JPS58108538A - 捺染用積層感光性樹脂フイルム - Google Patents

捺染用積層感光性樹脂フイルム

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Publication number
JPS58108538A
JPS58108538A JP20839481A JP20839481A JPS58108538A JP S58108538 A JPS58108538 A JP S58108538A JP 20839481 A JP20839481 A JP 20839481A JP 20839481 A JP20839481 A JP 20839481A JP S58108538 A JPS58108538 A JP S58108538A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive
photosensitive resin
film
layer
photosensitivity
Prior art date
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Pending
Application number
JP20839481A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeo Inoguchi
猪口 茂男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NIPPON KANKOUSHI KOGYO KK
Original Assignee
NIPPON KANKOUSHI KOGYO KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NIPPON KANKOUSHI KOGYO KK filed Critical NIPPON KANKOUSHI KOGYO KK
Priority to JP20839481A priority Critical patent/JPS58108538A/ja
Publication of JPS58108538A publication Critical patent/JPS58108538A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/095Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明番コ、厚い感光層が被着されていても良好な感光
性能を発揮する捺染用積層感光性4111イルムに係る
もので、ジアゾエユウム化合6−PVA糸やスチルパゾ
リエウム基導入PVA系のような水現像性の感光性樹脂
液又は感光性樹脂エマルジョンを担体フィルム上に複数
回塗布乾燥してなる感光性樹脂フィルムにおいて、複写
原稿に接する上層面傭の感光適度を基準とし、下層程感
光速度の早い感光性樹脂材を使用して厚手の積層感光性
#Ij1フィルムを形成せしめた事を特徴とするもので
ある。
この場合、厚さを!SO声以上舊:彫成し、各層ごとに
感光過度に羞をつけ、下層の感光速度を上層の感光適度
より1.5〜!S倍に設定することが望ましい・ 水梶像性の感光性樹脂層は一般に水溶性感光樹脂に、必
要な特性に応じてPVA、@酸ビエルエマルジ璽ン等を
混合し1例えば捺染用写真蓋やスクリン印刷版に例をと
れば、枠に張った紗若しくはスクリーンにスキージで手
工的に1記波を塗布乾燥して得られる。
しかしこの方法によって得られる感光膜は1同塗布で数
々り騨ンの厚さにすぎず、厚手の感光膜を得るには多数
−の重ね塗り・を行っている。
これは職人的H!袷を豐するだけでなく、多大の時間を
要し、又厚さもそれ程の均一性や厚味が期待されず、失
敗率も多いのが実態である@これを改善するために最近
厚膜と称して40〜50声程度の厚さの感光性樹脂膜が
作られ市販されているが、厚1と匂で表向平滑性もよく
気泡も含まぬ様にし、更に解像力を上げる事は水現像糸
では極めてむずかしい為に現実には50声以上の厚さの
ものは殆んど市販されていない。
しかし古くより使用される捺染用型地紙は1!IQ声〜
300μの厚さのものが大部分である為、50声。
以上、特に100戸〜2、oo声の既製感光性wk展に
対する髪望は強い。
この超厚膜の纒造研兜に於いて1次の橡な畿つかの重要
な一点がある。
(1)  厚くなる程光透過性が低下する。
(2)  従って光−向が感光し樹脂破化しても内部や
反対−はいまだ感光が不充分である可能性が高い。
この事は硬化不良により水挑像後の調像の精度不良や落
版のおき易い畳を意味する◎(3)  厚膜の乾燥に当
っては、中に含まれた気泡がなかなか逃げきらず、或い
は溶剤が気化して膜中に9瞭を作ったままになる等の欠
点があり、更には1表向が早く乾燥皮膜をつくり、中か
らの蒸発気体で表−が噴火口状ζ:なる事がある。
これらの欠点を解決するため、研死の結果次の改曽策に
#辿し1本発明を完成したのである。
第1の特徴は、感光性*myイルムの深部はと感度を早
くすることである。
この結果、厚膜は無光された時、上層(光源に近い部分
)は光は強く当るが急変を迩(シ、下層は光が弱まって
いるがa!Ii&が早いために4111層硬化は上下層
ともバランスがとれ、従って、儒写される両像は厚味方
向で乱れる事なく精度のある調像が得られる・ #12の特徴は、厚膜製造の場合に一挙に金層を作らず
、薄膜を積層する多段コート法をとり、各層ハ感度・組
成の違う液をコートすることである。
この為各層は薄いので乾燥は容品であり、厚層1直艙り
の為に生ずるトラプルも解消される・更に付随して有利
となる点は、各層をその目的別に組成を変え得る点であ
る。
膝染用渥を例にとって、具体的に説明すれば、第1層(
原稿に綾する層)は担体フィルふと剥離性がよい事が必
要であるのでべたつきの少ない樹脂層成とする・ 最終層(枠のスタツフに貼りつけられる層)は紗との接
着性がよい事、耐層性のある◆、耐油性のある事等が望
まれるので、各層の乳剤組成にもそれなりの配慮を加え
る事が出来るなど幾多の実用性秀れた特員を有する豪染
