JPS58100398A - プラズマ装置 - Google Patents
プラズマ装置Info
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- JPS58100398A JPS58100398A JP56197734A JP19773481A JPS58100398A JP S58100398 A JPS58100398 A JP S58100398A JP 56197734 A JP56197734 A JP 56197734A JP 19773481 A JP19773481 A JP 19773481A JP S58100398 A JPS58100398 A JP S58100398A
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- JP
- Japan
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- potential
- plasma
- anode
- cathode
- magnetic field
- Prior art date
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- Pending
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E30/00—Energy generation of nuclear origin
- Y02E30/10—Nuclear fusion reactors
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の属する技術分野
本発明は開放系磁場による長時間のプラズマの必要なこ
とはよく知られているが、核融合炉以外の用途に使用さ
れるプラズマ装置に於ても、閉じ込め時間を長くすれば
プラズマ発生装置の消資電力が少くて済み、プラズマの
密度を高くすることができ、更にプラズマを包囲する固
体壁への熱入力が幅減されるなど、大舞な効果が得られ
る。開放系磁場によるプラズマ閉じ込めで閉じ込め時間
を長くするため(は、開放端におけるプラギングが必要
とされる。このことは、九とえば、ClGormeza
no:Reduction of Losses in
Open−JndedMagnetic Traps
:Nuclear F’usion 、 19 (’
79 ) e8.1085などの文献に記載されている
。
とはよく知られているが、核融合炉以外の用途に使用さ
れるプラズマ装置に於ても、閉じ込め時間を長くすれば
プラズマ発生装置の消資電力が少くて済み、プラズマの
密度を高くすることができ、更にプラズマを包囲する固
体壁への熱入力が幅減されるなど、大舞な効果が得られ
る。開放系磁場によるプラズマ閉じ込めで閉じ込め時間
を長くするため(は、開放端におけるプラギングが必要
とされる。このことは、九とえば、ClGormeza
no:Reduction of Losses in
Open−JndedMagnetic Traps
:Nuclear F’usion 、 19 (’
79 ) e8.1085などの文献に記載されている
。
プラギングには高同波によるものと静電場(よるものが
あり、静電肛よるものには電極を用いる電極法と、タン
デムZラー形磁場による両極性電位閉じ色めかあり、こ
れらはいずれも研究途上にある。この電極法には、カス
プ磁場のポイント及びラインカスプに陽極及び陰極から
なる静電プラグを用いた電磁トラップがある。第1図は
電磁トラップの原理図で、文献T、J、Dolan、B
、L、8tan−s−fie4d and J、M、L
arsen : Plasma Potentiali
nelectrostatically Plugge
d cusps and m1rrors :The
Phycics of I’1uids、 18(’7
5)、10.1383に掲載され友ものである。
あり、静電肛よるものには電極を用いる電極法と、タン
デムZラー形磁場による両極性電位閉じ色めかあり、こ
れらはいずれも研究途上にある。この電極法には、カス
プ磁場のポイント及びラインカスプに陽極及び陰極から
なる静電プラグを用いた電磁トラップがある。第1図は
電磁トラップの原理図で、文献T、J、Dolan、B
、L、8tan−s−fie4d and J、M、L
arsen : Plasma Potentiali
