JPS58118944A - 気体の定率希釈装置 - Google Patents
気体の定率希釈装置Info
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- JPS58118944A JPS58118944A JP211882A JP211882A JPS58118944A JP S58118944 A JPS58118944 A JP S58118944A JP 211882 A JP211882 A JP 211882A JP 211882 A JP211882 A JP 211882A JP S58118944 A JPS58118944 A JP S58118944A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
- G01N1/38—Diluting, dispersing or mixing samples
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、基準気体と希釈気体とを一定比率により混合
し、基準気体を希釈気体により定率として希釈する装置
に関するものである、 近来、都市ガス等の精製工橿管璃用あるいは取引用とし
て、連続的かつ即時的にガスの熱量を画定する要求が生
じてお９、粉粒状の酸化触媒と温度センナとを封入した
ガスの通路内へ、空気または酸素等の支燃気体により希
釈し九ガスを流通させ、酸化触媒によるガスの酸化度応
熱を温度センサにより検出するガス用カロリーメータが
開発されるに至っている、 このため、基準気体としてのガスを、希釈気体としての
支燃気体により、常に一定比率として希釈する装置が必
要となり、かかる定率希釈装置の出現が（〈要望される
に至っている。
し、基準気体を希釈気体により定率として希釈する装置
に関するものである、 近来、都市ガス等の精製工橿管璃用あるいは取引用とし
て、連続的かつ即時的にガスの熱量を画定する要求が生
じてお９、粉粒状の酸化触媒と温度センナとを封入した
ガスの通路内へ、空気または酸素等の支燃気体により希
釈し九ガスを流通させ、酸化触媒によるガスの酸化度応
熱を温度センサにより検出するガス用カロリーメータが
開発されるに至っている、 このため、基準気体としてのガスを、希釈気体としての
支燃気体により、常に一定比率として希釈する装置が必
要となり、かかる定率希釈装置の出現が（〈要望される
に至っている。
本発明は、従来のかかる要望を完全に充足する目的を有
し、ダイヤフラムにより仕切られた＠１および第２気密
室へ基準気体および希釈気体を各個に供給のうえ、ダイ
ヤプラムにより制御され、かつ、第１および第２気密室
へ各個に設けられた外部との気体流通量を可変する流量
制＃横嘴により、第１および第２気密室内の気体圧力を
一定に保つと共に、第１および第２気密室と混合室との
間へ各個に設けられ九希釈比率に応する内径の連通孔に
より、基準気体と希釈気体とを常に一定比率として・見
合する極めて効果的な、気体の定率希釈装置を提供する
ものである。
し、ダイヤフラムにより仕切られた＠１および第２気密
室へ基準気体および希釈気体を各個に供給のうえ、ダイ
ヤプラムにより制御され、かつ、第１および第２気密室
へ各個に設けられた外部との気体流通量を可変する流量
制＃横嘴により、第１および第２気密室内の気体圧力を
一定に保つと共に、第１および第２気密室と混合室との
間へ各個に設けられ九希釈比率に応する内径の連通孔に
より、基準気体と希釈気体とを常に一定比率として・見
合する極めて効果的な、気体の定率希釈装置を提供する
ものである。
以下、実施例を示す図によって本発明の詳細な説明する
。
。
第１図は全構成を示す要部断面図であり、ケースｊａ、
ｊｂの内部にはダイヤフラム３が設けてあり、これによ
ってケース１ｍ、ｌｂの内部が仕切られ、第１気密室４
