JPH1199453A - ウェーハの面取り面研磨装置 - Google Patents

ウェーハの面取り面研磨装置

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JPH1199453A
JPH1199453A JP26745897A JP26745897A JPH1199453A JP H1199453 A JPH1199453 A JP H1199453A JP 26745897 A JP26745897 A JP 26745897A JP 26745897 A JP26745897 A JP 26745897A JP H1199453 A JPH1199453 A JP H1199453A
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JP
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polishing
outer peripheral
wafer
drum
chamfering
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JP26745897A
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Akira Kawaguchi
章 川口
Akihito Yanoo
明仁 矢野尾
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Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 外周面取り面研磨ドラムを、ウェーハの外周
面取り面へ垂直に押圧して、この外周面取り面を効率よ
く研磨できる、面取り面研磨装置を提供する。 【解決手段】 この面取り面研磨装置は、ウェーハWを
定位置で保持し、かつこの保持したウェーハWをその周
方向に回転させるためのウェーハ保持機構5と、ウェー
ハ5の表裏面と平行な軸線を有しかつこの軸線回りに回
転する外周面取り面研磨ドラム24と、この外周面取り
面研磨ドラム24を、その外周面がウェーハWの一方の
外周面取り面に対向するように保持するとともに、前記
外周面取り面に対する接触角度を調整可能な研磨角度調
整機構29と、備えている。研磨角度調整機構29によ
り、外周面取り面研磨ドラム24の外周部をウェーハW
の外周面取り面に垂直に接触させてから、外周面取り面
研磨ドラム24の外周部を前記外周面取り面に所定の研
磨圧力で押し付けるために付勢する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体(例えばシ
リコン)ウェーハ等のウェーハの外周縁部に形成した面
取り面を鏡面加工するための研磨装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ウェーハの外周縁に形成された面取り面
を食刻加工(エッチング)する技術として、CCR(Ch
emical Corner Rounding)加工が知られているが、こ
のCCR加工を施した場合、外周面取り面とウェーハ表
裏面との境界部分に突起が形成される。この突起は微小
であるが、ウェーハを樹脂製のカセットに収納したと
き、これがカセットに接触してカセットを削り、微小な
削り屑を生じてしまう。この削り屑がウェーハの性能を
劣化させる原因となることは言うまでもない。
【0003】そこで、図7に示すように、CCR加工と
は別にウェーハWの外周面取り面2d,2eにCMP
(Chemical Mechanical Polishing)加工を施すこと
が知られている。このCMP加工とは、ウェーハWの外
周面取り面2d,2eに向けて研磨液を供給しながら研
磨布によって研磨する技術であって、従来、このCMP
加工を実施する装置としては、研磨布が巻回された研磨
ドラム90を、その軸線がウェーハWの回転軸に対して
傾斜した状態で回転可能に支持し、この研磨ドラム90
を回転させながらウェーハWの面取り面2dに押し付け
ることによって研磨を行っていた。なお、図7におい
て、符号2fはウェーハWの外側面(非面取り面)を示
している。ところで、図8に示すように、ウェーハWの
面取り面2dの角度θ(以下、面取り角度という)には
様々なものが存在するが、図8に示したように、この面
取り面2dに上述した研磨ドラムを垂直に押し付けて研
磨することにより、面取り角度θを一定に保ちかつ研磨
代が少なく済み、研磨効率の向上を図れることが知られ
ている。