nelectrostatically Plugge
d cusps and m1rrors :The
Phycics of I’1uids、 18(’7
5)、10.1383に掲載され友ものである。
図中の符号11)は2個1組のコイルで2軸のまわ抄に
軸対称に捲かれ、カスプ磁場を形成する。(2)はポイ
ントカスプに配役された中空円筒状の陽極、(,3)は
ポイントカスプに配役され九中空筒状の陰極、14)は
ラインカスプに配役された2個1組の環状の陽極、15
)はラインカスプに配役された2個1組の環状の陰極で
ある。この2個1組のコイル(1)に挾まれ九空聞及び
コイル(1)の内部の空間には一つの図示されない真空
容器が配設され、この真空容器にはプラズマとなるべき
気体が充填され、陰極(3)の少なくとも一方の陽極(
2)の反対の側には図示されない電子銃が配役され、こ
の電子銃から射出された電子は陰極(3)及び陽極(2
)を貫通して図示されない真空容器内部を運動し、充填
され九気体をイオン化してプラズマが形成される。点線
(6)は、プラズマの存在する空間の境界を示す。陰極
(3)及び陰極(5)の電位を零、陽極(2)及び陽極
(4)の電位をφ人とし九とき、Z軸近傍の空間電位φ
は第2図に示す様に分布する。プラズマの存在する空間
の電位はφeで、0くφeくφ人である。プラズマの存
在する空間の両側には、陽極12)の内部に電位の山が
形成され、電位の最も高い所で電位はφe+φ量 とな
る。イオンの電価をZC1電子の電価を一〇とおい友と
き、エネルギが”Zedr tより小さいイオン及び運
動エネルギがeφeより小さい電子はプラズマの存在す
る空間から磁場方向(脱出できず、イオンは矢印(力に
示す様に、電子は矢印18)K示す様に反射されてプラ
ズマに戻される。すなわち、プラズマのイオン温度をT
i、電子温度をTcとするとき、φi>>kTし/Ze
、φe >> kTe/8 、 ・−11)とする
ことにより、プラズマの開放端におけるプラギングがで
き、閉じ込め時間を格段に改善できることが、従来の電
磁トラップの効果で6つ九。
軸対称に捲かれ、カスプ磁場を形成する。(2)はポイ
ントカスプに配役された中空円筒状の陽極、(,3)は
ポイントカスプに配役され九中空筒状の陰極、14)は
ラインカスプに配役された2個1組の環状の陽極、15
)はラインカスプに配役された2個1組の環状の陰極で
ある。この2個1組のコイル(1)に挾まれ九空聞及び
コイル(1)の内部の空間には一つの図示されない真空
容器が配設され、この真空容器にはプラズマとなるべき
気体が充填され、陰極(3)の少なくとも一方の陽極(
2)の反対の側には図示されない電子銃が配役され、こ
の電子銃から射出された電子は陰極(3)及び陽極(2
)を貫通して図示されない真空容器内部を運動し、充填
され九気体をイオン化してプラズマが形成される。点線
(6)は、プラズマの存在する空間の境界を示す。陰極
(3)及び陰極(5)の電位を零、陽極(2)及び陽極
(4)の電位をφ人とし九とき、Z軸近傍の空間電位φ
は第2図に示す様に分布する。プラズマの存在する空間
の電位はφeで、0くφeくφ人である。プラズマの存
在する空間の両側には、陽極12)の内部に電位の山が
形成され、電位の最も高い所で電位はφe+φ量 とな
る。イオンの電価をZC1電子の電価を一〇とおい友と
き、エネルギが”Zedr tより小さいイオン及び運
動エネルギがeφeより小さい電子はプラズマの存在す
る空間から磁場方向(脱出できず、イオンは矢印(力に
示す様に、電子は矢印18)K示す様に反射されてプラ
ズマに戻される。すなわち、プラズマのイオン温度をT
i、電子温度をTcとするとき、φi>>kTし/Ze
、φe >> kTe/8 、 ・−11)とする
ことにより、プラズマの開放端におけるプラギングがで
き、閉じ込め時間を格段に改善できることが、従来の電
磁トラップの効果で6つ九。
この電磁トラップにも、次の様な問題点が6つ九、tI
Ii2図に示す如く、陽極(2)の内部に於て、空間電
位は最大φi+φeとなるが、 −=φN−(φ轟+φC) 曲・曲(2)で与
えられる陽極電位と空間電位の差Δφは零にならず、へ
−〉0である。Δφが形成される原因は陽極の内部(電
子が捕獲されて電子群を形成されることである。Δφは
Z軸からのWmrの関数であり。
Ii2図に示す如く、陽極(2)の内部に於て、空間電
位は最大φi+φeとなるが、 −=φN−(φ轟+φC) 曲・曲(2)で与
