JPS58107526A - 密着露光焼付装置 - Google Patents
密着露光焼付装置Info
- Publication number
- JPS58107526A JPS58107526A JP20665981A JP20665981A JPS58107526A JP S58107526 A JPS58107526 A JP S58107526A JP 20665981 A JP20665981 A JP 20665981A JP 20665981 A JP20665981 A JP 20665981A JP S58107526 A JPS58107526 A JP S58107526A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- exposure
- light source
- disk
- shielding
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/72—Controlling or varying light intensity, spectral composition, or exposure time in photographic printing apparatus
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Control Of Exposure In Printing And Copying (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、フィルム等の密着露光焼付機等において、特
に、光源が強すぎて露光時間が短かすぎ露光量の制御が
困難な場合ｃ０１単位時間当りの露光量を減じることに
より、露光時間をのばし、露光時間を正確にかつ容易に
制御できる密着露光焼付装置の改良に関する。
に、光源が強すぎて露光時間が短かすぎ露光量の制御が
困難な場合ｃ０１単位時間当りの露光量を減じることに
より、露光時間をのばし、露光時間を正確にかつ容易に
制御できる密着露光焼付装置の改良に関する。
一般に密着露光焼付機においては、写真フィルム、印画
紙、印刷版材等の感光材料（以下フィルムと呼称する）
に応じてつねに適正な露光を与えることは被露光フィル
ムの結果画像品質水準を維持する上で最も重要である。
紙、印刷版材等の感光材料（以下フィルムと呼称する）
に応じてつねに適正な露光を与えることは被露光フィル
ムの結果画像品質水準を維持する上で最も重要である。
これを実現するためには、フィルムの特性や焼付原稿の
状態等に応じて、実際の露光量を制御し、もって適正な
露光を与えるようにする必要がある。
状態等に応じて、実際の露光量を制御し、もって適正な
露光を与えるようにする必要がある。
露光量を制御する方法としては、従来より、光源の入力
電圧をスライダツクス等で調節し、それにより光源の出
力を変える方法と、１光時間を変え不方法の一方又は両
方の制御を行うことが一般的である。
電圧をスライダツクス等で調節し、それにより光源の出
力を変える方法と、１光時間を変え不方法の一方又は両
方の制御を行うことが一般的である。
しかしながら、前記のように、光源の出力が強すぎる場
合には、露光時間が例えば１〜２秒と短時間になれば、
露光時間を正確に制御して、適正露光量を得るのは、は
なはだ困難である。１台の焼付機で感度が極端に異なる
フィルム、例えばオートポジフィルムとリスフィルムが
使用される場合、感度の低い感材に対して、適当な露光
時間がとれる焼付機とすれば、高感度の感材に対しては
、極端に露光時間を短かくせざるをえない。また、光源
の出力を落として、露光時間の制御が容易な時間に伸ば
そうとしても、焼付用光源として、水銀灯、メタルハラ
イドランプのような放電灯では、点灯制御困難となる。
合には、露光時間が例えば１〜２秒と短時間になれば、
露光時間を正確に制御して、適正露光量を得るのは、は
なはだ困難である。１台の焼付機で感度が極端に異なる
フィルム、例えばオートポジフィルムとリスフィルムが
使用される場合、感度の低い感材に対して、適当な露光
時間がとれる焼付機とすれば、高感度の感材に対しては
、極端に露光時間を短かくせざるをえない。また、光源
の出力を落として、露光時間の制御が容易な時間に伸ば
そうとしても、焼付用光源として、水銀灯、メタルハラ
イドランプのような放電灯では、点灯制御困難となる。
また入力電圧を落とした場合、その光源の色温度が変化
するため、露光量を計測する積算光量計にそれに対応す
る補正が必要ともなる。
するため、露光量を計測する積算光量計にそれに対応す
る補正が必要ともなる。
一方、レンズを使用した露光焼付機においては、レンズ
の絞り等で露光を制限して露光時間を伸ばす方法も考え
られるが、この方法では焼付面の照度分布が変化し、照
度分布が均一な比較的中央の部分でしか品質のよい焼付
けが行えないという欠点がある。
の絞り等で露光を制限して露光時間を伸ばす方法も考え
られるが、この方法では焼付面の照度分布が変化し、照
