JPH1176959A - Finish cleaning - Google Patents
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- JPH1176959A JPH1176959A JP9239993A JP23999397A JPH1176959A JP H1176959 A JPH1176959 A JP H1176959A JP 9239993 A JP9239993 A JP 9239993A JP 23999397 A JP23999397 A JP 23999397A JP H1176959 A JPH1176959 A JP H1176959A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、強誘電材料からな
る光学部品、半導体部品等を洗浄する方法、特に、これ
らの洗浄仕上げ方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for cleaning optical parts and semiconductor parts made of ferroelectric materials, and more particularly to a method for cleaning and cleaning these parts.
【0002】[0002]
【従来の技術】精密分野における部品や製品の精密洗浄
は、加工々程と同様に重要な位置を占めている。これら
の精密分野の洗浄には、人体への安全性が高く、作業性
が良好で、高純度の再生が可能であるフロンやトリクロ
ロエタン等のハロゲン系溶剤が使用されていたが、ハロ
ゲン系溶剤はオゾン層破壊の問題があるため、世界的に
使用を禁じられたり、使用量が削減されている。2. Description of the Related Art Precision cleaning of parts and products in the precision field occupies an important position as well as processing. For cleaning in these precision fields, halogen-based solvents such as chlorofluorocarbons and trichloroethane, which are highly safe to the human body, have good workability, and are capable of high-purity regeneration, have been used. Due to the problem of ozone depletion, its use has been banned and its use reduced worldwide.
【0003】このため、ハロゲン系溶剤に替わる洗浄方
法が開発されている。この場合、製造技術の急激な進歩
に伴い、加工精度の向上、難加工部品の実用化、要求精
度の向上等の超精密化により洗浄に望まれる品質につい
ても大幅な向上が要求されている。特開平5−3451
74号公報及び特開平5−68951号公報には、この
ような洗浄を行う従来の洗浄方法が記載されている。[0003] For this reason, cleaning methods have been developed in place of halogenated solvents. In this case, with the rapid progress in manufacturing technology, there has been a demand for a great improvement in the quality desired for cleaning by ultraprecision such as improvement of processing accuracy, practical use of difficult-to-machine parts, and improvement of required accuracy. JP-A-5-3451
No. 74 and JP-A-5-68951 describe a conventional cleaning method for performing such cleaning.
【0004】特開平5−345174号公報の洗浄方法
は、すすぎ槽内で被洗浄物のすすぎを行う際に超音波処
理した後、すすぎ槽から被洗浄物を引き上げるとき、被
洗浄物を傾斜させて保持することによって液切りするも
のである。In the cleaning method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-345174, after the object to be cleaned is subjected to ultrasonic treatment when rinsing the object to be cleaned in a rinsing tank, the object to be cleaned is tilted when the object to be cleaned is lifted from the rinsing tank. The liquid is drained by holding it.
【0005】特開平5−68951号公報の洗浄方法
は、洗浄後の乾燥工程に複数の純水槽を設けると共に、
最終の純水槽の温度を70〜85℃に設定し、この最終
の純水槽から被洗浄物を引き上げる際に被洗浄物の表面
を乾燥させるものである。純水がイオン成分を含まない
ため、乾燥残渣を生じることがなく、精密洗浄の仕上げ
に適するためである。In the cleaning method disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 5-68951, a plurality of pure water tanks are provided in a drying step after the cleaning.
The temperature of the final pure water tank is set at 70 to 85 ° C., and the surface of the object to be cleaned is dried when the object to be cleaned is pulled up from the final pure water tank. Because pure water does not contain an ionic component, it does not produce a dry residue and is suitable for precision cleaning.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年の産業
の精密化に伴って、結晶材料や強誘電材料等の特殊材料
の洗浄のニーズ等が増えている。強誘電材料は、それが
有する焦電性、圧電性により温度変化や表面変化等を起
こし電荷を帯びる。これに対し、洗浄の仕上げに使用す
る純水や有機溶剤は導電性の小さな物質である。この純
水や溶剤を使用して強誘電材料を洗浄した場合には、強
誘電材料と純水との間の擦れに起因して静電気が発生
し、空気中のパーティクルが付着する。また、乾燥時の
発熱および蒸発時の放熱においても、温度変化により表
面電荷を帯び、洗浄品質に悪影響を与える問題を有して
いる。By the way, with the recent refinement of industry, needs for cleaning special materials such as crystal materials and ferroelectric materials have been increasing. The ferroelectric material is charged by causing a temperature change or a surface change due to its pyroelectricity and piezoelectricity. On the other hand, pure water or an organic solvent used for finishing the cleaning is a small conductive substance. When the ferroelectric material is washed using pure water or a solvent, static electricity is generated due to friction between the ferroelectric material and pure water, and particles in the air adhere. In addition, heat generation during drying and heat radiation during evaporation also have a problem that a surface charge is caused by a change in temperature, which adversely affects cleaning quality.
【0007】本発明は、このような強誘電材料を洗浄仕
上げする際に、強誘電材料へのパーティクルの付着を防
止し、高精度に仕上げることが可能な方法を提供するこ
とを目的とする。[0007] It is an object of the present invention to provide a method capable of preventing particles from adhering to a ferroelectric material and finishing the ferroelectric material with high precision when cleaning and finishing such a ferroelectric material.