えられる陽極電位と空間電位の差Δφは零にならず、へ
−〉0である。Δφが形成される原因は陽極の内部(電
子が捕獲されて電子群を形成されることである。Δφは
Z軸からのWmrの関数であり。
Δφ=Δφ(r)
とあられすことができる。電子群の作る電場の向きを考
慮して。
慮して。
であることがわかる。Z軸上で電場のr成分は0である
から、Δφはr;oで最大値へφmHz。
から、Δφはr;oで最大値へφmHz。
Δφmax”Δφ(0)
をとる。従って帰極内で、Z軸上の電位は式(2)より
、 φi+φe=φA−Δφmax となる。φiとφeはプラズマの粒子数平衡等で定−ま
石が、概ね同様程度の大きさで、φi〜φeであるから
、Z軸上で、 となる。電磁トラップに於ては、Δφmayが非常に大
きくなり、はとんどφ入に等しくなる結果、Z軸上すな
わちr=Qで、 φi〜φego、r=0 −・曲−・f3)となり、
式(1)が成立しないことが知られている。
、 φi+φe=φA−Δφmax となる。φiとφeはプラズマの粒子数平衡等で定−ま
石が、概ね同様程度の大きさで、φi〜φeであるから
、Z軸上で、 となる。電磁トラップに於ては、Δφmayが非常に大
きくなり、はとんどφ入に等しくなる結果、Z軸上すな
わちr=Qで、 φi〜φego、r=0 −・曲−・f3)となり、
式(1)が成立しないことが知られている。
しかし、陽極内の大部分では式(1)が成立し1式(3
)はrの非常に小さい部分だけで成立するから電磁トラ
ップでは静電プラグのプラズマ閉じ込め時間を増加させ
る効果は大きいが、r=0で式(3)が成立する結果静
電プラグにロスパーチャが形成され、これを通してプラ
ズマが漏れる九め(、プラズマ閉じ込め時間の増加の効
果が制限されていた。
)はrの非常に小さい部分だけで成立するから電磁トラ
ップでは静電プラグのプラズマ閉じ込め時間を増加させ
る効果は大きいが、r=0で式(3)が成立する結果静
電プラグにロスパーチャが形成され、これを通してプラ
ズマが漏れる九め(、プラズマ閉じ込め時間の増加の効
果が制限されていた。
発明の目的
本発明はかかる事情Kl!みてなされ丸もので、その目
的とするところは、ロスアパーチャのない静電プラグを
設けることによシ、グツズ!閉じ込め時間を大幅に増加
させることのできる開放系プラズマ装置を実現すること
である。
的とするところは、ロスアパーチャのない静電プラグを
設けることによシ、グツズ!閉じ込め時間を大幅に増加
させることのできる開放系プラズマ装置を実現すること
である。
発明の概要
一本発明は陽極とその中空部を貫通する棒状部を有する
哨−陰極と、それより低電位の第二陰極を設け、各電極
の電位を制御することによ抄陽極の中空部の電位分布を
制御してプラズマの存在する空間の電位より^〈保ち、
もってはスアペーチャのない静電プラグを設は九プラズ
マ装置である。
哨−陰極と、それより低電位の第二陰極を設け、各電極
の電位を制御することによ抄陽極の中空部の電位分布を
制御してプラズマの存在する空間の電位より^〈保ち、
もってはスアペーチャのない静電プラグを設は九プラズ
マ装置である。
発明の実施例
2113図は本発明の一実施例を示すプラズマ装置の構
成図であ条、2個1組のコイル111は2軸のまわ抄に
軸対称に喝かれ、図示されない励磁電源とともに、プラ
ズマを収容する開放系磁場の一種のカスプ磁場を発生す
る装置を構成する。(4)はカスプ磁場の開放端のひと
つであるラインカスプに配設され九2個1組の環状の陽
極、(5)はラインカスプに配設され九2個1組の環状
の陰極で、ラインカスプに於て磁場の方向と平行な零で
ない成分を有する電場を形成する静電プラグを構成し、
2個1組の鋏コイル+1)K挾まれ九空聞及び骸コイル
11)の内部の空間くけ、一つの図示されない真空容器
が配設され、咳真空容器にはプラダ1塊界面(6)を定
める第一一が収容されている。プラズマの存在する空間
の電位φpは、誼第一一の電位φIで制御さ九る。すな
わち、#第一一とプラズマの間に存在するシースを介す
るプラズマ電子及びイオンの伝導によ抄、プラズマと咳
第一壁の電位差すなわちシース電圧φSが定まるから、 φp=φj+φS ・・・・・・・・(4
)によ抄、φpが定まる。
成図であ条、2個1組のコイル111は2軸のまわ抄に
軸対称に喝かれ、図示されない励磁電源とともに、プラ
ズマを収容する開放系磁場の一種のカスプ磁場を発生す
る装置を構成する。(4)はカスプ磁場の開放端のひと
つであるラインカスプに配設され九2個1組の環状の陽
