JPH116726A - 反り値の測定方法及び測定装置 - Google Patents
反り値の測定方法及び測定装置Info
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- JPH116726A JPH116726A JP17650297A JP17650297A JPH116726A JP H116726 A JPH116726 A JP H116726A JP 17650297 A JP17650297 A JP 17650297A JP 17650297 A JP17650297 A JP 17650297A JP H116726 A JPH116726 A JP H116726A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 試料の置き方や試料面の傾きの影響を受けず
に正確に反り値の測定ができる反り値の測定方法及び測
定装置を提供する。 【解決手段】 試料表面の位置座標（ｘi，ｙi，ｚi）
をレーザー変位計１等で複数の測定点４で測定し、それ
らの位置座標から試料表面が本来持つべき仮想平面３の
式を最小二乗法等により求め、この仮想平面３に対する
実際の試料表面２の変位を求め、これに基づき反り値を
求める。
に正確に反り値の測定ができる反り値の測定方法及び測
定装置を提供する。 【解決手段】 試料表面の位置座標（ｘi，ｙi，ｚi）
をレーザー変位計１等で複数の測定点４で測定し、それ
らの位置座標から試料表面が本来持つべき仮想平面３の
式を最小二乗法等により求め、この仮想平面３に対する
実際の試料表面２の変位を求め、これに基づき反り値を
求める。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、反り値の測定方法
及び測定装置に関する。
及び測定装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、板状物体の反り値を測定する方
法として次の二つの方法がある。
法として次の二つの方法がある。
【０００３】第一の方法は、定盤上に試料を置き、定盤
面と試料面との隙間をシックネスゲージで測定し、その
最大値を反り値とする方法である。
面と試料面との隙間をシックネスゲージで測定し、その
最大値を反り値とする方法である。
【０００４】第二の方法は、試料をＸ−Ｙステージに載
せ、Ｘ−ＹステージをＸ−Ｙ方向に移動させて変位計で
変位を測定し、変位の最大値と最小値の差を反り値とす
る方法、あるいは、定盤上に試料を置き、定盤面と水平
な面内でＸ−Ｙ方向に移動する変位計で変位を測定し、
変位の最大値と最小値の差を反り値とする方法である。
せ、Ｘ−ＹステージをＸ−Ｙ方向に移動させて変位計で
変位を測定し、変位の最大値と最小値の差を反り値とす
る方法、あるいは、定盤上に試料を置き、定盤面と水平
な面内でＸ−Ｙ方向に移動する変位計で変位を測定し、
変位の最大値と最小値の差を反り値とする方法である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の測定方法では、次に示すような問題がある。
た従来の測定方法では、次に示すような問題がある。
【０００６】第一の方法では、図２に示すように、試料
の置き方によって測定値が異なるという問題がある。つ
まり、図２（ａ）に示す場合と、試料を裏返した図２
（ｂ）に示す場合とでは、ａ≠ｂであるので、測定値が
異なってしまう。また、自重によるたわみのため、肉厚
の薄い試料には適さないという問題がある。
の置き方によって測定値が異なるという問題がある。つ
まり、図２（ａ）に示す場合と、試料を裏返した図２
（ｂ）に示す場合とでは、ａ≠ｂであるので、測定値が
異なってしまう。また、自重によるたわみのため、肉厚
の薄い試料には適さないという問題がある。
【０００７】第二の方法では、試料が傾いて置かれた場