【0008】[0008]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1の発明は、強誘電材料からなる被洗浄物を
洗浄する最終の仕上げにおいて、前記被洗浄物を純水又
は非水系溶剤のいずれか一の液体に浸漬した後、被洗浄
物にイオンを照射しながら引き上げることを特徴とす
る。According to a first aspect of the present invention, there is provided a cleaning method for cleaning a cleaning object made of a ferroelectric material with pure water or a non-aqueous solvent. After being immersed in any one of the liquids, the object to be cleaned is pulled up while being irradiated with ions.
【0009】この方法では、強誘電材料からなる被洗浄
物にイオンを照射することによって、被洗浄物の表面電
荷を解放し、静電気によるパーティクル付着を抑制す
る。In this method, the surface of the object to be cleaned is released by irradiating ions to the object to be cleaned made of a ferroelectric material, and the adhesion of particles due to static electricity is suppressed.
【0010】請求項2の発明は、請求項1による引き上
げの後、25〜40℃の温度での送風又はイオン風の供
給によって被洗浄物を乾燥することを特徴とする。According to a second aspect of the present invention, after the lifting according to the first aspect, the object to be cleaned is dried by blowing air at a temperature of 25 to 40 ° C. or supplying ionic air.
【0011】これらの送風によって、強誘電材料が有し
ている焦電性によるパーティクル付着を防止する。[0011] These blowings prevent particles from being deposited due to pyroelectricity of the ferroelectric material.
【0012】請求項3の発明は、請求項1記載の非水系
溶剤として、95%留出温度が初留点から5℃以内で、
かつ99%留出温度が初留点から10℃以内である炭素
数8〜12の飽和炭化水素又はヘキサメチルジシロキサ
ン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシ
ロキサンから選ばれる少なくとも1種を用いることを特
徴とする。According to a third aspect of the present invention, the non-aqueous solvent according to the first aspect has a 95% distillation temperature within 5 ° C. from the initial boiling point,
And at least one selected from the group consisting of saturated hydrocarbons having 8 to 12 carbon atoms and a distilling temperature of 99% within 10 ° C. from the initial boiling point or hexamethyldisiloxane, octamethyltrisiloxane, and decamethyltetrasiloxane. Features.
【0013】これらの液体を使用することによって洗浄
剤に起因するシミ残りを防止し、洗浄品質を向上させ
る。By using these liquids, stains due to the cleaning agent are prevented, and the cleaning quality is improved.
【0014】[0014]
【発明の実施の形態】図1は本発明に使用される洗浄装
置の構成を示し、洗浄槽1と予備槽4とが配管によって
連結されており、循環ポンプ3の駆動によって液体8が
洗浄槽1及び予備槽4の間を循環している。液体8が循
環することにより前工程から混入した汚れが滞留するこ
とを防止している。被洗浄物2は強誘電材料からなり、
搬送アーム7に載置された状態で洗浄槽1内に導入され
る。洗浄槽1の上方には、イオナイザー5からイオン風
が供給されるノズル6が配置されており、ノズル6に供
給されたイオン風が吹き出し孔6aから洗浄槽1の液面
付近に吹き出される。FIG. 1 shows the structure of a cleaning apparatus used in the present invention. A cleaning tank 1 and a preliminary tank 4 are connected by a pipe. Circulating between 1 and the preliminary tank 4. The circulation of the liquid 8 prevents the dirt mixed in from the previous process from staying. The object to be cleaned 2 is made of a ferroelectric material,
It is introduced into the cleaning tank 1 while being placed on the transfer arm 7. A nozzle 6 to which an ion wind is supplied from the ionizer 5 is disposed above the cleaning tank 1, and the ion wind supplied to the nozzle 6 is blown out from a blowing hole 6 a to near the liquid surface of the cleaning tank 1.
【0015】この装置では、被洗浄物2を洗浄槽1内に
導入し、前工程からの洗浄液を洗浄槽1内の液体によっ
て置換及びリンスする。このとき、イオナイザー5から
はイオン風がノズル6に供給され、ノズル6の吹き出し
孔6aからイオン風が吹き出されている。そして、洗浄
槽1内で置換やリンスを一定時間行った後、搬送アーム
7が引き上げられる。この引き上げによって被洗浄物2
が液体8内を上昇し、液面上に浮上する。In this apparatus, the object to be cleaned 2 is introduced into the cleaning tank 1, and the cleaning liquid from the previous step is replaced and rinsed by the liquid in the cleaning tank 1. At this time, the ion wind is supplied from the ionizer 5 to the nozzle 6, and the ion wind is blown from the blowing hole 6 a of the nozzle 6. Then, after performing replacement or rinsing for a predetermined time in the cleaning tank 1, the transfer arm 7 is pulled up. The object 2 to be cleaned is
Rises in the liquid 8 and floats on the liquid surface.