極、(5)はラインカスプに配設され九2個1組の環状
の陰極で、ラインカスプに於て磁場の方向と平行な零で
ない成分を有する電場を形成する静電プラグを構成し、
2個1組の鋏コイル+1)K挾まれ九空聞及び骸コイル
11)の内部の空間くけ、一つの図示されない真空容器
が配設され、咳真空容器にはプラダ1塊界面(6)を定
める第一一が収容されている。プラズマの存在する空間
の電位φpは、誼第一一の電位φIで制御さ九る。すな
わち、#第一一とプラズマの間に存在するシースを介す
るプラズマ電子及びイオンの伝導によ抄、プラズマと咳
第一壁の電位差すなわちシース電圧φSが定まるから、 φp=φj+φS ・・・・・・・・(4
)によ抄、φpが定まる。
(9)は磁場方向に貫通し九中空部を有する陽極、OI
は板状部と棒状部で形成されゐ第一陰極、α劾は第二陰
極で、咳陽極(9)、第−陰極的、第二陰極a1)は一
部が図示される等−壁αりとともに静電プラグリを構成
し、本実施例ではカスプ磁場の開放端である二つのポイ
ントカスプにそれぞれ鍍静電プラグ(11が配設され、
該静電プラグIは以下に詳述する41に磁場の方向と平
行な零でない成分を有する電場な彫成す為。
は板状部と棒状部で形成されゐ第一陰極、α劾は第二陰
極で、咳陽極(9)、第−陰極的、第二陰極a1)は一
部が図示される等−壁αりとともに静電プラグリを構成
し、本実施例ではカスプ磁場の開放端である二つのポイ
ントカスプにそれぞれ鍍静電プラグ(11が配設され、
該静電プラグIは以下に詳述する41に磁場の方向と平
行な零でない成分を有する電場な彫成す為。
第4図は第3−に示す実施例の主要部の構成と作用を示
すもので、(1)は静電プラグ構成図、(b)は空間電
位φ(r、x)のr依存を示す線図、(C)は空間電位
φ(r、z)の8依存を示す線図である。
すもので、(1)は静電プラグ構成図、(b)は空間電
位φ(r、x)のr依存を示す線図、(C)は空間電位
φ(r、z)の8依存を示す線図である。
陽極(9)Kは電源(I4及び−により最も高い正の電
位−1が与えられ、咳陽極(9)の中空部のプラズマ側
の開口部の一部を覆う様に配役され丸板状部(10m)
と陽極(9)の中空部を貫通し鋏板状部(IOJI)K
固着された棒状部(10h)で形成される第一陰極QI
Kは咳電源14により正の電位φktが与えられ、陽極
19)の中空部のプラズマの反対側の開口部を覆う様に
配設され九第二陰極aυには電源α・によりプラズマの
存在する空間の電位φpよ)低い員の電位φに2が与え
られ、各電位の関には、 4kg<O<φkl <φ息 ・・・・・・
・・・(5)の喝係が成立する。第一一−qaは接地さ
れておシ、咳第一壁の内11にはシースα力を介してプ
ラズi舖が接触している。プラズマの存在する空間の電
位φ0は(4)から、φp=φSである。各電位φkt
eφkzpφaの絶対値は靜踵プラグが有効に作用する
ように大きくとられているから、1φp1(1φkIL
IφkzLφ2である。すなわち、15)を参照して。
位−1が与えられ、咳陽極(9)の中空部のプラズマ側
の開口部の一部を覆う様に配役され丸板状部(10m)
と陽極(9)の中空部を貫通し鋏板状部(IOJI)K
固着された棒状部(10h)で形成される第一陰極QI
Kは咳電源14により正の電位φktが与えられ、陽極
19)の中空部のプラズマの反対側の開口部を覆う様に
配設され九第二陰極aυには電源α・によりプラズマの
存在する空間の電位φpよ)低い員の電位φに2が与え
られ、各電位の関には、 4kg<O<φkl <φ息 ・・・・・・
・・・(5)の喝係が成立する。第一一−qaは接地さ
れておシ、咳第一壁の内11にはシースα力を介してプ
ラズi舖が接触している。プラズマの存在する空間の電
位φ0は(4)から、φp=φSである。各電位φkt
eφkzpφaの絶対値は靜踵プラグが有効に作用する
ように大きくとられているから、1φp1(1φkIL
IφkzLφ2である。すなわち、15)を参照して。
φkx<φpくφkl<φa ・・・・・・
・・・(6)が成立する。
・・・(6)が成立する。
発明の効果
かくして構成され九第4図(1)K実施例を示した静電
プラグIの作用と発明の効果を第4図(b)及び(C)
を参照して説明すると、陽極の中空SaWには、電磁ト
ラップのポイントカスプにおける静電プラグの陽極内部
と同様、電子が捕獲されて電子群を形成し、誼電子群が
作る空間電荷及び外部から各電極に与えた電位によ)電