用槍層感光性411 Ji1yイルムとなる。
なお感光過度#錆は一一厳光剤であれば、実N例に見る
通り感光剤量を皺化する41(二より容易に達せられ、
感光剤が多いと感度は低く、少ないと感度が^(なる。
なお感光剤を変える事によっても達成され、スチルパゾ
ール糸の感光剤はe〜10*iM感度が早い事が知られ
ている・ 次に本発明の実施例を示すと次の通りである。
PVA     5050 PVAC5050 ジアゾ感光剤      0.6   0.4膜   
 厚      40/II   40声   針80
声上記処方で1111層40声、第2層40声を重ね艙
りし80声の厚膜な作った所、きれいな100μm―鎗
が得られた。
厚膜の今1つの欠点は、その膜厚の故に無光時間を長く
かける必要がある事にある。
特に蝦下層まで充分に襄光し、値脂を硬化させるために
は、必要以上の露光を必要とする〇勿−ジアゾllll
11都でも厚膜は出来るが、その黄色着色のために紫外
−はより多く消費され、なかなか深部まで到達しにくい
欠点がある。
叉一部を硬化させるための嵐光で、上層部は露光1m化
不要の部分まで硬化する楓艇時間篇光される恐れもあり
、本来的には黄色着色は好ましくないし線光過度のより
早いものが望まれる・この点スチルパゾリエウ^基導入
PVムは無着色に近く又感度的にも極めて有利であり史
には分子構造的にも変化の自膚良烏く、感度蛮更もより
可能であるという大きな利点があり厚膜構成口とり大き
な特徴を有している。
ただ最近開発されたものであるのでコス)為はいなめず
、そのためにその有利性はあっても実際上厚膜として使
いこなすには内鑵な場合があり得る。
かかる場合多層構造である事はその深部のみをスチルパ
乃具つ^基導入PVA◆の高S良品とし、浅部はジアゾ
エエウム感光性樹脂とする手段もとり得ることになり、
例えば波状では両者混合出来ないものでも、多層構造の
故に併用出来る利点がある。
実施例2 亀1層−) @2層−) PVA     5G50 PVAC(Ml’r5℃>    50 (MFTd’
G15 Gジアゾ感光剤     0.6   0.4
膜    厚      sO声   40声   計
90声P■ムC0M1’T(被膜形成温度)を変える事
にょう表面はべたつきなく、裏面は接層のよい膜を褥た
夷1例3 11B1 jlKm)  第2 )II(b)  18
31(c)PVA     80  60   50P
VムCto   40    !S。
ジアゾ感光剤り、S    OJ     o、4裏 
   厚      10/l    50/1   
 6011 針150p感度差を与えない1hOp@で
は15〜20分の篇光を必要とする所7分の無光でよか
った〇なお(2)−は3層例を示したもので、符号(1
)は担体アイルムである・
【図面の簡単な説明】
I!2IIIliは本製品の1lTdiJ図である。 (1)・・担体フィルム。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ジアゾ1晶つふ化合物−PV人糸やスチルパゾリエ
    ウム基導入PVA、&のような水現像性の感光性樹脂液
    又は感光性樹脂エマルジョンを担体フィルム上C二II
    敗回塗布乾燥してなる感光性11filフイルムにおい
    て、複写原稿に接する上層1四の感光速度を基準とし、
    下層1MmJIt過度の早い賑光性at脂材を一使用し
    て厚手の積層感光性11j&フイルムを形成せしめた事
    を特徴とする捺染用積層感光性樹脂フィル^0 2 厚さをGO声以上に形成した特許請求の範III亀
    1項記載の捺染用積層感光性樹Jiiフィル五〇 3 各層ごとに感光速度a:差をつけた4HfF−求の
    範凹第1JIJ紀威の捺染用積層感光性W&フィルム。 4 下層の感光速度を上層の感光速度より1.5〜6倍
    に設定した特許請求の範H動1狽記載の捺染用積層感光
    性樹脂フィルム。
JP20839481A 1981-12-23 1981-12-23 捺染用積層感光性樹脂フイルム Pending JPS58108538A (ja)

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JP20839481A JPS58108538A (ja) 1981-12-23 1981-12-23 捺染用積層感光性樹脂フイルム

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JPS58108538A true JPS58108538A (ja) 1983-06-28

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ID=16555526

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JP20839481A Pending JPS58108538A (ja) 1981-12-23 1981-12-23 捺染用積層感光性樹脂フイルム

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100477983B1 (ko) * 1997-08-04 2005-07-07 삼성에스디아이 주식회사 고감도를가진포토레지스트조성물

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5785048A (en) * 1980-11-17 1982-05-27 Daicel Chem Ind Ltd Exposed photosensitive diazo film for making screen plate

Patent Citations (1)

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KR100477983B1 (ko) * 1997-08-04 2005-07-07 삼성에스디아이 주식회사 고감도를가진포토레지스트조성물

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