【0016】かかる被洗浄物2の引き上げの際には、被
洗浄物2が洗浄槽1内の液体8と擦れることによる静電
気により、電荷を帯びた状態となっている。これに対
し、ノズル6からイオン風が吹き出すことによって、液
体8の液面上がイオン風雰囲気となっている。被洗浄物
2はこのイオン風雰囲気内を通過することによって、表
面電荷が解放される。このためパーティクルが被洗浄物
1に付着することがない。なお、イオナイザー5は放電
による分子分解を行い、この分子分解によってイオンを
発生しているため、パーティクルの発生はない。従っ
て、発生したイオンは純粋な電位変化のみを行うことが
できる。When the object to be cleaned 2 is pulled up, the object to be cleaned 2 is charged by static electricity generated by rubbing against the liquid 8 in the cleaning tank 1. On the other hand, when the ion wind blows out from the nozzle 6, the liquid surface of the liquid 8 has an ion wind atmosphere. The surface charge of the object to be cleaned 2 is released by passing through the ionic atmosphere. Therefore, particles do not adhere to the article 1 to be cleaned. In addition, since the ionizer 5 performs molecular decomposition by electric discharge and generates ions by the molecular decomposition, no particles are generated. Therefore, the generated ions can perform only a pure potential change.
【0017】本発明に使用される液体8としては、純水
又は非水系溶剤である。この内、非水系溶剤としては、
飽和炭化水素又はシロキサンが使用される。純水あるい
は非水系の溶剤はイオン成分を含まないため、導電性を
有しておらず、これらの液体には装置内の液流によって
静電気が発生している。この場合、洗浄装置は導電性材
料であるステンレス(SUS)が一般的に使用されてお
り、SUSと接触する部分では、電荷の解放が行われて
いる。しかしながら、被洗浄物2はこれらの洗浄装置と
絶縁された状態にあるため、洗浄槽1内の揺動、引き上
げ等の移動に伴う被洗浄物1と液体8との擦れによって
静電気が発生する。The liquid 8 used in the present invention is pure water or a non-aqueous solvent. Among them, as the non-aqueous solvent,
Saturated hydrocarbons or siloxanes are used. Since pure water or non-aqueous solvents do not contain ionic components, they do not have conductivity, and static electricity is generated in these liquids by a liquid flow in the apparatus. In this case, stainless steel (SUS), which is a conductive material, is generally used for the cleaning device, and charges are released in a portion that comes into contact with the SUS. However, since the object to be cleaned 2 is insulated from these cleaning devices, static electricity is generated by friction between the object to be cleaned 1 and the liquid 8 due to the movement of the cleaning tank 1 such as swinging and lifting.
【0018】この状態のままで液体8から引き上げる
と、被洗浄物2は表面電荷を帯びた状態となり、周辺の
パーティクルを静電気によって吸着する。このパーティ
クルは後工程にとって大きな障害となり、歩留まり低下
の原因となる。上述したように、本発明は、被洗浄物2
をイオン風雰囲気内に引き上げるため、イオンによって
表面電荷を解放することができる。従って、静電気によ
るパーティクルの付着を防止することができる。When the object to be cleaned 2 is pulled up from the liquid 8 in this state, the object to be cleaned 2 becomes charged with surface charges, and the surrounding particles are attracted by static electricity. These particles become a major obstacle to the subsequent process and cause a reduction in yield. As described above, the present invention provides
Is lifted into the ion wind atmosphere, so that the surface charges can be released by the ions. Therefore, adhesion of particles due to static electricity can be prevented.
【0019】又、この引き上げの後においては、自然乾
燥または乾燥装置を使用することによって乾燥を行う。
かかる乾燥に際しても、イオナイザー5からの送風によ
り乾燥を行うことができる。なお、乾燥時の過度の加熱
は、表面電荷の増加を促すため、必要最小限の加熱にと
どめる必要がある。従って、乾燥の温度範囲としては2
5〜40℃が良好である。乾燥温度が40℃を超える環
境では、表面電荷が増加し、空気中のパーティクルを付
着させる原因となる。After the lifting, drying is performed by natural drying or by using a drying device.
At the time of such drying, drying can be performed by blowing air from the ionizer 5. Excessive heating during drying promotes an increase in surface charge, so it is necessary to limit heating to a minimum necessary. Therefore, the drying temperature range is 2
5 to 40 ° C is good. In an environment where the drying temperature exceeds 40 ° C., the surface charge increases and causes particles in the air to adhere.
【0020】なお、以上の25〜40℃の温度範囲内で
は、乾燥が困難となり易い。このため、本発明では、洗
浄槽1内の液体8として低温度でも乾燥し易いものを使
用する。この液体8としては、蒸気圧が高く、蒸発潜熱
が低いものが良好であり、非水系溶剤としての飽和炭化
水素及びシロキサンを用いることが良好である。In the above temperature range of 25 to 40 ° C., drying tends to be difficult. For this reason, in the present invention, the liquid 8 in the cleaning tank 1 that is easily dried even at a low temperature is used. As the liquid 8, a liquid having a high vapor pressure and a low latent heat of evaporation is preferable, and it is preferable to use a saturated hydrocarbon and siloxane as a non-aqueous solvent.
