JPH1195024A - Manufacture of substrate with color filter, and liquid crystal display element using same - Google Patents

Manufacture of substrate with color filter, and liquid crystal display element using same

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JPH1195024A
JPH1195024A JP25714297A JP25714297A JPH1195024A JP H1195024 A JPH1195024 A JP H1195024A JP 25714297 A JP25714297 A JP 25714297A JP 25714297 A JP25714297 A JP 25714297A JP H1195024 A JPH1195024 A JP H1195024A
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JP
Japan
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ink
light
shielding film
substrate
layer
Prior art date
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Application number
JP25714297A
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Japanese (ja)
Inventor
Yorisuke Ikuta
順亮 生田
Takafumi Hasegawa
隆文 長谷川
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AGC Inc
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Asahi Glass Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH1195024A publication Critical patent/JPH1195024A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate with a color filter capable of preventing ink from flowing out to an adjacent picture element in an ink jet system, and capable of forming a uniform colored layer. SOLUTION: A photolysis type resin layer 3 and an ink-repellent agent layer 4 are formed on a masking film 2, and exposure 5 from the reverse side surface of the formed film 2 in the substrate 1 is conducted to form the ink-repellent agent layer 4 only on the upper surface of the film 2, then ink is sprayed by an ink jet system to form a colored layer 6. Exposure 7 from the surface of the masking film 2 side is carried out thereafter to remove the ink-repellent agent layer 4.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に遮光膜を
形成し、その遮光膜に囲まれた凹部をインクジェット方
式で着色することによるカラーフィルタ付き基板の製造
方法及びそれを用いた液晶表示素子に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a substrate with a color filter by forming a light-shielding film on a substrate and coloring a concave portion surrounded by the light-shielding film by an ink jet method, and a liquid crystal display using the same. Related to the element.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、パソコンの発達に伴い液晶表示装
置のカラー表示が増加しており、そのためにカラーフィ
ルタが使用されている。このカラーフィルタは、100
×300μm程度のピッチで800×600×3画素と
か、1024×768×3画素とかの微細なパターンで
形成する必要がある。このカラーフィルタの製造方法と
しては、現在では高精度のパターニングが可能なフォト
リソ工程を利用した顔料分散法が主流となっている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development of personal computers, the color display of liquid crystal display devices has increased, and color filters have been used for that purpose. This color filter is 100
It is necessary to form a fine pattern of 800 × 600 × 3 pixels or 1024 × 768 × 3 pixels at a pitch of about × 300 μm. As a method of manufacturing this color filter, a pigment dispersion method using a photolithography process capable of patterning with high precision is currently the mainstream.

【0003】この顔料分散法は、フォトリソ技術を用い
る方法であることから、高価なフォトレジストを用いた
り、レジストの塗布、乾燥、露光、現像、硬化等の各工
程を色毎に3回は繰り返すことになる。このため、大規
模な設備が必要になり、かつフォトリソ工程のために生
産性が低く、得られるカラーフィルタの価格が高くなる
という問題があった。
Since this pigment dispersion method uses a photolithographic technique, an expensive photoresist is used, or each step of coating, drying, exposing, developing, and curing the resist is repeated three times for each color. Will be. For this reason, there has been a problem that a large-scale facility is required, the productivity is low due to the photolithography process, and the price of the obtained color filter is high.

【0004】このため、製造装置が簡便で生産性が良い
カラーフィルタの製造方法として、特開昭59−752
05には、インクジェット方式で着色インクを吹き付け
ることにより着色層を形成する方法が提案されている。
インクジェット方式で着色を行う場合、その液滴径が数
十μmであり、一方、カラーフィルタの画素は概ね短辺
数十μm、長辺数百μm程度である。
For this reason, Japanese Patent Application Laid-Open No. 59-752 discloses a method of manufacturing a color filter which has a simple manufacturing apparatus and high productivity.
No. 05 proposes a method of forming a colored layer by spraying colored ink by an ink jet method.
In the case of performing coloring by the ink jet method, the droplet diameter is several tens of μm, while the pixel of the color filter is approximately several tens of μm on the short side and several hundred μm on the long side.

【0005】このことから、ガラス基板にあらかじめ画
素を規格する区画を設け、この中にインクジェット方式
でインクを吹き付け区画内にインクを広げることで均一
な画素を得ることができる。さらに前記提案には、ガラ
ス基板に対し濡れ性の良いインクを用いる場合には、イ
ンクに対して濡れの悪い物質であらかじめ境界となる凸
部を印刷しておくことが示されている。
[0005] For this reason, a uniform pixel can be obtained by previously providing a section for defining the pixel on the glass substrate, and spraying the ink by ink jetting in this section to spread the ink in the section. Furthermore, the above-mentioned proposal indicates that when ink having good wettability to a glass substrate is used, a convex portion serving as a boundary is printed in advance with a substance having poor wettability to the ink.