【0004】一方、図9(A)に示すように、ウェーハ
Wの外周縁部に、略V字形あるいは略円弧状のノッチ部
1aを形成することが行われており、特に近年では、ウ
ェーハWの大口径化に伴い歩留まりの向上等を目的に広
範に採用されている。ノッチ部1aが形成されたウェー
ハWは、このノッチ部1aの寸法がウェーハWの外周長
に比較して極めて小さいため、上述した研磨ドラムを用
いてノッチ部1aの鏡面加工を行うには困難を伴ってい
た。そこで、図9(B)および(C)に示すように、水
平状態に配置したウェーハWのノッチ部1aに、このウ
ェーハWと直交するように配置されかつ回転する研磨ホ
イール100を水平に押し付けることにより、ノッチ部
1aの非面取り面(外側面)cを効率良く研磨すること
が一般に行われているが、この技術では、ノッチ部1a
の面取り面2a,2bを効率的には研磨できないという
不具合があった。
【0005】そこで、この不具合を解消するために、ノ
ッチ部の面取り面および非面取り面の両方を研磨可能な
研磨装置が提案されており、以下、この研磨装置につい
て2つの代表例を挙げて説明する。
【0006】(1)先ず、図10に示すように、この研
磨装置は、外周の一部にノッチ部(不図示)が形成され
たウェーハWを保持可能なテーブル101と、ウェーハ
Wのウェーハ面に平行な軸を中心に回転可能で、かつ外
周部形状がほぼノッチ部形状に近い回転バフ102と、
この回転バフ102をその軸線回りに回転させるための
第1のモータ(不図示)と、回転バフ102を、保持リ
ンク103を介して、テーブル101に保持されるウェ
ーハWに対して接離させるシリンダ装置104と、テー
ブル101を、ウェーハWの前記ノッチ部(不図示)の
内面全域に回転バフ102が接触するように揺動させる
ための第2のモータ(不図示)と、を備えている(特開
平7−24714号公報参照)。この研磨装置では、ウ
ェーハWを保持するテーブル101を揺動させることに
より、回転する回転バフ102がノッチ部内面を倣い、
ノッチ部内面の研磨が行われる。なお、この研磨装置と
同様な動作を行う研磨装置が、特開平8−168947
号公報にも開示されている。
【0007】(2)図11(a),(b)に示すよう
に、この研磨装置は、回転する円板状砥石105と、ウ
ェーハWをその面が円板状砥石105と交差するように
配置させるとともに、このウェーハWをその面に垂直な
中心軸の回り(矢印θ参照)に所定の角度範囲で回転可
能に保持するウェーハ保持機構106と、ウェーハ保持
機構106を、円板状砥石105およびウェーハWがウ
ェーハWの半径方向(矢印X方向参照)にかつ近接また
は離間するように移動させる第1駆動機構107と、円
板状砥石105をウェーハWの板厚方向(矢印Z方向参
照)に移動させるための第2の駆動機構108と、を備
えている(特許公報第2613504号参照)。この研
磨装置では、ウェーハWをその中心軸回りに回転させる
とともに(矢印θ参照)、ウェーハWを矢印X方向に移
動させ、かつ回転する円板状砥石105を矢印Z方向に
移動させることにより、ノッチ部1aの面取り面2a,
2bおよび非面取り面2cを研磨することができる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来技術においては、以下のような種々の問題点がある。
先ず、図7に示した面取り面研磨装置は、研磨ドラムの
前記外周面取り面への接触角度(研磨角度)を調節する
ことはできないので、ウェーハの外周面取り面の面取り
角度が変更になった場合には、研磨ドラムを前記外周面
取り面に垂直に押圧することができず、このため、外周
面取り面をその面取り角度を一定に保って研磨すること
ができない上に、外周面取り面の全域を研磨するには、
必要な研磨代が大きくなり、結果的に、研磨効率の低下
はまぬがれない。
【0009】また、従来、ウェーハの外周面取り面およ
びノッチ部の面取り面は、それぞれ専用の研磨装置によ
り研磨するようになっているため、例えばウェーハの外
周面取り面を研磨した後に、このウェーハを別の研磨装
置に搬送して所定位置にセットしてから、このウェーハ
のノッチ部の面取り面を研磨することになり、前記搬送
やセットに費やされる時間により、生産性が低下すると
いう問題点もある。
【0010】そして、上述したノッチ部研磨装置におい
ては、以下のような問題点がある。先ず、図10に示し
たものは、ウェーハWを水平状態と上下の傾斜状態との
間を揺動させることにより、回転ハブ102を定位置に
あるノッチ部に押し付けてこれを研磨するものなので、
特に面取り面のウェーハ面側近傍を良好に研磨すること
ができないという問題点がある。なお、ウェーハWを大
