JPH1174315A - Device and method of bonding - Google Patents

Device and method of bonding

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JPH1174315A
JPH1174315A JP16878998A JP16878998A JPH1174315A JP H1174315 A JPH1174315 A JP H1174315A JP 16878998 A JP16878998 A JP 16878998A JP 16878998 A JP16878998 A JP 16878998A JP H1174315 A JPH1174315 A JP H1174315A
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bonding
electronic component
substrate
electrode
pressing
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Taizo Tomioka
泰造 冨岡
Tomohiro Iguchi
知洋 井口
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Toshiba Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the device and the method of bonding with which the amount of bump deformation can be suppressed to the minimum by increasing the conduction efficiency of the ultrasonic waves from a bonding tool, and to obtain sufficient junction strength by conducting an excellent junction operation. SOLUTION: This bonding device is provided with a bonding tool 90, which is arranged on the rear side 11b of an electronic part 10, presses the pressing surface 91 on the rear side of the electronic part 10 and heats up the electronic part 10 by adding ultrasonic waves, and the second stage substrate supporting part 52 which supports the rear surface 21b of a substrate 20. The external dimensions of the pressing surface 91 of the bonding tool 90 is formed larger than the external dimensions of the electronic part 10.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体等の電子部
品を超音波及び加熱ツールを用いて基板に実装するフリ
ップチップボンディングを行うためのボンディング装置
及びボンディング方法に関し、特に接合強度を増すこと
ができるものに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a bonding apparatus and a bonding method for performing flip-chip bonding for mounting electronic parts such as semiconductors on a substrate using ultrasonic waves and a heating tool. About what you can do.

【0002】[0002]

【従来の技術】電子部品の電極と基板の電極とをバンプ
を介して接合するフリップチップボンディングは、実装
面積が小さく、また、回路の配線長が短いという特長が
あり、高密度実装や高速デバイスの実装に適している。
2. Description of the Related Art Flip-chip bonding, in which electrodes of an electronic component and electrodes of a substrate are joined via bumps, has the features of a small mounting area and a short circuit wiring length. Suitable for implementation.

【0003】フリップチップボンディングの方式につい
ては、近年形成プロセスが比較的容易である金ボールバ
ンプを用いた開発例が増加している。図7及び図8は従
来のフリップチップボンディングの方法を示す図であ
る。
As for the flip chip bonding method, in recent years, examples of development using gold ball bumps whose formation process is relatively easy have been increasing. 7 and 8 are views showing a conventional flip chip bonding method.

【0004】なお、これらの図中10は電子部品、20
は基板を示している。また、電子部品10は、直方体状
の部品本体11を備え、その一方の面には厚さ0.7μ
mのアルミ膜により電極12が形成されている。基板2
0は、基板本体21を備え、その一方の面には厚さ1.
0μmの金めっきが電解めっき法により施されて電極2
2が形成されている。
In these figures, reference numeral 10 denotes an electronic component;
Indicates a substrate. The electronic component 10 includes a rectangular parallelepiped component main body 11, and one surface thereof has a thickness of 0.7 μm.
The electrode 12 is formed of an aluminum film of m. Substrate 2
0 comprises a substrate body 21 having a thickness of 1.
Electrode 2 is plated with 0 μm gold plating by electrolytic plating.
2 are formed.

【0005】最初に、図7に示すように電極12上にバ
ンプ13を形成する。すなわち、放電により金ワイヤ3
0を溶融し、金ボール31を形成する。そしてキャピラ
リ32でこれを電子部品10上の電極12に加圧し、同
時に超音波を印加して接合する。その後ワイヤを引き千
切りバンプ13を形成する。
First, a bump 13 is formed on an electrode 12 as shown in FIG. That is, the gold wire 3
0 is melted to form a gold ball 31. Then, the pressure is applied to the electrode 12 on the electronic component 10 by the capillary 32, and at the same time, the ultrasonic wave is applied to join. Thereafter, the wire is pulled and the bumps 13 are formed.

【0006】バンプ13と基板20の電極22との接合
には、導電ペーストなど中間材を介す方式や、熱圧着や
超音波併用熱圧着により直接接合する方法などがある。
後者は工程数が少なく、中間材が不要であり、さらに接
合時間が短くなるため、実装コストを低減できるメリッ
トがある。
The method of bonding the bump 13 and the electrode 22 of the substrate 20 includes a method of interposing an intermediate material such as a conductive paste, a method of directly bonding by thermocompression bonding, and a thermocompression method combined with ultrasonic waves.
The latter has the advantage that the number of steps is small, no intermediate material is required, and the bonding time is short, so that the mounting cost can be reduced.

【0007】超音波併用熱圧着によるフリップチップボ
ンディングの例としては、特開平8−330880や
“Flip−Chip Assembly Techn
ique for SAW Device”(Pro
c.ISHM’95)がある。
[0007] Examples of flip chip bonding by thermocompression combined with ultrasonic waves are disclosed in JP-A-8-330880 and “Flip-Chip Assembly Technology”.
equal for SAW Device ”(Pro
c. ISHM'95).

【0008】図8は上述したようなフリップチップボン
ディングを行うためのボンディング装置の一例を示す図
である。ボンディング装置40は、ボンディングツール
41を備えている。ボンディングツール41の先端部4
2は平坦状に形成されており、その中央に吸着孔43が
形成されている。吸着孔43は図示しないチューブを介
して減圧機構(不図示)に接続されている。また、ボン
ディングツール41は、図示せぬ超音波ホーンに指示さ
れ、この超音波ホーンを図8中矢印Z方向へ駆動するこ
とにより圧着荷重を負荷する。
FIG. 8 is a diagram showing an example of a bonding apparatus for performing the above-described flip chip bonding. The bonding apparatus 40 includes a bonding tool 41. Tip 4 of bonding tool 41
2 has a flat shape, and a suction hole 43 is formed in the center thereof. The suction hole 43 is connected to a pressure reducing mechanism (not shown) via a tube (not shown). Further, the bonding tool 41 is instructed by an ultrasonic horn (not shown), and applies a pressing load by driving the ultrasonic horn in the direction of arrow Z in FIG.

【0009】このようなボンディング装置40では、次
のようにしてボンディングを行う。すなわち、ボンディ
ングツール41で電子部品10の背面を吸着し、そのバ
ンプ13と基板20の電極22の上に位置合わせする。
In such a bonding apparatus 40, bonding is performed as follows. That is, the back surface of the electronic component 10 is sucked by the bonding tool 41 and the bump 13 is aligned with the electrode 22 of the substrate 20.

【0010】一方、基板20を200℃に加熱する。次
にボンディングツール41を図8中矢印Z方向に駆動
し、バンプ13の1個につき75gfの圧着荷重で加圧
する。なお、バンプ13の数は16個である。
On the other hand, the substrate 20 is heated to 200.degree. Next, the bonding tool 41 is driven in the direction of arrow Z in FIG. 8 to apply a pressure of 75 gf to each of the bumps 13. The number of the bumps 13 is 16.

【0011】同時に、超音波がボンディングツール41
を介して電子部品10に伝達され、さらにバンプ13と
電極22との接合界面に印加される。なお、超音波の印
加は、2段階に分けられる。すなわち、第1段階では、
出力を0.5Wで800ms印加する。これはバンプ1
3の高さを揃えるために行うものであり、バンプ13の
高さは約30μmとなる。
At the same time, the ultrasonic wave is applied to the bonding tool 41.
And is applied to the bonding interface between the bump 13 and the electrode 22. The application of the ultrasonic wave is divided into two stages. That is, in the first stage,
The output is applied at 0.5 W for 800 ms. This is bump 1
The height of the bumps 13 is about 30 μm.

【0012】第2段階では、超音波の出力2Wで800
ms印加し、接合する。なお、このボンディング装置4
0を使用して接合を行った場合には、最適条件において
バンプ1個あたり約40gfの接合強度が得られる。
In the second stage, an ultrasonic output of 2 W and 800
ms is applied for bonding. The bonding device 4
When bonding is performed using 0, a bonding strength of about 40 gf per bump is obtained under optimum conditions.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】上述したボンディング
方法を用いたボンディング装置では、次のような問題が
あった。すなわち、例えば4或いは6個等のバンプ数の
少ない電子部品では、バンプ1個あたり40gfでは十
分な接合信頼性を得ることができない。このため、バン
プ1個あたりの接合強度を向上させることが重要であ
る。
The bonding apparatus using the above-described bonding method has the following problems. That is, for an electronic component having a small number of bumps such as four or six, sufficient bonding reliability cannot be obtained with 40 gf per bump. Therefore, it is important to improve the bonding strength per bump.

