JPH1167946A - Metallic lid board for electronic component package, metallic lid and manufacture thereof - Google Patents

Metallic lid board for electronic component package, metallic lid and manufacture thereof

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JPH1167946A
JPH1167946A JP24198297A JP24198297A JPH1167946A JP H1167946 A JPH1167946 A JP H1167946A JP 24198297 A JP24198297 A JP 24198297A JP 24198297 A JP24198297 A JP 24198297A JP H1167946 A JPH1167946 A JP H1167946A
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lid
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sealing
wet
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide at low cost a metallic lid board which does not have the wet spread of solder to the inside of a solder-sealing part and a metallic lid. SOLUTION: A lid board 1 consists of a clad plate material, which is formed of a 42 alloy layer 2 and a Cu layer 3, and the Cu layer 3 is formed into a structure, wherein a region W, which constitutes a solder-sealing part, located on a site closer to the outer periphery of the layer 2, is retained and regions which are adjacent to this region W of the Cu layer 3 are removed to constitute the Cu layer 3. The layer 3 is removed from the clad plate material constituting the lid board 1 by etching the region W retained. A lid is formed by forming solder for sealing on the layer 3.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品パッケー
ジ用金属製リッド基板、金属製リッド及びその製造方法
に関し、詳しくは、水晶振動子、SAWフィルタ、トラ
ンジスタ、IC等の電子部品を封止するパッケージに用
いられる金属製リッド基板(以下、リッド基板若しくは
単に基板ともいう)、金属製リッド(以下、単にリッド
ともいう)及びその製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a metal lid substrate for an electronic component package, a metal lid and a method of manufacturing the same, and more particularly, to sealing electronic components such as a crystal unit, a SAW filter, a transistor, and an IC. The present invention relates to a metal lid substrate (hereinafter, also referred to as a lid substrate or simply a substrate) used for a package, a metal lid (hereinafter, also simply referred to as a lid), and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】この種の金属製リッドとしては、Fe−
Ni系合金(42アロイやFe−Ni−Co合金など)
からなる金属基板に、Ni(ニッケル)メッキを施した
ものがよく知られている。このリッドを用いてシームウ
エルド法で封止する場合には、これをパッケージ本体の
封止面(リッド当接面)に形成されたウエルドリングの
上に被せ、抵抗溶接により1個づつ封止されるが、その
難点は一度に多量のものを処理できない点である。
2. Description of the Related Art As a metal lid of this kind, Fe-
Ni-based alloy (42 alloy, Fe-Ni-Co alloy, etc.)
It is well known that a metal substrate made of is plated with Ni (nickel). In the case of sealing by a seam welding method using this lid, this is put on a weld ring formed on the sealing surface (lid contact surface) of the package body and sealed one by one by resistance welding. However, the drawback is that large quantities cannot be processed at once.

【0003】一方、このリッドとパッケージ本体との間
にハンダのプリフォームを挟み込ませてリフローして封
止する方法では、リフロー炉を通すことで封止できる点
で量産性に優れるが、リッドを被せるにあたりプリフォ
ームをセットする必要があることから作業性に難があ
る。また、プリフォーム自体が高価であるため、封止コ
ストの上昇を招いてしまう。さらに、リッドの封止面側
の全面がハンダに濡れ易いために、リフロー時の溶融ハ
ンダがハンダ封止部から封止面側の内側(又は外側)に
濡れて広がり易い。このため、封止のためのハンダが少
なくなって気密性が低下したり、その一部がボンディン
グワイヤに接したり、ICなどの電子部品上に垂れおち
るなどの重大な欠陥が発生し易いといった問題があっ
た。
[0003] On the other hand, the method in which a solder preform is sandwiched between the lid and the package body to perform reflow sealing is excellent in mass productivity in that it can be sealed by passing through a reflow furnace. Workability is difficult because it is necessary to set a preform when putting it on. In addition, since the preform itself is expensive, the sealing cost is increased. Further, since the entire surface of the lid on the sealing surface side is easily wetted by the solder, the molten solder at the time of reflow is easily spread from the solder sealing portion to the inside (or the outside) on the sealing surface side. For this reason, there is a problem that the solder for sealing is reduced and airtightness is reduced, a part of the solder is in contact with a bonding wire, and serious defects such as dripping on an electronic component such as an IC are likely to occur. was there.

【0004】こうした問題を解決したリッドとして、特
開平4−96256号公報記載のものがある。そして、
この公報中には、リッド基板の封止面に形成されたNi
層のうち、ハンダ封止部をなす外周寄り部位(以下、ハ
ンダ封止部ともいう)にアルミ板でマスクを掛けてお
き、YAGレーザーを照射して同ハンダ封止部以外の部
位を酸化させて表面を荒らし、その部位のハンダの濡れ
性をハンダ封止部のそれより低下させるようにした技術
が開示されている。すなわち、このものでは、ハンダ封
止部に包囲される内側の面をハンダ封止部の面よりハン
ダの濡れ性を低くして、封止時におけるハンダの濡れ広
がりを防止することにより、前記の問題を生じないよう
にしたものである。
As a lid which solves such a problem, there is one disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-96256. And
In this publication, the Ni substrate formed on the sealing surface of the lid substrate
Of the layers, a portion near the outer periphery forming the solder sealing portion (hereinafter also referred to as a solder sealing portion) is masked with an aluminum plate, and a portion other than the solder sealing portion is oxidized by irradiation with a YAG laser. There has been disclosed a technique in which the surface is roughened to lower the wettability of the solder at that portion than that of the solder sealing portion. That is, in this device, the inner surface surrounded by the solder sealing portion has a lower wettability of the solder than the surface of the solder sealing portion, thereby preventing the solder from spreading and spreading at the time of sealing. This is to avoid any problems.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】特開平4−96256
号公報記載の上記リッドでは、一度に多量に封止処理が
できる上に、ハンダ封止部に包囲される内側の面を酸化
させてハンダの濡れ性を低下させてあるために、封止時
におけるハンダの濡れ広がりも防止される。しかし、上
記リッドでは、ハンダの濡れ性を低下させる酸化をレー
ザーの照射で行わせるものであるため、その工程が面倒
であり、コストが高くなるといった問題があった。
Problems to be Solved by the Invention
In the lid described in the above publication, a large amount of sealing treatment can be performed at one time, and since the inside surface surrounded by the solder sealing portion is oxidized to reduce the wettability of the solder, The spread of the wet solder is also prevented. However, in the above-mentioned lid, since oxidation for reducing the wettability of the solder is performed by laser irradiation, there is a problem that the process is troublesome and the cost increases.