島および第２気密室４ｂが形成されている、 まだ、ダイヤフラム３の中央部には、流量１！Ｉ＋ −
機構をケースｌａ、ｌｂの弁ｆｌ１１５ ａ ａ ５
ｂと共に構成する弁体１５ｍ、５ｂが固定されており、
これがダイヤフラムにより制御され、各気密室４ｍ、４
ｂと外部との間における気体の流通量を可変するものと
なっている。
ｊｂの内部にはダイヤフラム３が設けてあり、これによ
ってケース１ｍ、ｌｂの内部が仕切られ、第１気密室４
島および第２気密室４ｂが形成されている、 まだ、ダイヤフラム３の中央部には、流量１！Ｉ＋ −
機構をケースｌａ、ｌｂの弁ｆｌ１１５ ａ ａ ５
ｂと共に構成する弁体１５ｍ、５ｂが固定されており、
これがダイヤフラムにより制御され、各気密室４ｍ、４
ｂと外部との間における気体の流通量を可変するものと
なっている。
ただし、弁室Ｔ＆へ連結されたガス本管８からはガスＧ
が供給される一方、弁室７ｂには外部から支燃気体Ｓが
供給されてお抄、両者間の圧力差にろじてダイヤフラム
３か応動し、例えば、ガスＧの圧力が大となれば、弁体
６ａを図上下方へ移動させて弁座５＆とのｌｉ４隙を小
とし、ガスＧの圧力が低下すれば、弁体６鳳を図上上方
へ移動させて弁座５１との間壕を大とするため、第１気
密室４ａ内の気圧を常に一定に保つものとなっている。
が供給される一方、弁室７ｂには外部から支燃気体Ｓが
供給されてお抄、両者間の圧力差にろじてダイヤフラム
３か応動し、例えば、ガスＧの圧力が大となれば、弁体
６ａを図上下方へ移動させて弁座５＆とのｌｉ４隙を小
とし、ガスＧの圧力が低下すれば、弁体６鳳を図上上方
へ移動させて弁座５１との間壕を大とするため、第１気
密室４ａ内の気圧を常に一定に保つものとなっている。
なお、第２気Ｉ！！室４ｂｌｌも弁体６ｂによる同嘩の
作用により、この中の気圧が常に一定として保たれる。
作用により、この中の気圧が常に一定として保たれる。
このほか、各気密室４ｍ、４ｂと隣接する混合室９と各
気密室わ１４ｂとの間には、支燃気体ＳによるガスＧの
希釈比率に応する内径の連通孔１０＆ｅ１０ｂｔ−有す
るパイプ１１ａ 、 ｌｌｂが設けてあり、常に一定気
圧のガスＧｊＰよび支燃気体Ｓが連通孔１０ｍ 、 １
０ｂを介して混合室９へ流入するため、混合室９には一
定比率のガスＧと支燃気体Ｓとが供給されるものとな妙
、ここにおいて、常に定率の希釈が行なわれる。
気密室わ１４ｂとの間には、支燃気体ＳによるガスＧの
希釈比率に応する内径の連通孔１０＆ｅ１０ｂｔ−有す
るパイプ１１ａ 、 ｌｌｂが設けてあり、常に一定気
圧のガスＧｊＰよび支燃気体Ｓが連通孔１０ｍ 、 １
０ｂを介して混合室９へ流入するため、混合室９には一
定比率のガスＧと支燃気体Ｓとが供給されるものとな妙
、ここにおいて、常に定率の希釈が行なわれる。
ガスＧを支燃気体Ｓにより希釈した混合気体Ｍは、ガス
用カロリーメータ１２へ供給され、この中へ封入された
酸化＠媒との１化反応を行ない、発熱を生じたうえ徘ガ
スＫＧとして排出されるが、同カロリーメータ１２内の
流体抵抗が大きく、このままでは各気密室４ａ、４ｂを
流通するガスＧおよび支燃気体Ｓの流量が微少なため、
流１状況を促進し、常に祈鮮なガスＧおよび支燃気体Ｓ
が供給されるものとする目的上、混合室Ｓとガス用カロ
リーメータ１２とを連結する管路１３を分岐し、流体抵
抗体１４を有するバイパス路１５を設け、これによって
混合気体Ｍの所定量を大気中へ放出するものとしである
。
用カロリーメータ１２へ供給され、この中へ封入された
酸化＠媒との１化反応を行ない、発熱を生じたうえ徘ガ
スＫＧとして排出されるが、同カロリーメータ１２内の
流体抵抗が大きく、このままでは各気密室４ａ、４ｂを
流通するガスＧおよび支燃気体Ｓの流量が微少なため、
流１状況を促進し、常に祈鮮なガスＧおよび支燃気体Ｓ
が供給されるものとする目的上、混合室Ｓとガス用カロ
リーメータ１２とを連結する管路１３を分岐し、流体抵
抗体１４を有するバイパス路１５を設け、これによって