【0014】接合強度を向上させるためには超音波の伝
達効率を向上させればよい。なお、伝達効率はボンディ
ングツールの先端部42と電子部品10の背面の摩擦力
に依存し、摩擦力は接触面積とボンディング荷重に依存
する。すなわち、接触面積とボンディング荷重のいずれ
かを大きくすれば伝達効率が向上することになる。
In order to improve the bonding strength, the transmission efficiency of the ultrasonic wave may be improved. The transmission efficiency depends on the frictional force between the tip 42 of the bonding tool and the back surface of the electronic component 10, and the frictional force depends on the contact area and the bonding load. That is, the transmission efficiency is improved by increasing either the contact area or the bonding load.

【0015】しかしながら、電子部品10の外形寸法は
例えば、2.1mm×1.4mmと非常に小さい上、吸
着孔43が設けられているために、接触面積は非常に狭
い。一方、圧着荷重をある程度以上大きくすると、バン
プ13が大きく変形する。この状態で超音波を印加する
と、却ってバンプ13と電極22との接合性が低くな
り、製品の信頼性が低くなるという問題がある。また、
部品本体11の中央部に力が集中し、割れる虞があっ
た。
However, the external dimensions of the electronic component 10 are very small, for example, 2.1 mm × 1.4 mm, and the contact area is very small because the suction holes 43 are provided. On the other hand, when the pressing pressure is increased to a certain degree or more, the bump 13 is greatly deformed. If an ultrasonic wave is applied in this state, there is a problem that the bonding property between the bump 13 and the electrode 22 is rather lowered and the reliability of the product is lowered. Also,
The force concentrates on the central part of the component body 11 and may be broken.

【0016】一方、図10に示すようにその先端に角錐
状の凹部47が形成されたボンディングツール46を用
い、電子部品10を係止することで、超音波を損失なく
電子部品10に伝達することで、伝達効率を高めること
も検討されているが、電子部品10のエッジ部11aに
機械的ダメージが生じ、部品本体11にクラックが生じ
る虞があった。
On the other hand, as shown in FIG. 10, the electronic component 10 is locked by using a bonding tool 46 having a pyramid-shaped concave portion 47 formed at its tip, thereby transmitting ultrasonic waves to the electronic component 10 without loss. Although it has been considered to increase the transmission efficiency, mechanical damage is caused on the edge portion 11a of the electronic component 10, and there is a possibility that the component body 11 may be cracked.

【0017】なお、超音波を印加する時間を長くすれ
ば、バンプ13と電極22の接合強度を確保することは
できるが、製造効率が低下するという問題が生ずる。ま
た、従来方式では、金めっき厚が薄く接合性の低い基板
に対して良好な接合が得られないという問題もあった。
If the time for applying the ultrasonic wave is lengthened, the bonding strength between the bump 13 and the electrode 22 can be ensured, but there is a problem that the manufacturing efficiency is reduced. Further, in the conventional method, there is a problem that good bonding cannot be obtained with respect to a substrate having a thin gold plating thickness and a low bonding property.

【0018】本発明は、ボンディングツールからの超音
波の伝達効率を高めることで、バンプ変形量を最小限に
抑え、良好な接合を行うことにより十分な接合強度を得
ることができるボンディング装置及びボンディング方法
を提供することを目的としている。
According to the present invention, there is provided a bonding apparatus and a bonding apparatus capable of improving the transmission efficiency of ultrasonic waves from a bonding tool, minimizing the amount of bump deformation, and obtaining a sufficient bonding strength by performing good bonding. It is intended to provide a way.

【0019】[0019]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、請求項1に記載された発明は、電子部
品のバンプ電極と基板の電極とを熱圧着するボンディン
グ装置において、押圧面を有し、その押圧面を介して上
記電子部品の上記バンプ電極が形成されていない背面側
を押圧するとともに、上記電子部品に超音波を印加する
ボンディングツールと、上記基板を支持する基板支持部
とを備え、上記ボンディングツールの上記押圧面の少な
くとも上記電子部品に当接する面積が上記電子部品の背
面側の面積より大きく形成されていることとした。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems and to achieve the object, an invention according to claim 1 is provided in a bonding apparatus for thermocompression bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate. A bonding tool that presses a back side of the electronic component on which the bump electrodes are not formed through the pressing surface and applies ultrasonic waves to the electronic component; and a substrate support that supports the substrate. And an area where at least the pressing surface of the bonding tool contacts the electronic component is formed to be larger than an area on the back side of the electronic component.

【0020】請求項2に記載された発明は、請求項1に
記載された発明において、上記ボンディングツールの少
なくとも押圧面は上記電子部品の背面側の材質よりも硬
く形成されている。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect, at least a pressing surface of the bonding tool is formed to be harder than a material on a back side of the electronic component.

【0021】請求項3に記載された発明は、電子部品の
バンプ電極と基板の電極とを熱圧着するボンディング装
置において、押圧面を有し、その押圧面を介して上記電
子部品の上記バンプ電極が形成されていない背面側を押
圧するとともに、上記電子部品に超音波を印加するボン
ディングツールと、上記基板を支持する基板支持部とを
備え、上記ボンディングツールの押圧面は粗面化処理さ
れている。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a bonding apparatus for thermocompression bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, the bonding device having a pressing surface, and the bump electrode of the electronic component being passed through the pressing surface. A pressing tool is provided on the back side where no electronic component is formed, and a bonding tool that applies ultrasonic waves to the electronic component, and a substrate support portion that supports the substrate, wherein a pressing surface of the bonding tool is subjected to a roughening process. I have.

【0022】請求項4に記載された発明は、請求項3に
記載された発明において、上記電子部品の背面側は粗面
化処理されている。請求項5に記載された発明は、請求
項4に記載された発明において、上記ボンディングツー
ルの押圧面と上記電子部品の背面とはほぼ同一の表面粗
さに粗面化されている。
According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect of the present invention, the back side of the electronic component is subjected to a roughening treatment. According to a fifth aspect of the present invention, in the fourth aspect, the pressing surface of the bonding tool and the back surface of the electronic component are roughened to substantially the same surface roughness.

【0023】請求項6に記載された発明は、電子部品の
バンプ電極と基板の電極とを熱圧着するボンディング装
置において、上記電子部品のバンプ電極を上記電極上に
位置決めするマウントツールと、押圧面を有し、その押
圧面を介して上記電子部品の上記バンプ電極が形成され
ていない背面側を押圧するとともに、上記電子部品に超
音波を印加するボンディングツールと、上記基板を支持
する基板支持部とを備えるようにした。
According to a sixth aspect of the present invention, in a bonding apparatus for thermocompression bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, a mounting tool for positioning the bump electrode of the electronic component on the electrode, and a pressing surface A bonding tool that presses a back surface of the electronic component on which the bump electrodes are not formed through the pressing surface and applies ultrasonic waves to the electronic component, and a substrate supporting unit that supports the substrate And was prepared.

【0024】請求項7に記載された発明は、請求項6に
記載された発明において、上記マウントツールには、上
記電子部品の背面を負圧で吸着する吸着孔が貫通してい
るとともに、上記ボンディングツールは中実部材からな
る。
According to a seventh aspect of the present invention, in the sixth aspect of the present invention, the mounting tool has a suction hole through which a back surface of the electronic component is suctioned with a negative pressure. The bonding tool is made of a solid member.

【0025】請求項8に記載された発明は、請求項6に
記載された発明において、上記マウントツールの上記電
子部品に対する押圧面の外径寸法は、この押圧面が当接
する上記電子部品の背面側の外径寸法より大きいことと
した。
According to an eighth aspect of the present invention, in the invention according to the sixth aspect, the outer diameter of the pressing surface of the mount tool against the electronic component is such that the outer diameter of the pressing surface is in contact with the electronic component. Larger than the outer diameter of the side.

【0026】請求項9に記載された発明は、電子部品の
バンプ電極と基板の電極とを熱圧着するボンディング装
置において、押圧面を有し、その押圧面を介して上記電
子部品の上記バンプ電極が形成されていない背面側を押
圧するとともに、上記電子部品に超音波を印加するボン
ディングツールと、上記基板を支持する基板支持部と、
上記ボンディングツールに対してその押圧力を漸次又は
階段状に増加させるとともに、上記超音波の出力を漸次
又は階段状に増加させるボンディング制御部とを具備す
るようにした。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a bonding apparatus for thermocompression-bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, the bonding device having a pressing surface, and the bump electrode of the electronic component through the pressing surface. While pressing the back side where is not formed, a bonding tool that applies ultrasonic waves to the electronic component, a substrate supporting portion that supports the substrate,
A bonding controller is provided for increasing the pressing force of the bonding tool gradually or stepwise and increasing the output of the ultrasonic wave gradually or stepwise.