【0006】本発明は、かかる問題点に鑑みて案出した
ものであって、封止用ハンダがハンダ封止部から封止面
の内側などに濡れ広がることを防止できるだけでなく、
低コストで効率よく製造できる金属製リッド基板、金属
製リッド及びこのような金属製リッドの製法を提供する
ことを目的とする。
The present invention has been devised in view of the above problems, and not only prevents the solder for sealing from spreading from the solder sealing portion to the inside of the sealing surface and the like,
An object of the present invention is to provide a metal lid substrate, a metal lid, and a method for manufacturing such a metal lid that can be efficiently manufactured at low cost.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明にかかる電子部品パッケージ用金属製リッド
基板は、ハンダが濡れ難い金属層とハンダが濡れ易い金
属層とのクラッド板材からなり、ハンダが濡れ易い金属
層は、ハンダ封止部をなす外周寄り部位の領域を残し、
該領域に隣接する領域が除去されてなることを特徴とす
る。
In order to achieve the above object, a metal lid substrate for an electronic component package according to the present invention comprises a clad plate material of a metal layer to which solder is hardly wet and a metal layer to which solder is easily wet. , The metal layer where the solder is easily wetted leaves an area near the outer periphery forming a solder sealing portion,
A region adjacent to the region is removed.

【0008】ここで、ハンダが濡れ難い金属層は、鉄ニ
ッケル系合金(Fe−Ni−Co系合金、42アロイな
ど、鉄とニッケルを主成分に含む合金)が、セラミック
パッケージを封止する際にはセラミックと熱膨張係数が
近似しており好ましいものとして例示されるが、パッケ
ージ本体の材質に応じて選択すればよい。そして、ハン
ダが濡れ易い金属層は、銅や銅合金が低コストであり好
ましいものとして例示される。すなわち、クラッド板材
は、母材がFe−Ni系合金(Fe−Ni−Co合金や
42アロイなど)で、クラッド材がCu(銅)からなる
クラッド板材を用いるのが好ましい。
[0008] Here, the metal layer to which the solder is difficult to wet is formed by an iron-nickel alloy (an alloy containing iron and nickel as main components, such as a Fe-Ni-Co alloy, 42 alloy) when sealing the ceramic package. Is similar to ceramic and has a coefficient of thermal expansion similar to that described above, and is preferably exemplified, but may be selected according to the material of the package body. As the metal layer to which the solder is easily wetted, copper or a copper alloy is exemplified as being preferable because of its low cost. That is, it is preferable to use a clad plate material whose base material is an Fe-Ni-based alloy (Fe-Ni-Co alloy or 42 alloy) and whose clad material is Cu (copper).

【0009】ここで、「ハンダ封止部」とは、封止用ハ
ンダの形成される面ないし封止のためのハンダに濡れる
面をいう。そして、外周寄り部位に隣接する領域は、同
部位に包囲される内側だけでなくその外側であってもよ
い。上記手段において、ハンダが濡れ易い金属層は、ハ
ンダ封止部をなす外周寄り部位の領域以外のすべてが除
去されていてもよいが、ハンダ封止部をなす外周寄り部
位の領域を残し、該領域に隣接して沿う所定の幅の部位
だけ除去されていてもよい。これは、ハンダが濡れ易い
金属層は、溶融ハンダの内側への濡れ広がりを防止でき
るように除去されていればよく、ハンダ封止部をなす外
周寄り部位の領域に包囲された内側の全面でなくともよ
いためである。
Here, the "solder sealing portion" means a surface on which the sealing solder is formed or a surface which is wetted by the solder for sealing. The region adjacent to the portion closer to the outer periphery may be not only the inside surrounded by the portion but also the outside. In the above-described means, the metal layer on which the solder is easily wetted may be entirely removed except for the region of the outer peripheral portion forming the solder sealing portion, but the region of the outer peripheral portion forming the solder sealing portion is left, Only a portion having a predetermined width adjacent to the region may be removed. This is because the metal layer to which the solder is easily wetted may be removed so as to prevent the spread of the molten solder to the inside, and the entire inner surface surrounded by the region near the outer periphery forming the solder sealing portion. This is because it is not necessary.

【0010】また、このような金属製リッド基板であっ
てハンダ封止部をなす外周寄り部位のハンダが濡れ易い
金属層上に封止用ハンダが形成されている金属製リッド
によれば、パッケージ本体に被せて封止する際に、いち
いちハンダプリフォームをセットすることを要しない。
そしてリッドのハンダ封止部の内側にハンダが濡れ広が
らず、したがって気密性が低下したり、その一部がボン
ディングワイヤに接したり、パッケージ内のIC等の上
に垂れおちることもない。
According to such a metal lid substrate, the sealing lid is formed on a metal layer on the outer periphery of the solder sealing portion where the solder is easily wetted. It is not necessary to set the solder preform each time when covering and sealing the main body.
Then, the solder does not wet and spread inside the solder sealing portion of the lid, so that the airtightness does not decrease, a part of the solder does not come into contact with the bonding wire, and the solder does not drop on the IC or the like in the package.

【0011】本発明に係る金属製リッドの好適な製法と
しては次のものがある。すなわち、ハンダが濡れ難い金
属層とハンダが濡れ易い金属層とのクラッド板材から複
数のリッド基板がその側縁で部分的に接続されてなるリ
ッド基板集合体をつくり、このリッド基板集合体をなす
各リッド基板部分であってハンダが濡れ易い金属層のう
ち、ハンダ封止部をなす外周寄り部位の領域を残し、該
領域に隣接する領域をエッチングにより除去し、各リッ
ド基板部分におけるハンダ封止部をなす外周寄り部位の
ハンダが濡れ易い金属層上に封止用ハンダを形成し、し
かる後、各リッド基板部分をその側縁における接続部で
切断することを特徴とする。
The preferred method for producing the metal lid according to the present invention is as follows. That is, a plurality of lid substrates are formed from a clad plate material of a metal layer that is difficult to wet solder and a metal layer that is easily wetted by solder, and a plurality of lid substrates are partially connected at their side edges to form a lid substrate assembly. In each of the lid substrate portions, of the metal layer to which the solder is easily wetted, the region near the outer periphery forming the solder sealing portion is left, and the region adjacent to the region is removed by etching, and the solder sealing in each of the lid substrate portions is performed. It is characterized in that sealing solder is formed on a metal layer where the solder near the outer periphery forming the portion is easily wetted, and thereafter, each lid substrate portion is cut at a connection portion at a side edge thereof.

