二酸化イオウガス26t(α4モル)および40%グリ
オキサール水溶液58f(α4モル)を同時に60℃の
温度で、水160wl中のアミノメタンホスホン酸44
.4 、f ((L 4モル)の懸濁液中に導入した。
得られた溶液を50分間還流すると、この間に二酸化イ
オウの発生が起った。
次いで溶液を5℃に冷却し、生じた沈澱を分離して少量
の氷水で洗浄し、て乾燥した。収量はN−ホスホノメチ
ルグリシン50f(74%)であった二分解点>250
 ′c。
実施例8 二酸化イオウガス13り(0,2モル)および40チグ
リオキサール水溶液58 f (0,4モル)を同時に
60℃の温度で、水160m/中のアミノメタンホスホ
ン酸44.4fCC1,4モル)の懸濁液中に導入した
。得らhた浴液を30分間還流すると、この間に二酸化
イオウの発生がしった。
溶液を次いで5℃に冷却し、生じた沈澱を分離して少量
の氷水で洗浄して乾燥した。収fr[N−ホスホノメチ
ルグリシン5o2(74qIb)であった二分解点〉2
50℃。
実施例9 グリオキサールの40チ水溶液50.59 (α354
モル)を、アミノメタンホスホン酸57.1 f(0,
3′54モル)および亜硫酸水素ナトリウム2、6 f
 (0016モル)を水150−に懸濁させた液に、6
0℃の温度で滴加した。同じ温度で混合物の撹拌を1時
間続け、混合物を5℃に冷却[7、生じた沈澱を分離し
て少量の氷水で洗浄して乾燥した。収1flN−ホスホ
ノメチルグリシン67.6?(67チ)であった二分解
点〉250℃。
41’r許出願人 チバーガイギー

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) 次式fi= で表わされるアミノメタンホスホン酸を、水性溶媒中で
    次式IIl: OHC−CHO(1 で表わさねるグリオキサールと二酸化イオウの存在下に
    反応させ、得られた生成物を単離することよりなる次式
    I: O で表わされるN−ホスホノメチルグリシンの製造方法。
  2. (2)二酸化イオウをアミノメタンホスホン酸およびグ
    リオキサールの水中懸濁液中に導入する特許請求の範囲
    第1項記載の方法。
  3. (3)二酸化イオウの最少使用量が簡明液が形成される
    量である特許請求の範囲第1項塘たに#!2項記載の方
    法。
  4. (4)  反応混合物を二酸化イオウで飽和する%=l
    !+請求の範囲第3項記載の方法。
  5. (5)反応混合物を60ないし120℃に加熱する特許
    請求の範囲第1項記載の方法。
  6. (6)反応温度が85℃と反応混合物の沸点の間の温度
    である特許請求の範囲第5項記載の方法。
  7. (7) モノマー性捷たはポリマー性グリオキサールの
    水性溶液を使用する特許請求の範囲第1項記載−の方法
  8. (8)  溶液1)5ないし120分間加熱する特許請
    求の範囲第5項記載の方法。
  9. (9)  二酸化イオウを結合形で使用する特許請求の
    範囲第1項記載の方法。 ao  二識化イオウをナトリウム、カリウムまたはカ
    ルシウムの亜硫酸水素塩の形でまたはグリオキサールと
    一諸にナトリウム、カリウムまたはカルシウムのビス亜
    硫酸水素塩の形で使用する特許請求の範囲第9項記載の
    方法。 61+  アミノメタンホスホン酸およびグリオキサー
    ルの水中懸濁液を5ないし20℃で二酸化イオウで飽和
    し、形成された溶液を85ないし、105℃で20ない
    し40分間加熱し、生成物を結晶化により単離する特許
    請求の範囲第1項記載の方法。 02  二酸化イオウおよびグリオキサールをアミノメ
    タンホスホン酸の水中懸濁液に同時に導入する特許請求
    の範囲第1項記載の方法。 0 アミノメタンホスホン酸の懸濁液を30ない129
    0℃に予備加熱する特許請求の範囲第12項記載の方法
    。 0イ)  アミノメタンホスホン酸の懸濁液を35ない
    1775℃に予備加熱する特許請求の範囲第13項記載
    の方法。 09  使用する二酸化イオウの量がグリオキサール1
    モル当り2モルより少ない特許請求の範囲第12項記載
    の方法。 翰 使用する二酸化イオウの量がグリオキサール1モル
    当りα5ないし1.5モルである特許請求の範囲第15
    項記載の方法。 (If)  グリオキサールをアミノメタンホスホン吊
    およびアルカリ金属の亜硫酸水素塩の懸濁液中に添加す
    る特許請求の範囲第1項記載の方法。 Oil  アルカリ金属の亜硫酸水素塩の量が、グリオ
    キサール1モル当り少なくともα01モルである特許請
    求の範囲第1項記載の方法。 (II  反応混合物の加熱温度が75℃を越えない特
    許請求の範囲第17項記載の方法8 (イ)反応混合物を60ないし120℃に加熱する特許
    請求の範囲第12項記載の方法。 Qυ 二酸化イオウおよびグリオキサールを同時にアミ
    ノメタンホスホン酸の懸濁液中Vこ、30ないし90℃
    で添加し、生成[また溶液を85ないし105℃[20
    ないし40分間加熱し、生成物を結晶化して単離する特
    許請求の範囲第1項記載の方法。 @ グリオキサールを75℃を越えない温度でアミノメ
    タンホスホン酸および少なくともQ、01モルのアルカ
    リ金属の亜硫酸水素塩の懸濁液中へ添加1〜、混合物を
    75℃を越えない温度でa5ないし5時間加熱し、生成
    物を結晶化によって単離する特許請求の範囲第1項記載
    の方法。
JP57211179A 1981-12-03 1982-12-01 N−ホスホノメチルグリシンの製造方法 Granted JPS58121293A (ja)

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US391816 1989-08-10

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