度分布が均一な比較的中央の部分でしか品質のよい焼付
けが行えないという欠点がある。
そこで本発明は、以上の従来技術の不具合を回避するた
め案出されたもので、露光焼付面における照度を、照度
分布を変化させることなく、制御し、それによって、露
光量を容易かつ精密に制御可能とする装置を提供するも
のである。
め案出されたもので、露光焼付面における照度を、照度
分布を変化させることなく、制御し、それによって、露
光量を容易かつ精密に制御可能とする装置を提供するも
のである。
以下本発明の実施例を示す図面にしたがって説明する。
第１図は密着焼付機を。示すものであるが、密着焼付機
の基本的な構成は、密着部と露光用光源とから成ってい
る。すなわち、１は本体、２はステージガラス、６は密
着シート、４は遮光円板、５はモーター、６は光源であ
り、該遮光円板４はモーター５により垂直軸７を介して
回転されるような構造になっている。
の基本的な構成は、密着部と露光用光源とから成ってい
る。すなわち、１は本体、２はステージガラス、６は密
着シート、４は遮光円板、５はモーター、６は光源であ
り、該遮光円板４はモーター５により垂直軸７を介して
回転されるような構造になっている。
遮光円板４は、第２図に示すように、放射状にスリット
８を切欠いており、前記光源６の位置はステージガラス
２の中央直下にあるため、該遮光円板４は、本体１の中
央よりやや偏位して設けている。したがって、光源６か
ら発散した光の中心は遮光円板４の中心と円周との中間
部を透過するようになっている。これにより、遮光円板
４を回転させると、光源６からの光は透過・遮断を繰返
し、光の点滅が行われることになる。
８を切欠いており、前記光源６の位置はステージガラス
２の中央直下にあるため、該遮光円板４は、本体１の中
央よりやや偏位して設けている。したがって、光源６か
ら発散した光の中心は遮光円板４の中心と円周との中間
部を透過するようになっている。これにより、遮光円板
４を回転させると、光源６からの光は透過・遮断を繰返
し、光の点滅が行われることになる。
以上のような構成をとる実施例で、露光時においては、
遮光円板４をそのスリット８による光の点滅が露光時間
に対し、かなり短い周期となるような速度で回転させな
がら、光源６から光を発散させる。したがって、光源６
よりの光のうちスリット８を透過したもののみが、ステ
ージガラス２上に載置されたフィルムの焼付面に達する
ため、度の光量が焼付面に達することになり、単位時間
当りの露光量を減少せしめ、露光時間を延長することが
できる。
遮光円板４をそのスリット８による光の点滅が露光時間
に対し、かなり短い周期となるような速度で回転させな
がら、光源６から光を発散させる。したがって、光源６
よりの光のうちスリット８を透過したもののみが、ステ
ージガラス２上に載置されたフィルムの焼付面に達する
ため、度の光量が焼付面に達することになり、単位時間
当りの露光量を減少せしめ、露光時間を延長することが
できる。
なお、遮光円板４の回転スピードは速いほどよいが実際
上は単位時間当りスリット８の通過数は１秒間当り１０
個程度通過する速さであれば充分である。
上は単位時間当りスリット８の通過数は１秒間当り１０
個程度通過する速さであれば充分である。
ここで、遮光円板４とスリット８との面積比を変えれば
、焼付面に到達する光量を変更できる。
、焼付面に到達する光量を変更できる。
第３図に示すものは、遮光円板４の他の実施例で、第２
図のスリット８のかわりに切り欠き部８′を設けている
。
図のスリット８のかわりに切り欠き部８′を設けている
。
第４図および第５図に示すものは、第６の実施例で、第
２図および第３図に示す遮光円板４の代りに、スリット
８窃入った遮光エンドレスベルト９を使用している。該
エン、ドレスベルト９はローラ１０．１１．１２．１６
に係架され、図示しないモーターによって回転される。
２図および第３図に示す遮光円板４の代りに、スリット
８窃入った遮光エンドレスベルト９を使用している。該
エン、ドレスベルト９はローラ１０．１１．１２．１６
に係架され、図示しないモーターによって回転される。
この実施例でも、遮光円板４の場合と同様、遮光エンド
レスベルト９とそのスリット８Ｎの面積比を変えれば、
焼付面に到達する光量を変更できる。
レスベルト９とそのスリット８Ｎの面積比を変えれば、
焼付面に到達する光量を変更できる。
１枚の遮光円板又は遮光エンドレスベルトのスリット幅
を段階的に変化させ、それに合わせて遮光円板を平行移
動可能とすれば、１枚の遮光円板（ベルト）で多段階の
光量制御も可である。
を段階的に変化させ、それに合わせて遮光円板を平行移
動可能とすれば、１枚の遮光円板（ベルト）で多段階の
光量制御も可である。
さらには、スリットは等間隔に設けることが好ましいが
、必ずしもそうでなくてもよい。
、必ずしもそうでなくてもよい。
以上要するに本発明は、露光用の感光材料と光源との間
に、光の透過部と非透過部との面積比に ９・・・
遮光工ごよって光量に変更を与える遮光体を介在させ、
該遮光体を前記光源上で移動させることを特徴とする密