【0012】また、別の方法としては次のものがある。
すなわち、ハンダが濡れ難い金属層とハンダが濡れ易い
金属層とのクラッド板材であって、複数のリッド基板が
その側縁で部分的に接続されてなるリッド基板集合体を
形成できるものの両面に、それぞれエッチングレジスト
を塗布して露光・現像し、ハンダが濡れ難い金属層をエ
ッチングにより除去した後でハンダが濡れ易い金属層を
エッチングにより除去することによって、複数のリッド
基板がその側縁で部分的に接続されてなるリッド基板集
合体であって、その各リッド基板部分においては、ハン
ダが濡れ難い金属層は除去されることなく存在し、ハン
ダが濡れ易い金属層はハンダ封止部をなす外周寄り部位
の領域を残し、該領域に隣接する領域が除去されるよう
に、ハンダが濡れ難い金属層及びハンダが濡れ易い金属
層を露出させ、その下で、ハンダが濡れ難い金属層の露
出する部位をエッチングにより除去し、次いで、ハンダ
が濡れ易い金属層の露出する部位をエッチングにより除
去して複数のリッド基板がその側縁で部分的に接続され
てなるリッド基板集合体をつくり、その後、エッチング
レジストを除去し、各リッド基板部分におけるハンダ封
止部をなす外周寄り部位のハンダが濡れ易い金属層上に
封止用ハンダを形成し、しかる後、各リッド基板部分を
その側縁における接続部で切断することを特徴とする。
Another method is as follows.
That is, on both sides of a clad plate material of a metal layer where solder is difficult to wet and a metal layer where solder is easy to wet, and a plurality of lid substrates can form a lid substrate aggregate in which the lid substrates are partially connected at their side edges, Each of the lid substrates is partially etched at the side edges by applying an etching resist, exposing and developing, removing the metal layer where solder is difficult to wet, and then removing the metal layer where solder is easy to wet by etching. A lid substrate assembly connected to the substrate, and in each of the lid substrate portions, the metal layer where solder is difficult to wet exists without being removed, and the metal layer where solder easily wets is formed on the outer periphery forming a solder sealing portion. Exposing the metal layer to which the solder is unlikely to wet and the metal layer to which the solder is likely to wet so as to leave the region of the deviated part and remove the region adjacent to the region, Below, the exposed portion of the metal layer where solder is not easily wetted is removed by etching, and then the exposed portion of the metal layer where solder is easily wetted is removed by etching, and a plurality of lid substrates are partially connected at their side edges. Then, an etching resist is removed, and a solder for sealing is formed on a metal layer where solder near an outer periphery forming a solder sealing portion in each lid board portion is easily wetted. Thereafter, each lid substrate portion is cut at a connection portion at a side edge thereof.

【0013】これらの方法によって、封止用ハンダ付き
の金属製リッドが多数一度に効率的に製造できる。な
お、側縁面における接続部は、切断を容易とするため、
製造時におけるハンドリングなどに支障のない範囲で切
断面積ができるだけ小さくなるようにするのが好まし
い。
By these methods, a large number of metal lids with sealing solder can be efficiently manufactured at once. In addition, the connection part on the side edge surface, in order to facilitate cutting,
It is preferable that the cutting area be as small as possible within a range that does not hinder handling during manufacturing.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、本発明に係るリッド基板の
実施の形態例について、図1及び図2を参照して詳細に
説明する。図中、1はリッド基板であって、本例では4
2アロイ板2を基板(母材)とし、その1面にCu層3
をクラッドしてなるクラッド板材から形成されている。
Cu層3の部位は、ハンダ封止部をなすように外周寄り
部位のみ所定の幅Wで環状に残存されており、その他の
部位のCu(層)はエッチングにより除去されている。
このように本例では、ハンダ封止部を除く、基板1の全
表面(両面及び側縁面)に42アロイ板(以下、42ア
ロイともいう)2が露出し、封止面側にあってもCu層
3以外はハンダに濡れ難い面(ハンダ不濡れ面)をなし
ている。なお、本例ではハンダ封止部(Cu層)の外周
縁3aが、42アロイ板2の外周縁2aより全周にわた
って若干量d内側(基板中央側)に引き下がるように形
成されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a lid substrate according to the present invention will be described below in detail with reference to FIGS. In the figure, reference numeral 1 denotes a lid substrate, which is 4 in this example.
2 alloy plate 2 as a substrate (base material), and a Cu layer 3
Is formed from a clad plate material obtained by cladding the above.
The portion of the Cu layer 3 is left annularly with a predetermined width W only in a portion near the outer periphery so as to form a solder sealing portion, and Cu (layer) in other portions is removed by etching.
As described above, in this example, the 42 alloy plate (hereinafter, also referred to as 42 alloy) 2 is exposed on the entire surface (both surfaces and side edge surfaces) of the substrate 1 except for the solder sealing portion, and is located on the sealing surface side. Also, other than the Cu layer 3, the surface is hardly wetted by solder (solder non-wetting surface). In this example, the outer peripheral edge 3a of the solder sealing portion (Cu layer) is formed so as to be slightly lowered d inward (toward the center of the substrate) over the entire periphery from the outer peripheral edge 2a of the 42 alloy plate 2.

【0015】このような本例のリッド基板1は、クラッ
ド板材におけるCu層3を次のようにしてエッチングす
ることで形成される。すなわち、Cu層3の表面全体に
エッチングレジストを塗布し、露光・現像してハンダ封
止部をなす外周寄り部位(幅Wの領域)を除き、この部
位に包囲される基板1の内側及び外側のCu層3を露出
させ、その下で、露出するCu層3をエッチングにより
除去し、その後、レジストを除去することで形成され
る。このように形成された基板1は、ハンダ封止部のみ
にハンダが濡れ易く、その他の部位はハンダが濡れ難
い。したがって、封止用ハンダがハンダ封止部(幅Wの
Cu層の領域)から封止面の内側などに濡れ広がること
を防止できるリッド基板1となる。
The lid substrate 1 of this embodiment is formed by etching the Cu layer 3 of the clad plate as follows. That is, the entire surface of the Cu layer 3 is coated with an etching resist, and exposed and developed to remove the portion (width W) near the outer periphery forming the solder sealing portion, and the inside and outside of the substrate 1 surrounded by this portion. Is exposed, the exposed Cu layer 3 is removed by etching, and then the resist is removed. In the substrate 1 formed in this manner, the solder is easily wetted only at the solder sealing portion, and the solder is hardly wetted at other portions. Therefore, the lid substrate 1 can prevent the solder for sealing from spreading from the solder sealing portion (the region of the Cu layer having the width W) to the inside of the sealing surface.

【0016】このように本例では、ハンダ封止部をなす
外周寄り部位のハンダ濡れ性を確保しつつそれに包囲さ
れる内側部位のハンダの濡れ性を低下させたものであ
り、エッチングによりCu層を除去するだけで形成でき
るから、その処理が簡易であり、したがって、低コスト
で金属製リッド基板を得ることができる。
As described above, in this embodiment, the solder wettability of the portion near the outer periphery forming the solder sealing portion is ensured while the wettability of the solder at the inner portion surrounded by the solder seal portion is reduced. Can be formed simply by removing the metal lid substrate, so that the processing is simple, and therefore, a metal lid substrate can be obtained at low cost.