【0006】また、特開平6−347637では、イン
クに対して開口部は濡れやすく、凸部を構成する遮光膜
は濡れにくい組み合わせを用いることが提案されてい
る。前記方法の場合、凸部の撥インク性及び凹部の親イ
ンク性の制御が非常に重要である。その制御が不充分で
あると、たとえば、撥インク性の高い遮光膜を形成する
際には同時に親インク性であるべき開口部(凹部)を撥
インク剤が汚染してしまい、インクジェット方式により
着色層を形成しても画素周辺部のインクがはじかれ色ぬ
けしてしまうという問題点が生じることがある。
Japanese Unexamined Patent Application Publication No. Hei 6-347637 proposes using a combination in which the openings are easily wetted by the ink and the light-shielding films constituting the projections are hardly wetted. In the case of the above method, it is very important to control the ink repellency of the convex portions and the ink affinity of the concave portions. If the control is insufficient, for example, when forming a light-shielding film having high ink repellency, the ink repellent contaminates the opening (recess) which should be ink-philic at the same time, and is colored by the ink jet method. Even when the layer is formed, there is a problem that the ink around the pixel is repelled and the color is removed.

【0007】そこで凸部を撥インク性に凹部を親インク
性に正確に制御する方法として、たとえば、凸部である
遮光膜を形成後、撥インク剤を塗布し、エッチング処理
により凹部の親インク性を高める方法が提案されてい
る。またその他の方法としては、例えば樹脂遮光膜材料
を基板上に全面塗布し、続いて撥インク剤を全面に塗布
した後、露光・現像して、遮光膜上のみ撥インク性を付
与する方法が提案されている。
Therefore, as a method of accurately controlling the convex portion to be ink-repellent and the concave portion to be ink-philic, for example, after forming a light-shielding film which is a convex portion, an ink-repellent agent is applied, and the ink-repellent agent of the concave portion is etched. Methods have been proposed to increase the quality. As another method, for example, a method in which a resin light-shielding film material is applied on the entire surface of the substrate, followed by applying an ink-repellent agent on the entire surface, and then exposing and developing to impart ink repellency only on the light-shielding film. Proposed.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかし、前者の方法で
は、開口部のコーナー部分の親インク性を充分に高める
ことができにくく、コーナー部で色ぬけが生じやすいと
いう問題があった。さらにエッチング処理剤としてフッ
酸等の強酸、水酸化ナトリウム等の強アルカリを用いる
必要があった。
However, in the former method, there is a problem that it is difficult to sufficiently enhance the ink affinity at the corners of the openings, and that the corners are liable to be discolored. Further, it was necessary to use a strong acid such as hydrofluoric acid or a strong alkali such as sodium hydroxide as an etching agent.

【0009】また、後者の方法では、撥インク性を比較
的正確に制御することができるものの、熱により撥イン
ク剤が開口部にまで流動し汚染することがあるため、樹
脂遮光膜をハードベークすることができず、インクジェ
ット方式により着色インクを開口部に吐出した場合、イ
ンク中の溶媒により樹脂遮光膜が膨潤するという問題を
生じることがあった。
In the latter method, although the ink repellency can be controlled relatively accurately, the ink repellent may flow to the openings due to heat and become contaminated. When the colored ink is ejected to the opening by the ink jet method, there is a problem that the solvent in the ink swells the resin light-shielding film.

【0010】このため、遮光膜の膨潤や変形を生じにく
く、インクジェット方式で吹き付けを行っても隣接画素
にインクが流れ出さなく、凹部のコーナーにおいてもイ
ンクのはじきがなく、着色層が均一となるカラーフィル
タ付き基板の製造方法が望まれていた。
Therefore, the light-shielding film is unlikely to swell or deform, the ink does not flow to the adjacent pixels even when sprayed by the ink jet method, the ink does not repel at the corners of the concave portion, and the coloring layer becomes uniform. A method for manufacturing a substrate with a color filter has been desired.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、前記の課題を
解決すべくなされたものであり、光透過性の基板上に遮
光膜を形成し、その遮光膜により区切られた凹部にイン
クジェット方式によってインクを吹き付けて凹部にイン
クを堆積させて着色層を形成するカラーフィルタ付き基
板の製造方法において、(A) 基板上に遮光膜を特定パタ
ーンで形成する工程、(B) 光分解型樹脂と撥インク剤と
をこの順に、少なくとも遮光膜上には塗布し、基板の遮
光膜が形成されている面と反対側の面から光を照射して
現像を行うことにより、遮光膜の上面にのみ撥インク剤
層を形成させる工程、(C) インクジェット方式によって
インクを吹き付けして着色層を形成する工程、(D) 遮光
膜側の面から光を照射し、現像することにより、遮光膜
上の撥インク剤層を除去する工程、を順に含むことを特
徴とするカラーフィルタ付き基板の製造方法を提供す
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and comprises a light-shielding film formed on a light-transmitting substrate, and an ink jet system formed in a concave section defined by the light-shielding film. In the method of manufacturing a substrate with a color filter, which forms a colored layer by depositing ink in a concave portion by spraying ink, (A) a step of forming a light-shielding film on the substrate in a specific pattern, (B) a photo-decomposable resin and By applying an ink-repellent agent in this order at least on the light-shielding film, and irradiating light from the surface of the substrate opposite to the surface on which the light-shielding film is formed to perform development, only on the upper surface of the light-shielding film A step of forming an ink-repellent agent layer, (C) a step of forming a colored layer by spraying ink by an ink-jet method, and (D) irradiating light from the light-shielding film side surface and developing the light-shielding film. Remove ink repellent layer And a method for manufacturing a substrate with a color filter.