【0027】請求項10に記載された発明は、電子部品
のバンプ電極と基板の電極とを熱圧着するボンディング
装置において、押圧面を有し、その押圧面を介して上記
電子部品の上記バンプ電極が形成されていない背面側を
押圧するとともに、上記電子部品に超音波を印加するボ
ンディングツールと、上記電子部品を支持する電子部品
支持部と、上記ボンディングツールに対してその押圧力
を漸次又は階段状に増加させるボンディング制御部とを
備えるようにした。
According to a tenth aspect of the present invention, in a bonding apparatus for thermocompression bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, the bonding device has a pressing surface, and the bump electrode of the electronic component is provided via the pressing surface. A bonding tool that applies ultrasonic waves to the electronic component while pressing the back side on which the electronic component is not formed, an electronic component supporting portion that supports the electronic component, and gradually or stepwise presses the pressing force against the bonding tool. And a bonding control unit for increasing the number of contacts.

【0028】請求項11に記載された発明は、電子部品
のバンプ電極と基板の電極とを熱圧着するボンディング
装置において、上記基板の上記電極が形成されていない
背面側を押圧するとともに、上記基板に超音波を印加す
るボンディングツールと、上記電子部品を支持する電子
部品支持部とを備えるようにした。
According to an eleventh aspect of the present invention, there is provided a bonding apparatus for thermocompression-bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, wherein the back surface of the substrate on which the electrodes are not formed is pressed and the substrate is pressed. A bonding tool that applies ultrasonic waves to the electronic component, and an electronic component support that supports the electronic component.

【0029】請求項12に記載された発明は、請求項1
1に記載された発明において、上記ボンディングツール
の先端部には角錐型をなし、かつ、上記基板を係止する
凹部が設けられている。
The invention described in claim 12 is the first invention.
In the invention described in 1 above, a tip portion of the bonding tool has a pyramid shape, and a concave portion for locking the substrate is provided.

【0030】請求項13に記載された発明は、電子部品
のバンプ電極と基板の電極とを熱圧着するボンディング
方法において、上記電子部品を吸着孔を有するマウント
ツールにより吸着して上記電子部品のバンプ電極を上記
基板の電極上に位置決めする位置決め工程と、上記吸着
孔を有さない中実なボンディングツールにより上記電子
部品に超音波を印加しながら加圧・加熱する接合工程と
を備えるようにした。
According to a thirteenth aspect of the present invention, in a bonding method for thermocompression bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, the electronic component is sucked by a mount tool having a suction hole, and the bump of the electronic component is sucked. A positioning step of positioning an electrode on the electrode of the substrate; and a bonding step of applying pressure and heating while applying ultrasonic waves to the electronic component using a solid bonding tool having no suction hole. .

【0031】請求項14に記載された発明は、電子部品
のバンプ電極と基板の電極とを熱圧着するボンディング
方法において、上記電子部品のバンプ電極を上記基板の
電極上に位置決めする位置決め工程と、上記電子部品の
上記バンプ電極が形成されていない背面側を押圧すると
ともに、上記電子部品に超音波を印加し、かつ、加熱す
る接合工程とを備え、上記ボンディングツールは、その
押圧力を漸次又は階段状に増加させるとともに、上記超
音波の出力を漸次又は階段状に増加させるようにした。
According to a fourteenth aspect of the present invention, in the bonding method for thermocompression bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, a positioning step of positioning the bump electrode of the electronic component on the electrode of the substrate, Pressing the back side of the electronic component on which the bump electrodes are not formed, applying ultrasonic waves to the electronic component, and bonding the component, and the bonding tool gradually increases or decreases the pressing force. While increasing stepwise, the output of the ultrasonic wave is increased gradually or stepwise.

【0032】請求項15に記載された発明は、電子部品
のバンプ電極と基板の電極とを熱圧着するボンディング
方法において、上記電子部品のバンプ電極を上記基板の
電極上に位置決めする位置決め工程と、上記電子部品の
上記バンプ電極が形成されていない背面側を押圧すると
ともに、上記電子部品に超音波を印加し、かつ、加熱す
る接合工程とを備え、上記ボンディングツールによる押
圧力を漸次又は階段状に増加させるようにした。
According to a fifteenth aspect of the present invention, in the bonding method for thermocompression bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, a positioning step of positioning the bump electrode of the electronic component on the electrode of the substrate, Pressing the back side of the electronic component on which the bump electrodes are not formed, applying a supersonic wave to the electronic component, and heating, and the pressing force by the bonding tool is gradually or stepwise. Was increased.

【0033】請求項16に記載された発明は、電子部品
のバンプ電極と基板の電極とを接合するボンディング方
法において、上記電子部品の背面側を支持する支持工程
と、上記基板の上記電極の形成されていない背面側を押
圧するとともに、上記基板を介して上記電子部品に超音
波を印加する接合工程とを備えるようにした。
According to a sixteenth aspect of the present invention, in the bonding method for bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, a supporting step of supporting the back side of the electronic component, and forming the electrode on the substrate And a bonding step of applying an ultrasonic wave to the electronic component via the substrate while pressing the back side that is not performed.

【0034】上記手段を講じた結果、次のような作用が
生じる。すなわち、請求項1に記載された発明によれ
ば、ボンディングツールの押圧面の外形寸法を電子部品
の外形寸法より大きく形成されるようにしたので、接触
面積を増加させ、摩擦力を増大させることができる。こ
のため、超音波の伝達効率を圧着荷重を増大させること
なく高めることができ、良好な接合を行うことができ
る。
As a result of taking the above-described measures, the following operation occurs. That is, according to the first aspect of the present invention, since the outer dimension of the pressing surface of the bonding tool is formed to be larger than the outer dimension of the electronic component, the contact area is increased and the frictional force is increased. Can be. For this reason, the transmission efficiency of the ultrasonic wave can be increased without increasing the crimping load, and good joining can be performed.

【0035】請求項2に記載された発明によれば、ボン
ディングツールの少なくとも押圧面は電子部品の背面側
の材質よりも硬く形成されているので、ボンディングツ
ールの寿命を長くすることができる。
According to the second aspect of the present invention, at least the pressing surface of the bonding tool is formed harder than the material on the back side of the electronic component, so that the life of the bonding tool can be extended.

【0036】請求項3に記載された発明によれば、粗面
化により摩擦力を増大させることができる。このため、
超音波の伝達効率を圧着荷重を増大させることなく高め
ることができ、良好な接合を行うことができる。
According to the third aspect of the present invention, the frictional force can be increased by roughening. For this reason,
The transmission efficiency of ultrasonic waves can be increased without increasing the crimping load, and good joining can be performed.

【0037】請求項4に記載された発明によれば、電子
部品の背面側は粗面化されているので、さらに摩擦力を
増大させることができる。請求項5に記載された発明に
よれば、ボンディングツールの押圧面の表面粗さと電子
部品の背面の表面粗さとをほぼ同一としたので、さらに
摩擦力を増大させることができる。
According to the fourth aspect of the present invention, since the back side of the electronic component is roughened, the frictional force can be further increased. According to the invention described in claim 5, since the surface roughness of the pressing surface of the bonding tool and the surface roughness of the back surface of the electronic component are substantially the same, the frictional force can be further increased.

【0038】請求項6に記載された発明によれば、超音
波の伝達効率を圧着荷重を増大させることなく高めるこ
とができ、良好な接合を行うことができる。請求項7に
記載された発明によれば、ボンディングツールに吸着用
の孔が不要となるので、接触面積を増加させ、摩擦力を
増大させることができる。このため、超音波の伝達効率
を圧着荷重を増大させることなく高めることができ、さ
らに良好な接合を行うことができる。
According to the invention described in claim 6, the transmission efficiency of the ultrasonic wave can be increased without increasing the crimping load, and good joining can be performed. According to the seventh aspect of the present invention, since a hole for suction is not required in the bonding tool, the contact area can be increased, and the frictional force can be increased. For this reason, the transmission efficiency of ultrasonic waves can be increased without increasing the crimping load, and more favorable bonding can be performed.

【0039】請求項8に記載された発明によれば、接触
面積を増加させ、摩擦力を増大させることができる。こ
のため、超音波の伝達効率を圧着荷重を増大させること
なく高めることができ、良好な接合を行うことができ
る。
According to the eighth aspect of the invention, the contact area can be increased, and the frictional force can be increased. For this reason, the transmission efficiency of the ultrasonic wave can be increased without increasing the crimping load, and good joining can be performed.

【0040】請求項9に記載された発明によれば、押圧
力と超音波出力とを漸次増加するようにしているので、
バンプ電極と電極との接触面積が少ない時点から段階を
経て接合されるため、接触面の全面が良好に接合され
る。また、短時間での接合が可能となる。
According to the ninth aspect of the present invention, since the pressing force and the ultrasonic output are gradually increased,
Since the bump electrode and the electrode are joined step by step from the point where the contact area is small, the entire contact surface is favorably joined. In addition, bonding can be performed in a short time.

【0041】請求項10に記載された発明によれば、押
圧力を漸次増加するようにしているので、バンプ電極と
電極との接触面積が少ない時点から段階を経て接合され
るため、接触面の全面が良好に接合される。また、短時
間での接合が可能となる。
According to the tenth aspect of the present invention, since the pressing force is gradually increased, the bump electrode and the electrode are joined in a stepwise manner from a small contact area. The entire surface is joined well. In addition, bonding can be performed in a short time.