きく傾斜させることにより、前記面取り面のウェーハ面
側近傍をある程度良好に研磨することはできるが、前記
大きく傾斜さるための機構が複雑なものとなる上に、ウ
ェーハWを揺動させる際のウェーハWに作用する慣性力
によりウェーハWが変形する恐れもある。
【0011】一方、図11に示したものは、ウェーハお
よび円板状砥石の両方を移動させるものなので、そのた
めの機構が複雑になる上に、ウェーハおよび円板状砥石
の移動のタイミングが僅かでもずれた場合、ノッチ部の
面取り面を良好に研磨することができないという問題点
がある。すなわち、ウェーハおよび円板状砥石が互いに
同期してそれぞれ正確なタイミングで移動することによ
り、面取り部の良好な研磨面を達成できるのであり、こ
のためには、ウェーハおよび円板状砥石の移動のタイミ
ングを司る制御系として、精度が高く高価なものが必要
となる。
【0012】本発明は、上記従来技術の有する問題点に
鑑みてなされたものであり、外周面取り面研磨ドラム
を、ウェーハの外周面取り面に確実に垂直に押圧して効
率的に研磨できる、ウェーハの面取り面研磨装置を提供
することを目的としている。また、本発明の他の目的
は、1つの装置により、ウェーハの外周面取り面および
ノッチ部の面取り面の両方を研磨できる、生産性の高い
ウェーハの面取り面研磨装置を提供することである。本
発明のさらなる他の目的は、ノッチ部の内周面全域を良
好にかつ効率的に鏡面研磨でき、構造が簡単で装置コス
トの安い、ウェーハの面取り面研磨装置を提供すること
である。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の、ウェーハの面取り面研磨装置は、外周縁部
に面取り面をしたウェーハを定位置で保持し、かつこの
保持したウェーハをその周方向に回転させるためのウェ
ーハ保持機構と、前記ウェーハの表裏面と平行な軸線を
有しかつこの軸線回りに回転する外周面取り面研磨ドラ
ムと、前記外周面取り面研磨ドラムを、その外周部が前
記ウェーハの一方の外周面取り面に対向するように保持
するとともに、該外周面取り面に対する接触角度を調整
可能な研磨角度調整機構と、を備えていることを特徴と
するものである。
【0014】この発明の作用としては、先ず、研磨角度
調整機構により、外周面取り面研磨ドラムの外周部をウ
ェーハの外周面取り面に垂直に接触させてから、外周面
取り面研磨ドラムの外周部を前記外周面取り面に所定の
研磨圧力で押し付けるために付勢する。この状態で、ウ
ェーハおよび外周面取り面研磨ドラムをそれぞれの中心
軸回りに回転させる。これにより、外周面取り面研磨ド
ラムは、外周面取り面に一定の研磨圧力でほぼ垂直に押
圧し、前記外周面取り面を一様に鏡面研磨できる。そし
て、研磨するウェーハの外周面取り面の面取り角度が変
更になった場合には、研磨角度調整機構により、外周面
取り面研磨ドラムの外周部の、ウェーハの外周面取り面
に対する接触角度を調整して、外周面取り面研磨ドラム
をウェーハの外周面取り面に垂直に押圧する。
【0015】ここで、前記研磨角度調整機構は、前記ウ
ェーハの回転軸を含む平面内の方向に一端部を支点とし
て回動可能な第1のアームと、この第1のアームを回動
させるための回動機構と、前記第1のアームの他端部
に、この第1のアームの回動方向と同方向に回動自在に
一端部が連結され、かつ他端部に前記外周面取り面研磨
ドラムを保持する第2のアームと、前記第1のアームお
よび前記第2のアームの間に介在されて、前記外周面取
り面研磨ドラムの外周部を前記外周面取り面に所定の研
磨圧力で押圧するように付勢する付勢機構と、から構成
されていることを特徴とするものである。この発明にお
いては、研磨を行うに先だって、外周面取り面研磨ドラ
ムがウェーハの外周面取り面にほぼ垂直に接触するよう
に、回動機構により第1のアームや第2のアームの回動
位置を設定し、この状態で、付勢機構により外周面取り
面研磨ドラムを、ウェーハの外周面取り面にほぼ垂直に
押圧することができる。
【0016】さらに、本発明の好ましい形態としては、
前記研磨角度調整機構を前記外周面取り面研磨ドラムの
軸方向に移動させて位置調整するための移動機構を備
え、前記回動機構は前記第1のアームを回動揺動させる
ものであり、さらに、前記外周面取り面研磨ドラムの一
端面には、この外周面取り面研磨ドラムよりも大径のノ
ッチ部研磨ホイールが、同軸に着脱自在になっているこ
とを特徴とするものである。
【0017】この発明においては、前記研磨角度調整機
構により、ウェーハのノッチ部を研磨するためのノッチ
部研磨ホイールを揺動させることができる。すなわち、