【0012】また、その製造方法により形成されたカラ
ーフィルタ付き基板を用いた液晶表示素子を提供する。
Further, the present invention provides a liquid crystal display element using a substrate with a color filter formed by the manufacturing method.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明では、インクジェット方式
でインクを吹き付けする前に、光透過性基板上に撥イン
ク剤を上面に有する遮光膜を形成し、その遮光膜により
区切られた凹部にインクジェット方式によってインクの
吹き付けて凹部にインクを堆積させて着色層を形成す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the present invention, a light-shielding film having an ink-repellent agent on an upper surface is formed on a light-transmitting substrate before ink is sprayed by an ink-jet method. The coloring layer is formed by spraying the ink by the method and depositing the ink in the concave portion.

【0014】この際に、まず基板上に遮光膜を特定パタ
ーンで形成する。次いで、光分解型樹脂と撥インク剤と
をこの順に、少なくとも遮光膜上には塗布し、基板の遮
光膜が形成されている面と反対側の面から光を照射して
現像を行うことにより、遮光膜の上面にのみ撥インク剤
層を形成させる。これにより、充分硬化させられた遮光
膜の上面に撥インク剤層を形成することができる。
At this time, a light-shielding film is first formed on the substrate in a specific pattern. Next, a photo-decomposable resin and an ink repellent agent are applied in this order at least on the light-shielding film, and the substrate is irradiated with light from the surface opposite to the surface on which the light-shielding film is formed to perform development. Then, the ink repellent agent layer is formed only on the upper surface of the light shielding film. As a result, an ink repellent agent layer can be formed on the upper surface of the light-shielding film that has been sufficiently cured.

【0015】次いで、インクジェット方式によって、そ
の遮光膜により区切られた凹部にインクを吹き付けして
着色層を形成する。その後、遮光膜側の面から光を照射
し、現像することにより、遮光膜上の撥インク剤層を除
去する。
Next, ink is sprayed on the concave portions separated by the light shielding film by an ink jet method to form a colored layer. Thereafter, the ink repellent layer on the light-shielding film is removed by irradiating light from the surface on the light-shielding film side and developing.

【0016】図1〜図3は本発明の製造方法を工程を追
って示した断面図である。図2の(A)は基板上に遮光
膜を特定パターンで形成する工程を示している。図1の
(B1)は光分解型樹脂を遮光膜上に塗布する工程、
(B2)はその上に撥インク剤を塗布する工程、(B
3)は基板の遮光膜が形成されている面と反対側の面か
ら光を照射する工程、(B4)は現像を行って遮光膜上
にのみ撥インク剤層を残存させる工程を示している。
1 to 3 are cross-sectional views showing steps of a manufacturing method of the present invention. FIG. 2A shows a step of forming a light-shielding film on a substrate in a specific pattern. FIG. 1 (B1) shows a step of applying a photo-decomposable resin on a light-shielding film;
(B2) is a step of applying an ink repellent agent thereon, (B2)
3) shows a step of irradiating light from the surface of the substrate opposite to the surface on which the light-shielding film is formed, and (B4) shows a step of performing development to leave the ink-repellent agent layer only on the light-shielding film. .

【0017】図3の(C)はインクジェット方式によっ
てインクを吹き付けして着色層を形成する工程、(D
1)は遮光膜側の面から光を照射する工程、(D2)は
現像を行って遮光膜上に残存していた撥インク剤層を除
去する工程を示している。
FIG. 3C shows a step of forming a colored layer by spraying ink by an ink-jet method.
1) shows a step of irradiating light from the surface on the light-shielding film side, and (D2) shows a step of performing development to remove the ink-repellent agent layer remaining on the light-shielding film.

【0018】各図において、1は基板、2は遮光膜、3
は光分解型樹脂層、4は撥インク剤層、5は基板の遮光
膜と反対側からの露光、6はインクジェット方式により
形成された着色層、7は遮光膜側からの露光を示してい
る。
In each figure, 1 is a substrate, 2 is a light shielding film, 3
Denotes a photo-decomposable resin layer, 4 denotes an ink repellent layer, 5 denotes exposure from the side opposite to the light-shielding film of the substrate, 6 denotes a colored layer formed by an inkjet method, and 7 denotes exposure from the light-shielding film side. .