混合気体Ｍの所定量を大気中へ放出するものとしである
。
なお、ダイヤフラム３のばね定数をに、第１気密室４＆
内の圧力をＰｌ ｍ第２気密室４ｂ内の圧力をＰ８．ダ
イヤフラム３の有効面１をＳ、ダイヤフラム３がｐ、＝
ｐ、−の状１から１移した量をＸとすれば、次式が成立
する。
内の圧力をＰｌ ｍ第２気密室４ｂ内の圧力をＰ８．ダ
イヤフラム３の有効面１をＳ、ダイヤフラム３がｐ、＝
ｐ、−の状１から１移した量をＸとすれば、次式が成立
する。
Ｓ（Ｐｌ −ＰＩ ）”ｋ ” Ｘ ＠ａａ４
＊（１）また、連通孔１０ｍ 、 １０ｂの流体コンダ
クタンスをｆＫｌｍＫｇとし、見合室９の圧力をｐ、と
すれば、混合室９に対するガスＧおよび支燃気体Ｓの流
入量Ｑ１＋Ｑ１は、次式によシ与えられる一Ｑｔ −ｔ
＋ （Ｐ＋ Ｐｇ） ・・・・・（２）
Ｑ＊ −ｇｔ （Ｐｔ−Ｐｓ） ・・・・
・（３）ここで、（１）〜（３）式から次式が得られる
、このため、（４）式の右辺第２１が噸決できる程小と
なれば、 １ ｇｌ −＝ −＝ Ｋ ・・・−・（５
）Ｑ雪 ｇｌ （Ｋ＝常に一定） が成立し、連通孔ＩＱＩＬ、ＩＱｂの内径および全長に
応じて定まる加俸コンダクタンスｇ、１ｇ、にょシ、毘
合気体醒の毘合比が一定となり、定率希釈が実現する、 したがって、前述の条件を成ヴさせるには、（ｋ／５）
（１とすることを要し、これには、ダイヤフラム３とし
て、ばね定数１（ｄ！小さく、かつ、有功面積Ｓの大き
いものを用いればよいものとなる。
＊（１）また、連通孔１０ｍ 、 １０ｂの流体コンダ
クタンスをｆＫｌｍＫｇとし、見合室９の圧力をｐ、と
すれば、混合室９に対するガスＧおよび支燃気体Ｓの流
入量Ｑ１＋Ｑ１は、次式によシ与えられる一Ｑｔ −ｔ
＋ （Ｐ＋ Ｐｇ） ・・・・・（２）
Ｑ＊ −ｇｔ （Ｐｔ−Ｐｓ） ・・・・
・（３）ここで、（１）〜（３）式から次式が得られる
、このため、（４）式の右辺第２１が噸決できる程小と
なれば、 １ ｇｌ −＝ −＝ Ｋ ・・・−・（５
）Ｑ雪 ｇｌ （Ｋ＝常に一定） が成立し、連通孔ＩＱＩＬ、ＩＱｂの内径および全長に
応じて定まる加俸コンダクタンスｇ、１ｇ、にょシ、毘
合気体醒の毘合比が一定となり、定率希釈が実現する、 したがって、前述の条件を成ヴさせるには、（ｋ／５）
（１とすることを要し、これには、ダイヤフラム３とし
て、ばね定数１（ｄ！小さく、かつ、有功面積Ｓの大き
いものを用いればよいものとなる。
このほか、ガス用カロリーメータ１２にハ、喰化反応前
の温度を検出する温度センサおよび、酸化触媒として金
４半導体實化物を用いたとき、これへ］Ｉｔ［して強制
的にオーム熱を発生させ、ガス用カロリーメータ１２の
校正を行なうための電極等も封入されてシリ、酸化反応
前の温度を検出する温度センナのリード線１２ａ、電極
のリード線１２ｂ 、 ＠化反応時の温度を検出する温
度センサのリード線１２ｃ等が、各２本づつ気密状に引
出されている。
の温度を検出する温度センサおよび、酸化触媒として金
４半導体實化物を用いたとき、これへ］Ｉｔ［して強制
的にオーム熱を発生させ、ガス用カロリーメータ１２の
校正を行なうための電極等も封入されてシリ、酸化反応
前の温度を検出する温度センナのリード線１２ａ、電極
のリード線１２ｂ 、 ＠化反応時の温度を検出する温
度センサのリード線１２ｃ等が、各２本づつ気密状に引
出されている。
なお、ガス用カロリーメータ１２の詳細については、本
出願人の別途出願による「ガス用カロリーメータ」（特
許願昭和５６年１２月２９日）に開示されているため、
詳細を省略する。
出願人の別途出願による「ガス用カロリーメータ」（特
許願昭和５６年１２月２９日）に開示されているため、
詳細を省略する。
第２図は、他の実施列を示すＩ断面図であり、流量制御
機嘴として、ダイヤフラム３の中央に設けられた弁体Ｂ
、および、これと対向しかつケース１ｍ、ｌｂを貫通す
る排出管ｚｔａ 、 ２１ｂを用いた場合であり、この
