JPH1187988A - Front panel for plasma display - Google Patents

Front panel for plasma display

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Publication number
JPH1187988A
JPH1187988A JP10173155A JP17315598A JPH1187988A JP H1187988 A JPH1187988 A JP H1187988A JP 10173155 A JP10173155 A JP 10173155A JP 17315598 A JP17315598 A JP 17315598A JP H1187988 A JPH1187988 A JP H1187988A
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JP
Japan
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film
layer
plasma display
laminated
transparent
Prior art date
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Pending
Application number
JP10173155A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shinsuke Ochiai
伸介 落合
Yukio Yasunori
幸雄 康乗
Satoshi Honda
聡 本多
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH1187988A publication Critical patent/JPH1187988A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a front panel which can effectively shield electromagnetic waves generated from the screen of a plasma display and can be comparatively simple manufactured. SOLUTION: In this front panel, two or more conductive films 41, 42 wherein transparent conductive layers 31, 32 are formed on one surfaces of polymer films 21, 22 are laminated on a transparent substrate 1. Two or more conductive films are laminated on at least one surface of the transparent substrate. A first conductive film, wherein a transparent conductive layer is formed on one surface of the polymer film, is laminated on at least one surface of the transparent substrate, in such a manner that the transparent conductive layer is arranged outside. A second conductive film, wherein a transparent conductive layer is formed on one surface of the polymer film is laminated on the transparent conductive layer in such a manner that the transparent conductive layer, is arranged outside.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイ用前面板に関する。
The present invention relates to a front panel for a plasma display.

【0002】[0002]

【従来の技術】プラズマディスプレイは、表示面積が大
きく、しかも平坦なディスプレイとして注目されている
が、その画面からは電磁波が発生するため、これを遮蔽
する必要がある。一般にディスプレイからの電磁波を遮
蔽するための方法としては、例えば透明基板上に導電層
が設けられた前面板を陰極線管(CRT)の前面に配置
する方法が提案されている(特公平7−89597号公
報)。しかし、かかる前面板は、透明基板毎に真空蒸着
などの方法によって導電層を形成する必要があるため、
大型の真空蒸着装置が必要で、製造工程が煩雑であると
いう問題があった。
2. Description of the Related Art A plasma display has attracted attention as a flat display having a large display area and a flat surface. However, since electromagnetic waves are generated from the screen, it is necessary to shield the electromagnetic waves. In general, as a method for shielding electromagnetic waves from a display, for example, a method has been proposed in which a front plate provided with a conductive layer on a transparent substrate is arranged on the front surface of a cathode ray tube (CRT) (Japanese Patent Publication No. 7-89597). No.). However, since such a front plate needs to form a conductive layer by a method such as vacuum evaporation for each transparent substrate,
There is a problem that a large-sized vacuum evaporation apparatus is required and the manufacturing process is complicated.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】そこで本発明者らは、
プラズマディスプレイの画面から発生する電磁波を有効
に遮蔽し得、しかも比較的簡便に製造し得る前面板を開
発するべく、鋭意検討した結果、透明基板の少なくとも
一方の面に導電性フィルムを積層すること、および該導
電性フィルムを二以上用いることにより、かかる問題を
解決し得ることを見出し、本発明に至った。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, the present inventors
As a result of intensive studies to develop a front panel that can effectively shield electromagnetic waves generated from the screen of a plasma display and that can be manufactured relatively easily, laminating a conductive film on at least one surface of a transparent substrate The inventors have found that such a problem can be solved by using two or more of the conductive films, and have reached the present invention.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、透
明基板(1)に、高分子フィルム(21、22)の一方
の面に透明導電層(31、32)が形成された導電性フ
ィルム(41、42)が二以上積層されてなるプラズマ
ディスプレイ用前面板を提供するものである。本発明の
前面板の一例を図1〜図8に示す。
That is, the present invention relates to a conductive film in which a transparent conductive layer (31, 32) is formed on one surface of a polymer film (21, 22) on a transparent substrate (1). An object of the present invention is to provide a front panel for a plasma display in which two or more (41, 42) are laminated. One example of the front plate of the present invention is shown in FIGS.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明のプラズマディスプレイ用
前面板における透明基板(1)は、例えばアクリル樹
脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、メタクリル酸メ
チル−スチレン共重合体などの合成樹脂などからなるも
のであり、目的とする大きさに容易に加工できる点およ
び透明性の点でアクリル樹脂が好ましい。かかる透明基
板の厚みは通常0.01〜10mm、好ましくは0.5
〜10mm程度のものが使用される。また、その面積は
目的とするディスプレイの画面サイズに応じて適宜選択
される。かかる透明基板は、実用上透明であればよく、
染料、顔料などによって着色されていてもよい。波長4
00〜600nmにおける光線透過率は通常50%以
上、好ましくは60%以上である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The transparent substrate (1) in the front plate for a plasma display of the present invention is made of, for example, a synthetic resin such as acrylic resin, polycarbonate, polystyrene, and methyl methacrylate-styrene copolymer. Acrylic resins are preferred in that they can be easily processed to the desired size and in terms of transparency. The thickness of such a transparent substrate is usually 0.01 to 10 mm, preferably 0.5 to 10 mm.
Those having a size of about 10 to 10 mm are used. The area is appropriately selected according to the target screen size of the display. Such a transparent substrate may be practically transparent,
It may be colored by a dye, a pigment or the like. Wavelength 4
The light transmittance at 00 to 600 nm is usually 50% or more, preferably 60% or more.

【0006】また、プラズマディスプレイから発生する
近赤外線を遮蔽する性能を有する透明基板であってもよ
い。この場合、波長850〜1000nmにおける平均
光線透過率は10%以下であることが好ましい。近赤外
線を遮蔽する性能を有する透明基板は、例えば不飽和二
重結合を有する単量体、リン原子含有単量体を共重合し
てなる共重合体および銅原子を含有する化合物を含有す
る樹脂組成物(例えば特開平6−118228号公報参
照。)、銅化合物、リン化合物を含有する樹脂組成物
(例えば特公昭62−5190号公報参照。)、銅化合
物、チオ尿素誘導体を含有する樹脂組成物(例えば特開
平6−73197号公報参照。)、タングステン系化合
物を含有する樹脂組成物(例えばUSP−364772
9号公報参照。)などを成形することによって製造でき
る。
Further, a transparent substrate having a function of shielding near infrared rays generated from the plasma display may be used. In this case, the average light transmittance at a wavelength of 850 to 1000 nm is preferably 10% or less. A transparent substrate having a performance of shielding near-infrared rays is, for example, a monomer containing an unsaturated double bond, a copolymer containing a copolymer of a phosphorus atom-containing monomer, and a resin containing a compound containing a copper atom. Composition (see, for example, JP-A-6-118228), resin composition containing a copper compound and a phosphorus compound (see, for example, Japanese Patent Publication No. 62-5190), resin composition containing a copper compound and a thiourea derivative (For example, see JP-A-6-73197) and a resin composition containing a tungsten-based compound (for example, USP-364772).
See No. 9. ) And the like.

【0007】かかる透明基板は、少なくとも導電性フィ
ルムが積層される側の表面がハードコート処理されてい
ることが、プラズマディスプレイからの高温に長時間晒
しても導電性フィルムと透明基板とが剥がれにくくなる
ため好ましく、透明基板がアクリル樹脂からなる場合に
は、その効果が顕著である。
[0007] Such a transparent substrate has a hard coat treatment at least on the surface on which the conductive film is laminated, so that the conductive film and the transparent substrate are hardly peeled off even when exposed to a high temperature from a plasma display for a long time. The effect is remarkable when the transparent substrate is made of an acrylic resin.