【0019】本発明では、先ず最初に図1の(A)に示
されるように、光透過性の基板上1に画素領域を開口部
としてパターン化された遮光膜2を形成する。この光透
過性の基板としては、露光に用いる光が透過すればよ
く、特に限定されるものではないが、ガラス、プラスチ
ックのシートまたはフィルム等が好ましく用いられる。
また、この遮光膜は、最初から特定のパターンで形成さ
れてもよいし、全面に形成しておいてからフォトリソ工
程等でパターニングしてもよい。
In the present invention, first, as shown in FIG. 1A, a light-shielding film 2 is formed on a light-transmitting substrate 1 by using a pixel region as an opening. The light-transmitting substrate is not particularly limited as long as the light used for exposure is transmitted, and a glass or plastic sheet or film is preferably used.
The light-shielding film may be formed in a specific pattern from the beginning, or may be formed on the entire surface and then patterned by a photolithography process or the like.

【0020】本発明では、インクジェット方式で着色層
を形成するので、この遮光膜はある程度の厚みを有する
ことが好ましい。すなわち、遮光膜が凸部となって堰と
して働き、その堰に囲まれた凹部に、インクジェット方
式でインクが吹き付けられて着色層が形成される。この
ように堰が形成されていて本発明のように堰の上が撥イ
ンク性にされていると、吹き付けられたインクが隣接の
画素に流れ込みにくく美しいカラーフィルタが形成でき
る。
In the present invention, since the coloring layer is formed by the ink jet method, it is preferable that the light shielding film has a certain thickness. That is, the light-shielding film functions as a weir as a convex part, and ink is sprayed by an ink jet method on a concave part surrounded by the weir to form a colored layer. When the weir is formed in this way and the top of the weir is made ink-repellent as in the present invention, a beautiful color filter can be formed in which the sprayed ink is less likely to flow into adjacent pixels.

【0021】この遮光膜の厚みは、形成する着色層とほ
ぼ同じ程度の厚みとすることが好ましく、大旨0.3〜
3μm程度にされればよい。また、この遮光膜は、この
ような厚膜なので、樹脂にカーボンブラック等の黒色顔
料を混入した厚膜の遮光膜が好ましく使用される。この
ような樹脂系の遮光膜は、着色層を形成するインクによ
り膨潤されることがあるので、遮光膜形成直後に加熱し
て硬化させておくことが好ましい。膨潤の問題がなけれ
ば、着色層の硬化のための加熱工程で兼用することも可
能である。
The thickness of the light-shielding film is preferably substantially the same as the thickness of the coloring layer to be formed.
What is necessary is just to make it about 3 micrometers. Since the light-shielding film is such a thick film, a thick light-shielding film in which a black pigment such as carbon black is mixed in a resin is preferably used. Since such a resin-based light-shielding film may be swollen by the ink forming the colored layer, it is preferable that the resin-based light-shielding film be cured by heating immediately after the formation of the light-shielding film. If there is no problem of swelling, it is also possible to use the heating step for curing the colored layer.

【0022】また、クロム、ニッケル等の遮光性金属膜
やそれらに酸化クロムのような反射防止膜を積層したよ
うな薄膜の遮光膜を使用し、これに厚みをかせぐために
樹脂を積層するような構成の遮光膜も使用できる。
Further, a light-shielding metal film such as chromium or nickel or a thin light-shielding film in which an anti-reflection film such as chromium oxide is laminated thereon is used, and a resin is laminated to increase the thickness. A light-shielding film having the above configuration can also be used.

【0023】遮光膜は基板上に線状や格子状に形成され
るが、それにより区切られた凹部が画素に対応するよう
にされればよい。例えば、ストライプ状のカラーフィル
タを形成する場合には線状に形成され、四角の画素に対
応させるためには格子状に形成される。これは、画素の
形状により適宜定められるので、扇状、三角形状、六価
形状、円弧状等種々の形状も考えられる。
The light-shielding film is formed on the substrate in the form of a line or a lattice, and the recessed section may be made to correspond to the pixel. For example, when a stripe-shaped color filter is formed, it is formed in a linear shape, and in order to correspond to a square pixel, it is formed in a lattice shape. Since this is appropriately determined depending on the shape of the pixel, various shapes such as a fan shape, a triangular shape, a hexavalent shape, and an arc shape are also conceivable.

【0024】さらにストライプ状のパターンの場合に
は、長手方向には凸部が形成されなくてもよいが、画素
の周囲を完全に凸部で囲むこともある。特にモザイク状
のカラーフィルタの場合には、画素の周囲は遮光膜の凸
部で囲まれる。
Further, in the case of a stripe-shaped pattern, a projection may not be formed in the longitudinal direction, but the periphery of the pixel may be completely surrounded by the projection. In particular, in the case of a mosaic color filter, the periphery of the pixel is surrounded by a convex portion of the light shielding film.

【0025】次に図1の(B1)に示すように、光分解
型樹脂を塗布する。この光分解型樹脂は通常基板全面に
塗布すればよいが、遮光膜部分に選択的に塗布してもよ
い。本発明では、少なくとも遮光膜のある部分にはこの
光分解型樹脂を塗布して、光分解型樹脂層3を形成す
る。この光分解型樹脂としては、通常のポジ型フォトレ
ジストとして使用されているものが好適に使用できる。
Next, as shown in FIG. 1B, a photo-decomposable resin is applied. The photodecomposable resin is usually applied to the entire surface of the substrate, but may be selectively applied to the light shielding film. In the present invention, the photodecomposable resin is applied to at least a portion where the light-shielding film is present to form the photodecomposable resin layer 3. As the photodecomposable resin, those used as ordinary positive photoresists can be suitably used.