【0042】請求項11に記載された発明によれば、超
音波の伝達効率を圧着荷重を増大させることなく高める
ことができ、良好な接合を行うことができる。請求項1
2に記載された発明によれば、基板をボンディングツー
ルに対し係止することができるので、超音波の伝達効率
を圧着荷重を増大させることなく高めることができ、さ
らに良好な接合を行うことができる。
According to the eleventh aspect of the present invention, the transmission efficiency of the ultrasonic wave can be increased without increasing the crimping load, and good joining can be performed. Claim 1
According to the invention described in 2 above, since the substrate can be locked to the bonding tool, the transmission efficiency of the ultrasonic wave can be increased without increasing the crimping load, and more favorable bonding can be performed. it can.

【0043】請求項13に記載された発明によれば、電
子部品の背面を負圧でマウントツールを用いて吸着する
とともに、電子部品のバンプ電極を基板の電極に位置決
めする位置決め工程と、中実なボンディングツールによ
り電子部品の背面側を押圧するとともに、電子部品に超
音波を印加し、かつ、加熱する接合工程とを備えるよう
にしたので、ボンディングツールに吸着用の孔が不要と
なるので、接触面積を増加させ、摩擦力を増大させるこ
とができる。このため、超音波の伝達効率を圧着荷重を
増大させることなく高めることができ、良好な接合を行
うことができる。
According to the thirteenth aspect of the present invention, the back surface of the electronic component is suctioned at a negative pressure by using the mount tool, and the positioning step of positioning the bump electrode of the electronic component on the substrate electrode is performed. The back side of the electronic component is pressed by a simple bonding tool, and ultrasonic waves are applied to the electronic component, and a bonding step of heating is provided, so that a hole for suction is not required in the bonding tool. The contact area can be increased, and the frictional force can be increased. For this reason, the transmission efficiency of the ultrasonic wave can be increased without increasing the crimping load, and good joining can be performed.

【0044】請求項14に記載された発明によれば、電
子部品のバンプ電極を基板の電極に位置決めする位置決
め工程と、電子部品の背面側を押圧するとともに、電子
部品に超音波を印加し、かつ、加熱する接合工程とを備
え、ボンディングツールは、その押圧力を漸次又は階段
状に増加させるとともに、超音波の出力を漸次又は階段
状に増加させるようにしたので、バンプ電極と電極との
接触面積が少ない時点から段階を経て接合されるため、
接触面の全面が良好に接合される。また、短時間での接
合が可能となる。
According to the fourteenth aspect, a positioning step of positioning the bump electrode of the electronic component on the electrode of the substrate, pressing the back side of the electronic component, and applying ultrasonic waves to the electronic component, And a bonding step of heating, and the bonding tool is configured to increase the pressing force gradually or stepwise and to increase the output of the ultrasonic wave gradually or stepwise. Since it is joined through stages from the point where the contact area is small,
The entire contact surface is satisfactorily joined. In addition, bonding can be performed in a short time.

【0045】請求項15に記載された発明によれば、電
子部品のバンプ電極を基板の電極に位置決めする位置決
め工程と、電子部品の背面側を押圧するとともに、電子
部品に超音波を印加し、かつ、加熱する接合工程とを備
え、ボンディングツールは、その押圧力を漸次又は階段
状に増加させるようにしたので、バンプ電極と電極との
接触面積が少ない時点から段階を経て接合されるため、
接触面の全面が良好に接合される。また、短時間での接
合が可能となる。
According to the fifteenth aspect, a positioning step of positioning the bump electrode of the electronic component on the electrode of the substrate, pressing the back side of the electronic component and applying ultrasonic waves to the electronic component, And, comprising a bonding step of heating, the bonding tool, so as to increase the pressing force gradually or stepwise, because the bonding area through the step from the point where the contact area between the bump electrode and the electrode is small,
The entire contact surface is satisfactorily joined. In addition, bonding can be performed in a short time.

【0046】請求項16に記載された発明によれば、電
子部品の背面側を支持する支持工程と、基板の背面側を
押圧するとともに、基板に超音波を印加する接合工程と
を備えるようにしたので、超音波の伝達効率を圧着荷重
を増大させることなく高めることができ、良好な接合を
行うことができる。
According to the sixteenth aspect of the present invention, a supporting step of supporting the back side of the electronic component and a joining step of pressing the back side of the substrate and applying ultrasonic waves to the substrate are provided. Therefore, the transmission efficiency of the ultrasonic wave can be increased without increasing the crimping load, and good joining can be performed.

【0047】[0047]

【発明の実施の形態】図1は本発明の第1の実施の形態
に係るボンディング装置50を示す図である。また、図
2はボンディング装置50の要部を示す図、図3はボン
ディングツールと電子部品との接触面の拡大図を示して
いる。なお、これらの図において図8と同一機能部分に
は同一符号を付した。
FIG. 1 is a view showing a bonding apparatus 50 according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 shows a main part of the bonding apparatus 50, and FIG. 3 shows an enlarged view of a contact surface between a bonding tool and an electronic component. In these drawings, the same reference numerals are given to the same functional portions as those in FIG.

【0048】電子部品10として例えば6電極のSAW
デバイスに適用した例を以下に述べる。電子部品10の
外形サイズは1.7×1.4×0.4(mm)である。
電子部品10は、直方体状のタンタル酸リチウム(Li
TaO3 )等のセラミックス材製の部品本体11を備
え、その一方の面には厚さ0.7μmのアルミ膜により
電極12が形成されている。電極12にはバンプ13が
接合されている。なお、図中11aは部品本体11のエ
ッジ部分、11bは部品本体11の背面を示している。
As the electronic component 10, for example, a six-electrode SAW
An example applied to a device is described below. The external size of the electronic component 10 is 1.7 × 1.4 × 0.4 (mm).
The electronic component 10 is a rectangular parallelepiped lithium tantalate (Li
A component body 11 made of a ceramic material such as TaO 3 ) is provided, and on one surface thereof, an electrode 12 is formed by an aluminum film having a thickness of 0.7 μm. A bump 13 is bonded to the electrode 12. In the drawing, 11a indicates an edge portion of the component main body 11, and 11b indicates a back surface of the component main body 11.

【0049】基板20は、アルミナ(Al23 )等の
セラミックス材製の基板本体21を備え、その一方の面
には厚さ1.0μmの金めっきが電解めっき法により施
されて電極22が形成されている。なお、図中21aは
基板本体21のエッジ部分、21bは部品本体21の背
面を示している。
The substrate 20 has a substrate body 21 made of a ceramic material such as alumina (Al 2 O 3 ). One surface of the substrate main body 21 is plated with gold having a thickness of 1.0 μm by electrolytic plating to form an electrode 22. Are formed. In the figure, reference numeral 21a denotes an edge portion of the board main body 21, and 21b denotes a back surface of the component main body 21.

【0050】ボンディング装置50は、基板20を載置
する第1ステージ51と第2ステージ52とを備えてい
る。図1中60は、第1ステージ51に載置された基板
20上に電子部品10を位置決めするするマウント機構
を示している。また、図1中80は、第2ステージ52
上の基板20とこの上に位置決めされた電子部品10と
を実装するボンディング機構80とを備えている。
The bonding apparatus 50 has a first stage 51 and a second stage 52 on which the substrate 20 is placed. Reference numeral 60 in FIG. 1 indicates a mount mechanism for positioning the electronic component 10 on the substrate 20 mounted on the first stage 51. In addition, reference numeral 80 in FIG.
A bonding mechanism 80 for mounting the upper substrate 20 and the electronic component 10 positioned thereon is provided.

【0051】マウント機構60は、位置決めロボット6
1と、この位置決めロボット61の先端に設けられたマ
ウントツール62とを備えている。なお、マウントツー
ル62の先端には、吸着孔63が形成されている。
The mounting mechanism 60 includes the positioning robot 6
1 and a mounting tool 62 provided at the tip of the positioning robot 61. At the tip of the mount tool 62, a suction hole 63 is formed.

【0052】ボンディング機構80は、後述する超音波
ホーン82を図1中矢印Z方向に沿って駆動する上下動
機構81と、この上下動機構81に支持された超音波ホ
ーン82と、この超音波ホーン82に超音波を与える超
音波源83とを備えている。
The bonding mechanism 80 includes a vertically moving mechanism 81 for driving an ultrasonic horn 82 described later along the direction of arrow Z in FIG. 1, an ultrasonic horn 82 supported by the vertically moving mechanism 81, An ultrasonic source 83 for applying ultrasonic waves to the horn 82 is provided.