【0008】ハードコート層は、通常用いられると同様
のものであり、例えば多官能性単量体またはそのオリゴ
マーが重合硬化されてなる層が挙げられる。ここで、多
官能性単量体としては、アクリル系単量体、シリコン系
単量体、エポキシ系単量体、メラミン系単量体などが挙
げられる。かかる単量体またはそのオリゴマーを主成分
とするアクリル系ハードコート剤、シリコン系ハードコ
ート剤、エポキシ系ハードコート剤、メラミン系ハード
コート剤などのハードコート剤が塗布後、重合硬化され
てハードコート層が形成される。
The hard coat layer is the same as that usually used, and includes, for example, a layer obtained by polymerizing and curing a polyfunctional monomer or an oligomer thereof. Here, examples of the polyfunctional monomer include an acrylic monomer, a silicon monomer, an epoxy monomer, and a melamine monomer. A hard coat agent such as an acrylic hard coat agent, a silicon hard coat agent, an epoxy hard coat agent, a melamine hard coat agent or the like containing the monomer or its oligomer as a main component is applied, and then polymerized and cured to form a hard coat. A layer is formed.

【0009】アクリル系単量体としては、例えば分子中
に少なくとも2個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有
する重合性化合物などが挙げられる。かかる重合性化合
物の具体例としては、例えば多価アルコールと(メタ)
アクリル酸とのエステル化合物、末端にイソシアネート
基を有する化合物と水酸基を有する(メタ)アクリル酸
誘導体とから得られるウレタン変性(メタ)アクリルオ
リゴマーなどが挙げられる。
The acrylic monomer includes, for example, a polymerizable compound having at least two (meth) acryloyloxy groups in a molecule. Specific examples of such a polymerizable compound include, for example, polyhydric alcohol and (meth)
Examples include an ester compound with acrylic acid, a urethane-modified (meth) acrylic oligomer obtained from a compound having an isocyanate group at a terminal and a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group.

【0010】多価アルコールとしては、例えばエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリ
コール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジ
オール、ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、
2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2,2’−チ
オジエタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノール
などの2価のアルコール、トリメチロールプロパン、ペ
ンタグリセロール、グリセロール、ペンタエリスリトー
ル、ジグリセロール、ジペンタグリセロール、ジペンタ
エリスリトールなどの3価以上のアルコールなどが挙げ
られる。
Examples of polyhydric alcohols include ethylene glycol, diethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, propanediol, butanediol, pentanediol, hexanediol, neopentyl glycol,
Dihydric alcohols such as 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2,2'-thiodiethanol, 1,4-cyclohexanedimethanol, trimethylolpropane, pentaglycerol, glycerol, pentaerythritol, diglycerol, dipenta Examples include trihydric or higher alcohols such as glycerol and dipentaerythritol.

【0011】かかる多価アルコールと(メタ)アクリル
酸とのエステル化合物は、得られる硬化膜に可とう性を
持たせひび割れしにくくするため、更に多価不飽和カル
ボン酸を少量加えて混合エステルとしてもよい。多価不
飽和カルボン酸としては、例えばコハク酸、テトラヒド
ロフタル酸、フタル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコ
ン酸等がある。
Such an ester compound of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid is used as a mixed ester by further adding a small amount of a polyunsaturated carboxylic acid in order to impart flexibility to the obtained cured film and to prevent cracking. Is also good. Examples of the polyunsaturated carboxylic acid include succinic acid, tetrahydrophthalic acid, phthalic acid, maleic acid, fumaric acid, and itaconic acid.

【0012】ウレタン変性(メタ)アクリルオリゴマー
は、例えばポリイソシアネートと複数の水酸基を有する
オリゴマーとを反応させて得られる末端イソシアネート
ポリウレタンを、(メタ)アクリル酸誘導体と反応させ
る方法によって得ることができる。ポリイソシアネート
としてはヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロン
イソシアネートなどが、複数の水酸基を有するオリゴマ
ーとしては、ポリカプロラクトンジオール、ポリテトラ
メチレンジオールなどが、(メタ)アクリル酸誘導体と
しては、(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、
(メタ)アクリル酸−2−ヒドロキシプロピルなどの
(メタ)アクリル酸ヒドロキシアルキル化合物などがそ
れぞれ例示される。
The urethane-modified (meth) acrylic oligomer can be obtained, for example, by reacting a polyisocyanate and an oligomer having a plurality of hydroxyl groups with a terminal isocyanate polyurethane and a (meth) acrylic acid derivative. Examples of the polyisocyanate include hexamethylene diisocyanate and isophorone isocyanate; examples of the oligomer having a plurality of hydroxyl groups include polycaprolactone diol and polytetramethylene diol; and examples of the (meth) acrylic acid derivative include (meth) acrylic acid-2- Hydroxyethyl,
Examples thereof include hydroxyalkyl (meth) acrylate compounds such as 2-hydroxypropyl (meth) acrylate.

【0013】多官能性単量体またはそのオリゴマーは、
例えば開始剤と混合されたのちスピン塗装法、浸漬塗装
法、ロールコート塗装法、グラビアコート塗装法、カー
テンフロー塗装法などの通常の方法によって透明基板上
に塗布されたのち、重合硬化される。また、種々の溶剤
により希釈されて塗布されてもよく、その場合、溶剤は
通常、塗布後、硬化させるまでに揮散される。重合硬化
に際しては、用いる多官能性単量体またはそのオリゴマ
ーに応じて紫外線硬化、熱硬化、電子線硬化などが適宜
選択される。
The polyfunctional monomer or oligomer thereof is
For example, after being mixed with an initiator, it is applied on a transparent substrate by a usual method such as spin coating, dip coating, roll coating, gravure coating, curtain flow coating, and then polymerized and cured. Further, it may be applied after being diluted with various solvents. In that case, the solvent is usually volatilized after application and before curing. Upon polymerization and curing, ultraviolet curing, heat curing, electron beam curing, and the like are appropriately selected depending on the polyfunctional monomer or oligomer thereof used.

【0014】かくして透明基板の表面に形成されるハー
ドコート層の厚みは特に限定されるものではないが、好
ましくは1〜20μm程度である。厚みが1μm以下で
あるとハードコート層に起因する干渉縞が発生し易くな
り、20μmを越えるとハードコート層にひびが入り易
くなる傾向にある。なお、透明基板とハードコート層と
の密着性を向上させるために、透明基板とハードコート
層の間に接着層が設けられていてもよい。
The thickness of the hard coat layer formed on the surface of the transparent substrate is not particularly limited, but is preferably about 1 to 20 μm. When the thickness is 1 μm or less, interference fringes due to the hard coat layer tend to occur, and when the thickness exceeds 20 μm, the hard coat layer tends to crack. In order to improve the adhesion between the transparent substrate and the hard coat layer, an adhesive layer may be provided between the transparent substrate and the hard coat layer.

【0015】かかる透明基板(1)には、二以上の導電
性フィルム(41、42)が積層される。導電性フィル
ム(41、42)は高分子フィルム(21、22)の少
なくとも一方の面に透明導電層(31、32)が形成さ
れたものである。透明導電層(31、32)としては、
例えば金属からなる層、金属酸化物などからなる層など
が挙げられる。金属としては金、銀、白金、パラジウ
ム、銅、チタン、クロム、モリブデン、ニッケル、ジル
コニウムなどが、金属酸化物としては酸化ケイ素、酸化
チタン、酸化タンタル、酸化錫、酸化インジウム、酸化
ジルコニウム、酸化亜鉛などがそれぞれ例示され、これ
らはそれぞれ単独または2種以上を組み合わせて用いら
れる。中でも、銀は導電性に優れた導電性フィルムが容
易に得られる点で好ましい。
Two or more conductive films (41, 42) are laminated on the transparent substrate (1). The conductive films (41, 42) are formed by forming transparent conductive layers (31, 32) on at least one surface of a polymer film (21, 22). As the transparent conductive layers (31, 32),
For example, a layer made of a metal, a layer made of a metal oxide, or the like can be given. Metals include gold, silver, platinum, palladium, copper, titanium, chromium, molybdenum, nickel, and zirconium. Metal oxides include silicon oxide, titanium oxide, tantalum oxide, tin oxide, indium oxide, zirconium oxide, and zinc oxide. And the like, each of which is used alone or in combination of two or more. Among them, silver is preferable in that a conductive film having excellent conductivity can be easily obtained.