【0026】この光分解型樹脂の塗布方法としては、ス
ピンコート、スプレーコート、ロールコート、ダイコー
ト、ディップコート、スクリーン印刷等の方法を挙げる
ことができる。光分解型樹脂としては、具体的にはたと
えば、クレゾールノボラック樹脂にナフトキノンジアジ
ド化合物を配合したもの等が挙げられる。
Examples of the method for applying the photodecomposable resin include spin coating, spray coating, roll coating, die coating, dip coating, and screen printing. As the photodecomposable resin, specifically, for example, a resin in which a naphthoquinonediazide compound is blended with a cresol novolak resin is exemplified.

【0027】次に図1の(B2)に示すように、撥イン
ク剤を塗布する。この撥インク剤も通常基板全面に塗布
すればよいが、遮光膜部分に選択的に塗布してもよい。
この撥インク剤の塗布方法としては、スピンコート、ス
プレーコート、ロールコート、ダイコート、ディップコ
ート、転写印刷等の方法を挙げることができる。本発明
では、少なくとも遮光膜のある部分にはこの撥インク剤
を塗布して、撥インク剤層4を形成する。これらの層
は、必要に応じて夫々またはまとめて加熱する等して乾
燥させる。
Next, as shown in FIG. 1B2, an ink repellent is applied. This ink repellent agent may be usually applied to the entire surface of the substrate, but may be selectively applied to the light shielding film portion.
Examples of the method for applying the ink repellent include spin coating, spray coating, roll coating, die coating, dip coating, and transfer printing. In the present invention, the ink-repellent agent layer 4 is formed by applying the ink-repellent agent to at least a portion having the light-shielding film. These layers are dried by heating them individually or collectively as necessary.

【0028】この撥インク剤としては、画素を形成する
ための着色インクに対して20°以上の後退接触角をも
つものであれば何でもよく、界面エネルギーの低い、ケ
イ素、フッ素などの原子を含んだ化合物を挙げることが
できる。
The ink repellent agent may be any agent having a receding contact angle of 20 ° or more with respect to the color ink for forming pixels, and contains an atom having a low interface energy, such as silicon or fluorine. Compounds.

【0029】その後図1の(B3)に示すように、基板
の遮光膜が形成された面と反対側の面から露光5を行
う。この露光は光分解型樹脂を分解することができる光
を照射すればよい。通常は紫外線を照射する。このため
の光源としては、高圧水銀灯、カーボンアーク灯、キセ
ノンランプ等がある。
After that, as shown in FIG. 1B3, exposure 5 is performed from the surface of the substrate opposite to the surface on which the light-shielding film is formed. This exposure may be performed by applying light capable of decomposing the photodecomposable resin. Usually, ultraviolet rays are applied. Light sources for this purpose include a high-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a xenon lamp, and the like.

【0030】図1の(B4)は、露光後に現像を行った
状態を示している。この現像は現像液に浸漬、リンス、
超音波洗浄、乾燥を順に行う等の公知の方法によって行
うことができる。現像液としては、たとえばアルカリ現
像可能な樹脂に対しては、炭酸ナトリウム、水酸化カリ
ウム等の無機アルカリやエタノールアミン等の有機アル
カリの水溶液等が好ましく使用される。
FIG. 1B4 shows a state in which development has been performed after exposure. This development is immersed in a developer, rinsed,
A known method such as sequentially performing ultrasonic cleaning and drying can be used. As the developer, for example, an aqueous solution of an inorganic alkali such as sodium carbonate or potassium hydroxide or an aqueous solution of an organic alkali such as ethanolamine is preferably used for a resin which can be alkali-developed.

【0031】(B3)の工程で遮光膜が露光マスクとし
て機能し、遮光膜の無い部分に付着していた光分解型樹
脂が露光により分解される。このため、現像を行うと、
この光分解型樹脂が分解した部分では、分解した光分解
型樹脂と一緒にその上に積層されていた撥インク剤も除
去される。
In the step (B3), the light-shielding film functions as an exposure mask, and the photo-decomposable resin adhering to the portion without the light-shielding film is decomposed by exposure. Therefore, when development is performed,
In the portion where the photodecomposable resin is decomposed, the ink repellent agent laminated thereon is removed together with the decomposed photodecomposable resin.

【0032】その結果、遮光膜2上にのみ光分解型樹脂
層3と撥インク剤層4が残存した基板が形成される。こ
れにより、インクジェット方式でインクを吹き付けした
際にインクが堆積する凹部には、撥インク剤が残ってい
なく、均一な着色層が得られる。
As a result, a substrate in which the photodecomposable resin layer 3 and the ink repellent agent layer 4 remain only on the light shielding film 2 is formed. Thereby, the ink repellent agent does not remain in the concave portion where the ink is deposited when the ink is sprayed by the inkjet method, and a uniform colored layer can be obtained.