【0053】超音波ホーン82の先端側にはタングステ
ンカーバイトで形成された貫通孔等がない中実部材から
なるボンディングツール90が取り付けられている。ボ
ンディングツール90の先端に形成された押圧面91
は、1.8×1.5(mm)の長方形に形成されてい
る。すなわち、この押圧面91の面積は、この押圧面9
1が当接する電子部品10の背面の面積よりも十分大き
い。また、押圧面91は、図3に示すように機械加工に
よって粗面化されており、中心線平均表面粗さRaは2
0μmである。なお、電子部品10の背面11bも押圧
面91と同じ中心線表面粗さRaは20μmに粗面化処
理されている。粗面化処理するための機械加工法として
は、液体ホーニング、サンドブラスティング、グリット
ブラスティング、ショットブラスティングなどの噴射加
工が好適している。
At the tip end of the ultrasonic horn 82, a bonding tool 90 made of a solid member having no through hole or the like formed of tungsten carbide is attached. Pressing surface 91 formed at the tip of bonding tool 90
Is formed in a 1.8 × 1.5 (mm) rectangle. That is, the area of the pressing surface 91 is
1 is sufficiently larger than the area of the back surface of the electronic component 10 with which it contacts. The pressing surface 91 is roughened by machining as shown in FIG. 3, and the center line average surface roughness Ra is 2
0 μm. The back surface 11b of the electronic component 10 is also roughened to have the same center line surface roughness Ra as the pressing surface 91 of 20 μm. As a machining method for performing the surface roughening treatment, injection machining such as liquid honing, sand blasting, grit blasting, and shot blasting is suitable.

【0054】さらに、上下動機構81と超音波源83と
は、後述するような制御プログラムが予め格納されてい
るボンディング制御部84に接続されている。このよう
なボンディング装置50では、次のようにしてボンディ
ングを行う。すなわち、マウントツール61で電子部品
10の背面11bを吸着し、そのバンプ13と第1ステ
ージ51に載置された基板20の電極22の上にカメラ
を用いて位置合わせする。
Further, the vertical movement mechanism 81 and the ultrasonic source 83 are connected to a bonding control section 84 in which a control program described later is stored in advance. In such a bonding apparatus 50, bonding is performed as follows. That is, the back surface 11b of the electronic component 10 is sucked by the mount tool 61, and the bump 13 and the electrode 22 of the substrate 20 mounted on the first stage 51 are aligned using a camera.

【0055】次に基板20及び電子部品10を第2ステ
ージ52に移送する。第2ステージ52において、基板
20を200℃に加熱する。次にボンディングツール9
0を図8中矢印Z方向に駆動し、バンプ13につき後述
するような圧着荷重で加圧する。一方、超音波源83に
よって超音波ホーン82を駆動し、超音波をボンディン
グツール90に与える。超音波は電子部品10を介して
バンプ13と電極22との接合界面に印加される。
Next, the substrate 20 and the electronic component 10 are transferred to the second stage 52. In the second stage 52, the substrate 20 is heated to 200.degree. Next, the bonding tool 9
0 is driven in the direction of arrow Z in FIG. 8, and the bump 13 is pressed with a pressure load as described later. On the other hand, the ultrasonic horn 82 is driven by the ultrasonic source 83 to apply ultrasonic waves to the bonding tool 90. Ultrasonic waves are applied to the bonding interface between the bump 13 and the electrode 22 via the electronic component 10.

【0056】なお、圧着荷重と超音波の印加は、前述し
たボンディング制御部84により、図4の(a)に示す
ように制御される。すなわち、当初圧着荷重及び超音波
出力が共に零の状態から、500msの間にそれぞれ1
00gf及び2Wとなるように制御される。これによ
り、バンプ13を変形させて、圧着荷重の増加に伴って
超音波出力を増加させて接合を行う。
The application of the pressure and the application of the ultrasonic wave are controlled by the above-described bonding control unit 84 as shown in FIG. That is, from the state where both the initial crimping load and the ultrasonic output are both zero, each time during 500 ms,
It is controlled to be 00 gf and 2 W. As a result, the bumps 13 are deformed, and the bonding is performed by increasing the ultrasonic output with the increase in the crimping load.

【0057】なお、図5は接合強度の評価方法を示す図
である。すなわち、基板20を固定し、シェアツール9
0aを水平方向に動作させることでバンプ13と電極2
2との接合部を破壊し、その破壊強度を接合強度とする
ものである。評価の結果、200gf/バンプと十分な
強度が得られていることがわかった。
FIG. 5 is a diagram showing a method for evaluating the bonding strength. That is, the substrate 20 is fixed, and the share tool 9 is fixed.
0a is operated in the horizontal direction, so that the bump 13 and the electrode 2
2 is broken, and the breaking strength is used as the bonding strength. As a result of the evaluation, it was found that a sufficient strength of 200 gf / bump was obtained.

【0058】一方、バンプ13の直径は約120μmで
あり、従来の150μmに比べて大幅に小さくなった。
また、基板電極の金めっき厚が0.4μmと薄く接合性
の低い場合においても、圧着バンプ径120μmでせん
断強度140gfが得られた。
On the other hand, the diameter of the bump 13 is about 120 μm, which is much smaller than the conventional 150 μm.
In addition, even when the gold plating thickness of the substrate electrode was as thin as 0.4 μm and the bonding property was low, a shear strength of 140 gf was obtained with a pressure-bonding bump diameter of 120 μm.

【0059】上述したように本第1の実施の形態に係る
ボンディング装置50によれば、ボンディングツール9
0の押圧面91を電子部品10の背面11bより大きく
し、かつ、吸着孔を設けないようにしたので、接触面積
を増大させるとともに押圧面91と電子部品10の背面
11bを互いに粗面化することで、摩擦力を増大させ、
超音波伝達効率を向上させることができる。このため、
低い圧着荷重であっても効率よく接合を行うことがで
き、バンプ13の変形量を最小限に抑えることができ
る。すなわち、バンプ13のクラックの発生を防止でき
るとともに、バンプ13の高密度配置が可能となる。
As described above, according to the bonding apparatus 50 of the first embodiment, the bonding tool 9
Since the zero pressing surface 91 is larger than the back surface 11b of the electronic component 10 and no suction hole is provided, the contact area is increased and the pressing surface 91 and the back surface 11b of the electronic component 10 are roughened with each other. By increasing the friction force,
Ultrasonic transmission efficiency can be improved. For this reason,
The bonding can be performed efficiently even with a low pressure load, and the amount of deformation of the bump 13 can be minimized. That is, it is possible to prevent the occurrence of cracks in the bumps 13 and to arrange the bumps 13 with high density.

【0060】また、圧着荷重と超音波出力とを漸次増加
するようにしているので、バンプ13と電極22とは、
その接触面積が少ない時点から段階を経て接合されるた
め、接触面の全面が良好に接合される。また、短時間で
の接合が可能となる。
Since the pressure load and the ultrasonic output are gradually increased, the bump 13 and the electrode 22
Since the joining is performed in stages from the point where the contact area is small, the entire contact surface is favorably joined. In addition, bonding can be performed in a short time.

【0061】なお、基板電極表面の金めっきについて
は、電解めっき法にて1.0μm施した基板と、無電解
めっき法にて0.4μm施したものを使用した。かくし
て、ボンディング後、バンプつぶれ径の測定およびシェ
アテストによる接合強度の評価を行った結果、つぶれ径
は直径120μm、接合強度は140(gf/バンプ)
となった。
As for the gold plating on the surface of the substrate electrode, a substrate having a thickness of 1.0 μm by electrolytic plating and a substrate having a thickness of 0.4 μm by electroless plating were used. Thus, after bonding, the bump crushing diameter was measured and the joint strength was evaluated by a shear test. As a result, the crushing diameter was 120 μm in diameter, and the bonding strength was 140 (gf / bump).
It became.

【0062】一方、図4の(b)は、圧着荷重及び超音
波出力を5段階に分けて増加させた例を示している。こ
の場合でも図4の(a)と同様に良好な接合を行うこと
ができた。
On the other hand, FIG. 4B shows an example in which the compression load and the ultrasonic output are increased in five stages. Also in this case, good bonding could be performed similarly to FIG.

【0063】さらに、図4の(c)は、圧着荷重のみ5
段階に分けて増加させた例を示している。この場合でも
FIG.4の(a)と同様に良好な接合を行うことができ
る。図6は本発明の第2の実施の形態に係るボンディン
グ装置100を示す図である。なお、この図において図
1と同一機能部分には同一符号を付した。
Further, FIG. 4C shows that only the pressure
An example in which the number is increased in stages is shown. Even in this case
As in FIG. 4 (a), good bonding can be performed. FIG. 6 is a view showing a bonding apparatus 100 according to the second embodiment of the present invention. In this drawing, the same functional portions as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals.