【0016】かかる透明導電層は、金属からなる層、金
属酸化物からなる層の単層であってもよいが、金属から
なる層(金属層)を用いた場合には、その外側に誘電体
からなる層(誘電体層)を積層して多層とすると、透明
導電層の厚みを大きくして導電性を向上した場合であっ
ても、透明導電層による反射を防止して可視光の透過率
を向上し得るので、好ましい。かかる多層の構造として
具体的には、例えば(誘電体層/金属層/誘電体層)で
示される3層構造、(誘電体層/金属層/誘電体層/金
属層/誘電体層)で示される5層構造、(誘電体層/金
属層/誘電体層/金属層/誘電体層/金属層/誘電体
層)で示される7層構造、(誘電体層/金属層/誘電体
層/金属層/誘電体層/金属層/誘電体層/金属層/誘
電体層)で示される9層構造、(誘電体層/金属層/誘
電体層/金属層/誘電体層/金属層/誘電体層/金属層
/誘電体層/金属層/誘電体層)で示される11層構造
などが挙げられる。
The transparent conductive layer may be a single layer of a metal layer or a metal oxide layer, but when a metal layer (metal layer) is used, a dielectric layer is formed outside the layer. Layer (dielectric layer) is formed by laminating the transparent conductive layer to prevent reflection by the transparent conductive layer and increase the visible light transmittance even when the conductivity is improved by increasing the thickness of the transparent conductive layer. Is preferable because the Specific examples of such a multilayer structure include a three-layer structure represented by (dielectric layer / metal layer / dielectric layer) and (dielectric layer / metal layer / dielectric layer / metal layer / dielectric layer). A five-layer structure shown, a seven-layer structure represented by (dielectric layer / metal layer / dielectric layer / metal layer / dielectric layer / metal layer / dielectric layer), (dielectric layer / metal layer / dielectric layer) / Metal layer / dielectric layer / metal layer / dielectric layer / metal layer / dielectric layer), (dielectric layer / metal layer / dielectric layer / metal layer / dielectric layer / metal layer) / Dielectric layer / metal layer / dielectric layer / metal layer / dielectric layer).

【0017】かかる透明導電層の表面抵抗は、十分な電
磁波遮蔽機能を得るために通常は50Ω/□以下であ
り、10Ω/□以下、さらには6Ω/□以下であること
が好ましい。
The surface resistance of the transparent conductive layer is usually 50 Ω / □ or less, preferably 10 Ω / □ or less, and more preferably 6 Ω / □ or less in order to obtain a sufficient electromagnetic wave shielding function.

【0018】透明導電層は、高分子フィルムの表面に蒸
着、スパッタリング、イオンプレーティングなどの方法
により設けることができ、その厚みは通常30〜100
0nm、好ましくは50〜500nm程度である。厚み
が30nm未満であると導電性が不十分となる傾向にあ
り、1000nmを越えると透明性が低下する傾向にあ
り、特に銀層を用いた場合には、この傾向が顕著であ
る。
The transparent conductive layer can be provided on the surface of the polymer film by a method such as vapor deposition, sputtering, or ion plating.
0 nm, preferably about 50 to 500 nm. If the thickness is less than 30 nm, the conductivity tends to be insufficient, and if it exceeds 1000 nm, the transparency tends to decrease. In particular, when a silver layer is used, this tendency is remarkable.

【0019】高分子フィルム(21、22)は、透明性
を有するものであれば特に限定されるものではないが、
取扱いの容易さ、加工性、経済性の点で、通常はポリエ
チレンテレフタレートなどのエステル系樹脂を主成分と
するエステル系樹脂フィルム、ポリメチルメタクリレー
トなどのアクリル系樹脂をを主成分とするアクリル系樹
脂フィルム、トリアセチルセルロースなどのセルロース
系樹脂を主成分とするセルロース系樹脂フィルム、ポリ
プロピレン、ポリメチルペンテンなどのオレフィン系樹
脂を主成分とするフィルム、ポリカーボネート樹脂を主
成分とするポリカーボネート樹脂フィルム、ポリ塩化ビ
ニル樹脂を主成分とするポリ塩化ビニル樹脂フィルムな
どが用いられる。フィルムの厚みは、通常20〜500
μm程度である。かかる導電性フィルムは、例えばロー
ルフィルムを原料として連続的に透明導電層が形成され
たものから切り出して使用できる。
The polymer films (21, 22) are not particularly limited as long as they have transparency.
In terms of ease of handling, processability, and economy, usually an ester resin film mainly composed of an ester resin such as polyethylene terephthalate, an acrylic resin mainly composed of an acrylic resin such as polymethyl methacrylate Film, cellulosic resin film containing cellulose resin such as triacetyl cellulose as a main component, film containing olefin resin such as polypropylene and polymethylpentene as a main component, polycarbonate resin film containing polycarbonate resin as a main component, polychlorinated resin A polyvinyl chloride resin film containing a vinyl resin as a main component is used. The thickness of the film is usually 20 to 500
It is about μm. Such a conductive film can be used, for example, by cutting out from a film having a transparent conductive layer formed continuously using a roll film as a raw material.

【0020】本発明のプラズマディスプレイ用前面板に
おいて、導電性フィルムは透明基板に二以上積層される
ことが必要である。三以上の導電性フィルムを積層して
もよいが、二の導電性フィルムが積層されていれば十分
な電磁波遮蔽性能が得られるため、コストおよび積層工
程の煩雑さの点で、通常は二の導電性フィルムが積層さ
れる。導電性フィルムは、透明基板の少なくとも一方の
面に二以上が積層されてもよいし(図2〜図6)、透明
基板の両面に積層されてもよい(図1、図7、図8)。
導電性フィルムと透明基板を積層するには、例えば粘着
剤を用いて積層すればよい。粘着剤としては、例えばア
クリル系粘着剤やゴム系粘着剤などが挙げられる。積層
は、例えば導電性フィルムの一方の面に粘着剤を塗布し
たのち、該導電性フィルムと透明基板とを重ね合せ、次
いでロール圧着貼合機、枚葉貼合機などを用いて圧着す
ればよい。透明導電層を外側にして透明基板などに積層
する場合には、粘着剤は導電性フィルムの透明導電層が
形成された側とは反対側の表面に塗布すればよい。
In the front plate for a plasma display of the present invention, it is necessary that two or more conductive films are laminated on a transparent substrate. Three or more conductive films may be laminated, but if two conductive films are laminated, sufficient electromagnetic wave shielding performance can be obtained, so that in terms of cost and complexity of the laminating process, usually two or more conductive films are laminated. A conductive film is laminated. Two or more conductive films may be laminated on at least one surface of the transparent substrate (FIGS. 2 to 6), or may be laminated on both surfaces of the transparent substrate (FIGS. 1, 7, and 8). .
In order to laminate the conductive film and the transparent substrate, the laminate may be performed using, for example, an adhesive. Examples of the adhesive include an acrylic adhesive and a rubber adhesive. Lamination, for example, after applying an adhesive on one side of the conductive film, the conductive film and a transparent substrate are overlaid, and then roll-bonded, using a sheet bonding machine or the like. Good. When laminating on a transparent substrate or the like with the transparent conductive layer on the outside, the adhesive may be applied to the surface of the conductive film opposite to the side on which the transparent conductive layer is formed.

【0021】二以上の導電性フィルムを透明基板の少な
くとも一方の面に積層する場合には、 透明基板(1)に、高分子フィルム(21)の一方の
面に透明導電層(31)が形成された第一の導電性フィ
ルム(41)を該透明導電層が外側となるように積層
し、その上に高分子フィルム(22)の一方の面に透明
導電層(32)が形成された第二の導電性フィルム(4
2)を該透明導電層が内側になるようにして積層しても
よいし(図2)、
When two or more conductive films are laminated on at least one surface of the transparent substrate, a transparent conductive layer (31) is formed on one surface of the polymer film (21) on the transparent substrate (1). The first conductive film (41) is laminated such that the transparent conductive layer is on the outside, and a first conductive film (32) having a transparent conductive layer (32) formed on one surface of a polymer film (22) is formed thereon. Second conductive film (4
2) may be laminated such that the transparent conductive layer is on the inside (FIG. 2),

【0022】透明基板(1)に、高分子フィルム(2
1)の一方の面に透明導電層(31)が形成された第一
の導電性フィルム(41)を該透明導電層が内側となる
ように積層し、その上に高分子フィルム(22)の一方
の面に透明導電層(32)が形成された第二の導電性フ
ィルム(42)を該透明導電層が内側になるようにして
積層してもよい(図3)。これらの場合(図2、図3)
には透明導電層(31、32)同士が粘着剤を介して接
合される。
A polymer film (2) is formed on a transparent substrate (1).
A first conductive film (41) having a transparent conductive layer (31) formed on one surface of 1) is laminated so that the transparent conductive layer is on the inner side, and a polymer film (22) is formed thereon. A second conductive film (42) having a transparent conductive layer (32) formed on one surface may be laminated with the transparent conductive layer inside (FIG. 3). In these cases (FIGS. 2 and 3)
The transparent conductive layers (31, 32) are joined to each other via an adhesive.