【0033】次いで、図3の(C)の着色層形成工程を
行う。この着色層形成工程では、インクジェット方式に
よりインクを吹き付けして着色層6を形成する。上面に
撥インク剤層4を設けた遮光膜2に囲まれた凹部に、イ
ンクを吹き付けする。インクは乾燥時に遮光膜2とほぼ
同じ膜厚になるようにされることが多いので、吹き付け
直後の溶媒を含んでいる状態では、凹部の周辺の遮光膜
の凸部よりも盛り上がっている傾向がある。
Next, a colored layer forming step shown in FIG. 3C is performed. In this colored layer forming step, the colored layer 6 is formed by spraying ink by an inkjet method. Ink is sprayed on a concave portion surrounded by the light shielding film 2 provided with the ink repellent agent layer 4 on the upper surface. In many cases, the ink is made to have substantially the same thickness as the light-shielding film 2 during drying, and therefore, when the ink contains the solvent immediately after spraying, the ink tends to rise more than the protrusions of the light-shielding film around the concave portions. is there.

【0034】この場合においても、遮光膜2の上面に撥
インク剤層4があるので、表面張力により隣接画素にイ
ンクが流れにくくなる。この着色層は、必要に応じて加
熱する等して乾燥または硬化される。また、カラーフィ
ルタは通常RGB(赤、緑、青)3色形成されるが、用
途によっては2色でもよいし、CMY(シアン、マゼン
ダ、イエロー)でもよい。
Also in this case, since the ink-repellent agent layer 4 is provided on the upper surface of the light-shielding film 2, it is difficult for the ink to flow to the adjacent pixels due to the surface tension. The colored layer is dried or cured by heating or the like as necessary. The color filter is usually formed in three colors of RGB (red, green, blue), but may be formed of two colors or CMY (cyan, magenta, yellow) depending on the application.

【0035】インクジェット方式としては、帯電したイ
ンクを連続的に噴射し電場によって制御する方法、圧電
素子を用いて完結的にインクを噴射する方法、インクを
加熱しその発泡を利用して間欠的に噴射する方法等、各
種の方法を採用できる。
As the ink jet system, there are a method in which charged ink is continuously jetted and controlled by an electric field, a method in which ink is completely jetted using a piezoelectric element, and an ink which is heated and intermittently formed by utilizing foaming. Various methods such as an injection method can be adopted.

【0036】また着色層を形成するためのインクとして
は、後の現像工程に耐えることができるようにするた
め、熱または光で硬化するバインダー成分が含まれるこ
とが好ましい。このようなバインダー成分としては、例
えばアクリレート誘導体やメタクリレート誘導体を挙げ
ることができる。
Further, the ink for forming the colored layer preferably contains a binder component which is cured by heat or light in order to be able to withstand the subsequent development step. Examples of such a binder component include an acrylate derivative and a methacrylate derivative.

【0037】次いで、図3の(D1)に示すように、遮
光膜2が形成された側の面から露光7を行う。この露光
は光分解型樹脂を分解することができる光を照射すれば
よい。通常は紫外線を照射する。
Next, as shown in (D1) of FIG. 3, exposure 7 is performed from the surface on which the light shielding film 2 is formed. This exposure may be performed by applying light capable of decomposing the photodecomposable resin. Usually, ultraviolet rays are applied.

【0038】図3の(D2)は、露光後に現像を行った
状態を示している。これにより遮光膜のある部分に付着
していた光分解型樹脂が露光により分解される。このた
め、現像を行うと、この遮光膜2上に残っていた光分解
型樹脂が分解され、分解した光分解型樹脂と一緒にその
上に積層されていた撥インク剤も除去される。
FIG. 3D2 shows a state in which development has been performed after exposure. As a result, the photo-decomposable resin adhered to a certain portion of the light-shielding film is decomposed by exposure. Therefore, when the development is performed, the photo-decomposable resin remaining on the light-shielding film 2 is decomposed, and the ink-repellent agent laminated thereon together with the decomposed photo-decomposable resin is also removed.

【0039】この後、さらに必要に応じて、加熱硬化工
程を経て、所望のカラーフィルタ付き基板を製造する。
Thereafter, a substrate with a desired color filter is manufactured through a heat-curing step, if necessary.

【0040】さらに必要に応じてこの上に平坦化、絶
縁、電極との接着性向上等の目的で樹脂や無機物のコー
ト層を形成する。その上にITO(インジウムスズ酸化
物)や酸化スズ、その他の電極を形成する。
Further, if necessary, a coating layer of a resin or an inorganic substance is formed thereon for the purpose of flattening, insulating, improving the adhesion to the electrodes, and the like. Then, ITO (indium tin oxide), tin oxide, and other electrodes are formed thereon.