【0017】そして、このようなリッド基板1の外周寄
り部位のCu層3の上に、図3に示されるように封止用
ハンダ9を所定の厚さ形成する。こうすることで、1主
面の外周寄り部位に所定の幅Wで封止用ハンダ9を有す
る金属製リッド11となる。なお、この封止用ハンダ9
は、例えばハンダペーストを印刷してリフローすること
により形成できる。この際、ハンダ封止部の内側は42
アロイが露出しているからハンダが濡れ広がらない。し
たがって、ハンダ封止部をなすCu層3の表面のみに封
止用ハンダを容易に形成できる。なお、図1において
は、ハンダ封止部(幅Wの領域)を除く全領域のCu層
をエッチングにより除去したが、ハンダ封止部の内側の
Cu層の領域については溶融ハンダの内側への流れ込み
を防止できればよいので、同図中の中央部分(例えば2
点鎖線で囲まれる部位4)のCu層を除去することな
く、幅Wの領域に隣接する領域のみCu層を除去しても
よい。
Then, on the Cu layer 3 near the outer periphery of the lid substrate 1, a solder 9 for sealing is formed with a predetermined thickness as shown in FIG. By doing so, the metal lid 11 having the solder 9 for sealing with a predetermined width W at a position near the outer periphery of one main surface is obtained. In addition, this sealing solder 9
Can be formed by, for example, printing and reflowing a solder paste. At this time, the inside of the solder sealing portion is 42
The solder does not spread because the alloy is exposed. Therefore, the solder for sealing can be easily formed only on the surface of the Cu layer 3 forming the solder sealing portion. In FIG. 1, the Cu layer in the entire region except for the solder sealing portion (the region having the width W) is removed by etching. However, the Cu layer region inside the solder sealing portion is removed to the inside of the molten solder. Since it is only necessary to prevent inflow, a central portion (for example, 2
The Cu layer may be removed only in the region adjacent to the region having the width W without removing the Cu layer in the portion 4) surrounded by the chain line.

【0018】なお、図4に示したように、本例のリッド
(基板)11によって、それと同寸で同平面形状をなす
パッケージ本体21を封止する場合には、溶融したハン
ダ9が内側に濡れ広がらないだけでなく、リッド11の
外周縁から引下り分dがハンダに濡れない。すなわちハ
ンダ封止部(Cu層)の外周縁3aが基板の外周縁2a
より内側に引き下がっているため、メニスカスは図示の
ようになり、封止時におけるハンダの外方へのはみだし
が防止される。したがって、本例のリッド(基板)11
によれば、そのはみだしによるハンドリングの難点もな
く、また回路基板への実装時の位置決めや同回路基板の
信頼性の低下防止にも有効である。因みに、引き下がり
量dは、封止用ハンダの厚さや幅さらにはハンダの種類
にもよるが、一般には50〜500μmの範囲が適切で
ある。もっとも、本発明のリッド基板及びリッドにおい
てはこの引下がりはなくともよい。
As shown in FIG. 4, when the package body 21 having the same dimensions and the same planar shape is sealed by the lid (substrate) 11 of this embodiment, the molten solder 9 is placed inside. Not only does it not spread out, but also the amount d pulled down from the outer peripheral edge of the lid 11 does not wet the solder. That is, the outer peripheral edge 3a of the solder sealing portion (Cu layer) is
Since the meniscus is drawn inward, the meniscus is as shown in the figure, and the solder is prevented from protruding outward during sealing. Therefore, the lid (substrate) 11 of this example
According to the method, there is no difficulty in handling due to the protrusion, and it is also effective for positioning at the time of mounting on a circuit board and for preventing reduction in reliability of the circuit board. Incidentally, the amount of pulling d depends on the thickness and width of the sealing solder, and also on the type of solder, but in general, a range of 50 to 500 μm is appropriate. However, in the lid substrate and the lid of the present invention, the pull-down may not be required.

【0019】さて次に、このようなリッドの好適な製法
について、図5ないし図8を参照して詳細に説明する。
まず、母材が42アロイからなり、クラッドされる金属
層がCuからなる所定の大きさのクラッド薄板(例示的
には、42アロイ層の厚さが0.1mm、Cu層の厚さ
が0.03mm)を用意し、これを図5,6に示したよ
うに、例えばエッチングにより、各リッド基板1部位の
外周を抜き、複数のリッド基板1,1がその側縁で部分
的に接続されてなるリッド基板集合体(単に集合体とも
いう)31を製造する。なお、本例の集合体31は、図
6に示されるように、エッチングによって各基板1の周
囲をその各辺の中央の4か所の接続部32,32が残る
ように枠状に抜いたものであり、したがって、4か所の
接続部32,32でもって各基板1,1を接続、支持し
ている。なお、このような集合体31は、各面にエッチ
ングレジストを塗布し、露光・現像し、枠状の抜き部N
の各金属を露出させて、それぞれエッチングすることで
形成される。
Next, a preferred method of manufacturing such a lid will be described in detail with reference to FIGS.
First, a clad thin plate having a predetermined size in which the base material is made of 42 alloy and the metal layer to be clad is made of Cu (for example, the thickness of the 42 alloy layer is 0.1 mm, and the thickness of the Cu layer is 0 mm) .03 mm), and as shown in FIGS. 5 and 6, the outer periphery of each lid substrate 1 is cut out, for example, by etching, and the plurality of lid substrates 1 and 1 are partially connected at their side edges. A lid substrate assembly (also simply referred to as an assembly) 31 is manufactured. In addition, as shown in FIG. 6, the assembly 31 of the present example was removed in a frame shape by etching so that the periphery of each substrate 1 was left at four connection portions 32 at the center of each side thereof. Therefore, each of the substrates 1, 1 is connected and supported by four connecting portions 32, 32. In addition, such an assembly 31 is formed by applying an etching resist to each surface, exposing and developing, and forming a frame-shaped cutout N
Are formed by exposing the respective metals and etching them.

【0020】次に、こうして形成されたリッド基板集合
体31のエッチングレジストを除去し、さらにこのリッ
ド基板集合体31のCu層3の全面にエッチングレジス
トRを塗布する(図7−A参照)。そして、各リッド基
板1部分におけるハンダ封止部をなす外周寄り部位の領
域(図6中、2点鎖線相互間の幅Wの領域)以外のCu
層3が露出するように露光・現像する(図7−B参
照)。そして、露出したCu層3をエッチングにより除
去する(図7−C参照)。次いで、エッチングレジスト
を除去し、封止用ハンダ形成部位のCu層3を露出させ
る(図7−D参照)。
Next, the etching resist of the lid substrate assembly 31 thus formed is removed, and an etching resist R is applied to the entire surface of the Cu layer 3 of the lid substrate assembly 31 (see FIG. 7-A). Then, Cu other than the region (the region having a width W between two-dot chain lines in FIG. 6) near the outer periphery forming the solder sealing portion in each lid substrate 1 portion
Exposure and development are performed so that the layer 3 is exposed (see FIG. 7-B). Then, the exposed Cu layer 3 is removed by etching (see FIG. 7C). Next, the etching resist is removed to expose the Cu layer 3 at the portion where the sealing solder is to be formed (see FIG. 7D).