【0021】蒸発潜熱は、乾燥時のエネルギー効率に寄
与する。液体から気体への相の変化の際には、エネルギ
ーとしての気化熱を要する。この気化熱は、その物質が
有している蒸発潜熱に依存し、蒸発潜熱が大きいと気化
時に大きなエネルギーが必要となる。従って、気化時に
は、被洗浄物2から熱を奪い、被洗浄物2の表面が冷却
される。このとき、周囲の環境との温度差が生じて、空
気中の水分が結露し、洗浄品質を劣化させる。本発明に
使用する飽和炭化水素およびシロキサンは、蒸発潜熱が
少ないために被洗浄物2の温度変化が少なく、結露を抑
え、清浄な洗浄面を得ることができる。The latent heat of evaporation contributes to energy efficiency during drying. The change of phase from liquid to gas requires heat of vaporization as energy. This heat of vaporization depends on the latent heat of vaporization of the substance. If the latent heat of vaporization is large, large energy is required during vaporization. Therefore, at the time of vaporization, heat is removed from the object 2 to be cleaned, and the surface of the object 2 is cooled. At this time, a temperature difference from the surrounding environment occurs, and moisture in the air condenses, thereby deteriorating the cleaning quality. Since the saturated hydrocarbon and siloxane used in the present invention have a small latent heat of evaporation, the temperature of the article to be cleaned 2 is small, the dew condensation is suppressed, and a clean cleaning surface can be obtained.
【0022】乾燥温度は(常温)+(乾燥に必要な最小
エネルギー)とすることが望ましく、25〜40℃の範
囲の温度が乾燥性と洗浄品質とを両立させることができ
る温度範囲となる。本発明に使用する飽和炭化水素及び
シロキサンは、粘度および表面張力が小さいことが必要
であり、このような飽和炭化水素及びシロキサンを使用
することにより被洗浄物に付着する液量を減らすことが
できる。The drying temperature is desirably (normal temperature) + (minimum energy required for drying), and a temperature in the range of 25 to 40 ° C. is a temperature range in which both drying property and washing quality can be satisfied. The saturated hydrocarbon and siloxane used in the present invention need to have a low viscosity and a low surface tension, and by using such a saturated hydrocarbon and siloxane, the amount of liquid adhering to an object to be cleaned can be reduced. .
【0023】以上の要件を満足する飽和炭化水素して
は、95%留出温度が初留点から5℃以内で、且つ99
%留出温度が初留点から10℃以内である炭素数8以上
12以下の飽和炭化水素が良好である。この飽和炭化水
素としては、イソオクタン、イソノナン、n−ノナン、
n−デカン、イソデカンの内の一種を選択することがで
きる。シロキサンとしては、ヘキサメチルジシロキサ
ン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシ
ロキサンの内の一種を選択することができる。The saturated hydrocarbon satisfying the above requirements has a 95% distillation temperature within 5 ° C. from the initial boiling point and 99%.
Saturated hydrocarbons having 8 to 12 carbon atoms having a% distillation temperature within 10 ° C from the initial boiling point are good. As the saturated hydrocarbon, isooctane, isononane, n-nonane,
One of n-decane and isodecane can be selected. As the siloxane, one of hexamethyldisiloxane, octamethyltrisiloxane, and decamethyltetrasiloxane can be selected.
【0024】被洗浄物2へ付着する液量減少のために
は、液体8の諸物性の他、液体8からの引き上げ速度を
変化させる方法を併用することができる。液体8から被
洗浄物を引き上げた場合、その凝集力や表面張力の作用
により、被洗浄物2の表面には液体8が残留し、この残
留している液体が重力によって被洗浄物から落下する。
このとき、被洗浄物を引き上げる際の速度を液体の落下
速度より遅くすると、被洗浄物表面の洗浄液が均一に薄
く残って好ましくない。逆に、液体の落下速度より速い
速度で引き上げると、被洗浄物表面での液ダレが顕著に
発生して、洗浄品質に影響を与える。上述した飽和炭化
水素又はシロキサンを使用した場合、発明者らの実験の
結果から、引き上げ速度としては70mm/Sが望まし
い。In order to reduce the amount of liquid adhering to the object to be cleaned 2, a method of changing the pulling speed from the liquid 8 can be used in addition to the various physical properties of the liquid 8. When the object to be cleaned is pulled up from the liquid 8, the liquid 8 remains on the surface of the object to be cleaned 2 due to the action of the cohesive force or surface tension, and the remaining liquid drops from the object to be cleaned by gravity. .
At this time, if the speed of lifting the object to be cleaned is lower than the falling speed of the liquid, the cleaning liquid on the surface of the object to be cleaned remains uniformly thin, which is not preferable. On the other hand, if the liquid is pulled up at a speed higher than the falling speed of the liquid, dripping of the liquid on the surface of the object to be cleaned occurs significantly, which affects the cleaning quality. In the case where the above-mentioned saturated hydrocarbon or siloxane is used, the pulling speed is desirably 70 mm / S based on the results of experiments by the inventors.