【0064】電子部品10として例えば6電極のSAW
デバイスに適用した例を以下に述べる。電子部品10の
外形サイズは1.7×1.4×0.4(mm)である。
電子部品10は、直方体状のタンタル酸リチウム(Li
TaO3 )等のセラミックス材製の部品本体11を備
え、その一方の面には厚さ0.7μmのアルミ膜により
電極12が形成されている。各電極12には直径90μ
m、高さ40μmの金ボール状のバンプ13が形成され
ている。
As the electronic component 10, for example, a six-electrode SAW
An example applied to a device is described below. The external size of the electronic component 10 is 1.7 × 1.4 × 0.4 (mm).
The electronic component 10 is a rectangular parallelepiped lithium tantalate (Li
A component body 11 made of a ceramic material such as TaO 3 ) is provided, and on one surface thereof, an electrode 12 is formed by an aluminum film having a thickness of 0.7 μm. Each electrode 12 has a diameter of 90μ.
A gold ball-shaped bump 13 having a height of m and a height of 40 μm is formed.

【0065】基板20は、アルミナ(Al23 )等の
セラミックス材やガラスエポキシ樹脂等からなる基板本
体21を備え、その一方の面には厚さ1.0μmの金め
っきが電解めっき法により施されて電極22が形成され
ている。なお、基板20の外形寸法は3.0×3.0×
0.5(mm)である。
The substrate 20 is provided with a substrate body 21 made of a ceramic material such as alumina (Al 2 O 3 ) or a glass epoxy resin, and one surface thereof is plated with gold having a thickness of 1.0 μm by electrolytic plating. The electrode 22 is formed. The external dimensions of the substrate 20 are 3.0 × 3.0 ×
0.5 (mm).

【0066】ボンディング装置100は、ボンディング
ツール101を備えている。ボンディングツール101
の先端部102は角錐状の凹部103が形成されてお
り、基板20のエッジ部21aを係止することができ
る。また、先端部102の中央には吸着孔104が形成
されている。吸着孔104は図示しないチューブを介し
て減圧機構(不図示)に接続されている。また、図6中
106は、ボンディングツール101は、図示せぬ駆動
源により、このボンディングツールが取り付けられてい
る超音波ホーン82を介して、図6中矢印Z方向への圧
着荷重と超音波が付与されている。
The bonding apparatus 100 has a bonding tool 101. Bonding tool 101
Is formed with a pyramid-shaped concave portion 103 so that the edge portion 21 a of the substrate 20 can be locked. Further, a suction hole 104 is formed at the center of the distal end portion 102. The suction hole 104 is connected to a pressure reducing mechanism (not shown) via a tube (not shown). In FIG. 6, reference numeral 106 denotes a bonding tool which is driven by a driving source (not shown) through the ultrasonic horn 82 to which the bonding tool is attached, in which a pressing load and ultrasonic waves in the Z direction shown in FIG. Has been granted.

【0067】一方、図6中110は、部品支持ステージ
を示しており、ステージ本体111と、電子部品10の
側面を押圧するプレート112とを備えている。このよ
うなボンディング装置100では、次のようにしてボン
ディングを行う。すなわち、ボンディングツール101
で基板20の背面21bを吸引し、基板20の電極22
をバンプ13上に位置合わせする。
On the other hand, reference numeral 110 in FIG. 6 denotes a component supporting stage, which includes a stage main body 111 and a plate 112 for pressing the side surface of the electronic component 10. In such a bonding apparatus 100, bonding is performed as follows. That is, the bonding tool 101
Sucks the back surface 21b of the substrate 20 with the
Is positioned on the bump 13.

【0068】一方、部品支持ステージ110において、
電子部品10を200℃に加熱する。次にボンディング
ツール101を図6中矢印Z方向に駆動し、加圧を開始
する。圧着荷重が100gfに達したと同時に、60k
Hz前後の超音波を出力0.5Wかつ100msでバン
プ13と電極22との接合界面に印加する。その後、ボ
ンディングツール101の基板20の吸着を解除し、ボ
ンディングツール101を上方に引き上げボンディング
を完了する。
On the other hand, in the component support stage 110,
The electronic component 10 is heated to 200 ° C. Next, the bonding tool 101 is driven in the direction of arrow Z in FIG. 6 to start pressing. At the same time when the crimping load reaches 100 gf,
An ultrasonic wave of about Hz is applied to the bonding interface between the bump 13 and the electrode 22 at an output of 0.5 W and 100 ms. Thereafter, the suction of the substrate 20 by the bonding tool 101 is released, and the bonding tool 101 is pulled up to complete the bonding.

【0069】接合の結果、バンプ13の直径は約120
μm、せん断強度は140gfとなり、良好な接合を行
うことができた。また、短時間で良好な接合が行えた。
なお、基板20のエッジ部分21aにもボンディングに
よる機械的ダメージは特に発生していない。
As a result of the joining, the diameter of the bump 13 is about 120
μm, the shear strength was 140 gf, and good joining could be performed. In addition, good bonding was performed in a short time.
It should be noted that mechanical damage due to bonding is not particularly generated on the edge portion 21a of the substrate 20.

【0070】上述したように本第2の実施の形態に係る
ボンディング装置100によれば、ボンディングツール
から接合界面に高い効率で超音波が伝達されるため、短
時間で良好な接合を得ることができる。
As described above, according to the bonding apparatus 100 according to the second embodiment, since ultrasonic waves are transmitted from the bonding tool to the bonding interface with high efficiency, it is possible to obtain good bonding in a short time. it can.

【0071】なお、本発明は上記実施の形態に限定され
るものではない。すなわち、上述した実施の形態では、
ボンディングツールの材質としてタングステンカーバイ
ドを用いているが、チタンカーバイドやダイヤモンド、
ステンレス、ジルコニア等のの他の材質のものを用いて
もよい。また、電子部品としてSAWデバイスへの適用
を示したが、半導体デバイスへも同様に適用することが
できる。バンプに関してはめっきバンプでもよい。本発
明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能であるの
は勿論である。
The present invention is not limited to the above embodiment. That is, in the above-described embodiment,
Although tungsten carbide is used as the material for the bonding tool, titanium carbide, diamond,
Other materials such as stainless steel and zirconia may be used. In addition, although application to a SAW device has been described as an electronic component, the invention can be similarly applied to a semiconductor device. The bumps may be plated bumps. Of course, various modifications can be made without departing from the spirit of the present invention.

【0072】[0072]

【発明の効果】上記手段を講じた結果、次のような作用
が生じる。すなわち、請求項1に記載された発明によれ
ば、ボンディングツールの押圧面の外形寸法を電子部品
の外形寸法より大きく形成されるようにしたので、接触
面積を増加させ、摩擦力を増大させることができる。こ
のため、超音波の伝達効率を圧着荷重を増大させること
なく高めることができ、良好な接合を行うことができ
る。
As a result of taking the above-described measures, the following effects are produced. That is, according to the first aspect of the present invention, since the outer dimension of the pressing surface of the bonding tool is formed to be larger than the outer dimension of the electronic component, the contact area is increased and the frictional force is increased. Can be. For this reason, the transmission efficiency of the ultrasonic wave can be increased without increasing the crimping load, and good joining can be performed.

【0073】請求項2に記載された発明によれば、ボン
ディングツールの少なくとも押圧面は電子部品の背面側
の材質よりも硬く形成されているので、ボンディングツ
ールの寿命を長くすることができる。
According to the second aspect of the present invention, at least the pressing surface of the bonding tool is formed harder than the material on the back side of the electronic component, so that the life of the bonding tool can be extended.

【0074】請求項3に記載された発明によれば、粗面
化により摩擦力を増大させることができる。このため、
超音波の伝達効率を圧着荷重を増大させることなく高め
ることができ、良好な接合を行うことができる。
According to the third aspect of the invention, the frictional force can be increased by roughening. For this reason,
The transmission efficiency of ultrasonic waves can be increased without increasing the crimping load, and good joining can be performed.

【0075】請求項4に記載された発明によれば、電子
部品の背面側は粗面化されているので、さらに摩擦力を
増大させることができる。請求項5に記載された発明に
よれば、ボンディングツールの押圧面の表面粗さと電子
部品の背面の表面粗さとをほぼ同一としたので、さらに
摩擦力を増大させることができる。
According to the fourth aspect of the present invention, since the back surface of the electronic component is roughened, the frictional force can be further increased. According to the invention described in claim 5, since the surface roughness of the pressing surface of the bonding tool and the surface roughness of the back surface of the electronic component are substantially the same, the frictional force can be further increased.

【0076】請求項6に記載された発明によれば、超音
波の伝達効率を圧着荷重を増大させることなく高めるこ
とができ、良好な接合を行うことができる。請求項7に
記載された発明によれば、ボンディングツールに吸着用
の孔が不要となるので、接触面積を増加させ、摩擦力を
増大させることができる。このため、超音波の伝達効率
を圧着荷重を増大させることなく高めることができ、さ
らに良好な接合を行うことができる。
According to the invention as set forth in claim 6, the transmission efficiency of the ultrasonic wave can be increased without increasing the crimping load, and good joining can be performed. According to the seventh aspect of the present invention, since a hole for suction is not required in the bonding tool, the contact area can be increased, and the frictional force can be increased. For this reason, the transmission efficiency of ultrasonic waves can be increased without increasing the crimping load, and more favorable bonding can be performed.