【0023】また、 透明基板(1)の上に、第一の導電性フィルム(4
1)をその透明導電層(31)が内側になるように積層
し、その上に第二の導電性フィルム(42)をその透明
導電層(32)が外側になるようにして積層してもよく
(図4)、この場合には、透明導電層が外側となって、
アースが取り易くなる点で好ましい。
Further, a first conductive film (4) is formed on the transparent substrate (1).
1) is laminated such that the transparent conductive layer (31) is on the inside, and a second conductive film (42) is laminated thereon such that the transparent conductive layer (32) is on the outside. Well (FIG. 4), in which case the transparent conductive layer is on the outside,
This is preferable in that grounding can be easily performed.

【0024】さらには、 透明基板(1)の上に第一の導電性フィルム(41)
が透明導電層(31)を外側にして積層され、該透明導
電層の上に、第二の導電性フィルム(42)がその透明
導電層(32)を外側にして積層されることが(図
5)、2つの導電性フィルム(41、42)として、い
ずれも透明導電層が形成された側とは反対側の面に粘着
剤層が形成された導電性フィルムを用い得る点で、好ま
しい。なお、この場合には、第二の導電性フィルム(4
2)の面積を第一の導電性フィルム(41)の面積より
も小さくしておけば(図6)、該第一の導電性フィルム
の透明導電層(31)が前面板の面内で外部に露出する
こととなって、該第一の導電性フィルムの上に積層され
る第二の導電性フィルムの透明導電層(32)のみなら
ず、第一の導電性フィルムの透明導電層(31)からの
アースをも容易にとることができるので、好ましい。第
一の導電性フィルムの導電層(31)の露出部分は、前
面板の一辺のみに設けられてももよいし、2辺または3
辺に設けられてもよいが、全周に亙ってアースを取れる
点で、4辺、すなわち前面板の全周に亙って露出してい
るのが好ましい。二以上の導電性フィルムを一方の面に
積層する場合には、他方の面にさらに導電性フィルムが
積層されてもよい。
Further, a first conductive film (41) is provided on the transparent substrate (1).
Are laminated with the transparent conductive layer (31) outside, and a second conductive film (42) is laminated on the transparent conductive layer with the transparent conductive layer (32) outside. 5) As the two conductive films (41, 42), a conductive film having an adhesive layer formed on a surface opposite to the side on which the transparent conductive layer is formed is preferable. In this case, the second conductive film (4
If the area of 2) is made smaller than the area of the first conductive film (41) (FIG. 6), the transparent conductive layer (31) of the first conductive film will be outside in the plane of the front plate. To the transparent conductive layer (32) of the first conductive film as well as the transparent conductive layer (32) of the second conductive film laminated on the first conductive film. ) Is preferable because the ground from) can be easily obtained. The exposed portion of the conductive layer (31) of the first conductive film may be provided only on one side of the front plate, or may be provided on two sides or three sides.
Although it may be provided on the side, it is preferable that it is exposed on the four sides, that is, the entire circumference of the front plate, in that the ground can be taken over the entire circumference. When two or more conductive films are laminated on one surface, a conductive film may be further laminated on the other surface.

【0025】透明基板(1)の両面に導電性フィルム
(41、42)が積層される場合には、 両面の導電性フィルム(41、42)の透明導電層
(31、32)が共に内側になるように積層されてもよ
いが(図7)、
When the conductive films (41, 42) are laminated on both sides of the transparent substrate (1), the transparent conductive layers (31, 32) of the conductive films (41, 42) on both sides are both inside. (FIG. 7)

【0026】一方の導電性フィルム(41)の透明導
電層(31)が外側になるように積層されるのが好まし
く(図8)、
It is preferable that one conductive film (41) is laminated so that the transparent conductive layer (31) is on the outside (FIG. 8).

【0027】両面の導電性フィルム(41、42)の
透明導電層(31、32)が共に外側になるように積層
されるのがさらに好ましい(図1)。このように積層す
ることにより、透明導電層(31、32)からのアース
を容易に取ることができる。
More preferably, the transparent conductive layers (31, 32) of the conductive films (41, 42) on both sides are laminated so that both of them are on the outside (FIG. 1). By laminating in this manner, the ground from the transparent conductive layers (31, 32) can be easily taken.

【0028】それぞれの導電性フィルムに形成された透
明導電層の間の間隔(d)はプラズマディスプレイから
発生する電磁波を遮蔽する性能の点で0.5mm以上、
さらには2mm以上、特には2.5mm以上であること
が好ましい。かかる間隔(d)は、例えば導電性フィル
ム(41、42)を透明基板(1)の両面に積層する場
合には、実質的に透明基板の厚み、高分子フィルムの厚
み、導電層の厚みの和となり(図1、図7、図8)、通
常は0.01〜10mm、好ましくは0.5〜10mm
程度である。また、かかる間隔(d)は、透明基板の一
方の面に第一の導電性フィルムをその透明導電層が外側
となるようにして積層し、該透明導電層の上にさらに第
二の導電性フィルムをその透明導電層が外側となるよう
にして積層積層する場合などには、実質的に、さらに積
層される第二の導電性フィルム(42)を構成する高分
子フィルム(22)の厚みおよび透明導電層(32)の
厚みの和となり(図5)、通常20〜500μm程度で
ある。従って、電磁波遮蔽性能の点では、厚み0.5m
m以上の透明基板の両面に導電性フィルムを積層するの
が好ましい。
The distance (d) between the transparent conductive layers formed on each conductive film is 0.5 mm or more in view of the performance of shielding electromagnetic waves generated from the plasma display.
Further, it is preferably at least 2 mm, particularly preferably at least 2.5 mm. For example, when the conductive films (41, 42) are laminated on both surfaces of the transparent substrate (1), the interval (d) is substantially equal to the thickness of the transparent substrate, the thickness of the polymer film, and the thickness of the conductive layer. (FIGS. 1, 7, and 8), usually 0.01 to 10 mm, preferably 0.5 to 10 mm
It is about. Further, the interval (d) is such that a first conductive film is laminated on one surface of the transparent substrate such that the transparent conductive layer is on the outside, and a second conductive film is further formed on the transparent conductive layer. When the film is laminated and laminated such that the transparent conductive layer is on the outside, the thickness and the thickness of the polymer film (22) constituting the second conductive film (42) to be further laminated are substantially increased. This is the sum of the thicknesses of the transparent conductive layers (32) (FIG. 5), and is usually about 20 to 500 μm. Therefore, in terms of electromagnetic wave shielding performance, the thickness is 0.5 m
It is preferable to laminate a conductive film on both surfaces of a transparent substrate having a thickness of at least m.

【0029】かくして本発明の前面板が得られるが、か
かる前面板は、導電性フィルムの上に、さらに反射防止
フィルム、近赤外線遮蔽フィルム、表面保護フィルムな
どの他のフィルムが積層されていてもよい。
Thus, the front plate of the present invention can be obtained. In this front plate, even if other films such as an antireflection film, a near-infrared shielding film, and a surface protection film are laminated on the conductive film. Good.