【0025】以上のような本発明では飽和炭化水素、シ
ロキサンの諸物性及び引き上げ速度の調整により、被洗
浄物に残留する液量を均一に少量にすることができ、液
体残りを抑えることができる。さらに、引き上げ時にイ
オン風雰囲気下で被洗浄物を引き上げるため、パーティ
クルの付着を防止して、清浄な表面を確保することがで
きる。また、乾燥時の熱変化を少なくできることから、
焦電性によるパーティクルの付着を防止できる。In the present invention as described above, the amount of liquid remaining on the object to be cleaned can be uniformly reduced by adjusting the properties of the saturated hydrocarbon and the siloxane and the pulling rate, and the amount of liquid remaining can be suppressed. . Further, since the object to be cleaned is lifted in an ion wind atmosphere at the time of lifting, particles can be prevented from adhering and a clean surface can be secured. Also, since the heat change during drying can be reduced,
Particle adhesion due to pyroelectricity can be prevented.
【0026】なお、パーティクルの付着は空気中だけと
は限らず、液体中のパーティクルが多いと最終引き上げ
時に表面に残留した液体中のパーティクルが被洗浄物の
表面に残留し、品質不良の原因となる。発明者らが測定
した結果0.1μmメッシュのフィルターを通じて循環
させた液体は0.2μm以上のパーティクルが50個/
100ml以下であった。The adhesion of particles is not limited to air only. If there are many particles in the liquid, particles in the liquid remaining on the surface at the time of final lifting remain on the surface of the object to be cleaned, which may cause poor quality. Become. As a result of measurement by the inventors, the liquid circulated through a 0.1 μm mesh filter has 50 particles of 0.2 μm or more /
It was less than 100 ml.
【0027】[0027]
(実施例1)チタン酸バリウム(BaTiO3 )からな
る厚さ0.5mmの3インチ4角片結晶の片面を鏡面研
磨したものを被洗浄物とし、表1で示す工程で洗浄し
た。表1において、「US」は超音波振動を示す。洗浄
液「SE−10」はオリンパス光学工業(株)製の洗浄
剤の商品名である。又、最終引き上げは純水による引き
上げとし、引き上げ時にイオナイザーを使用したものと
使用しないものの2種を実験として行った。この実験時
の雰囲気は0.5μmのパーティクルでクラス10,0
00レベルであった。Example 1 A 0.5-mm-thick 3-inch square piece crystal made of barium titanate (BaTiO 3 ) was mirror-polished on one side to obtain an object to be cleaned, and was washed in the steps shown in Table 1. In Table 1, "US" indicates ultrasonic vibration. The cleaning liquid “SE-10” is a trade name of a cleaning agent manufactured by Olympus Optical Industries, Ltd. The final lifting was performed with pure water, and two types, one using an ionizer at the time of lifting and one not using it, were performed as experiments. The atmosphere at the time of this experiment was class 10.0 with particles of 0.5 μm.
00 level.
【0028】チタン酸バリウムからなる被洗浄物には、
汚れとしてのゴミ、ホコリが付着している。洗浄液SE
−10を使用した第1槽の洗浄では、界面活性剤による
汚れ除去の他、アルカリビルダーによる表面洗浄効果が
あり、洗浄効果が得られる。このSE−10を置換する
ために、第2及び第3槽では、純水よってリンスを行
い、最終の第4槽で引き上げを実施した。Items to be cleaned made of barium titanate include:
Dirt and dust are attached as dirt. Cleaning liquid SE
In the cleaning of the first tank using -10, in addition to the removal of the dirt by the surfactant, the surface cleaning effect by the alkali builder is obtained, and the cleaning effect is obtained. In order to replace the SE-10, the second and third tanks were rinsed with pure water, and the final fourth tank was pulled up.
【0029】イオナイザーを使用した引き上げでは、液
面上にイオン風を吹き付け、被洗浄物がイオン風雰囲気
下に置かれる状況とした。このイオン風により、純水と
チタン酸バリウムの界面の擦れで発生した静電気が中和
される。イオナイザーを使用しない引き上げでは、純水
からの引き上げ時に発生した静電気により、洗浄装置内
に浮遊しているパーティクル類が付着し、洗浄品質に差
が生じた。In the lifting using an ionizer, an ion wind is blown onto the liquid surface, and the object to be cleaned is placed in an ion wind atmosphere. The ionic wind neutralizes static electricity generated by the rubbing of the interface between pure water and barium titanate. In the lifting without using the ionizer, particles floating in the cleaning device adhered due to static electricity generated at the time of lifting from pure water, resulting in a difference in cleaning quality.
【0030】以上の工程の後、金属顕微鏡による表面観
察評価を行った。その結果、イオナイザーを使用したも
のが表面の異物残留が少なかった。従って、純水からの
引き上げ時にイオン風を吹き付けることによって、チタ
ン酸バリウムの表面を高品質に洗浄できることが確認さ
れた。After the above steps, the surface observation was evaluated by a metallographic microscope. As a result, when the ionizer was used, the amount of foreign matter remaining on the surface was small. Therefore, it was confirmed that the surface of barium titanate can be cleaned with high quality by blowing ion wind when pulling up from pure water.