ウェーハのノッチ部を研磨するに先だって、先ず、外周
面取り面研磨ドラムの一端面に、この外周面取り面研磨
ドラムよりも大径のノッチ部研磨ホイールを装着すると
ともに、移動機構により前記研磨角度調整機構を前記外
周面取り面研磨ドラムの軸方向に移動させて、ノッチ部
研磨ホイールをウェーハのノッチ部に対向するように位
置決めする。そして、ノッチ部研磨ホイールがウェーハ
のノッチ部の面取り面にほぼ垂直に対向するように、回
動機構により第1のアームの回動位置を設定する。
【0018】この状態で、付勢機構によりノッチ部研磨
ホイールを、前記ノッチ部の面取り面に所定の圧力で押
し付けるために付勢し、さらに、ノッチ部研磨ホイール
をその軸線回りに回転させる。また、前記回転機構によ
り第1のアームを回転揺動させると、回転するノッチ部
研磨ホイールは、ウェーハの中心軸とほぼ平行でかつ前
記ノッチ部の面取り面とほぼ沿う方向に揺動させる。こ
れにより、ノッチ部研磨ホイールは、前記ノッチ部から
受ける研磨圧力の反作用により、ノッチ部の内面形状に
沿ってウェーハの径方向に進退して、ノッチ部の内面を
一定の研磨圧力で良好に研磨できるとともに、ノッチ部
のウェーハ面近傍をも良好に鏡面加工できる。
【0019】
【発明の実施の形態】次に、本発明の一実施形態につい
て図面を参照して説明する。図1は本発明のウェーハの
面取り面磨装置の一実施形態で、装置外装等を断面にし
た正面図、図2は図1の内部を上方から見た平面図であ
る。
【0020】図1および図2に示すように、本実施形態
のウェーハの面取り面研磨装置は、ウェーハ吸着盤3に
より保持されたウェーハWの外周面取り面2d,2e
(図3参照)を外周面取り面研磨ドラム24により鏡面
研磨するものであり、また、図4に示すように、ウェー
ハWのノッチ部1aをノッチ部研磨ホイール14により
鏡面研磨可能でもあり、以下に詳細に説明する。
【0021】先ず、装置基台1には、内部に研磨作業空
間を形成するための装置外装2が備えられている。この
装置外装2の上端部には、装置外装2を貫通するように
昇降自在でかつ軸線回りに回転駆動が可能な支持ロッド
4が設けられ、この支持ロッド4の下端には、被研磨物
としてのウェーハWを水平状態で保持するためのウェー
ハ吸着盤3が備えられている。これらウェーハ吸着盤3
および支持ロッド4によりウェーハ保持機構5が構成さ
れている。なお、支持ロッド4をウェーハWの中心軸回
りに回転駆動(矢印C参照)するための回転機構(不図
示)は、ウェーハ吸着盤3の回転角を検出する回転角検
出センサ(不図示)を備えている。
【0022】装置外装2の下方部には、回動機構として
の揺動モータ7を支持するためのモータブラケット6が
設けられている。このモータブラケット6は、後述する
円柱状の外周面取り面研磨ドラム24の軸方向(図2中
矢印X方向)に延びるリニアガイド20に前記軸方向に
移動自在に搭載されている。そして、モータブラケット
6は、図示しないボールねじ機構等によりリニアガイド
20に沿って移動されるようになっている。前記リニア
ガイド20および前記図示しないボールねじ機構等によ
り、後述する研磨角度調整機構29の移動機構21が構
成されている。
【0023】前記揺動モータ7の回転軸(出力軸)7a
には第1の揺動アーム8の一端部が固定されている。こ
の第1の揺動アーム8の他端部には第2の揺動アーム9
の一端部がほぼ「く」の字を形成する形態で回動自在
(図1中矢印B参照)に連結されている。第2の揺動ア
ーム9の他端部には、研磨モータ23が、その回転軸
(出力軸)23aを横向きにした状態で固定されてい
る。この研磨モータ23の回転軸23aには、外周面取
り面研磨ドラム24のドラム支持軸11が同軸に連結さ
れている。このような構成により、外周面取り面研磨ド
ラム24は、ウェーハWの表裏面に配置され、また、外
周面取り面研磨ドラム24をその軸線回りに一方向(図
1および図3中矢印A参照)に回転駆動させることがで
きる。
【0024】また、符号12は、外周面取り面研磨ドラ
ム24の上部を跨ぐ形態で配置されたドラム支持部材を
示し、このドラム支持部材12は、「コ」字状をなし、
その自由端が下方へ向くような形態で配置されている。
また、このドラム支持部材12には、外周面取り面研磨
ドラム24のドラム支持軸11が回転自在に貫通してい
る。ドラム支持部材12には、外周面取り面研磨ドラム
24の外周部に接触して清掃するためのブラシ16が、
取付部材16aにより着脱自在に装着されているととも
に、このブラシ16に向けて研磨液を噴出するための研
磨液供給ノズル(研磨液供給手段)17が備えられてい
る。