【0041】このような電極及びカラーフィルタ付き基
板と他の電極付き基板との間に液晶層を挟持して液晶表
示素子を形成することができる。もちろん、電極上に無
機物や有機物のオーバーコート層を形成したり、画素電
極にTFT等の能動素子を配置したり、液晶表示素子の
外側に偏光膜や位相差板を配置したりしてもよい。
A liquid crystal display element can be formed by sandwiching a liquid crystal layer between such a substrate with electrodes and a color filter and another substrate with electrodes. Of course, an inorganic or organic overcoat layer may be formed on the electrode, an active element such as a TFT may be arranged on the pixel electrode, or a polarizing film or a retardation plate may be arranged outside the liquid crystal display element. .

【0042】[0042]

【実施例】【Example】

例1(実施例) 光透過性のガラス基板上に、黒色に着色されたフォトレ
ジスト(東京応化社製「416S」)をスピンコート法
により目標膜厚1.5μmとなるように塗布し、110
℃で10分間加熱処理した。この基板にフォトマスクを
介して100mJ露光し、指定現像液に30秒浸漬し、
冷水で洗浄後、230℃で1時間焼成を行い、高さ1.
5μm、幅25μmの遮光膜を有する基板を得た。
Example 1 A black-colored photoresist (“416S” manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) was applied on a light-transmitting glass substrate by spin coating so as to have a target film thickness of 1.5 μm.
Heat treatment was performed at 10 ° C. for 10 minutes. This substrate is exposed to 100 mJ through a photomask, immersed in a designated developing solution for 30 seconds,
After washing with cold water, baking was performed at 230 ° C. for 1 hour, and the height was 1.
A substrate having a light-shielding film of 5 μm and a width of 25 μm was obtained.

【0043】この基板の表面全体にポジ型レジストをス
ピンコート法により塗布し、続いてフッ素系界面活性剤
(東芝シリコーン社製「TSL−8233」)をパーフ
ルオロ(2−ブチルテトラヒドロフラン)で0.25重
量%に希釈した液をスピンコート法により塗布した後、
80℃で5分間仮乾燥した。
A positive resist was applied to the entire surface of the substrate by spin coating, and then a fluorine-based surfactant (“TSL-8233” manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) was added to the surface of the substrate using perfluoro (2-butyltetrahydrofuran). After applying a solution diluted to 25% by weight by spin coating,
Preliminary drying was performed at 80 ° C. for 5 minutes.

【0044】その後、遮光膜が形成された面と反対側の
面から高圧水銀ランプにより100mJ背面露光し、指
定現像液に30秒浸漬し、冷水で洗浄して、遮光膜上に
のみ撥インク剤層が形成された基板を得た。
Thereafter, the surface opposite to the surface on which the light-shielding film is formed is exposed to a back light of 100 mJ by a high-pressure mercury lamp, immersed in a specified developing solution for 30 seconds, washed with cold water, and the ink repellent is applied only on the light-shielding film. A substrate on which a layer was formed was obtained.

【0045】この基板の開口部(遮光膜に囲まれた凹
部)に対し、インクジェット法でRGB3色の水系顔料
インクを用いて吹き付けを行い、120℃で5分間仮乾
燥した。次に、遮光膜が形成された面側から高圧水銀ラ
ンプにより300mJ表面露光し、指定現像液に30秒
浸漬し、冷水で洗浄した後、230℃で1時間焼成を行
い、格子状のRGBのカラーフィルタを得た。この結果
を表1に示す。
The openings (recesses surrounded by the light-shielding film) of the substrate were sprayed by an inkjet method using aqueous RGB three-color pigment inks, and were temporarily dried at 120 ° C. for 5 minutes. Next, the surface on which the light-shielding film is formed is exposed to a surface of 300 mJ by a high-pressure mercury lamp, immersed in a designated developer for 30 seconds, washed with cold water, and baked at 230 ° C. for 1 hour to form a grid-like RGB. A color filter was obtained. Table 1 shows the results.

【0046】例2(比較例) 比較例として、例1と同様の方法で、遮光膜を基板上に
形成した。その後、フッ素系界面活性剤(東芝シリコー
ン社製「TSL−8233」)をパーフルオロ(2−ブ
チルテトラヒドロフラン)で0.25重量%に希釈した
液をスピンコート法により塗布した後、80℃で5分間
仮乾燥した。
Example 2 (Comparative Example) As a comparative example, a light-shielding film was formed on a substrate in the same manner as in Example 1. Then, a solution obtained by diluting a fluorine-based surfactant (“TSL-8233” manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) to 0.25% by weight with perfluoro (2-butyltetrahydrofuran) is applied by a spin coating method, and then applied at 80 ° C. for 5 minutes. Temporarily dried for minutes.

【0047】この基板を16バッファードフッ酸(HF
50%水溶液とNH4 Fの40%水溶液の1:6混合
液)を1%に希釈した処理液で、60秒間エッチング処
理し、水洗し風乾した。このようにして得られた基板の
開口部に対して、インクジェット法で水系顔料インクを
用いて吹き付けを行い、230℃で1時間焼成を行い、
格子状のRGBのカラーフィルタを得た。この結果を表
1に示す。
This substrate was treated with 16 buffered hydrofluoric acid (HF).
An etching treatment was performed for 60 seconds with a treatment solution obtained by diluting a 50% aqueous solution and a 40% aqueous solution of NH 4 F (1: 6 mixture) to 1%, washed with water, and air-dried. The opening of the substrate obtained in this manner is sprayed with an aqueous pigment ink by an inkjet method, and baked at 230 ° C. for 1 hour.
A lattice-like RGB color filter was obtained. Table 1 shows the results.