【0021】そして、この露出したCu層(ハンダ封止
部)3に、ハンダペーストをスクリーン印刷し、その後
リフローすることで封止用ハンダ9を所定厚さ(例えば
50μm)形成する(図8参照)。このとき、42アロ
イ2にはハンダが濡れ難い(はじかれる)ことから、封
止用ハンダ9はハンダ封止部のCu層3にのみ選択的に
形成される。以後は、フラックスを除去し、集合体31
における基板1,1の接続部32,32を各基板1,1
の縦横の辺(側縁)に沿って切断すれば、図3に示した
金属製リッド11を一度に多数得ることができる。な
お、封止用ハンダ9の形成前にその接続部32で切断す
れば、図1,2に示した金属製リッド基板1を得ること
ができる。
Then, a solder paste is screen-printed on the exposed Cu layer (solder sealing portion) 3 and then reflowed to form a sealing solder 9 having a predetermined thickness (for example, 50 μm) (see FIG. 8). ). At this time, since the solder is hardly wetted (repelled) by the 42 alloy 2, the sealing solder 9 is selectively formed only on the Cu layer 3 of the solder sealing portion. Thereafter, the flux is removed and the aggregate 31
Connection portions 32, 32 of the substrates 1, 1
By cutting along the vertical and horizontal sides (side edges), a large number of metal lids 11 shown in FIG. 3 can be obtained at one time. In addition, if it cut | disconnects at the connection part 32 before formation of the solder 9 for sealing, the metal lid substrate 1 shown in FIGS. 1 and 2 can be obtained.

【0022】このように本例の製法によれば、本発明に
係るリッド11を効率的に製造することができる。した
がって、大量生産に極めて適する。とりわけ、水晶振動
子などに用いられるパッケージのリッドなどのように小
型のリッドの製造に最適である。なお、上記例ではハン
ダは、ペーストを印刷してリフローすることにより形成
したが、本製法においてはこの手法に限定されることな
く、例えば溶融ハンダへのディップ(浸漬)やウエーブ
ソルダリングによっても形成できる。
As described above, according to the manufacturing method of this embodiment, the lid 11 according to the present invention can be efficiently manufactured. Therefore, it is very suitable for mass production. In particular, it is most suitable for manufacturing a small lid such as a package lid used for a quartz oscillator or the like. In the above example, the solder is formed by printing a paste and reflowing. However, the present invention is not limited to this method, and may be formed by, for example, dipping (immersion) in molten solder or wave soldering. it can.

【0023】なお、集合体31における各リッド11の
側縁面における接続部32は、切断を容易とするため、
製造時におけるハンドリングなどに支障のない範囲で切
断面積ができるだけ小さくなるようにするのが好まし
い。また接続部32の数については、本例ではそれぞれ
4か所としたが、同様の理由から、これについても本来
なるべく少なくするのが好ましい。
The connecting portion 32 on the side edge surface of each lid 11 in the assembly 31 is formed to facilitate cutting.
It is preferable that the cutting area be as small as possible within a range that does not hinder handling during manufacturing. Although the number of the connection portions 32 is four in this example, it is preferable to reduce the number of connection portions as much as possible for the same reason.

【0024】また、本製法においても封止用ハンダ9に
包囲される内側のCu層3についてはその全面を除去し
たが、上記したようにこの除去領域は溶融ハンダの内側
への濡れ広がり(流れ込み)を防止できればよく、した
がって、全面を除去することなくハンダ封止部(図6の
幅Wの領域)の内周縁3bに沿って所定の幅で除去し、
中央部分を除去しないようにしてもよい。なお、集合体
における基板の配列パターン(抜き形状)さらに取個数
等は、適宜の形状、数に設計すればよいことはいうまで
もない。
In the present manufacturing method as well, the entire surface of the Cu layer 3 surrounded by the sealing solder 9 was removed. However, as described above, the removed region spreads inside the molten solder by spreading (flowing). ) Can be prevented, and therefore, the solder is removed with a predetermined width along the inner peripheral edge 3b of the solder sealing portion (the area of width W in FIG. 6) without removing the entire surface.
The central portion may not be removed. Needless to say, the arrangement pattern (cut shape) of the substrates in the assembly and the number of pieces to be taken may be designed to have an appropriate shape and number.

【0025】さて、次に別の製法を説明する(図5,6
及び図9〜12参照)。まず、前記と同様のクラッド板
材であって、図5に示したのと同様、複数のリッド基板
がその側縁で部分的に接続されてなるリッド基板集合体
を形成できるものを用意する。そして、このクラッド板
材の両面(42アロイの表面とCu層の表面)の全面に
それぞれエッチングレジストを塗布する。
Next, another manufacturing method will be described (FIGS. 5 and 6).
And FIGS. 9-12). First, a clad plate material similar to the one described above, which can form a lid substrate assembly in which a plurality of lid substrates are partially connected at the side edges, as shown in FIG. 5, is prepared. Then, an etching resist is applied to the entire surface of both surfaces (the surface of the 42 alloy and the surface of the Cu layer) of the clad plate material.

【0026】そして露光・現像して、次のように各金属
層が被覆されるようにする。すなわち、42アロイ層を
エッチングにより除去した後でCu層をエッチングによ
り除去することによって、複数のリッド基板がその側縁
で部分的に接続されてなるリッド基板集合体であって、
その各リッド基板部分においては、42アロイ層は除去
されることなく存在し、Cu層はハンダ封止部をなす外
周寄り部位の領域を残し、該外周寄り部位に隣接する領
域が除去されるように、42アロイとCuを露出させ
る。
Then, exposure and development are performed so that each metal layer is covered as follows. That is, by removing the 42 alloy layer by etching and then removing the Cu layer by etching, a lid substrate assembly in which a plurality of lid substrates are partially connected at their side edges,
In each of the lid substrate portions, the 42 alloy layer is present without being removed, and the Cu layer leaves a region near the outer periphery forming a solder sealing portion, and a region adjacent to the outer periphery portion is removed. Next, the 42 alloy and Cu are exposed.

【0027】具体例としては次のようである(図5,6
参照)。すなわち、クラッド板材(図示せず)の42ア
ロイ層の表面にはエッチングレジストをその全面に塗布
し、前例におけるリッド基板周囲の抜き部N(図5,6
参照)に相当する部位が露出するように露光・現像す
る。一方、クラッド板材(図示せず)のCu層の表面に
は、エッチングレジストをその全面に塗布し、前例にお
ける各リッド基板1部分の周囲の抜き部N(図5,6参
照)に相当する部位に加えて、各リッド基板1部分にお
いてハンダ封止部をなす外周寄り部位(図6の幅Wの領
域)以外が露出するように露光・現像する。これによ
り、リッド基板1部位では、図9に示したように、42
アロイ層2の表面の全面がエッチングレジストRで被覆
されており、Cu層3の表面ではハンダ封止部をなす外
周寄り部位(図6の幅Wの領域)のみがエッチングレジ
ストRで被覆されている。なお、42アロイ層2の表面
については、図10に示したようにリッド基板1部分の
ほか、接続部32などがエッチングレジストRで被覆さ
れている。
A specific example is as follows (FIGS. 5 and 6).
reference). That is, an etching resist is applied to the entire surface of the 42 alloy layer of the clad plate material (not shown), and the punched portion N (FIGS.
Exposure and development are performed so that the portion corresponding to (see) is exposed. On the other hand, an etching resist is applied to the entire surface of the Cu layer of the clad plate material (not shown), and a portion corresponding to a cutout N (see FIGS. 5 and 6) around each lid substrate 1 in the previous example. In addition, in each lid substrate 1, exposure and development are performed so that a portion other than a portion near the outer periphery (a region having a width W in FIG. 6) forming a solder sealing portion is exposed. As a result, as shown in FIG.
The entire surface of the alloy layer 2 is covered with the etching resist R, and only the portion near the outer periphery (the region of width W in FIG. 6) forming the solder sealing portion is covered with the etching resist R on the surface of the Cu layer 3. I have. On the surface of the 42 alloy layer 2, as shown in FIG. 10, in addition to the lid substrate 1, the connection portion 32 and the like are covered with the etching resist R.