【0025】一方、第1の揺動アーム8の他端部には、
リニアガイド20と同じ方向に延びる連結部材15の一
端部が連結されており、この連結部材の他端側には、前
記リニアガイド20に対して垂直に延びる形態で、付勢
機構としての一対の研磨圧付与シリンダ18,18の一
端部がそれぞれ固定されている。この一対の研磨圧付与
シリンダ18,18の各ロッド18a,18aの先端
は、前記ドラム支持部材12の側端にそれぞれ連結され
ている。したがって、一対の研磨圧付与シリンダ18,
18のロッド18a,18aを所定量突出させることに
より、外周面取り面研磨ドラム24をウェーハWの一方
(下方)の外周面取り面2dに押圧することができる。
【0026】このような構成に基づいて、研磨に先だっ
て、先ず、揺動モータ7により第1の揺動アーム8の回
動位置(傾斜角度)や第2の揺動アーム9の回動位置を
調節することにより、外周面取り面ドラム24の外周部
を、ウェーハWの下方の外周面取り面2d(図3参照)
にほぼ垂直に接触させることができる。この状態で、研
磨圧付与シリンダ18,18のロッド18a,18aを
所定量突出させると、外周面取り面ドラム24の外周部
を、前記外周面取り面2dにほぼ垂直に所定の研磨圧力
(1.5〜3.5kg/mm2)で押圧するために付勢
することができる(図3参照)。
【0027】上記説明から明らかなように、揺動モータ
7、第1の揺動アーム8、第2の揺動アーム9、および
一対の研磨圧付与シリンダ18により、研磨角度調整機
構29が構成され、一対の研磨圧付与シリンダ18やド
ラム支持部材12により付勢機構28が構成されてい
る。なお、研磨時には、研磨液供給ノズル17より研磨
液をブラシ16に向けて供給することにより、研磨液を
先ずブラシ16に十分になじませてから、外周面取り研
磨ドラム24の外周部に万遍無く供給することができ
る。そして、余分な研磨液は落下して、排出管27より
装置外装2外へより排出され、回収されるようになって
いる。
【0028】また、本実施形態の研磨装置は、図4に示
すように、外周面取り研磨ドラム24の一端面には、外
周面取り研磨ドラム24よりも大径のノッチ部研磨ホイ
ール14が、同軸に装着可能な構成になっている。この
ノッチ部研磨ホイール14の外周部の形状は、ウェーハ
Wのノッチ部1aの形状と合致するような形状になって
いる。また、ドラム支持部材12には、ノッチ部研磨ホ
イール14の外周部に接触して清掃するためのブラシ1
9が、取付部材19aにより着脱自在に装着されてい
る。
【0029】このような構成に基づき、ノッチ部研磨ホ
イール14によりウェーハWのノッチ部1aを研磨する
際には、先ず、ウェーハ保持機構5の回転機構によりウ
ェーハWを、そのノッチ部1aが図4中右側に位置する
ように位置決めするとともに、移動機構21により研磨
モータ7を図2中矢印X方向に移動させて、ノッチ部研
磨ホイール14をウェーハWのノッチ部1aに対向する
ように位置決めする。そして、揺動モータ7を作動し
て、第1の揺動アーム8の傾斜角度を調節することによ
り、ノッチ部研磨ホイール14の外周部を、ウェーハW
のノッチ部1aの一方(下方)の面取り面2aにほぼ垂
直に接触させることができる。この状態で、各研磨圧付
与シリンダ18,18のロッド18a,18aを所定量
突出させると、ノッチ部研磨ホイール14の外周部を前
記ノッチ部1aの面取り面2aにほぼ垂直に所定の研磨
圧力で押し付ける(図4参照)。そして、研磨モータ2
3を作動してノッチ部研磨ホイール14を回転(矢印A
参照)させるとともに、揺動モータ7の正逆回転を繰り
返すことにより、回転するノッチ部研磨ホイール24
を、前記ノッチ部1aの下方の面取り面2aとほぼ沿う
方向に揺動させる。
【0030】次に、上述した本発明に係わるウェーハの
面取り面研磨装置の動作、すなわち、研磨方法の一例に
ついて説明する。なお、本例の研磨方法は、ウェーハの
外周面取り面およびノッチ部面取り面を順次研磨するも
のであるが、前記外周面取り面およびノッチ部面取り面
の研磨の順序は逆でもよい。
【0031】先ず、図1に示すように、ウェーハ吸着盤
3によってウェーハWを下降させ、ウェーハWを所定の
高さに配する。次に、揺動モータ7により第1の揺動ア
ーム8の回動位置や第2の揺動アーム9の回動位置を調
節することにより、ノッチ部研磨ホイール24の外周部
を、ウェーハWの下方の外周面取り面2d(図3参照)
にほぼ垂直に接触させることができる。この状態で、研
磨圧付与シリンダ18のロッド18aを所定量突出させ
ると、図3に示すように、ノッチ部研磨ホイール14の
外周部を前記外周面取り面2dにほぼ垂直に所定の研磨