場合は、ガスＧおよび支燃気体５２５１管路２２ｍ 、
２２ｂを介し、各気密室４ａ ｌ ４ｂ ”供給され
る一方、ケース１ｍ、ｊｂへ螺入する排出管２１ｍ 、
２１ｂの先端と弁体εとのｉＪ１隙から外部へ放出さ
れるものとなっており、この間隙量が各気密室４ｍ、４
ｂ内の圧力と比例して変化し、これに応じた流通量のガ
スＧおよび支燃気体Ｓが放出されるため、第１図と同様
、各気密室４ ａ ｅ Ｊ ｂ内の圧力が一定に保たれ
るものとな−っている。
機嘴として、ダイヤフラム３の中央に設けられた弁体Ｂ
、および、これと対向しかつケース１ｍ、ｌｂを貫通す
る排出管ｚｔａ 、 ２１ｂを用いた場合であり、この
場合は、ガスＧおよび支燃気体５２５１管路２２ｍ 、
２２ｂを介し、各気密室４ａ ｌ ４ｂ ”供給され
る一方、ケース１ｍ、ｊｂへ螺入する排出管２１ｍ 、
２１ｂの先端と弁体εとのｉＪ１隙から外部へ放出さ
れるものとなっており、この間隙量が各気密室４ｍ、４
ｂ内の圧力と比例して変化し、これに応じた流通量のガ
スＧおよび支燃気体Ｓが放出されるため、第１図と同様
、各気密室４ ａ ｅ Ｊ ｂ内の圧力が一定に保たれ
るものとな−っている。
したがって、第１図またはＩ！２図の構成によれば、ガ
スＧが支燃気体Ｓにより常に定率として希釈されるため
、ガス用カロリーメータ１２によるガスＧの熱欧剣定が
常時正確に行なわれる。
スＧが支燃気体Ｓにより常に定率として希釈されるため
、ガス用カロリーメータ１２によるガスＧの熱欧剣定が
常時正確に行なわれる。
ただし、ケース１ａ、１ｂの形状は条件に応じた選定が
可能であると共に、連通孔１０ｍ 、 １０ｂを単なる
透孔としても同様であり、ガスＧの支燃気体Ｓによる希
釈のみならず、各種の基準気体を他種の希釈気体によシ
定率希釈する場合にも適用できる等、種々の賢形が自在
である。
可能であると共に、連通孔１０ｍ 、 １０ｂを単なる
透孔としても同様であり、ガスＧの支燃気体Ｓによる希
釈のみならず、各種の基準気体を他種の希釈気体によシ
定率希釈する場合にも適用できる等、種々の賢形が自在
である。
以上の説明により明らかなとおり本発明によれば、２種
の気体を各一定比率にょシ安定かつ正確Ｋ・昆合し、定
率希釈が行なわれるため、ガスの熱量測定用希釈および
各種気体の定率希釈用として顕著な効果が得られる。
の気体を各一定比率にょシ安定かつ正確Ｋ・昆合し、定
率希釈が行なわれるため、ガスの熱量測定用希釈および
各種気体の定率希釈用として顕著な効果が得られる。
図は本発明の実権列を示し、第１図は全構成の要部断面
図、第２図は他の実権列を示す断面図である。 １ａ、Ｉｂ・・・ｅケース、３・・・・ダイヤフラム、
４ａ・・・・第１気譜室、４ｂ・・ｅ・第２気密室、５
＆ １５ ｂ ＠ ＠ ＠ ＠弁座、ｆｉａ、＠ｂ
、 ６・・・・弁体、９・・・・見合室、１０ａ、ＩＱ
ｂ・・・・連通孔、１２・・・・ガス用カロリーメータ
、１５・・・・バイパス路、２１ａ、２１ｂ・・・・！
非出管、２２ａ ｅ ２２ｂ・・・・管路、Ｇ・・・・
ガス（基準気体）、Ｓ・・・・支燃気体（希釈気体）、
Ｍ・−・・混合気体、 特許出願人 山武ハネウェル株式会社代珊八 山川政
樹（ほか１名）
図、第２図は他の実権列を示す断面図である。 １ａ、Ｉｂ・・・ｅケース、３・・・・ダイヤフラム、
４ａ・・・・第１気譜室、４ｂ・・ｅ・第２気密室、５
＆ １５ ｂ ＠ ＠ ＠ ＠弁座、ｆｉａ、＠ｂ
、 ６・・・・弁体、９・・・・見合室、１０ａ、ＩＱ
ｂ・・・・連通孔、１２・・・・ガス用カロリーメータ
、１５・・・・バイパス路、２１ａ、２１ｂ・・・・！
非出管、２２ａ ｅ ２２ｂ・・・・管路、Ｇ・・・・
ガス（基準気体）、Ｓ・・・・支燃気体（希釈気体）、
Ｍ・−・・混合気体、 特許出願人 山武ハネウェル株式会社代珊八 山川政
樹（ほか１名）
Claims (2)
- （１）基準気体および希釈気体が各個に供給される第１
気密室および第２気密寛を仕切るダイヤフラムと、前記