【0030】反射防止フィルムは、反射防止層がフィル
ム上に形成されたフィルムである。反射防止層として
は、例えばフッ化マグネシウム、酸化珪素などの低屈折
率物質からなる層や、低屈折物質からなる層と酸化チタ
ン、酸化タンタル、酸化錫、酸化インジウム、酸化ジル
コニウム、酸化亜鉛などの高屈折率物質からなる層とを
組み合わせた多層反射防止層などが挙げられる。反射防
止層として具体的には、空気層側から順に、 (空気層側) (酸化ケイ素層/フッ化マグネシウム層) (フィルム側) で示される2層構成などが挙げられる。また、フィルム
と反射防止層との間に酸化アルミニウム層を設けてもよ
い。上記反射防止層に酸化アルミニウム層を設けた場合
には、空気層側から順に、 (空気層側) (酸化ケイ素層/フッ化マク゛ネシウム層/酸化アルミニウム層) (フィルム側) で示される層構成となる。なお、これらの反射防止層は
実質的に導電性を有しないものであって、その表面抵抗
値は、例えば50Ω/□を越えるものである。
The antireflection film is a film having an antireflection layer formed on the film. As the antireflection layer, for example, a layer made of a low refractive index material such as magnesium fluoride and silicon oxide, and a layer made of a low refractive material and a titanium oxide, tantalum oxide, tin oxide, indium oxide, zirconium oxide, zinc oxide, and the like Examples include a multilayer antireflection layer obtained by combining a layer made of a high refractive index substance. Specific examples of the antireflection layer include a two-layer structure represented by (air layer side) (silicon oxide layer / magnesium fluoride layer) (film side) in order from the air layer side. Further, an aluminum oxide layer may be provided between the film and the antireflection layer. When an aluminum oxide layer is provided on the antireflection layer, the layer structure shown in the order from the air layer side (air layer side) (silicon oxide layer / magnesium fluoride layer / aluminum oxide layer) (film side) Become. These antireflection layers have substantially no conductivity, and have a surface resistance value exceeding, for example, 50 Ω / □.

【0031】反射防止フィルムに用いられるフィルム
は、透明性を有するものであれば特に限定されるもので
はないが、取扱いの容易さ、加工性、経済性の点で、通
常はポリエチレンテレフタレートなどのエステル系樹脂
を主成分とするフィルム、ポリメチルメタクリレートな
どのアクリル系樹脂をを主成分とするフィルム、トリア
セチルセルロースなどのセルロース系樹脂を主成分とす
るフィルム、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなど
のオレフィン系樹脂を主成分とするフィルム、ポリカー
ボネート樹脂を主成分とするフィルム、ポリ塩化ビニル
樹脂を主成分とするフィルムなどが用いられる。フィル
ムの厚みは通常20〜500μm程度である。フィルム
の表面には、ハードコート処理が施されていることが、
表面硬度の点で好ましい。ハードコート処理は、前記し
たと同様の方法で行われる。
The film used for the antireflection film is not particularly limited as long as it has transparency. However, in terms of ease of handling, workability, and economy, an ester such as polyethylene terephthalate is usually used. Film based on acrylic resin, film based on acrylic resin such as polymethyl methacrylate, film based on cellulose resin such as triacetyl cellulose, olefin based resin such as polypropylene and polymethylpentene A film mainly composed of, a film mainly composed of a polycarbonate resin, a film mainly composed of a polyvinyl chloride resin and the like are used. The thickness of the film is usually about 20 to 500 μm. The hard coat treatment has been applied to the surface of the film,
It is preferable in terms of surface hardness. The hard coat treatment is performed in the same manner as described above.

【0032】かかる反射防止層は、例えば真空蒸着、ス
パッタリング、イオンプレーティングなどの方法によっ
て形成することができ、その厚みは反射防止の程度に応
じて適宜選択され、通常100〜500nm程度であ
る。
Such an antireflection layer can be formed by, for example, a method such as vacuum deposition, sputtering, or ion plating, and its thickness is appropriately selected according to the degree of antireflection, and is usually about 100 to 500 nm.

【0033】反射防止フィルムは、その表面にさらに防
汚層が形成されていてもよい。かかる防汚層は、例えば
フッ素系、シリコン系のカップリング剤の溶液と塗布
後、乾燥することによって容易に形成することができ
る。
The antireflection film may further have an antifouling layer formed on its surface. Such an antifouling layer can be easily formed, for example, by applying a solution of a fluorine-based or silicon-based coupling agent and then drying.

【0034】反射防止フィルムは、例えば粘着剤を用い
て導電性フィルム上に積層される。粘着剤としては、例
えばアクリル系粘着剤やゴム系粘着剤などが挙げられ
る。積層は、導電性フィルムの積層におけると同様に行
えばよい。
The antireflection film is laminated on the conductive film using, for example, an adhesive. Examples of the adhesive include an acrylic adhesive and a rubber adhesive. The lamination may be performed in the same manner as the lamination of the conductive film.

【0035】また、導電性フィルムを保護するために、
ハードコート処理を施したフィルムなどを表面保護フィ
ルムとして積層してもよい。かかる表面保護フィルム
は、例えば粘着剤を用いて導電性フィルム上に積層され
る。粘着剤としては、例えばアクリル系粘着剤やゴム系
粘着剤などが挙げられる。積層は、導電性フィルムの積
層におけると同様に行えばよい。
In order to protect the conductive film,
A film or the like subjected to a hard coat treatment may be laminated as a surface protective film. Such a surface protection film is laminated on a conductive film using, for example, an adhesive. Examples of the adhesive include an acrylic adhesive and a rubber adhesive. The lamination may be performed in the same manner as the lamination of the conductive film.

【0036】[0036]

【発明の効果】本発明の前面板は、プラズマディスプレ
イの画面から発生する電磁波を有効に遮蔽し得、しかも
簡便に製造し得るので、プラズマディスプレイ用前面板
として優れている。
The front plate of the present invention is excellent as a front plate for a plasma display because it can effectively shield electromagnetic waves generated from the screen of the plasma display and can be manufactured easily.

【0037】[0037]

【実施例】以下、実施例によって本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例により限定されるもの
ではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0038】なお評価方法は下記方法のとおりである。 (1)光線透過率 得られた前面板の400〜1000nmの範囲の分光透
過率を日立製作所製自記分光光度計330型を使用して
測定した。 (2)表面反射率 得られた前面板の入射角15゜における300〜800
nmの範囲の分光反射率を、島津製作所製自記分光光度
計MPS−2000を用いて測定した。 (3)視認性 20インチプラズマディスプレイの前面に得られた前面
板を取り付けて透視し、取り付ける前の画像の色、輪郭
との差を確認した。 (4)電磁波シールド性能 シールド材料評価システムR2547型(株式会社アド
バンテスト製)を使い、下記の計算式により評価した。 電磁波シールド性=20log10(X0/X)〔dB〕 (ここで、X0は前面板を用いない場合の電磁波強度、
Xは前面板を用いた場合の電磁波強度をそれぞれ示す) (5)近赤外線遮蔽性能(リモートコントロール試験) 前面板を設置したプラズマディスプレイ装置(富士通ゼ
ネラル社製、PDS1000型)を家庭用テレビの斜め
前方15度、距離10mの位置に置き、画像を表示させ
る。家庭用テレビの斜め前方15度(ただし、プラズマ
ディスプレイ装置とは反対側)、距離3mの場所から家
庭用テレビにリモートコントロール信号(信号波長95
0nm)を送って、正常にリモートコントロールできる
かを確認しながら、プラズマディスプレイ装置を家庭用
テレビに近づけた。家庭用テレビが正常にコントロール
できなくなった際の、プラズマディスプレイ装置と家庭
用テレビとの距離を測定する。ディスプレイ装置から発
生される近赤外線が遮蔽できていない場合は、正常にリ
モートコントロールできなくなり、反応しないか誤動作
を起こす。正常にリモートコントロールできなくなる距
離が短いほど、前面板の近赤外線遮蔽性能は優れてい
る。 (6)高温耐久性試験 得られた前面板を80℃のオーブン中に入れ、1000
時間経過後に取り出し、前面板の外観の変化を目視によ
り観察した。
The evaluation method is as follows. (1) Light Transmittance The spectral transmittance of the obtained front plate in the range of 400 to 1000 nm was measured using an automatic recording spectrophotometer type 330 manufactured by Hitachi, Ltd. (2) Surface reflectivity 300 to 800 at an incident angle of 15 ° of the obtained front plate
The spectral reflectance in the range of nm was measured using a self-recording spectrophotometer MPS-2000 manufactured by Shimadzu Corporation. (3) Visibility The front plate obtained on the front of the 20-inch plasma display was attached and viewed through, and the difference between the color and the outline of the image before attachment was confirmed. (4) Electromagnetic wave shielding performance Using a shielding material evaluation system R2547 type (manufactured by Advantest Co., Ltd.), evaluation was made according to the following formula. Electromagnetic wave shielding property = 20 log 10 (X 0 / X) [dB] (where X 0 is the electromagnetic wave intensity when the front plate is not used,
X indicates the electromagnetic wave intensity when the front panel is used. (5) Near-infrared ray shielding performance (remote control test) A plasma display device (PDS1000, manufactured by Fujitsu General Limited) equipped with a front panel is inclined to a home television. An image is displayed at a position 15 degrees forward and a distance of 10 m. A remote control signal (with a signal wavelength of 95
0 nm) to confirm that the remote control can be performed normally, and the plasma display device was brought closer to the home television. The distance between the plasma display device and the home television when the home television cannot be controlled normally is measured. If the near-infrared rays generated from the display device cannot be shielded, the remote control cannot be performed normally, and the device does not respond or malfunction. The shorter the distance at which remote control cannot be performed normally, the better the near-infrared shielding performance of the front panel. (6) High temperature durability test The obtained front plate was placed in an oven at 80 ° C,
After a lapse of time, the front panel was visually observed for changes in the appearance of the front panel.