合や、Ｘ−Ｙステージが傾いている場合など試料面が傾
いている場合、反りの測定値が傾きを含んだ値となって
しまうという問題がある。また、厚みに差を持った試料
であると、厚み差を含んだ値となってしまうという問題
がある。
合や、Ｘ−Ｙステージが傾いている場合など試料面が傾
いている場合、反りの測定値が傾きを含んだ値となって
しまうという問題がある。また、厚みに差を持った試料
であると、厚み差を含んだ値となってしまうという問題
がある。
【０００８】特に、磁気抵抗型磁気ヘッドによって電磁
変換される磁気ディスクに使用されるガラス基板におい
ては、反り値の規格が非常に厳しく、従来の測定方法で
は対処しきれないという問題がある。
変換される磁気ディスクに使用されるガラス基板におい
ては、反り値の規格が非常に厳しく、従来の測定方法で
は対処しきれないという問題がある。
【０００９】本発明は上述した背景の下になされたもの
であり、試料の置き方や試料面の傾きの影響を受けずに
正確に反り値の測定ができる反り値の測定方法及び測定
装置の提供を目的とする。
であり、試料の置き方や試料面の傾きの影響を受けずに
正確に反り値の測定ができる反り値の測定方法及び測定
装置の提供を目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の反り値の測定方法は、試料表面の位置座標
（ｘi，ｙi，ｚi）を複数点で測定し、それらの位置座
標から試料表面が本来持つべき仮想平面を求め、この仮
想平面に対する実際の試料表面の変位を求め、これに基
づき反り値を求める構成としてある。
に本発明の反り値の測定方法は、試料表面の位置座標
（ｘi，ｙi，ｚi）を複数点で測定し、それらの位置座
標から試料表面が本来持つべき仮想平面を求め、この仮
想平面に対する実際の試料表面の変位を求め、これに基
づき反り値を求める構成としてある。
【００１１】また、本発明の反り値の測定方法は、上記
本発明の反り値の測定方法において、最小二乗法により
仮想平面の式を求める構成、仮想平面に対する実際の試
料表面との変位の最大値と最小値との差を反り値とする
構成、試料が、ガラス基板である構成、あるいは、試料
が、磁気抵抗型磁気ヘッドによって電磁変換される磁気
ディスクに使用されるガラス基板である構成としてあ
る。
本発明の反り値の測定方法において、最小二乗法により
仮想平面の式を求める構成、仮想平面に対する実際の試
料表面との変位の最大値と最小値との差を反り値とする
構成、試料が、ガラス基板である構成、あるいは、試料
が、磁気抵抗型磁気ヘッドによって電磁変換される磁気
ディスクに使用されるガラス基板である構成としてあ
る。
【００１２】さらに、本発明の情報記録媒体の製造方法
は、上基本発明の反り値の測定方法によって測定された
情報記録媒体用ガラス基板上に、少なくとも記録層を形
成する構成としてある。
は、上基本発明の反り値の測定方法によって測定された
情報記録媒体用ガラス基板上に、少なくとも記録層を形
成する構成としてある。
【００１３】また、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板
又は薄板の反り値の測定装置は、試料表面の位置座標
（ｘi，ｙi，ｚi）を複数点で測定する手段と、それら
の位置座標から試料表面が本来持つべき仮想平面を求め
る手段と、この仮想平面に対する実際の試料表面の変位
を求め、これに基づき反り値を求める手段とを具備する
構成としてある。
又は薄板の反り値の測定装置は、試料表面の位置座標
（ｘi，ｙi，ｚi）を複数点で測定する手段と、それら
の位置座標から試料表面が本来持つべき仮想平面を求め
る手段と、この仮想平面に対する実際の試料表面の変位
を求め、これに基づき反り値を求める手段とを具備する
構成としてある。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
【００１５】本発明では、まず、試料表面の位置座標