【0028】本例では、Cu層3については42アロイ
層2の接続部32に対応する部位も露出させるようにし
たが、ハンダ封止部をなす外周寄り部位(図6の幅Wの
領域)とこの接続部32がエッチングレジストRで連続
して被覆されるようにしてもよい。すなわち、本製法で
は、両金属層を42アロイ層2から先にエッチングによ
り除去しても、複数のリッド基板がその側縁で部分的に
接続されてなるリッド基板集合体をなすように、少くと
もいずれかの金属層の表面の接続部に対応する部位にエ
ッチングレジストが形成されていればよい。
In the present embodiment, the portion corresponding to the connection portion 32 of the 42 alloy layer 2 is also exposed for the Cu layer 3, but the portion near the outer periphery forming the solder sealing portion (the region of width W in FIG. 6). And the connecting portion 32 may be continuously covered with the etching resist R. That is, in the present manufacturing method, even if both metal layers are removed from the 42 alloy layer 2 by etching first, a small number of lid substrates are formed so as to form a lid substrate assembly in which the plurality of lid substrates are partially connected at their side edges. In any case, it is sufficient that the etching resist is formed at a portion corresponding to the connection portion on the surface of any of the metal layers.

【0029】そして、このような集合体をその状態の下
で、まず42アロイ層2をエッチングにより除去する。
このようにすると、図11に示したように42アロイ層
2のうち、各リッド基板1部分の周囲の抜き部Nが接続
部32を除いて除去される。次に、Cu層3をエッチン
グにより除去する。このようにすると、図12に示した
ように、Cu層3はハンダ封止部をなす外周寄り部位を
除いて除去される。
Then, under such a state of the assembly, first, the 42 alloy layer 2 is removed by etching.
In this way, as shown in FIG. 11, the cutout portion N around each lid substrate 1 in the 42 alloy layer 2 except for the connection portion 32 is removed. Next, the Cu layer 3 is removed by etching. By doing so, as shown in FIG. 12, the Cu layer 3 is removed except for a portion near the outer periphery forming a solder sealing portion.

【0030】これにより、平面視、図5に示したのと同
様の複数のリッド基板1がその側縁の接続部32で部分
的に接続されてなるリッド基板集合体であって、各リッ
ド基板1部分におけるCu層3がハンダ封止部をなす外
周寄り部位の領域にのみ残存し、該外周寄り部位に隣接
する領域が除去されてなるリッド基板集合体となる。因
みに、この製法ではCu層を先にエッチングすることは
できない。というのは、Cu層を先にエッチングする
と、42アロイ層をエッチングする際、先に除去された
Cu層の下の42アロイ層も除去されてしまい、リッド
を形成し得ないためである。
As a result, a plurality of lid substrates 1 similar to those shown in FIG. 5 in plan view are partially connected at the connection portions 32 on the side edges thereof. The Cu layer 3 in one portion remains only in the region near the outer periphery forming the solder sealing portion, and a region adjacent to the outer periphery is removed to form a lid substrate assembly. Incidentally, the Cu layer cannot be etched first by this manufacturing method. This is because, when the Cu layer is etched first, when the 42 alloy layer is etched, the 42 alloy layer below the previously removed Cu layer is also removed, and a lid cannot be formed.

【0031】このようなリッド基板集合体は、その後、
エッチングレジストRを除去し、前記の製法と同様に、
各リッド基板1部分におけるハンダ封止部をなす外周寄
り部位のCu層上に、ハンダペーストを印刷してリフロ
ーすることにより封止用ハンダを形成する。しかる後、
各リッド基板部分をその側縁における接続部で切断する
ことで、一度に多数の金属製リッドが得られる。このよ
うに、本製法によれば、前記の製法のようにリッド基板
集合体を形成した後で、各基板部位のCu層をエッチン
グするものでないから、より効率的に製造できる。な
お、封止用ハンダは、溶融ハンダへのディップ(浸漬)
やウエーブソルダリングによっても形成できる。
Such a lid substrate assembly is then
After removing the etching resist R, in the same manner as in the above-described manufacturing method
Solder paste is printed and reflowed on the Cu layer near the outer periphery forming the solder sealing portion in each lid substrate 1 to form a solder for sealing. After a while
By cutting each lid substrate portion at the connection portion at the side edge, a large number of metal lids can be obtained at one time. As described above, according to the present manufacturing method, after the lid substrate aggregate is formed as in the above-described manufacturing method, the Cu layer on each substrate portion is not etched, so that the manufacturing can be performed more efficiently. The solder for sealing is dipped (immersed) in molten solder.
Alternatively, it can be formed by wave soldering.

【0032】前記した基板では、ハンダ封止部をなす外
周寄り部位のハンダが濡れ易い金属層(ハンダ層を設け
る下地)の幅を一定とした場合を例示したが、本発明に
おいてその幅は、部分的又は間欠的に、狭く又は広く、
変化して形成してあってもよい。すなわち、図13に例
示される平面形状のように、Cu層3などからなるハン
ダが濡れ易い金属層の幅を基板1の各辺の中央付近にお
いて一定の幅Wsで狭くなるように形成してもよい。ま
た、図14に例示される基板1におけるその平面形状の
ように、Cu層3などからなるハンダが濡れ易い金属層
の幅を基板1の各辺における略中央で相対的に狭く、各
コーナーで広くなるように傾斜状に変化させてもよい。
In the above-mentioned substrate, the case where the width of the metal layer (the base on which the solder layer is provided) on which the solder near the outer periphery forming the solder sealing portion is easily wetted is fixed. Partially or intermittently, narrow or wide,
It may be formed by changing. That is, as shown in the plane shape illustrated in FIG. 13, the width of the metal layer such as the Cu layer 3 that is easily wetted by the solder is formed so as to be narrow at a constant width Ws near the center of each side of the substrate 1. Is also good. Further, as in the plane shape of the substrate 1 illustrated in FIG. 14, the width of the metal layer made of the Cu layer 3 or the like where the solder is easily wetted is relatively narrow at substantially the center of each side of the substrate 1, and at each corner. It may be changed in an inclined manner so as to be wider.