場が形成される。本発明におけるプラズマ装置の静電プ
ラグが電磁トラップのポイントカスプ(おけ為静電プラ
グと異なるところは、本発明による静電プラグにおいて
は、陽極の中空部(IIK形成される電子群の密度は第
一陰極allの電位φklと陽極(9)の電位φaKよ
って制御され、その結果、陽極の中空部舖における空間
電位φlが制御されることで、電磁トラップのポイント
カスプにおける静電プラグの様に、(3)弐に示され様
なr〜0における電位障壁の低下とそれにロスアパーチ
ャの形成は、本発明における静電プラグにおいては容易
に回避できる。該陽極の中空5119における空間電位
φ1は、琳に磁場方向への電子の脱出を阻止する電位障
壁を形成する第一陰極の板状ml(10m)と第二陰極
Oυの形状等にはほとんど影響されず、磁場に平行な対
称軸を有し回転に配役されている第一陰極の棒状部(1
0b)及び陽極(9)によって軸対称と麿り、電位φ1
は第4図(b)に示されるごとく棒状部表面で最小値φ
kxs陽極内表面で蝋大値φaをとる。ここで棒状部(
10b)の軸心からのWmをrとしである。第−Waa
の内部に存在するプラズマa・は、第4図(a)に示さ
れる様に、at<rくRsに存在する。R1≦r≦R3
にシける陽極の中空IIa−における空間電位φl、は
、第4WA(b)に示されるように、プラズマ舖の存在
する空間の電位φpよやけるかに高い。
プラグIの作用と発明の効果を第4図(b)及び(C)
を参照して説明すると、陽極の中空SaWには、電磁ト
ラップのポイントカスプにおける静電プラグの陽極内部
と同様、電子が捕獲されて電子群を形成し、誼電子群が
作る空間電荷及び外部から各電極に与えた電位によ)電
場が形成される。本発明におけるプラズマ装置の静電プ
ラグが電磁トラップのポイントカスプ(おけ為静電プラ
グと異なるところは、本発明による静電プラグにおいて
は、陽極の中空部(IIK形成される電子群の密度は第
一陰極allの電位φklと陽極(9)の電位φaKよ
って制御され、その結果、陽極の中空部舖における空間
電位φlが制御されることで、電磁トラップのポイント
カスプにおける静電プラグの様に、(3)弐に示され様
なr〜0における電位障壁の低下とそれにロスアパーチ
ャの形成は、本発明における静電プラグにおいては容易
に回避できる。該陽極の中空5119における空間電位
φ1は、琳に磁場方向への電子の脱出を阻止する電位障
壁を形成する第一陰極の板状ml(10m)と第二陰極
Oυの形状等にはほとんど影響されず、磁場に平行な対
称軸を有し回転に配役されている第一陰極の棒状部(1
0b)及び陽極(9)によって軸対称と麿り、電位φ1
は第4図(b)に示されるごとく棒状部表面で最小値φ
kxs陽極内表面で蝋大値φaをとる。ここで棒状部(
10b)の軸心からのWmをrとしである。第−Waa
の内部に存在するプラズマa・は、第4図(a)に示さ
れる様に、at<rくRsに存在する。R1≦r≦R3
にシける陽極の中空IIa−における空間電位φl、は
、第4WA(b)に示されるように、プラズマ舖の存在
する空間の電位φpよやけるかに高い。
第4図(C) Kは、プラズマ舖の存在する空間の軸心
(rzEL2)及び二つの境界線(’ = ”1 e
Rs) K G つ九電位分布が示されている。プラズ
マを質通しあるいはプラズマ(接する磁力線に沿って陽
極の中空部−における電位φloi&小値はr=RIK
おけるφ1であり、その磁力線に宿っても嬉4園(C)
に示される如く陽極の中空部filKイオンに対する電
位障壁が形成され、第(6)式から電子(対しては第二
陰極が電゛子障曖を形成するから、プラズマα口を貫通
しあるいはプラズマI′lIK接する全ての磁力線に沿
って、電子及びイオンの両方に対し第2図に示される様
な電位障壁が形成され、ロスアパーチャは存在しない。
(rzEL2)及び二つの境界線(’ = ”1 e
Rs) K G つ九電位分布が示されている。プラズ
マを質通しあるいはプラズマ(接する磁力線に沿って陽
極の中空部−における電位φloi&小値はr=RIK
おけるφ1であり、その磁力線に宿っても嬉4園(C)
に示される如く陽極の中空部filKイオンに対する電
位障壁が形成され、第(6)式から電子(対しては第二
陰極が電゛子障曖を形成するから、プラズマα口を貫通
しあるいはプラズマI′lIK接する全ての磁力線に沿
って、電子及びイオンの両方に対し第2図に示される様
な電位障壁が形成され、ロスアパーチャは存在しない。