圧力で押圧するために付勢することができる(図3参
照)。そして、ウェーハWおよび外周面取り面研磨ドラ
ム24をそれぞれの軸線回りに回転させる。外周面取り
面研磨ドラム24は、外周面取り面2dに一定の研磨圧
力でほぼ垂直に押圧し、前記外周面取り面2dを一様に
鏡面研磨できる。
【0032】この研磨の際には、研磨液供給ノズル17
より研磨液をブラシ16に向けて供給することにより、
研磨液を先ずブラシ16になじませてから、ノッチ部研
磨ホイール24の外周部に万遍無く供給することができ
る。これにより、研磨液をノッチ部研磨ホイール24の
外周部に直接供給するものと比較して、ノッチ部研磨ホ
イール24の外周部の温度低下が低減する。なお、余分
な研磨液は落下して、排出管27より装置外装2外へ排
出され、回収される。
【0033】本例の研磨装置では、ウェーハWの外周面
取り面2dの種々の面取り角にも対応できる。すなわ
ち、ウェーハWの外周面取り面2dの傾斜角度が変更に
なった場合には、研磨を行うに先だって、揺動モータ7
により第1の揺動アーム8の回動位置や第2の揺動アー
ム9の回動位置を調節して、外周面取り面磨ドラム24
の外周部の前記外周面取り面2dに対する接触角度を調
整し、この外周面取り面磨ドラム24の外周部を前記外
周面取り面2dに垂直に接触させることができる。例え
ば、図3に示したように、研磨するウェーハWの外周面
取り面2d(一点鎖線)の面取り角度が小さなものに変
更になった場合には、研磨に先だって、研磨圧付与シリ
ンダ18,18のロッド18a,18aを大きく引込め
た状態で、ドラム位置決め機構29により第1の揺動ア
ーム8を大きく傾斜させることにより、外周面取り面研
磨ドラム24を一点鎖線で示す位置に位置調整して、外
周面取り面研磨ドラム24をウェーハWの外周面取り面
2dにほぼ垂直に接触させることができる。
【0034】一方の外周面取り面2dの研磨が終了した
ら、各研磨圧付与シリンダ18,18のロッド18a,
18aをそれぞれ引込めて、外周面取り面研磨ドラム2
4をウェーハWより退避させ、ノッチ部1aの研磨工程
に移行する。すなわち、図4に示すように、外周面取り
面研磨ドラム24の一端面にノッチ部研磨ホイール14
を装着し、このノッチ部研磨ホイール14がウェーハW
の直径上に位置するように、移動機構21により揺動モ
ータ7を位置決めする。また、ウェーハWのノッチ部1
a(図2および図3参照)がノッチ部研磨ホイール14
と対向するように、ウェーハ吸着盤3を回転させてウェ
ーハWをその周方向に位置決めする。
【0035】次に、揺動モータ7を作動して、第1の揺
動アーム8の回動位置や第2の揺動アーム9の回動位置
を調節することにより、ノッチ部研磨ホイール14の外
周部を、ウェーハWのノッチ部1aの一方(下方)の面
取り面2aにほぼ垂直に接触させることができる。この
状態で、研磨圧付与シリンダ18,18のロッド18
a,18aを所定量突出させると、図5に示すように、
ノッチ部研磨ホイール14の外周部を前記ノッチ部1a
の面取り面2aにほぼ垂直に所定の研磨圧力で押し付け
る。すなわち、ノッチ部研磨ホイール24は、研磨圧付
与シリンダ18の圧力によりウェーハWのノッチ部1a
を押圧するように付勢される。
【0036】この状態で、研磨モータ23を作動させて
ノッチ部研磨ホイール14を回転させるとともに(矢印
A方向参照)、揺動モータ7の正逆回転を繰り返すこと
により、ノッチ部研磨ホイール24を、ウェーハWの回
転軸とほぼ平行でかつ前記ノッチ部1aの下方の面取り
面2aとほぼ沿う方向に揺動させる。これにより、ノッ
チ部研磨ホイール14は、前記ノッチ部2aの内面をほ
ぼ垂直な方向に押圧し、さらに、前記ノッチ部1aから
受ける研磨圧力の反作用や研磨圧付与シリンダ18のク
ッション作用と相まって、ノッチ部1aの内面形状に沿
って、一点鎖線24の下降位置と二点鎖線24の上昇位
置との間を往復移動することになる。したがって、ノッ
チ部1aの下半分の内面を一定の研磨圧力で良好に研磨
できるとともに、ノッチ部1aのウェーハ面近傍をも良
好に鏡面加工できる。
【0037】この研磨の際にも、研磨液供給ノズル17
より研磨液をブラシ16に向けて供給することにより、
研磨液を先ずブラシ16になじませてから、ノッチ部研
磨ホイール14の外周部に万遍無く供給することができ
る。これにより、研磨液をノッチ部研磨ホイール14の
外周部に直接供給するものと比較して、ノッチ部研磨ホ
イール14の外周部の温度低下が低減する。なお、余分
な研磨液は落下して、排出管27より装置外装2外へ排
出され、回収される。
【0038】以上のように、外周部形状がほぼノッチ部
