JPS58108401U - 照明装置の光束しぼり - Google Patents

照明装置の光束しぼり

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JPS58108401U
JPS58108401U JP458582U JP458582U JPS58108401U JP S58108401 U JPS58108401 U JP S58108401U JP 458582 U JP458582 U JP 458582U JP 458582 U JP458582 U JP 458582U JP S58108401 U JPS58108401 U JP S58108401U
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JP
Japan
Prior art keywords
luminous flux
lighting equipment
light beam
flux reduction
abstract
Prior art date
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Pending
Application number
JP458582U
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English (en)
Inventor
田中　弘造
Original Assignee
ワシノ機械株式会社
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Filing date
Publication date
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Priority to JP458582U priority Critical patent/JPS58108401U/ja
Publication of JPS58108401U publication Critical patent/JPS58108401U/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Machine Tool Sensing Apparatuses (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は、光倣い研削盤の一般的な装置を示した説明図
、第２図は、被研゛削材の前後の光束、光軸関係を示す
説明図、第３図は、本考案の装置の正面断面図である。 図面中の主要部分を表わす符号の説明、１・・・光倣い
研削器、３・・・被研削材、５・・・スクリーン、７・
・・砥石車、２９・・・砥石車像、３１・・・被研削材
像、３３・・・光束、３７・・・光軸、４１・・・内径
穴、４３・・・リング状遮光板。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 厚みのある不透明な物体に光束を照射して、該物体の外
    周輪郭の陰影を利用する装置において、光束照射源と上
    記物体の間に光束断面を縮小する交換容易な複数のしぼ
    りリング板を設けたことを特徴とする照明装置の光束し
    ぼり。
JP458582U 1982-01-19 1982-01-19 照明装置の光束しぼり Pending JPS58108401U (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62173736U (ja) * 1986-04-22 1987-11-05

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5459951A (en) * 1977-10-21 1979-05-15 Olympus Optical Co Ltd Transmission lighting device for microscopes
JPS56165112A (en) * 1979-11-21 1981-12-18 Zeiss Stiftung Transmitting light illuminator for microscope

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