（ｘi，ｙi，ｚi）を複数点で測定し、それらの位置座
標から試料表面が本来持つべき仮想平面を求める。
（ｘi，ｙi，ｚi）を複数点で測定し、それらの位置座
標から試料表面が本来持つべき仮想平面を求める。
【００１６】ここで、試料表面が本来持つべき仮想平面
とは、試料表面が実際に持つ平面に対し、近似法によっ
て求められる平面を指す。
とは、試料表面が実際に持つ平面に対し、近似法によっ
て求められる平面を指す。
【００１７】試料表面の位置座標（ｘi，ｙi，ｚi）を
複数点で測定するには、例えば、試料平面座標（ｘi，
ｙi）における試料表面の高さ（ｚi）を複数点ｎで測定
する。試料表面の位置座標（ｘi，ｙi，ｚi）を複数点
で測定する具体的手段は特に制限されず、周知の測定手
段を採用できる。具体的には、例えば、試料をＸ−Ｙス
テージに載せ、Ｘ−ＹステージをＸ−Ｙ方向に移動させ
てその移動量から試料平面座標（ｘi，ｙi）を求め、そ
の位置における変位（ｚi）をレーザー変位計で測定す
る方法、あるいは、定盤上に試料を置き、定盤面と水平
な面内でＸ−Ｙ方向に移動する変位計で移動量及び変位
を測定して、試料表面の位置座標（ｘi，ｙi，ｚi）を
求める方法等が挙げられる。測定点の数ｎは特に制限さ
れないが、測定点の数ｎが少ないと仮想平面の式を求め
る計算は楽であるが誤差が大きくなり、逆に測定点の数
ｎが多いと仮想平面の式を求める計算は大変であるが近
似精度は向上する。したがって、これらの得失を考慮し
て測定点の数ｎを決定すればよい。測定点の数ｎは、１
０〜２０００程度が好ましい。
複数点で測定するには、例えば、試料平面座標（ｘi，
ｙi）における試料表面の高さ（ｚi）を複数点ｎで測定
する。試料表面の位置座標（ｘi，ｙi，ｚi）を複数点
で測定する具体的手段は特に制限されず、周知の測定手
段を採用できる。具体的には、例えば、試料をＸ−Ｙス
テージに載せ、Ｘ−ＹステージをＸ−Ｙ方向に移動させ
てその移動量から試料平面座標（ｘi，ｙi）を求め、そ
の位置における変位（ｚi）をレーザー変位計で測定す
る方法、あるいは、定盤上に試料を置き、定盤面と水平
な面内でＸ−Ｙ方向に移動する変位計で移動量及び変位
を測定して、試料表面の位置座標（ｘi，ｙi，ｚi）を
求める方法等が挙げられる。測定点の数ｎは特に制限さ
れないが、測定点の数ｎが少ないと仮想平面の式を求め
る計算は楽であるが誤差が大きくなり、逆に測定点の数
ｎが多いと仮想平面の式を求める計算は大変であるが近
似精度は向上する。したがって、これらの得失を考慮し
て測定点の数ｎを決定すればよい。測定点の数ｎは、１
０〜２０００程度が好ましい。
【００１８】本発明では、上記で求めた複数の位置座標
から試料表面が本来持つべき仮想平面の式を求める。近
似法は特に制限されず周知の数学理論を利用できる。近
似法としては、例えば、最小二乗法などが挙げられる。
この場合、例えば試料の特性等に応じて、補正や修正を
加えることができる。
から試料表面が本来持つべき仮想平面の式を求める。近
似法は特に制限されず周知の数学理論を利用できる。近
似法としては、例えば、最小二乗法などが挙げられる。
この場合、例えば試料の特性等に応じて、補正や修正を
加えることができる。
【００１９】本発明では、上記で求めた仮想平面と実際
の試料表面との距離を求め、これに基づき反り値を求め
る。この場合、実際の試料表面の複数点における位置座
標（ｘi，ｙi，ｚi）は測定済みであるのでそのデータ
ーを保存しておき、これらの測定点の平面座標（ｘi，
ｙi）を仮想平面の式にあてはめて対応する仮想平面か
らの高さ（ｚi’）をそれぞれ算出し保存する。これら
の保存データーから仮想平面に対する実際の試料表面の
変位を求める。これらの作業は近年性能向上の著しいパ
ーソナルコンピューター等で容易かつ低コストで行うこ
とができる。
の試料表面との距離を求め、これに基づき反り値を求め
る。この場合、実際の試料表面の複数点における位置座