【0031】[0031]
【表1】 [Table 1]
【0032】(実施例2)ニオブ酸リチウム(LiNb
O3 )からなる直径3インチのウエハーを被洗浄物とし
た、表2は、この実施例の洗浄工程を示す。洗浄剤「E
E−1120」はオリンパス光学工業(株)製の洗浄剤
である。純水、IPA(徳山曹達(株)製)、ヘキサメ
チルジシロキサン(信越化学工業(株)製)の槽構成と
して洗浄を行った。又、第7槽でのヘキサメチルジシロ
キサンからの最終引き上げ時には、イオナイザーを使用
したものと使用しないものとで比較を行った。Example 2 Lithium niobate (LiNb)
Table 2 shows the cleaning process of this example, in which a wafer having a diameter of 3 inches made of O 3 ) was used as an object to be cleaned. Cleaning agent "E
E-1120 "is a cleaning agent manufactured by Olympus Optical Co., Ltd. Washing was performed using a tank configuration of pure water, IPA (manufactured by Tokuyama Soda Co., Ltd.), and hexamethyldisiloxane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). In addition, at the time of final pulling up from hexamethyldisiloxane in the seventh tank, comparison was made between those using an ionizer and those not using it.
【0033】ニオブ酸リチウムからなる3インチウエハ
ーには、ゴミ、ホコリの他、研磨材の残留がある。第1
槽では、このウエハーを洗浄剤EE−1120により洗
浄した。洗浄剤EE−1120は、界面活性剤による汚
れの溶解、異物の分散の他、アルカリ成分によるエッチ
ングにより洗浄する。この洗浄剤EE−1120をリン
スするため、後続の第2〜第4槽では、純水洗浄を実施
した。第5槽では、最終の仕上げを非水系溶剤であるヘ
キサメチルジシロキサンによって最終の仕上げを行うた
め、純水をIPAで置換した。第6槽は、IPAをヘキ
サメチルジシロキサンによって置換し、最終の第7槽に
被洗浄物を導入した。A 3-inch wafer made of lithium niobate has a residue of abrasives in addition to dust and dust. First
In the bath, the wafer was cleaned with a cleaning agent EE-1120. The cleaning agent EE-1120 is cleaned by dissolving dirt with a surfactant, dispersing foreign substances, and etching with an alkali component. In order to rinse the cleaning agent EE-1120, the subsequent second to fourth tanks were subjected to pure water cleaning. In the fifth tank, pure water was replaced with IPA in order to perform final finishing with hexamethyldisiloxane which is a non-aqueous solvent. In the sixth tank, IPA was replaced with hexamethyldisiloxane, and the object to be cleaned was introduced into the final seventh tank.
【0034】最終の第7槽におけるヘキサメチルジシロ
キサンからの引き上げ時には、液面付近をイオン風を使
用した雰囲気下で行った。ヘキサメチルジシロキサン
は、低分子シリコーンオイルであり、高い絶縁性を有し
ている。このため、被洗浄物の引き上げ時には、液面と
ウエハー表面との間の擦れにより静電気が発生する。こ
の静電気は、第7槽から引き上げる際に周囲パーティク
ルを付着させる要因となるが、イオン風雰囲気下では電
荷が中和され、パーティクル付着を抑制することができ
る。The final lifting from the hexamethyldisiloxane in the seventh tank was performed in the vicinity of the liquid surface under an atmosphere using ion wind. Hexamethyldisiloxane is a low-molecular silicone oil and has high insulating properties. Therefore, when the object to be cleaned is pulled up, static electricity is generated due to friction between the liquid surface and the wafer surface. This static electricity is a factor that causes surrounding particles to adhere when being lifted from the seventh tank. However, in an ionic wind atmosphere, the charge is neutralized, and the adhesion of particles can be suppressed.
【0035】洗浄の評価は、SiO2 薄膜をウエハーに
蒸着した後に行った、異物の残留があると、薄膜の剥が
れ等があるため、薄膜の剥がれを金属顕微鏡で検査し
た。この結果、イオン風の吹き付けの有無により薄膜の
剥がれに明確な差が表れ、イオナイザーを使用したもの
が優れていた。従って、イオナイザーを使用することに
より、ヘキサメチルジシロキサンのような絶縁性の高い
非水系溶剤を使用した仕上げ乾燥においても、パーティ
クルの付着がなく、高品質の仕上げが可能であることが
確認された。The cleaning was evaluated after depositing the SiO 2 thin film on the wafer. If there is a foreign substance remaining, the thin film may be peeled off. The peeling of the thin film was inspected with a metallographic microscope. As a result, a clear difference was observed in the peeling of the thin film depending on whether or not the ion wind was blown, and the one using the ionizer was excellent. Therefore, it was confirmed that the use of an ionizer enables high quality finishing without particle adhesion even in finish drying using a non-aqueous solvent having a high insulating property such as hexamethyldisiloxane. .
【0036】[0036]
【表2】 [Table 2]
【0037】(実施例3)チタン酸リチウムからなる4
インチウエハーおよびニオブ酸リチウムからなる3イン
チウエハーを被洗浄物とした。この実施例では、乾燥温
度の相違に基づく洗浄精度の相違を検討した。Example 3 4 composed of lithium titanate
An object to be cleaned was an inch wafer and a 3-inch wafer made of lithium niobate. In this example, the difference in cleaning accuracy based on the difference in drying temperature was examined.