【0039】参考例1(透明基板の製造) 固形分が40%となるようにキシレン、酢酸エチル、エ
チレングリコールモノブチルエーテルの混合溶剤(混合
比3:1:1)で希釈したハードコート剤〔アクリル
系、広栄化学工業(株)製、コーエイハードM101〕
に、透明基板〔大きさ600mm×400mm、厚さ4
mmのアクリル樹脂板、住友化学工業(株)製、スミペ
ックスE〕を浸漬し、30cm/分の速さで引き上げ
て、ハードコート剤を透明基板の両面に塗布した。溶剤
を揮散させた後に120Wのメタルハライドランプ〔ア
イグラフィック社製、UB0451〕を20cmの距離
から10秒間照射することにより透明基板上にハードコ
ート層を設けた。
Reference Example 1 (Manufacture of transparent substrate) Hard coat agent [acrylic] diluted with a mixed solvent of xylene, ethyl acetate and ethylene glycol monobutyl ether (mixing ratio 3: 1: 1) so that the solid content was 40%. System, manufactured by Koei Chemical Industry Co., Ltd., Koei Hard M101]
A transparent substrate [size 600 mm x 400 mm, thickness 4
mm, an acrylic resin plate (Sumipex E, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was dipped, pulled up at a speed of 30 cm / min, and a hard coat agent was applied to both surfaces of the transparent substrate. After evaporating the solvent, a hard coat layer was provided on the transparent substrate by irradiating a 120 W metal halide lamp (UB0451, manufactured by Eye Graphic Co., Ltd.) from a distance of 20 cm for 10 seconds.

【0040】参考例2(透明基板の製造) メチルメタクリレート(45重量%)、イソボルニルメ
タクリレート(25重量%)、ポリエチレングリコール
(平均分子量200)ジメタクリレート(30重量%)
からなる混合物100重量部に、化学式(1) CH2=C(CH3)COO-CH2CH(CH3)O-P(O)(OH)2 (1) で示されるリン原子含有化合物を4重量部および化学式
(2) [CH2=C(CH3)COO-CH2CH(CH3)O]2P(O)-OH (2) で示されるリン原子含有化合物(10重量部)を添加
し、さらに銅原子含有化合物として無水安息香酸銅(5
重量部)、ラジカル重合開始剤としてt−ブチルパーオ
キシ−2−エチルヘキサノエート(0.5重量部)を溶
解した。この溶液を厚さ3mmのポリ塩化ビニル製ガス
ケットと620mm×420mm×10mmのガラス板
2枚からなる重合用セルに注入し、50℃で12時間、
その後さらに100℃で2時間加熱重合して、近赤外線
を遮蔽する性能を有する透明基板〔大きさ600mm×
400mm、厚み3mm、板状〕を得た。固形分が40
%となるようにキシレン、酢酸エチル、エチレングリコ
ールモノブチルエーテルの混合溶剤(混合比3:1:
1)で希釈したウレタンアクリレート系ハードコート剤
〔広栄化学工業(株)製、コーエイハードM101〕
に、この透明基板を浸漬し、30cm/分の速さで引き
上げて両面にハードコート財を塗布し、溶剤を揮散させ
た後に120Wのメタルハライドランプ(アイグラフィ
ック社製、UB0451)を20cmの距離から10秒
間照射して、透明基板の両面にハードコート層を設け
た。
Reference Example 2 (Production of transparent substrate) Methyl methacrylate (45% by weight), isobornyl methacrylate (25% by weight), polyethylene glycol (average molecular weight: 200) dimethacrylate (30% by weight)
4 parts by weight of a phosphorus atom-containing compound represented by the chemical formula (1) CH 2 = C (CH 3 ) COO—CH 2 CH (CH 3 ) OP (O) (OH) 2 (1) in 100 parts by weight of a mixture of Parts and a chemical formula (2) [CH 2 = C (CH 3 ) COO-CH 2 CH (CH 3 ) O] 2 P (O) -OH (2) A phosphorus atom-containing compound (10 parts by weight) is added. And copper benzoate anhydride (5
Parts by weight) and t-butylperoxy-2-ethylhexanoate (0.5 parts by weight) as a radical polymerization initiator. This solution was poured into a polymerization cell consisting of a 3 mm-thick polyvinyl chloride gasket and two 620 mm × 420 mm × 10 mm glass plates.
Thereafter, the mixture was heated and polymerized at 100 ° C. for 2 hours, and a transparent substrate having a performance of shielding near-infrared rays [size 600 mm ×
400 mm, thickness 3 mm, plate shape]. 40 solids
% Mixed solvent of xylene, ethyl acetate and ethylene glycol monobutyl ether (mixing ratio 3: 1:
Urethane acrylate hard coat agent diluted in 1) [Koei Hard M101, manufactured by Koei Chemical Industry Co., Ltd.]
Then, the transparent substrate was immersed, pulled up at a speed of 30 cm / min, coated with a hard coat material on both sides, and evaporated to remove the solvent. Irradiation was performed for 10 seconds to provide hard coat layers on both surfaces of the transparent substrate.

【0041】参考例3(反射防止フィルムの製造) ポリエチレンテレフタレート(以下、「PET」と称す
る。)フィルム〔厚み188μm:東洋紡製〕にDCマ
グネトロンスパッタリングにより酸化インジウム−酸化
錫(ITO)層、酸化珪素層、ITO層、酸化珪素層を
順に積層し、反射防止層を形成させて反射防止フィルム
を得た。 化学式(3) C3F7-(OCF2CF2CF2)24-O(CF2)2-[〔CH2CH-Si-(OCH3)3p]-H (3) (式中、pは1〜10の整数を示す。)で示される含フ
ッ素シラン化合物〔数平均分子量約5000、pの平均
値は2.0〕をテトラデカフルオロヘキサンで希釈し
て、上記含フッ素シラン化合物の濃度を0.1重量%と
した溶液を得た。上記で得た反射防止フィルムの反射防
止層を形成させた面の反対側の面にマスクフィルムを積
層した後、該フィルムを上記で得た溶液の中に浸漬し、
15cm/分の速さで引き上げて両面に塗布した。塗布
後は室温下で一昼夜放置して溶剤を揮散させて防汚層を
反射防止層の上に形成させた。
REFERENCE EXAMPLE 3 (Production of antireflection film) A polyethylene terephthalate (hereinafter referred to as "PET") film [188 μm thick, manufactured by Toyobo] was subjected to DC magnetron sputtering to form an indium oxide-tin oxide (ITO) layer and silicon oxide. A layer, an ITO layer, and a silicon oxide layer were sequentially laminated to form an antireflection layer, thereby obtaining an antireflection film. Formula (3) C 3 F 7 - (OCF 2 CF 2 CF 2) 24 -O (CF 2) 2 - [ [CH 2 CH-Si- (OCH 3 ) 3 ] p] -H (3) (in the formula , P represents an integer of 1 to 10), and the fluorine-containing silane compound [number-average molecular weight: about 5,000, average value of p is 2.0] is diluted with tetradecafluorohexane to give the fluorine-containing silane compound. Was obtained at a concentration of 0.1% by weight. After laminating a mask film on the surface opposite to the surface on which the antireflection layer of the antireflection film obtained above was formed, the film was immersed in the solution obtained above,
It was pulled up at a speed of 15 cm / min and applied to both sides. After the application, the coating was allowed to stand at room temperature for 24 hours to evaporate the solvent to form an antifouling layer on the antireflection layer.