【0033】従来、ハンダが濡れ易い金属層の幅を変化
させることで封止用ハンダの高さを変え、電子部品パッ
ケージの封止時におけるガスパスを確保し、ハンダの飛
散を防止することが行われている。しかし、このような
手法も、基板が小さくなるとハンダが濡れ易い金属層
(ハンダ層を設ける下地)の幅を変化させることが困難
である。しかし、本発明によれば、ハンダが濡れ易い金
属層の平面形状(パターン)をエッチングによって形成
できるから、その幅の変化の自由度が高く、したがって
小さいリッド基板でもハンダの高さに変化をつけたもの
が容易に形成できるといった効果がある。
Conventionally, the height of the sealing solder is changed by changing the width of the metal layer to which the solder is easily wetted, a gas path at the time of sealing the electronic component package is secured, and the scattering of the solder is prevented. Have been done. However, even with such a method, it is difficult to change the width of the metal layer (the base on which the solder layer is provided) to which the solder is easily wetted when the substrate is small. However, according to the present invention, since the planar shape (pattern) of the metal layer to which the solder is easily wetted can be formed by etching, the degree of freedom of the change of the width is high, and therefore the height of the solder is changed even with a small lid substrate. There is an effect that the material can be easily formed.

【0034】なお、上記ではクラッド材をなすハンダに
濡れ難い金属が42アロイの場合で説明したが、このほ
か、Fe−Ni−Co合金などのFe−Ni系合金、さ
らにはSUS304、Mo(モリブデン)が好適なもの
として例示される。ただし、SUS304は熱膨張係数
がセラミックに比べて非常に大きく、したがってセラミ
ックパッケージの封止には不向きである。また、クラッ
ドされたハンダに濡れ易い金属としては、Cuを例示し
たが銅合金やAuであってもよい。本発明は、前記の内
容に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲において、適宜変更して具体化できる。
In the above description, the case is described in which the metal which is hardly wetted by the solder constituting the clad material is 42 alloy. ) Are exemplified as suitable ones. However, SUS304 has a coefficient of thermal expansion much larger than that of ceramics, and thus is not suitable for sealing a ceramic package. Further, Cu is exemplified as the metal that is easily wetted by the clad solder, but a copper alloy or Au may be used. The present invention is not limited to the above-described contents, and can be embodied with appropriate modifications without departing from the gist thereof.

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明に係る金属製リッド基板は、ハン
ダが濡れ難い金属層とハンダが濡れ易い金属層とのクラ
ッド板材からなり、ハンダが濡れ易い金属層は、ハンダ
封止部をなす外周寄り部位の領域を残し、該外周寄り部
位に隣接する領域が除去されてなるものであることか
ら、ハンダが濡れ広がり難いリッド基板を比較的簡易な
工程によって効率よく、低コストで提供できる。
The metal lid substrate according to the present invention comprises a clad plate made of a metal layer with which solder is hardly wetted and a metal layer with which solder is easily wetted, and the metal layer with which solder is easily wetted has an outer periphery forming a solder sealing portion. Since the region adjacent to the outer peripheral portion is removed while leaving the region closer to the outer periphery, a lid substrate in which solder is unlikely to spread and spread can be efficiently provided at a relatively simple process at a low cost.

【0036】また、本発明に係る金属製リッドによれ
ば、ハンダ付きリッドのため、封止に際してハンダプリ
フォームのセットを要しない。そして、シームウエルド
法などと異なり封止を一括処理できるのでその作業性、
量産性が向上し、コストの低減が図られる。その上に、
封止時にハンダがリッドの内側に濡れ広がり難い。
According to the metal lid according to the present invention, since a lid with solder is used, a solder preform set is not required for sealing. And, unlike the seam welding method, the sealing process can be performed collectively,
The mass productivity is improved, and the cost is reduced. in addition,
It is difficult for solder to spread inside the lid during sealing.

【0037】さらに、本発明に係る金属製リッドの製法
によれば、複数のリッド基板が一体化されているリッド
基板集合体ごとに、各工程(ハンダが濡れ易い金属層の
除去工程、封止用ハンダの形成工程等)の処理を行うこ
とができることから、多数のリッドを効率的に製造でき
る。また、エッチングにより除去するようにしたため、
除去工程が簡易となり、したがって、リッドの製造コス
トを低減できる。
Further, according to the method for manufacturing a metal lid according to the present invention, for each lid substrate assembly in which a plurality of lid substrates are integrated, each step (a step of removing a metal layer where solder is easily wetted, a step of sealing, ), A large number of lids can be efficiently manufactured. Also, because it was removed by etching,
The removal process is simplified, and the manufacturing cost of the lid can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る金属製リッド基板の実施形態例を
封止面側から見た平面図。
FIG. 1 is a plan view of an embodiment of a metal lid substrate according to the present invention as viewed from a sealing surface side.

【図2】図1の金属製リッド基板の中央横断面図。FIG. 2 is a central transverse sectional view of the metal lid substrate of FIG. 1;

【図3】本発明に係る金属製リッドの実施形態例の断面
図。
FIG. 3 is a sectional view of an embodiment of a metal lid according to the present invention.

【図4】図3の金属製リッドでパッケージ本体を封止し
ている状態を説明する部分破断面図。
FIG. 4 is a partially broken cross-sectional view illustrating a state where the package body is sealed with the metal lid of FIG. 3;

【図5】本発明に係る金属製リッドの製法の実施形態例
を説明するリッド基板の集合体の説明用平面図。
FIG. 5 is an explanatory plan view of an assembly of lid substrates illustrating an embodiment of a method for manufacturing a metal lid according to the present invention.

【図6】図5における部分拡大図。FIG. 6 is a partially enlarged view of FIG. 5;

【図7】図6のA−A矢視断面であって、Cu層へのエ
ッチングレジストの塗布工程からエッチング後、エッチ
ングレジストの除去工程までの工程の説明図。
FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. 6, and is an explanatory diagram of a process from a step of applying an etching resist to a Cu layer to a step of removing the etching resist after etching.

【図8】図6において、封止用ハンダを形成した状態の
図。
FIG. 8 is a view showing a state in which sealing solder is formed in FIG. 6;

【図9】本発明に係る金属製リッドの製法の別形態例を
説明する、メッキレジストの被覆状態を説明するリッド
基板部分を含む断面図。
FIG. 9 is a cross-sectional view including a lid substrate portion for explaining a state of covering with a plating resist, for explaining another embodiment of a method for manufacturing a metal lid according to the present invention.

【図10】図9を42アロイ層側からみた平面図。FIG. 10 is a plan view of FIG. 9 as viewed from a 42 alloy layer side.

【図11】図9において42アロイをエッチングした図FIG. 11 is a view obtained by etching 42 alloy in FIG. 9;

【図12】図11においてCuをエッチングした図12 is a diagram in which Cu is etched in FIG. 11;

【図13】ハンダが濡れ易い金属層の平面形状の別例を
示す封止面側から見たリッド基板の平面図。
FIG. 13 is a plan view of the lid substrate as viewed from the sealing surface side, showing another example of the planar shape of the metal layer to which solder is easily wetted.