形状に近いノッチ部研磨ホイール24を、定位置にある
ウェーハWのノッチ部1aに押し付けるために付勢し、
この状態で、ノッチ部研磨ホイール14をその軸線回り
に回転させかつノッチ部1aの下方の面取り面2aにほ
ぼ沿う方向に回転揺動させる。これにより、ノッチ部研
磨ホイール24は、ノッチ部1aの内面にほぼ一定の圧
力で押圧しつつ、この内面形状に沿ってウェーハWの径
方向に進退するので、下方の面取り面2aおよび非面取
り面2cの下半分を良好に鏡面加工できる。
【0039】また、研磨中に、ウェーハWを移動させな
いので、従来にような慣性力によりウェーハWが変形す
ることもない。しかも、ノッチ部研磨ホイール14のみ
を移動させるので、従来のようなウェーハWおよびノッ
チ部研磨ホイール14を互いに同期して移動させるもの
と比較して、高価なタイミング調整手段も不要であるの
で、装置コストが低減する。
【0040】上述のように、ウェーハWの一方の外周面
取り面2aおよびノッチ部1aの一方の面取り面2aの
研磨が終了したら、ウェーハWを一旦ウェーハ吸着盤3
から取り外した後、洗浄水による洗浄工程へと送られ、
洗浄後、再び、ウェーハ吸着盤3に裏返した状態で装着
する。次いで、上記と同様に、ウェーハWの他方の外周
面取り面2eおよびノッチ部1aの他方の面取り面2b
の研磨を行う。本実施形態の研磨装置は、ウェーハWの
外周面取り面2d,2eおよびノッチ部1aの面取り面
2a,2bの両方を研磨できるので、生産性が極めて高
い。
【0041】
【発明の効果】本発明は、以上説明したとおりに構成さ
れているので、以下に記載するような効果を奏する。請
求項1に記載の発明は、先ず、研磨角度調整機構によ
り、外周面取り面研磨ドラムの外周部をウェーハの外周
面取り面に垂直に接触させてから、外周面取り面研磨ド
ラムの外周部を前記外周面取り面に所定の研磨圧力で押
し付けるために付勢する。この状態で、ウェーハおよび
外周面取り面研磨ドラムをそれぞれの中心軸回りに回転
させる。これにより、外周面取り面研磨ドラムは、外周
面取り面に一定の研磨圧力でほぼ垂直に押圧し、前記外
周面取り面を一様に鏡面研磨できる。そして、研磨する
ウェーハの外周面取り面の面取り角度が変更になった場
合には、研磨角度調整機構により、外周面取り面研磨ド
ラムの外周部の、ウェーハの外周面取り面に対する接触
角度を調整して、外周面取り面研磨ドラムをウェーハの
外周面取り面に垂直に押圧することができ、結果的に、
面取り角度の異なる種々のウェーハにおいて、外周面取
り面の全域を、面取り角度を一定に保ちつつかつ小さな
研磨代で研磨できる。
【0042】請求項2に記載の発明は、研磨を行うに先
だって、外周面取り面研磨ドラムがウェーハの外周面取
り面にほぼ垂直に接触するように、回動機構により第1
のアームや第2のアームの回動位置を設定し、この状態
で、付勢機構により外周面取り面研磨ドラムを、ウェー
ハの外周面取り面にほぼ垂直に押圧することができ、結
果的に、構成の簡単なドラム位置決め機構により、外周
面取り面研磨ドラムを、ウェーハの外周面取り面にほぼ
垂直に確実に押圧することができる。
【0043】請求項3に記載の発明は、ノッチ部研磨ホ
イールを、ウェーハのノッチ部の内面にほぼ垂直な方向
に押圧し、この状態で揺動させることにより、ノッチ部
研磨ホイールは、ノッチ部の内面形状に沿ってウェーハ
の径方向に進退して、ノッチ部の内面をほぼ一定の研磨
圧力で良好に研磨し、ノッチ部のウェーハ面近傍をも良
好に鏡面加工できる。結果的に、ノッチ部の内面全域を
良好に鏡面加工できる。また、ウェーハを移動させず
に、ノッチ部研磨ホイールのみを移動させるので、研磨
中にウェーハに慣性力が働かず、ウェーハの変形等を回
避できる。したがって、ノッチ部の内周面全域を良好に
かつ効率的に鏡面研磨でき、構造が簡単で装置コストの
安い、ウェーハの面取り面研磨装置を提供できる。さら
に、ノッチ部研磨ホイールの移動のために従来のような
高価な制御系が不要で、装置構造が複雑化せず、結果的
に、装置コストが嵩まない。そして、1つの研磨装置に
より、ウェーハの外周面取り面およびノッチ部の面取り
面の両方を研磨できるので、生産性が高い。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のウェーハの面取り面磨装置の一実施
形態で、装置外装等を断面にした正面図である。
【図2】 図1の内部を上方から見た平面図である。
【図3】 本発明のウェーハの面取り面磨装置におい
て、外周面取り面研磨ドラムをウェーハの面取り面に接
触させた状態を示す図である。
【図4】 図2において、外周面取り面研磨ドラムの端