【0038】予め、実施例2の構成に沿って洗浄したチ
タン酸リチウムのウエハーおよびニオブ酸リチウムのウ
エハーを飽和炭化水素系溶剤である商品名「キョーワゾ
ールC−900」(共和発酵(株)製)に浸漬後、イオ
ン風雰囲気下で60mm/sのスピードで引き上げて乾
燥させた。乾燥温度は30℃及び70℃とした。Lithium titanate wafers and lithium niobate wafers which had been washed in advance according to the structure of Example 2 were washed with a saturated hydrocarbon solvent, trade name "Kyowasol C-900" (manufactured by Kyowa Hakko Co., Ltd.). ), And pulled up and dried at a speed of 60 mm / s in an ionic wind atmosphere. The drying temperature was 30 ° C and 70 ° C.
【0039】チタン酸リチウムおよびニオブ酸リチウム
は焦電性を有している。焦電性は、温度変化により電位
変化を起こす性質である。一方、商品名「キョーワゾー
ルC−900」は、イソノナンを99%以上含有する飽
和炭化水素系溶剤であり、導電性は低い。従って、ウエ
ハーを「キョーワゾールC−900」の液中から引き上
げる際に、液面とウエハー界面との擦れにより静電気が
発生するが、この電位変化はイオン風雰囲気により中和
される。Lithium titanate and lithium niobate have pyroelectricity. Pyroelectricity is a property of causing a potential change due to a temperature change. On the other hand, the trade name “Kyowasol C-900” is a saturated hydrocarbon solvent containing 99% or more of isononane, and has low conductivity. Therefore, when the wafer is pulled up from the liquid of “Kyowasol C-900”, static electricity is generated due to friction between the liquid surface and the interface of the wafer, but this potential change is neutralized by the ionic wind atmosphere.
【0040】溶剤「キョーワゾールC−900」からウ
エハーを引き上げる際には、液の落下速度より遅い引き
上げ速度で行う。これにより、ウエハー表面に均一なキ
ョーワゾールC−900の膜を生成した後に自然乾燥し
ていく。その後の乾燥工程では、チタン酸リチウム、ニ
オブ酸リチウム共に焦電性を有するため、乾燥時の温度
変化に伴い、ウエハーが電位変化を起こす。このため、
乾燥工程終了後に洗浄装置の外に出た際に周囲にパーテ
ィクルが付着する。When lifting the wafer from the solvent "Kyowasol C-900", the lifting speed is lower than the speed at which the liquid falls. As a result, a uniform film of Kyowasol C-900 is formed on the surface of the wafer, and then naturally dried. In the subsequent drying step, since both lithium titanate and lithium niobate have pyroelectricity, the potential of the wafer changes with the temperature change during drying. For this reason,
Particles adhere to the periphery when the cleaning device goes out of the cleaning device after the drying process.
【0041】乾燥工程終了後、TiO2 からなる偏光膜
をウエハーに蒸着して、蒸着面の評価を金属顕微鏡によ
り行った。発明者の検討の結果、蒸着面の凹凸がウエハ
ー面のパーティクルに依存していることが判明してい
る。温度30℃と70℃での乾燥工程を終了したウエハ
ーの蒸着面を観察したが、30℃で乾燥したウエハー表
面に比べ、70℃で乾燥したウエハーは凹凸が多く見ら
れ、チタン酸リチウムとニオブ酸リチウムの焦電性と一
致することが明らかとなった。このようなことから、強
誘電材料からなる被洗浄物の乾燥は30℃程度の室温に
ほぼ近い温度が最適であることが明らかとなった。After the drying step, a polarizing film made of TiO 2 was vapor-deposited on the wafer, and the vapor-deposited surface was evaluated using a metal microscope. As a result of the study by the inventor, it has been found that the irregularities on the deposition surface depend on the particles on the wafer surface. Observation of the deposition surface of the wafer after the drying process at temperatures of 30 ° C. and 70 ° C. revealed that the wafer dried at 70 ° C. had more irregularities than the wafer surface dried at 30 ° C., and lithium titanate and niobium were observed. It was found that this was consistent with the pyroelectricity of lithium oxide. From these facts, it has been clarified that the drying of the object to be cleaned made of a ferroelectric material is most preferably performed at a temperature close to room temperature of about 30 ° C.
【0042】以上の説明から、本発明からは以下の技術
的思想が導き出される。 (1)強誘電材料からなる被洗浄物を洗浄する最終の仕
上げにおいて、前記被洗浄物を純水又は非水系溶剤のい
ずれかの一液体に浸漬した後、被洗浄物にイオンを照射
しながら、70mm/秒以下の引き上げ速度で被洗浄物
を引き上げることを特徴とする洗浄仕上げ方法。From the above description, the following technical ideas are derived from the present invention. (1) In the final finishing of cleaning the object to be cleaned made of a ferroelectric material, the object to be cleaned is immersed in one liquid of pure water or a non-aqueous solvent and then irradiated with ions to the object to be cleaned. A cleaning finish method, wherein the object to be cleaned is pulled up at a pulling speed of 70 mm / sec or less.