【図14】ハンダが濡れ易い金属層の平面形状の別例を
示す封止面側から見たリッド基板の平面図。
FIG. 14 is a plan view of a lid substrate as viewed from a sealing surface side, showing another example of a planar shape of a metal layer to which solder is easily wetted.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 金属製リッド基板 2 42アロイ層(ハンダが濡れ難い金属層) 2a リッド基板の側縁 3 Cu層(ハンダが濡れ易い金属層) 9 封止用ハンダ 11 金属製リッド 31 リッド基板集合体 32 接続部 R エッチングレジスト W ハンダ封止部をなす外周寄り部位の領域 REFERENCE SIGNS LIST 1 metal lid substrate 2 42 alloy layer (metal layer on which solder is difficult to wet) 2 a side edge of lid substrate 3 Cu layer (metal layer on which solder is easily wettable) 9 solder for sealing 11 metal lid 31 lid substrate assembly 32 connection Part R Etching resist W Region near the outer periphery that forms the solder sealing part

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ハンダが濡れ難い金属層とハンダが濡れ
易い金属層とのクラッド板材からなり、ハンダが濡れ易
い金属層は、ハンダ封止部をなす外周寄り部位の領域を
残し、該領域に隣接する領域が除去されてなることを特
徴とする電子部品パッケージ用金属製リッド基板。
1. A clad plate comprising a metal layer to which solder is difficult to wet and a metal layer to which solder is easily wet, wherein the metal layer to which solder is easy to wet leaves a region near the outer periphery forming a solder sealing portion. A metal lid substrate for an electronic component package, wherein an adjacent region is removed.
【請求項2】 ハンダが濡れ難い金属層とハンダが濡れ
易い金属層とのクラッド板材からなり、ハンダが濡れ易
い金属層は、ハンダ封止部をなす外周寄り部位の領域以
外が除去されてなることを特徴とする電子部品パッケー
ジ用金属製リッド基板。
2. A clad plate made of a metal layer on which solder is hardly wet and a metal layer on which solder is easily wetted, wherein the metal layer on which solder is easily wetted is removed except for a region near the outer periphery forming a solder sealing portion. A metal lid substrate for an electronic component package, characterized in that:
【請求項3】 請求項1又は2記載の電子部品パッケー
ジ用金属製リッド基板のハンダ封止部をなす外周寄り部
位のハンダが濡れ易い金属層上に、封止用ハンダが形成
されていることを特徴とする電子部品パッケージ用金属
製リッド。
3. The solder for sealing is formed on a metal layer on the outer peripheral portion forming a solder sealing portion of the metal lid substrate for an electronic component package according to claim 1 or 2 where the solder is easily wetted. A metal lid for an electronic component package.
【請求項4】 ハンダが濡れ難い金属層とハンダが濡れ
易い金属層とのクラッド板材から複数のリッド基板がそ
の側縁で部分的に接続されてなるリッド基板集合体をつ
くり、このリッド基板集合体をなす各リッド基板部分で
あってハンダが濡れ易い金属層のうち、ハンダ封止部を
なす外周寄り部位の領域を残し、該領域に隣接する領域
をエッチングにより除去し、各リッド基板部分における
ハンダ封止部をなす外周寄り部位のハンダが濡れ易い金
属層上に封止用ハンダを形成し、しかる後、各リッド基
板部分をその側縁における接続部で切断することを特徴
とする、電子部品パッケージ用金属製リッドの製造方
法。
4. A lid substrate assembly in which a plurality of lid substrates are partially connected at their side edges from a clad plate material of a metal layer with which solder is less likely to wet and a metal layer with which solder is easily wet, is formed. In each of the lid substrate portions forming the body, of the metal layer to which the solder is easily wetted, the region near the outer periphery forming the solder sealing portion is left, and a region adjacent to the region is removed by etching. An electronic device, comprising: forming a sealing solder on a metal layer where solder near an outer periphery forming a solder sealing portion is easily wetted; and thereafter, cutting each lid substrate portion at a connection portion on a side edge thereof. Manufacturing method of metal lid for parts package.
【請求項5】 ハンダが濡れ難い金属層とハンダが濡れ
易い金属層とのクラッド板材であって、複数のリッド基
板がその側縁で部分的に接続されてなるリッド基板集合
体を形成できるものの両面に、それぞれエッチングレジ
ストを塗布して露光・現像し、ハンダが濡れ難い金属層
をエッチングにより除去した後でハンダが濡れ易い金属
層をエッチングにより除去することによって、複数のリ
ッド基板がその側縁で部分的に接続されてなるリッド基
板集合体であって、その各リッド基板部分においては、
ハンダが濡れ難い金属層は除去されることなく存在し、
ハンダが濡れ易い金属層はハンダ封止部をなす外周寄り
部位の領域を残し、該領域に隣接する領域が除去される
ように、ハンダが濡れ難い金属層及びハンダが濡れ易い
金属層を露出させ、その下で、ハンダが濡れ難い金属層
の露出する部位をエッチングにより除去し、次いで、ハ
ンダが濡れ易い金属層の露出する部位をエッチングによ
り除去して複数のリッド基板がその側縁で部分的に接続
されてなるリッド基板集合体をつくり、その後、エッチ
ングレジストを除去し、各リッド基板部分におけるハン
ダ封止部をなす外周寄り部位のハンダが濡れ易い金属層
上に封止用ハンダを形成し、しかる後、各リッド基板部
分をその側縁における接続部で切断することを特徴とす
る、電子部品パッケージ用金属製リッドの製造方法。
5. A clad plate material comprising a metal layer with which solder is hardly wet and a metal layer with which solder is easily wet, which can form a lid substrate assembly in which a plurality of lid substrates are partially connected at their side edges. Each lid is coated with an etching resist, exposed and developed, and after removing the metal layer where solder is difficult to wet by etching, and then removing the metal layer where solder is easy to wet by etching, a plurality of lid substrates are formed on the side edges. Is a lid substrate assembly partially connected in, in each of the lid substrate portion,
The metal layer where solder is difficult to wet exists without being removed,
The metal layer on which solder is easily wet leaves a region near the outer periphery that forms a solder sealing portion, and the metal layer on which solder is difficult to wet and the metal layer on which solder is easily wet are exposed so that the region adjacent to the region is removed. Under this, the exposed portion of the metal layer where solder is not easily wetted is removed by etching, and then the exposed portion of the metal layer where solder is easily wetted is removed by etching so that the plurality of lid substrates are partially A lid substrate assembly is formed, and thereafter, the etching resist is removed, and a solder for sealing is formed on a metal layer where the solder near the outer periphery forming a solder sealing portion in each lid substrate portion is easily wetted. Thereafter, each lid substrate portion is cut at a connection portion at a side edge thereof, and a method of manufacturing a metal lid for an electronic component package.
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