【0042】実施例1 参考例1で得た透明基板の両面にそれぞれ、銀層を含む
多層の透明導電層を有する導電性フィルム〔米国Sou
thwall Technologies社製、「AL
TAIR XIR」、表面抵抗値3.2Ω/□、大きさ
600mm×400mm〕を積層し(図1)、その上に
参考例3で得た反射防止フィルム〔大きさ600mm×
400mm〕を両面に積層して前面板を得た。導電性フ
ィルムおよび反射防止フィルムの積層には、粘着剤を用
いロール圧着により行った。この前面板は透過色がうす
い黄色がかった水色で、外観も非常に良好であり、反射
像の写り込みも極めて少なかった。この前面板をプラズ
マディスプレイの前面に装着したところ、視認性は良好
であった。また、リモートコントロール試験では、プラ
ズマディスプレイ装置と家庭用テレビとの距離が1.0
mになるまで、家庭用テレビは正常にリモートコントロ
ールできた。評価結果を表1〜4に示す。
Example 1 A conductive film having a plurality of transparent conductive layers including a silver layer on both surfaces of the transparent substrate obtained in Reference Example 1 [Sou, USA]
manufactured by thwall Technologies, "AL
TAIR XIR ”, surface resistance 3.2 Ω / □, size 600 mm × 400 mm] (FIG. 1), and the anti-reflection film [size 600 mm ×
400 mm] on both sides to obtain a front plate. Lamination of the conductive film and the anti-reflection film was performed by pressure bonding with a roll using an adhesive. The front plate had a light yellowish light blue transmission color, very good appearance, and extremely few reflected images. When this front plate was mounted on the front surface of the plasma display, the visibility was good. In the remote control test, the distance between the plasma display device and the home television was 1.0.
m, the home television could be successfully remote-controlled. The evaluation results are shown in Tables 1 to 4.

【0043】比較例1 参考例2で得た透明基板の片面に、導電性フィルム〔米
国SouthwallTechnologies社製、
「ALTAIR XIR」、大きさ600mm×400
mm〕を積層し、その上に参考例3で得た反射防止フィ
ルムを両面に積層した。また裏面にも同様に反射防止フ
ィルムを積層して前面板を得た。導電性フィルムおよび
反射防止フィルムの積層には、粘着剤を用いロール圧着
により行った。この前面板は透過色がうすい黄色がかっ
た水色で、外観も良好で、反射像の写り込みも極めて少
なかった。この前面板をプラズマディスプレイの前面に
装着したところ、視認性は良好であった。また、リモー
トコントロール試験では、プラズマディスプレイ装置と
家庭用テレビとの距離が1.3mになるまで、家庭用テ
レビは正常にリモートコントロールできた。評価結果を
表1〜4に示す。
Comparative Example 1 On one side of the transparent substrate obtained in Reference Example 2, a conductive film [manufactured by US Southwall Technologies, Inc.
"ALTAIR XIR", size 600mm x 400
mm], and the antireflection film obtained in Reference Example 3 was further laminated on both sides. An antireflection film was similarly laminated on the back surface to obtain a front plate. Lamination of the conductive film and the anti-reflection film was performed by pressure bonding with a roll using an adhesive. The front plate had a light yellowish light blue transmission color, had a good appearance, and had very few reflected images. When this front plate was mounted on the front surface of the plasma display, the visibility was good. In the remote control test, the home television could be normally remote-controlled until the distance between the plasma display device and the home television became 1.3 m. The evaluation results are shown in Tables 1 to 4.

【0044】実施例2 反射防止フィルムに代えてハードコート処理したPET
フィルム〔厚み50μm、東洋紡績(株)製、大きさ6
00mm×400mm〕を用いた以外は、実施例1と同
様にして前面板を得た。この前面板を導電層を有する面
を表示画面側にして、プラズマディスプレイの前面に装
着した。この前面板は透過色がうすい水色で、外観は良
好であった。また、リモートコントロール試験では、プ
ラズマディスプレイ装置と家庭用テレビとの距離が1.
0mになるまで、家庭用テレビは正常にリモートコント
ロールできた。評価結果を表1〜4に示す。
Example 2 PET hard-coated in place of an antireflection film
Film [thickness 50 μm, manufactured by Toyobo Co., Ltd., size 6
00 mm × 400 mm], and a front plate was obtained in the same manner as in Example 1. This front plate was mounted on the front surface of the plasma display with the surface having the conductive layer facing the display screen. The front plate was light blue in transmission color and had a good appearance. In the remote control test, the distance between the plasma display device and the home television was 1.
Until it reached 0m, the home TV could be controlled remotely. The evaluation results are shown in Tables 1 to 4.

【0045】実施例3 透明基板〔アクリル樹脂板、住友化学工業(株)製、「ス
ミペックス」、厚み3mm、大きさ200mm×200
mm〕の両面に、導電性フィルム〔米国Southwa
ll Technologies社製、「ALTAIR
XIR」、大きさ200mm×200mm〕をその透
明導電層が外側になるようにして積層して(図1)、前
面板を得た。導電性フィルムの積層には、粘着剤を用い
ロール圧着により行った。この前面板の評価結果を表3
〜4に示す。
Example 3 Transparent substrate [Acrylic resin plate, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., "SUMIPEX", thickness 3 mm, size 200 mm × 200
mm] on both sides of a conductive film [US Southwa
"ALTAIR" manufactured by II Technologies
XIR ", a size of 200 mm × 200 mm] was laminated such that the transparent conductive layer was on the outside (FIG. 1) to obtain a front plate. The lamination of the conductive film was performed by pressure bonding with a roll using an adhesive. Table 3 shows the evaluation results of this front panel.
Are shown in FIGS.

【0046】実施例4 透明基板〔アクリル樹脂板、住友化学工業(株)製、「ス
ミペックス」、厚み3mm、大きさ200mm×200
mm〕の片面に、第一の導電性フィルム〔米国Sout
hwall Technologies社製、「ALT
AIR XIR」、大きさ200mm×200mm〕を
その導電層が外側になるようにして積層し、さらにその
上に第二の導電性フィルム〔米国Southwall
Technologies社製、「ALTAIR XI
R」、大きさ190mm×190mm〕をその導電層が
外側になるようにして積層して(図6)、前面板を得
た。第一の導電性フィルムは第二の導電性フィルムより
もその面積が大きいので、第一の導電性フィルムの透明
導電層はその一部が外部に露出することとなる。本実施
例においては前面板の全周に亙って幅5mmでその透明
導電層が前面板の外部に露出するように第二の導電性フ
ィルムを積層した。導電性フィルムの積層には、粘着剤
を用いロール圧着により行った。この前面板の評価結果
を表3〜4に示す。
Example 4 Transparent substrate [Acrylic resin plate, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., "SUMIPEX", thickness 3 mm, size 200 mm × 200
mm] on one surface of a first conductive film [US Sout
halt Technologies, "ALT
AIR XIR ", having a size of 200 mm x 200 mm], with the conductive layer on the outside, and further a second conductive film [US Southwall]
"ALTAIR XI" manufactured by Technologies
R ", size 190 mm × 190 mm] were laminated such that the conductive layer was on the outside (FIG. 6) to obtain a front plate. Since the first conductive film has a larger area than the second conductive film, a part of the transparent conductive layer of the first conductive film is exposed to the outside. In this embodiment, the second conductive film was laminated so as to have a width of 5 mm over the entire circumference of the front plate and expose the transparent conductive layer to the outside of the front plate. The lamination of the conductive film was performed by pressure bonding with a roll using an adhesive. Tables 3 and 4 show the evaluation results of this front panel.