【0043】この方法によれば、液体の被洗浄物の表面
に残存することなく、又、被洗浄物の表面で液ダレを生
じないため、高品質に仕上げることができる。According to this method, since the liquid does not remain on the surface of the object to be cleaned and the liquid does not sag on the surface of the object to be cleaned, high-quality finishing can be achieved.
【0044】[0044]
【発明の効果】以上説明したように、請求項1の発明に
よれば、被洗浄物にイオンを照射しながら引き上げるた
め、被洗浄物の表面電荷を解放でき、静電気によるパー
ティクル付着を抑制することができる。このため高品質
に仕上げることができる。As described above, according to the first aspect of the present invention, since the object to be cleaned is lifted while being irradiated with ions, the surface charge of the object to be cleaned can be released, and the adhesion of particles due to static electricity can be suppressed. Can be. For this reason, high quality can be achieved.
【0045】請求項2の発明によれば、25〜40℃の
温度での送風又はイオン風の供給により、強誘電材料が
有している焦電性によるパーティクル付着を防止するこ
とができる。According to the second aspect of the present invention, the adhesion of particles due to the pyroelectricity of the ferroelectric material can be prevented by blowing air or supplying ionic wind at a temperature of 25 to 40 ° C.
【0046】請求項3の発明によれば、95%留出温度
が初留点から5℃以内で、かつ99%留出温度が初留点
から10℃以内である炭素数8〜12の飽和炭化水素又
はヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキ
サン、デカメチルテトラシロキサンから選ばれる少なく
とも1種を用いることによって洗浄剤に起因するシミ残
りを防止し、洗浄品質を向上させることができる。According to the third aspect of the present invention, the saturated carbon having 8 to 12 carbon atoms has a 95% distillation temperature within 5 ° C. from the initial boiling point and a 99% distillation temperature within 10 ° C. from the initial boiling point. By using at least one selected from hydrocarbons, hexamethyldisiloxane, octamethyltrisiloxane, and decamethyltetrasiloxane, it is possible to prevent stain residue caused by the cleaning agent and improve the cleaning quality.
【図1】本発明に使用される洗浄装置の断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a cleaning apparatus used in the present invention.
1 洗浄槽 2 被洗浄物 3 循環ポンプ 4 予備槽 5 イオナイザー 6 ノズル 7 搬送アーム 8 液体 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Cleaning tank 2 Object to be washed 3 Circulation pump 4 Preparatory tank 5 Ionizer 6 Nozzle 7 Transfer arm 8 Liquid
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // G02B 1/10 G02B 1/10 Z ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI // G02B 1/10 G02B 1/10 Z
Claims (3)
最終の仕上げにおいて、前記被洗浄物を純水又は非水系
溶剤のいずれか一の液体に浸漬した後、被洗浄物にイオ
ンを照射しながら引き上げることを特徴とする洗浄仕上
げ方法。In a final step of cleaning an object to be cleaned made of a ferroelectric material, the object to be cleaned is immersed in one of pure water and a non-aqueous solvent and then irradiated with ions. A cleaning finishing method characterized by lifting while raising.
0℃の温度での送風又はイオン風の供給によって被洗浄
物を乾燥することを特徴とする洗浄仕上げ方法。2. After the lifting according to claim 1, 25-4.
A cleaning and finishing method characterized by drying an object to be cleaned by blowing air or supplying ionic air at a temperature of 0 ° C.
出温度が初留点から5℃以内で、且つ99%留出温度が
初留点から10℃以内である炭素数8〜12の飽和炭化
水素又はヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリ
シロキサン、デカメチルテトラシロキサンから選ばれる
少なくとも1種であることを特徴とする洗浄仕上げ方
法。3. The non-aqueous solvent according to claim 1, wherein the 95% distillation temperature is within 5 ° C. from the initial boiling point and the 99% distillation temperature is within 10 ° C. from the initial boiling point. 12. A cleaning and finishing method, wherein the method is a saturated hydrocarbon or at least one selected from hexamethyldisiloxane, octamethyltrisiloxane, and decamethyltetrasiloxane.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9239993A JPH1176959A (en) | 1997-09-04 | 1997-09-04 | Finish cleaning |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9239993A JPH1176959A (en) | 1997-09-04 | 1997-09-04 | Finish cleaning |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1176959A true JPH1176959A (en) | 1999-03-23 |
Family
ID=17052885
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9239993A Withdrawn JPH1176959A (en) | 1997-09-04 | 1997-09-04 | Finish cleaning |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1176959A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003041377A (en) * | 2001-08-02 | 2003-02-13 | Showa Denko Kk | CLEANING METHOD FOR Ni-P PLATED SUBSTRATE, MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETIC DISK SUBSTRATE, AND MAGNETIC DISK SUBSTRATE |
-
1997
- 1997-09-04 JP JP9239993A patent/JPH1176959A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003041377A (en) * | 2001-08-02 | 2003-02-13 | Showa Denko Kk | CLEANING METHOD FOR Ni-P PLATED SUBSTRATE, MANUFACTURING METHOD FOR MAGNETIC DISK SUBSTRATE, AND MAGNETIC DISK SUBSTRATE |
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