【0077】請求項8に記載された発明によれば、接触
面積を増加させ、摩擦力を増大させることができる。こ
のため、超音波の伝達効率を圧着荷重を増大させること
なく高めることができ、良好な接合を行うことができ
る。
According to the invention described in claim 8, the contact area can be increased and the frictional force can be increased. For this reason, the transmission efficiency of the ultrasonic wave can be increased without increasing the crimping load, and good joining can be performed.

【0078】請求項9に記載された発明によれば、押圧
力と超音波出力とを漸次増加するようにしているので、
バンプ電極と電極との接触面積が少ない時点から段階を
経て接合されるため、接触面の全面が良好に接合され
る。また、短時間での接合が可能となる。
According to the ninth aspect of the present invention, since the pressing force and the ultrasonic output are gradually increased,
Since the bump electrode and the electrode are joined step by step from the point where the contact area is small, the entire contact surface is favorably joined. In addition, bonding can be performed in a short time.

【0079】請求項10に記載された発明によれば、押
圧力を漸次増加するようにしているので、バンプ電極と
電極との接触面積が少ない時点から段階を経て接合され
るため、接触面の全面が良好に接合される。また、短時
間での接合が可能となる。
According to the tenth aspect of the present invention, since the pressing force is gradually increased, the bump electrode and the electrode are joined in a step-by-step manner from a small contact area. The entire surface is joined well. In addition, bonding can be performed in a short time.

【0080】請求項11に記載された発明によれば、超
音波の伝達効率を圧着荷重を増大させることなく高める
ことができ、良好な接合を行うことができる。請求項1
2に記載された発明によれば、基板をボンディングツー
ルに対し係止することができるので、超音波の伝達効率
を圧着荷重を増大させることなく高めることができ、さ
らに良好な接合を行うことができる。
According to the eleventh aspect, the transmission efficiency of the ultrasonic wave can be increased without increasing the crimping load, and good joining can be performed. Claim 1
According to the invention described in 2 above, since the substrate can be locked to the bonding tool, the transmission efficiency of the ultrasonic wave can be increased without increasing the crimping load, and more favorable bonding can be performed. it can.

【0081】請求項13に記載された発明によれば、電
子部品の背面を負圧でマウントツールを用いて吸着する
とともに、電子部品のバンプ電極を基板の電極に位置決
めする位置決め工程と、中実なボンディングツールによ
り電子部品の背面側を押圧するとともに、電子部品に超
音波を印加し、かつ、加熱する接合工程とを備えるよう
にしたので、ボンディングツールに吸着用の孔が不要と
なるので、接触面積を増加させ、摩擦力を増大させるこ
とができる。このため、超音波の伝達効率を圧着荷重を
増大させることなく高めることができ、良好な接合を行
うことができる。
According to the thirteenth aspect of the present invention, the back surface of the electronic component is sucked at a negative pressure by using the mount tool, and the positioning step of positioning the bump electrode of the electronic component on the electrode of the substrate is performed. The back side of the electronic component is pressed by a simple bonding tool, and ultrasonic waves are applied to the electronic component, and a bonding step of heating is provided, so that a hole for suction is not required in the bonding tool. The contact area can be increased, and the frictional force can be increased. For this reason, the transmission efficiency of the ultrasonic wave can be increased without increasing the crimping load, and good joining can be performed.

【0082】請求項14に記載された発明によれば、電
子部品のバンプ電極を基板の電極に位置決めする位置決
め工程と、電子部品の背面側を押圧するとともに、電子
部品に超音波を印加し、かつ、加熱する接合工程とを備
え、ボンディングツールは、その押圧力を漸次又は階段
状に増加させるとともに、超音波の出力を漸次又は階段
状に増加させるようにしたので、バンプ電極と電極との
接触面積が少ない時点から段階を経て接合されるため、
接触面の全面が良好に接合される。また、短時間での接
合が可能となる。
According to the fourteenth aspect of the present invention, a positioning step of positioning the bump electrode of the electronic component on the electrode of the substrate, pressing the back side of the electronic component, and applying ultrasonic waves to the electronic component, And a bonding step of heating, and the bonding tool is configured to increase the pressing force gradually or stepwise and to increase the output of the ultrasonic wave gradually or stepwise. Since it is joined through stages from the point where the contact area is small,
The entire contact surface is satisfactorily joined. In addition, bonding can be performed in a short time.

【0083】請求項15に記載された発明によれば、電
子部品のバンプ電極を基板の電極に位置決めする位置決
め工程と、電子部品の背面側を押圧するとともに、電子
部品に超音波を印加し、かつ、加熱する接合工程とを備
え、ボンディングツールは、その押圧力を漸次又は階段
状に増加させるようにしたので、バンプ電極と電極との
接触面積が少ない時点から段階を経て接合されるため、
接触面の全面が良好に接合される。また、短時間での接
合が可能となる。
According to the fifteenth aspect, a positioning step of positioning the bump electrode of the electronic component on the electrode of the substrate, pressing the back side of the electronic component, and applying ultrasonic waves to the electronic component, And, comprising a bonding step of heating, the bonding tool, so as to increase the pressing force gradually or stepwise, because the bonding area through the step from the point where the contact area between the bump electrode and the electrode is small,
The entire contact surface is satisfactorily joined. In addition, bonding can be performed in a short time.

【0084】請求項16に記載された発明によれば、電
子部品の背面側を支持する支持工程と、基板の背面側を
押圧するとともに、基板に超音波を印加する接合工程と
を備えるようにしたので、超音波の伝達効率を圧着荷重
を増大させることなく高めることができ、良好な接合を
行うことができる。
According to the sixteenth aspect of the present invention, there is provided a supporting step of supporting the back side of the electronic component, and a joining step of pressing the back side of the substrate and applying ultrasonic waves to the substrate. Therefore, the transmission efficiency of the ultrasonic wave can be increased without increasing the crimping load, and good joining can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施の形態に係るボンディング
装置を示す図。
FIG. 1 is a view showing a bonding apparatus according to a first embodiment of the present invention.

【図2】同ボンディング装置の要部を示す図。FIG. 2 is a diagram showing a main part of the bonding apparatus.

【図3】同ボンディング装置に組込まれたボンディング
ツールと電子部品との接触面を示す断面図。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a contact surface between a bonding tool incorporated in the bonding apparatus and an electronic component.

【図4】同ボンディング装置における圧着荷重と超音波
出力との関係を示すグラフ。
FIG. 4 is a graph showing a relationship between a pressing load and an ultrasonic output in the bonding apparatus.

【図5】接合強度評価方法を示す図。FIG. 5 is a diagram showing a bonding strength evaluation method.

【図6】本発明の第2の実施の形態に係るボンディング
装置を示す図。
FIG. 6 is a view showing a bonding apparatus according to a second embodiment of the present invention.

【図7】バンプ形成方法を示す図。FIG. 7 is a view showing a bump forming method.

【図8】従来のボンディング方法を示す図。FIG. 8 is a diagram showing a conventional bonding method.

【図9】従来のボンディング方法における圧着荷重と超
音波出力との関係を示すグラフ。
FIG. 9 is a graph showing a relationship between a compression load and an ultrasonic output in a conventional bonding method.

【図10】角錐状の凹部を有するボンディングツールを
示す図。
FIG. 10 is a diagram showing a bonding tool having a pyramid-shaped concave portion.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…電子部品 13…バンプ 20…基板 22…電極 50,100…ボンディング装置 90,101…ボンディングツール DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Electronic component 13 ... Bump 20 ... Substrate 22 ... Electrode 50, 100 ... Bonding apparatus 90, 101 ... Bonding tool