【0047】[0047]

【表1】 [Table 1]

【0048】[0048]

【表2】 [Table 2]

【0049】[0049]

【表3】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 波長 シールド性能 実施例1 比較例1 実施例2 実施例3 実施例4 ──────────────────────────────────── 30MHz 63dB 55dB 62dB 61dB 57dB 50MHz 57dB 49dB 55dB 56dB 53dB 70MHz 53dB 45dB 52dB 52dB 50dB 90MHz 51dB 42dB 51dB 50dB 48dB ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━[Table 3] ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ Wavelength shielding performance Example 1 Comparative Example 1 Example 2 Example 3 Example 4 MHz 30 MHz 63 dB 55 dB 62 dB 61 dB 57 dB 50MHz 57dB 49dB 55dB 56dB 53dB 70MHz 53dB 45dB 52dB 52dB 50dB 90MHz 51dB 42dB 51dB 50dB 48dB ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ ━━━━

【0050】[0050]

【表4】 ━━━━━━━━━━━ 例 外観変化 ─────────── 実施例1 変化無し 比較例1 変化無し 実施例2 変化無し 実施例3 変化無し 実施例4 変化無し ━━━━━━━━━━━[Table 4] ━━━━━━━━━━━ Example Change in appearance ─────────── Example 1 No change Comparative Example 1 No change Example 2 No change Example 3 No change Execute Example 4 No change ━━━━━━━━━━━

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のプラズマディスプレイ用前面板の一例
を示す断面模式図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of a front panel for a plasma display of the present invention.

【図2】本発明のプラズマディスプレイ用前面板の一例
を示す断面模式図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing an example of a front panel for a plasma display of the present invention.

【図3】本発明のプラズマディスプレイ用前面板の一例
を示す断面模式図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing an example of a front panel for a plasma display of the present invention.

【図4】本発明のプラズマディスプレイ用前面板の一例
を示す断面模式図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing an example of a front panel for a plasma display of the present invention.

【図5】本発明のプラズマディスプレイ用前面板の一例
を示す断面模式図である。
FIG. 5 is a schematic sectional view showing an example of a front panel for a plasma display of the present invention.

【図6】本発明のプラズマディスプレイ用前面板の一例
を示す断面模式図である。
FIG. 6 is a schematic sectional view showing an example of a front panel for a plasma display of the present invention.

【図7】本発明のプラズマディスプレイ用前面板の一例
を示す断面模式図である。
FIG. 7 is a schematic sectional view showing an example of a front panel for a plasma display of the present invention.

【図8】本発明のプラズマディスプレイ用前面板の一例
を示す断面模式図である。
FIG. 8 is a schematic sectional view showing an example of a front panel for a plasma display of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 :透明基板 21、22:高分子フィルム 31、32:透明導電層 41、42:導電性フィルム d :透明導電層の間の間隔 1: transparent substrate 21, 22: polymer film 31, 32: transparent conductive layer 41, 42: conductive film d: interval between transparent conductive layers

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G09F 9/00 318 H01J 17/16 H01J 11/02 H04N 5/66 101Z 17/16 G02B 5/22 H04N 5/66 101 1/10 Z // G02B 5/22 A ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code FI G09F 9/00 318 H01J 17/16 H01J 11/02 H04N 5/66 101Z 17/16 G02B 5/22 H04N 5/66 101 1 / 10 Z // G02B 5/22 A

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】透明基板に、高分子フィルムの少なくとも
一方の面に透明導電層が形成された導電性フィルムが二
以上積層されてなるプラズマディスプレイ用前面板。
1. A front plate for a plasma display comprising a transparent substrate and two or more conductive films each having a transparent conductive layer formed on at least one surface of a polymer film.
【請求項2】二以上の導電性フィルムが透明基板の少な
くとも一方の面に積層されてなる請求項1に記載のプラ
ズマディスプレイ用前面板。
2. The front plate for a plasma display according to claim 1, wherein two or more conductive films are laminated on at least one surface of the transparent substrate.
【請求項3】透明基板の少なくとも一方の面に高分子フ
ィルムの一方の面に透明導電層が形成された第一の導電
性フィルムが該透明導電層を外側にして積層され、該透
明導電層の上に高分子フィルムの一方の面に透明導電層
が形成された第二の導電性フィルムが該透明導電層を外
側にして積層されてなる請求項2に記載のプラズマディ
スプレイ用前面板。
3. A first conductive film having a transparent conductive layer formed on at least one surface of a transparent substrate and having a transparent conductive layer formed on one surface of a polymer film, wherein the first conductive film is laminated with the transparent conductive layer facing outside. 3. The front plate for a plasma display according to claim 2, wherein a second conductive film having a transparent conductive layer formed on one surface of a polymer film is laminated thereon, with the transparent conductive layer facing outward.
【請求項4】第二の導電性フィルムの面積が第一の導電
性フィルムの面積よりも小さく、該第一の導電性フィル
ムの透明導電層が面内で外部に露出している請求項3に
記載のプラズマディスプレイ用前面板。
4. The area of the second conductive film is smaller than the area of the first conductive film, and the transparent conductive layer of the first conductive film is exposed outside in the plane. The front plate for a plasma display according to 1.
【請求項5】透明基板の両面に導電性フィルムが積層さ
れてなる請求項1に記載のプラズマディスプレイ用前面
板。
5. The front plate for a plasma display according to claim 1, wherein a conductive film is laminated on both surfaces of the transparent substrate.
【請求項6】透明基板の両面に、高分子フィルムの一方
の面に透明導電層が形成された導電性フィルムが該透明
導電層を外側にして積層されてなる請求項5に記載のプ
ラズマディスプレイ用前面板。
6. The plasma display according to claim 5, wherein a conductive film having a transparent conductive layer formed on one surface of a polymer film is laminated on both surfaces of a transparent substrate with the transparent conductive layer facing outward. Front plate.
【請求項7】透明基板の一方の面に積層された導電性フ
ィルムの透明導電層と、他方の面に積層された導電性フ
ィルムの透明導電層との間の距離が0.5mm以上であ
る請求項6に記載のプラズマディスプレイ用前面板。
7. The distance between the transparent conductive layer of the conductive film laminated on one surface of the transparent substrate and the transparent conductive layer of the conductive film laminated on the other surface is 0.5 mm or more. A front panel for a plasma display according to claim 6.
【請求項8】透明基板の少なくとも導電性フィルムが積
層される側の表面がハードコート処理されてなる請求項
1に記載のプラズマディスプレイ用前面板。
8. The front plate for a plasma display according to claim 1, wherein at least the surface of the transparent substrate on which the conductive film is laminated is subjected to a hard coat treatment.
【請求項9】請求項1に記載のプラズマディスプレイ用
前面板が、前面に配置されてなるプラズマディスプレ
イ。
9. A plasma display, wherein the front panel for a plasma display according to claim 1 is arranged on a front surface.
【請求項10】請求項1に記載のプラズマディスプレイ
用前面板を、プラズマディスプレイの前面に載置するこ
とを特徴とする、プラズマディスプレイから発生する電
磁波の遮蔽方法。
10. A method for shielding electromagnetic waves generated from a plasma display, comprising mounting the front panel for a plasma display according to claim 1 on a front surface of the plasma display.
JP10173155A 1997-06-19 1998-06-19 Front panel for plasma display Pending JPH1187988A (en)

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JP16267297 1997-06-19
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100715443B1 (en) * 2003-08-29 2007-05-09 삼성코닝 주식회사 Multi-layer thin film structure of pdp filter
KR100774871B1 (en) 2006-01-23 2007-11-08 엘지전자 주식회사 Picture Display Apparatus

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KR100715443B1 (en) * 2003-08-29 2007-05-09 삼성코닝 주식회사 Multi-layer thin film structure of pdp filter
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