第１および第２気密室へ各個に設けられかつ前記ダイヤ
プラムにより制御される前記第１および第２気密室と外
部との間の気体流通量を可変する流量制御機構と、前記
第１および第２気密室とｔ昆合室との閾へ各個に設けら
れた希釈比率に応する内径の連通孔とを備えたことを％
微とする気体の定率希釈装置。 - （２）基準気体および希釈気体が各個に供給される第１
気密室および第２気密室を仕切るダイヤフラムと、前記
第１および第２気密室へ各側に設けられかつ前記ダイヤ
フラムによシ制御される前記第１および第２気密室と外
部との・閾の気体流通量を可変する流量制御機構と、前
記第１および第２気密室と甑合室との閾へ各個に設けら
れ九希釈比皐にδする内径の連通孔と、前記“毘合室か
らの見合気体を排出するバイパス路とを備えたことを％
像とする気体の定率希釈装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP211882A JPS58118944A (ja) | 1982-01-09 | 1982-01-09 | 気体の定率希釈装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP211882A JPS58118944A (ja) | 1982-01-09 | 1982-01-09 | 気体の定率希釈装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58118944A true JPS58118944A (ja) | 1983-07-15 |
| JPH0150851B2 JPH0150851B2 (ja) | 1989-10-31 |
Family
ID=11520429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP211882A Granted JPS58118944A (ja) | 1982-01-09 | 1982-01-09 | 気体の定率希釈装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58118944A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006292390A (ja) * | 2005-04-06 | 2006-10-26 | Dkk Toa Corp | 希釈装置 |
| WO2010141096A1 (en) * | 2009-06-05 | 2010-12-09 | Xy, Llc | Continuously regulated precision pressure fluid delivery system |
-
1982
- 1982-01-09 JP JP211882A patent/JPS58118944A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006292390A (ja) * | 2005-04-06 | 2006-10-26 | Dkk Toa Corp | 希釈装置 |
| JP4644023B2 (ja) * | 2005-04-06 | 2011-03-02 | 東亜ディーケーケー株式会社 | 希釈装置 |
| WO2010141096A1 (en) * | 2009-06-05 | 2010-12-09 | Xy, Llc | Continuously regulated precision pressure fluid delivery system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0150851B2 (ja) | 1989-10-31 |
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