Claims (16)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】電子部品のバンプ電極と基板の電極とを熱
圧着するボンディング装置において、 押圧面を有し、その押圧面を介して上記電子部品の上記
バンプ電極が形成されていない背面側を押圧するととも
に、上記電子部品に超音波を印加するボンディングツー
ルと、 上記基板を支持する基板支持部とを備え、 上記ボンディングツールの上記押圧面の少なくとも上記
電子部品に当接する面積が上記電子部品の背面側の面積
より大きく形成されていることを特徴とするボンディン
グ装置。
1. A bonding apparatus for thermocompression bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, the bonding device having a pressing surface, and a back surface of the electronic component where the bump electrode is not formed is formed via the pressing surface. A bonding tool for applying ultrasonic waves to the electronic component while pressing, and a substrate supporting portion for supporting the substrate, wherein at least an area of the pressing surface of the bonding tool in contact with the electronic component has an area of the electronic component. A bonding apparatus characterized in that the bonding apparatus is formed to be larger than the area on the back side.
【請求項2】上記ボンディングツールの少なくとも押圧
面は上記電子部品の背面側の材質よりも硬く形成されて
いることを特徴とする請求項1に記載のボンディング装
置。
2. The bonding apparatus according to claim 1, wherein at least a pressing surface of the bonding tool is formed harder than a material on a back side of the electronic component.
【請求項3】電子部品のバンプ電極と基板の電極とを熱
圧着するボンディング装置において、 押圧面を有し、その押圧面を介して上記電子部品の上記
バンプ電極が形成されていない背面側を押圧するととも
に、上記電子部品に超音波を印加するボンディングツー
ルと、 上記基板を支持する基板支持部とを備え、 上記ボンディングツールの押圧面は粗面化処理されてい
ることを特徴とするボンディング装置。
3. A bonding apparatus for thermocompression bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, wherein the bonding device has a pressing surface, and a back surface of the electronic component where the bump electrode is not formed is formed via the pressing surface. A bonding tool that presses and applies ultrasonic waves to the electronic component; and a substrate support that supports the substrate, wherein a pressing surface of the bonding tool is roughened. .
【請求項4】上記電子部品の背面側は粗面化処理されて
いることを特徴とする請求項3に記載のボンディング装
置。
4. The bonding apparatus according to claim 3, wherein the back side of the electronic component is subjected to a roughening treatment.
【請求項5】上記ボンディングツールの押圧面と上記電
子部品の背面とはほぼ同一の表面粗さに粗面化処理され
ていることを特徴とする請求項4に記載のボンディング
装置。
5. The bonding apparatus according to claim 4, wherein the pressing surface of the bonding tool and the back surface of the electronic component are roughened to have substantially the same surface roughness.
【請求項6】電子部品のバンプ電極と基板の電極とを熱
圧着するボンディング装置において、 上記電子部品のバンプ電極を上記電極上に位置決めする
マウントツールと、 押圧面を有し、その押圧面を介して上記電子部品の上記
バンプ電極が形成されていない背面側を押圧するととも
に、上記電子部品に超音波を印加するボンディングツー
ルと、 上記基板を支持する基板支持部とを備えていることを特
徴とするボンディング装置。
6. A bonding apparatus for thermocompression bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, comprising: a mounting tool for positioning the bump electrode of the electronic component on the electrode; and a pressing surface, wherein the pressing surface is provided. And a pressing tool for pressing the back surface of the electronic component on which the bump electrode is not formed, and applying a ultrasonic wave to the electronic component; and a substrate supporting portion for supporting the substrate. Bonding equipment.
【請求項7】上記マウントツールには、上記電子部品の
背面を負圧で吸着する吸着孔が貫通しているとともに、
上記ボンディングツールは中実部材からなることを特徴
とする請求項6に記載のボンディング装置。
7. A mounting tool, wherein a suction hole for suctioning the back surface of the electronic component with a negative pressure penetrates, and
The bonding apparatus according to claim 6, wherein the bonding tool is made of a solid member.
【請求項8】上記マウントツールの上記電子部品に対す
る押圧面の外径寸法は、この押圧面が当接する上記電子
部品の背面側の外径寸法より大きいことを特徴とする請
求項6に記載のボンディング装置。
8. The electronic device according to claim 6, wherein the outer diameter of the pressing surface of the mounting tool against the electronic component is larger than the outer diameter of the back surface of the electronic component with which the pressing surface contacts. Bonding equipment.
【請求項9】電子部品のバンプ電極と基板の電極とを熱
圧着するボンディング装置において、 押圧面を有し、その押圧面を介して上記電子部品の上記
バンプ電極が形成されていない背面側を押圧するととも
に、上記電子部品に超音波を印加するボンディングツー
ルと、 上記基板を支持する基板支持部と、 上記ボンディングツールに対してその押圧力を漸次又は
階段状に増加させるとともに、上記超音波の出力を漸次
又は階段状に増加させるボンディング制御部とを具備す
ることを特徴とするボンディング装置。
9. A bonding apparatus for thermocompression bonding between a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, the bonding device having a pressing surface, and a back surface of the electronic component where the bump electrode is not formed is formed via the pressing surface. While pressing, a bonding tool that applies ultrasonic waves to the electronic component, a substrate supporting portion that supports the substrate, and a pressing force that gradually or stepwise increases the bonding tool with respect to the bonding tool. A bonding controller for increasing the output gradually or stepwise.
【請求項10】電子部品のバンプ電極と基板の電極とを
熱圧着するボンディング装置において、 押圧面を有し、その押圧面を介して上記電子部品の上記
バンプ電極が形成されていない背面側を押圧するととも
に、上記電子部品に超音波を印加するボンディングツー
ルと、 上記電子部品を支持する電子部品支持部と、 上記ボンディングツールに対してその押圧力を漸次又は
階段状に増加させるボンディング制御部とを備えている
ことを特徴とするボンディング装置。
10. A bonding apparatus for thermocompression bonding between a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, the bonding device having a pressing surface, and the back surface of the electronic component where the bump electrode is not formed is formed via the pressing surface. Pressing, a bonding tool that applies ultrasonic waves to the electronic component, an electronic component supporter that supports the electronic component, and a bonding controller that gradually or stepwise increases the pressing force on the bonding tool. A bonding apparatus comprising:
【請求項11】電子部品のバンプ電極と基板の電極とを
熱圧着するボンディング装置において、 上記基板の上記電極が形成されていない背面側を押圧す
るとともに、上記基板に超音波を印加するボンディング
ツールと、 上記電子部品を支持する電子部品支持部とを備えている
ことを特徴とするボンディング装置。
11. A bonding apparatus for thermocompression bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, wherein the bonding tool presses a back side of the substrate on which the electrodes are not formed and applies ultrasonic waves to the substrate. A bonding device comprising: an electronic component support portion that supports the electronic component.
【請求項12】上記ボンディングツールの先端部には角
錐型をなし、かつ、上記基板を係止する凹部が設けられ
ていることを特徴とする請求項11に記載のボンディン
グ装置。
12. The bonding apparatus according to claim 11, wherein a tip portion of the bonding tool has a pyramid shape and a concave portion for locking the substrate is provided.
【請求項13】電子部品のバンプ電極と基板の電極とを
熱圧着するボンディング方法において、 上記電子部品を吸着孔を有するマウントツールにより吸
着して上記電子部品のバンプ電極を上記基板の電極上に
位置決めする位置決め工程と、 上記吸着孔を有さない中実なボンディングツールにより
上記電子部品に超音波を印加しながら加圧・加熱する接
合工程とを備えていることを特徴とするボンディング方
法。
13. A bonding method for thermocompression bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, wherein the electronic component is sucked by a mount tool having a suction hole so that the bump electrode of the electronic component is placed on the electrode of the substrate. A bonding method, comprising: a positioning step of positioning; and a bonding step of applying pressure and heating while applying ultrasonic waves to the electronic component using a solid bonding tool having no suction hole.
【請求項14】電子部品のバンプ電極と基板の電極とを
熱圧着するボンディング方法において、 上記電子部品のバンプ電極を上記基板の電極上に位置決
めする位置決め工程と、 上記電子部品の上記バンプ電極が形成されていない背面
側を押圧するとともに、上記電子部品に超音波を印加
し、かつ、加熱する接合工程とを備え、 上記ボンディングツールは、その押圧力を漸次又は階段
状に増加させるとともに、上記超音波の出力を漸次又は
階段状に増加させることを特徴とするボンディング方
法。
14. A bonding method for thermocompression bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, wherein: a positioning step of positioning the bump electrode of the electronic component on the electrode of the substrate; Pressing the back side not formed, applying ultrasonic waves to the electronic component, and heating, the bonding tool increases the pressing force gradually or stepwise, and A bonding method characterized by gradually or stepwise increasing the output of ultrasonic waves.
【請求項15】電子部品のバンプ電極と基板の電極とを
熱圧着するボンディング方法において、 上記電子部品のバンプ電極を上記基板の電極上に位置決
めする位置決め工程と、 上記電子部品の上記バンプ電極が形成されていない背面
側を押圧するとともに、上記電子部品に超音波を印加
し、かつ、加熱する接合工程とを備え、 上記ボンディングツールによる押圧力を漸次又は階段状
に増加させることを特徴とするボンディング方法。
15. A bonding method for thermocompression bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, wherein: a positioning step of positioning the bump electrode of the electronic component on an electrode of the substrate; A pressing step of pressing the back side not formed, applying ultrasonic waves to the electronic component, and heating, and gradually increasing a pressing force by the bonding tool in a stepwise manner. Bonding method.
【請求項16】電子部品のバンプ電極と基板の電極とを
接合するボンディング方法において、 上記電子部品の背面側を支持する支持工程と、 上記基板の上記電極の形成されていない背面側を押圧す
るとともに、上記基板を介して上記電子部品に超音波を
印加する接合工程とを備えていることを特徴とするボン
ディング方法。
16. A bonding method for bonding a bump electrode of an electronic component and an electrode of a substrate, wherein a supporting step of supporting a rear surface of the electronic component, and pressing a rear surface of the substrate where the electrodes are not formed. A bonding step of applying ultrasonic waves to the electronic component via the substrate.
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