着露光焼付装置であるから次の効果を奏する。
に、光の透過部と非透過部との面積比に ９・・・
遮光工ごよって光量に変更を与える遮光体を介在させ、
該遮光体を前記光源上で移動させることを特徴とする密
着露光焼付装置であるから次の効果を奏する。
■透過部と非透過部との面積比によって光量に変更を与
える遮光体を使用したので、照度の分布は影響されるこ
とがなく、光の光量のみに変更を与えることができる。
える遮光体を使用したので、照度の分布は影響されるこ
とがなく、光の光量のみに変更を与えることができる。
■光量のみに変更を与えるので、露光時間が正確に制御
可能となって、最適露光が得られる。
可能となって、最適露光が得られる。
■光源自体の色温度を変えず、介在する遮光体のみの変
更を与えるので、露光装置の他の部分にその変更が及ば
ず、複数種のフィルムを使用しても１台の密着露光焼付
装置で正確に露光ができる。
更を与えるので、露光装置の他の部分にその変更が及ば
ず、複数種のフィルムを使用しても１台の密着露光焼付
装置で正確に露光ができる。
第１図は本発明の実施例の全体の側面図、第２図は遮光
円板の平面図、第３図は他の遮光円板の平面図、第４図
は他の実施例の全体の側面図、第５図は遮光エンドレス
ベルトの平面図を示す。 ４・・・遮光円板、６・・・光源、８．８・・・スリッ
ト、メトレスベルト 第１図 第２図 第３図 ｒて− 第４図
円板の平面図、第３図は他の遮光円板の平面図、第４図
は他の実施例の全体の側面図、第５図は遮光エンドレス
ベルトの平面図を示す。 ４・・・遮光円板、６・・・光源、８．８・・・スリッ
ト、メトレスベルト 第１図 第２図 第３図 ｒて− 第４図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （１）露光用の感光材料と光源との間に、光の透過部と
非透過部との面積比によって光量に変更を与える遮光体
を介在させ、該遮光体を前記光源上で移動させることを
特徴とする密着露光焼付装置 （２）遮光体を遮光円板とし、該円板を回転させる特許
請求の範囲第１項に記載の密着露光焼付装置（３）遮光
体を遮光エンドレスベルトとし、該エンドレスベルトを
回動させる特許請求の範囲第１項に記載の密着露光焼付
装置 （４）単一の遮光体上に複数の面積比の透過部、非透過
部を設け、それに対応して遮光体を平行移動可能とした
特許請求の範囲第（１）項から第（６）項のうちいずれ
か１項に記載の密着露光焼付装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20665981A JPS58107526A (ja) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | 密着露光焼付装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20665981A JPS58107526A (ja) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | 密着露光焼付装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58107526A true JPS58107526A (ja) | 1983-06-27 |
Family
ID=16527004
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20665981A Pending JPS58107526A (ja) | 1981-12-21 | 1981-12-21 | 密着露光焼付装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58107526A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03287152A (ja) * | 1990-04-02 | 1991-12-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 複写装置 |
| JP2015001487A (ja) * | 2013-06-18 | 2015-01-05 | スガ試験機株式会社 | 耐候性試験機 |
-
1981
- 1981-12-21 JP JP20665981A patent/JPS58107526A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03287152A (ja) * | 1990-04-02 | 1991-12-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 複写装置 |
| JP2015001487A (ja) * | 2013-06-18 | 2015-01-05 | スガ試験機株式会社 | 耐候性試験機 |
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