従ってプラズマの閉じ込め時間を大幅に増加させること
のできるプラズマ装置が構成される。
のできるプラズマ装置が構成される。
発明の応用例
本発明は開放系ブラズーw装置に関するものである。実
施例ではカスプ磁場を用い九プラズマ装置について説明
し九が、磁場はカスプに限定せず。
施例ではカスプ磁場を用い九プラズマ装置について説明
し九が、磁場はカスプに限定せず。
開放系なら本発明を適用できることに15までもなく、
例えば一様磁場、ミラー磁場に適用してよい。を九プラ
ズ!装置の用途は限定しない。例えば核融合炉%*ti
ir加工・処理、溶接、イオン源等のプラズマ装置に適
用できる。
例えば一様磁場、ミラー磁場に適用してよい。を九プラ
ズ!装置の用途は限定しない。例えば核融合炉%*ti
ir加工・処理、溶接、イオン源等のプラズマ装置に適
用できる。
第1図は電磁トラップの原理図、第2図は電磁トラップ
の2軸近傍の空間電位の分布を示す線図、第3図は本発
明の一実施例を示すプラズマ装置構成図、第4図は第3
図に示す実施例の主要部の構成と作用を示すもので、(
a)は静電プラグ構成図、(b)は空間−位のr依存を
示す線図、(C)は空間電位の2依存を示す線図である
。 fll=[E−ajltiil(10m) ・−・板状
部、(10b)−・・棒状部、aυ・・・第二陰極、α
り・:・第−壁、0・・・静電プラグ、(J4 Its
lie・・電源、Ill・・・プラズマ、I・・・陽
極の中空部。 代理人 弁理士 則 近 麿 佑 (ほか1名)
の2軸近傍の空間電位の分布を示す線図、第3図は本発
明の一実施例を示すプラズマ装置構成図、第4図は第3
図に示す実施例の主要部の構成と作用を示すもので、(
a)は静電プラグ構成図、(b)は空間−位のr依存を
示す線図、(C)は空間電位の2依存を示す線図である
。 fll=[E−ajltiil(10m) ・−・板状
部、(10b)−・・棒状部、aυ・・・第二陰極、α
り・:・第−壁、0・・・静電プラグ、(J4 Its
lie・・電源、Ill・・・プラズマ、I・・・陽
極の中空部。 代理人 弁理士 則 近 麿 佑 (ほか1名)
Claims (1)
- ブラズiを収容する開放系磁場を発生する装置と、プラ
ズマの存在する空間の電位を制御する手段と、該開放系
磁場の開放端に配設され骸磁場の方−向と平行な零でな
い成分を有する電場を形成する静電プラグとを具備する
プラズマ装置に於て、前記静電プラグの少くともひとつ
は、前記開放系磁場の磁場方向に貫通した中空部を有す
る陽極と、該陽極の中空部のプラズマ側の開口部の一部
を覆う様(配役された板状部と陽極の中空部を貫通し該
板状部に固着された棒状部で形成される第−陰−極と、
陽極の中空部のプラズマの反対側の開口部を覆う様に配
設され九第二陰極と、陽極には最も高い正の電位を、第
二陰極にはプラズマの存在する空間の電位より低い電位
を、第一陰極には陽極の電位と第二陰極の電位の中間の
電位を、それぞれ与える手段を具備することを特徴とす
るプラズマ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56197734A JPS58100398A (ja) | 1981-12-10 | 1981-12-10 | プラズマ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP56197734A JPS58100398A (ja) | 1981-12-10 | 1981-12-10 | プラズマ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58100398A true JPS58100398A (ja) | 1983-06-15 |
Family
ID=16379450
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56197734A Pending JPS58100398A (ja) | 1981-12-10 | 1981-12-10 | プラズマ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58100398A (ja) |
-
1981
- 1981-12-10 JP JP56197734A patent/JPS58100398A/ja active Pending
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