【0048】なお、表1の結果において、「○」はいず
れもそれらの欠点がないもの(良品)を、「×」はその
ような欠点を生じたもの(不良品)を示す。例1(実施
例)では、隣接画素部へのインク流出、画素周辺部での
色抜け、画素内での色むらという欠陥は生じなかった。
一方、例2(比較例)のものは、画素コーナー部へのイ
ンクの広がりが悪く、色抜けが目立つものがあった。
In the results shown in Table 1, “○” indicates that there is no defect (good), and “×” indicates that there is such defect (defective). In Example 1 (Example), defects such as outflow of ink to an adjacent pixel portion, color omission in a peripheral portion of a pixel, and uneven color in a pixel did not occur.
On the other hand, in the case of Example 2 (Comparative Example), the spread of the ink to the pixel corners was poor, and the color omission was conspicuous.

【0049】[0049]

【表1】 [Table 1]

【0050】[0050]

【発明の効果】本発明は、光分解型樹脂と撥インク剤と
を用いて2回の露光を行うことにより、インクジェット
時に遮光膜上にのみ撥インク剤を配置でき、インクジェ
ット後には光分解型樹脂と撥インク剤とを容易に除去で
きる。これにより、インクジェット方式を用いても、隣
接画素部へのインク流出、画素周辺部での色抜け、画素
内での色むらという欠陥を生じにくい。
According to the present invention, the ink repellent agent can be arranged only on the light-shielding film at the time of ink-jet by performing the exposure twice using the photo-decomposable resin and the ink-repellent agent. The resin and the ink repellent can be easily removed. As a result, even when the ink jet method is used, defects such as outflow of ink to an adjacent pixel portion, color loss in a peripheral portion of a pixel, and uneven color in a pixel are less likely to occur.

【0051】このため、生産性の良いインクジェット方
式により、均一性に優れたカラーフィルタ付き基板を容
易に製造することができる。本発明は、本発明の効果を
損しない範囲内で、種々の応用が可能である。
Therefore, a substrate with a color filter having excellent uniformity can be easily manufactured by the ink jet method having good productivity. The present invention can be applied to various applications within a range that does not impair the effects of the present invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の製造工程を示す断面図。FIG. 1 is a sectional view showing a manufacturing process of the present invention.

【図2】本発明の製造工程を示す断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a manufacturing process of the present invention.

【図3】本発明の製造工程を示す断面図。FIG. 3 is a sectional view showing a manufacturing process of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:基板 2:遮光膜 3:光分解型樹脂層 4:撥インク剤層 5:露光 6:着色層 7:露光 1: substrate 2: light shielding film 3: photodecomposable resin layer 4: ink repellent agent layer 5: exposure 6: colored layer 7: exposure

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】光透過性の基板上に遮光膜を形成し、その
遮光膜により区切られた凹部にインクジェット方式によ
ってインクを吹き付けて凹部にインクを堆積させて着色
層を形成するカラーフィルタ付き基板の製造方法におい
て、(A) 基板上に遮光膜を特定パターンで形成する工
程、(B) 光分解型樹脂と撥インク剤とをこの順に、少な
くとも遮光膜上には塗布し、基板の遮光膜が形成されて
いる面と反対側の面から光を照射して現像を行うことに
より、遮光膜の上面にのみ撥インク剤層を形成させる工
程、(C) インクジェット方式によってインクを吹き付け
して着色層を形成する工程、(D) 遮光膜側の面から光を
照射し、現像することにより、遮光膜上の撥インク剤層
を除去する工程、を順に含むことを特徴とするカラーフ
ィルタ付き基板の製造方法。
1. A substrate with a color filter, wherein a light-shielding film is formed on a light-transmissive substrate, and ink is sprayed by an ink jet method onto concave portions separated by the light-shielding film to deposit ink in the concave portions to form a colored layer. (A) a step of forming a light-shielding film on the substrate in a specific pattern, (B) applying a photo-decomposable resin and an ink repellent in this order at least on the light-shielding film, the light-shielding film of the substrate Developing by irradiating light from the surface opposite to the surface on which ink is formed to form an ink repellent agent layer only on the upper surface of the light-shielding film, (C) spraying ink by an ink jet method and coloring Forming a layer, and (D) removing the ink-repellent agent layer on the light-shielding film by irradiating light from the surface on the light-shielding film side and developing the substrate. Manufacturing method .
【請求項2】請求項1記載の製造方法により形成された
カラーフィルタ付き基板を用いた液晶表示素子。
2. A liquid crystal display device using a substrate with a color filter formed by the method according to claim 1.
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