面にノッチ部研磨ホイールを装着した状態を示す図であ
る。
【図5】 本発明のウェーハの面取り面磨装置におい
て、ノッチ部研磨ホイールを、ウェーハのノッチ部の面
取り面に接触させた状態を示す図である。
【図6】 図5においてノッチ部研磨ホイールの揺動状
態を示す図である。
【図7】 従来の、ウェーハの外周面取り面の研磨装置
の概略を示す図である。
【図8】 ウェーハの外周縁部の縦断面図である。
【図9】 (A)はウェーハの外観斜視図、(B)はウ
ェーハのノッチ部の拡大図、(C)は研磨ホイールによ
り前記ノッチ部を研磨する状態を示す図である。
【図10】 従来の、ウェーハのノッチ部研磨装置の概
略図である。
【図11】 (a)は従来の、ウェーハのノッチ部研磨
装置の他の例を示す斜視図であり、(b)はこの研磨装
置の研磨ホイールによりノッチ部を研磨する状態を示す
図である。
【符号の説明】
W ウェーハ 1 装置本体 1a ノッチ部 2 装置外装 2a,2b 面取り面 2c,2f 非面取り面(外側面) 2d,2e 外周面取り面 3 ウェーハ吸着盤 4 支持ロッド 5 ウェーハ保持機構 6 モータブラケット 7 揺動モータ 7a 回転軸 8 第1の揺動アーム 9 第2の揺動アーム 11 ドラム支持軸 12 ドラム支持部材 14 ノッチ部研磨ホイール 15 連結部材 16,19 ブラシ 16a,19a 取付部材 17 研磨液供給ノズル 18 研磨圧付与シリンダ 18a ロッド 20 リニアガイド 21 移動機構 23 研磨モータ 23a 回転軸 27 排出管 28 付勢機構 29 研磨角度調整機構

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 外周縁部に面取り面をしたウェーハを定
    位置で保持し、かつこの保持したウェーハをその周方向
    に回転させるためのウェーハ保持機構と、 前記ウェーハの表裏面と平行な軸線を有しかつこの軸線
    回りに回転する外周面取り面研磨ドラムと、 前記外周面取り面研磨ドラムを、その外周部が前記ウェ
    ーハの一方の外周面取り面に対向するように保持すると
    ともに、該外周面取り面に対する接触角度を調整可能な
    研磨角度調整機構と、を備えていることを特徴とするウ
    ェーハの面取り面研磨装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のウェーハの面取り面研
    磨装置において、前記研磨角度調整機構は、前記ウェー
    ハの回転軸を含む平面内の方向に一端部を支点として回
    動可能な第1のアームと、この第1のアームを回動させ
    るための回動機構と、前記第1のアームの他端部に、こ
    の第1のアームの回動方向と同方向に回動自在に一端部
    が連結され、かつ他端部に前記外周面取り面研磨ドラム
    を保持する第2のアームと、前記第1のアームおよび前
    記第2のアームの間に介在されて、前記外周面取り面研
    磨ドラムの外周部を前記外周面取り面に所定の研磨圧力
    で押圧するように付勢する付勢機構と、から構成されて
    いることを特徴とするウェーハの面取り面研磨装置。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載のウェーハの面取り面研
    磨装置において、前記研磨角度調整機構を前記外周面取
    り面研磨ドラムの軸方向に移動させて位置調整するため
    の移動機構を備え、前記回動機構は前記第1のアームを
    回動揺動させるものであり、さらに、前記外周面取り面
    研磨ドラムの一端面には、この外周面取り面研磨ドラム
    よりも大径のノッチ部研磨ホイールが、同軸に着脱自在
    になっていることを特徴とするウェーハの面取り面研磨
    装置。
JP26745897A 1997-09-30 1997-09-30 ウェーハの面取り面研磨装置 Withdrawn JPH1199453A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100429739B1 (ko) * 2001-05-02 2004-05-03 스피드팜 가부시키가이샤 디바이스 웨이퍼의 외주 연마장치 및 연마방법
JP2008537316A (ja) * 2005-04-19 2008-09-11 株式会社荏原製作所 基板処理装置

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Effective date: 20041207