標（ｘi，ｙi，ｚi）は測定済みであるのでそのデータ
ーを保存しておき、これらの測定点の平面座標（ｘi，
ｙi）を仮想平面の式にあてはめて対応する仮想平面か
らの高さ（ｚi’）をそれぞれ算出し保存する。これら
の保存データーから仮想平面に対する実際の試料表面の
変位を求める。これらの作業は近年性能向上の著しいパ
ーソナルコンピューター等で容易かつ低コストで行うこ
とができる。
【００２０】上記結果から反り値をどのように定めても
よいが、通常は、仮想平面に対する実際の試料表面の変
位の最大値と最小値との差を反り値とする。
よいが、通常は、仮想平面に対する実際の試料表面の変
位の最大値と最小値との差を反り値とする。
【００２１】本発明では、表裏両面から測定を行い、そ
れぞれ仮想平面の式を求め、厚みの差を考慮してそれら
の平均によって仮想平面の式を求め、より精度の向上を
図ることもできる。
れぞれ仮想平面の式を求め、厚みの差を考慮してそれら
の平均によって仮想平面の式を求め、より精度の向上を
図ることもできる。
【００２２】また、試料の周縁にそって測定を行い、そ
れらの点を通る仮想平面（基準平面）を求め、これに基
づき反り値を求めてもよい。
れらの点を通る仮想平面（基準平面）を求め、これに基
づき反り値を求めてもよい。
【００２３】試料は特に制限されないが、平坦性が厳し
く要求され、反り値の低減が求められる情報記録媒体用
ガラス基板や、ディスプレイ用ガラス基板、その他、電
子光学素子用のガラス基板などにおける反り値の測定に
好適に使用できる。特に、近年益々反り値の規格が非常
に厳しくなりつつある磁気抵抗型磁気ヘッドによって電
磁変換される磁気ディスクに使用されるガラス基板等に
おける反り値の測定に特に好適に使用できる。また、ガ
ラスパッケージの樹脂フレーム面及びガラス面の測定に
も好適に使用できる。さらに、テーブルに置くと自重で
撓んでしまうような薄板であっても、吊り下げた形で測
定できるので、薄板の測定にも好適に使用できる。
く要求され、反り値の低減が求められる情報記録媒体用
ガラス基板や、ディスプレイ用ガラス基板、その他、電
子光学素子用のガラス基板などにおける反り値の測定に
好適に使用できる。特に、近年益々反り値の規格が非常
に厳しくなりつつある磁気抵抗型磁気ヘッドによって電
磁変換される磁気ディスクに使用されるガラス基板等に
おける反り値の測定に特に好適に使用できる。また、ガ
ラスパッケージの樹脂フレーム面及びガラス面の測定に
も好適に使用できる。さらに、テーブルに置くと自重で
撓んでしまうような薄板であっても、吊り下げた形で測
定できるので、薄板の測定にも好適に使用できる。
【００２４】
【実施例】以下、実施例にもとづき本発明をさらに詳細
に説明する。
に説明する。
【００２５】実施例１ 図１は、本発明の一実施例に係る反り値の測定方法を説
明するための斜視図である。同図に示すように、レーザ
ー変位計１を用い、直径６６ｍｍφの磁気ディスク用ガ
ラス基板表面（実際の試料面２）上の複数点ｎにおいて
試料の平面座標（ｘi，ｙi）における変位（高さ）（ｚ
i）を測定する。測定点４の数ｎは６２０点とした。
明するための斜視図である。同図に示すように、レーザ
ー変位計１を用い、直径６６ｍｍφの磁気ディスク用ガ
ラス基板表面（実際の試料面２）上の複数点ｎにおいて
試料の平面座標（ｘi，ｙi）における変位（高さ）（ｚ
i）を測定する。測定点４の数ｎは６２０点とした。
【００２６】試料表面が本来持つべき平面（仮想平面）
３の式をａｘ＋ｂｙ＋ｃｚ＋ｄ＝０とし、
３の式をａｘ＋ｂｙ＋ｃｚ＋ｄ＝０とし、
【００２７】下記（１）式に示すｎ個の式から仮想平面
の式におけるａ，ｂ，ｃ，ｄを求め、仮想平面の式を求
める。
の式におけるａ，ｂ，ｃ，ｄを求め、仮想平面の式を求
める。
【００２８】
【数１】
【００２９】具体的には、下記（２）式に示す連立方程
式より、ａ，ｂ，ｃ，ｄを求める。
式より、ａ，ｂ，ｃ，ｄを求める。
【００３０】
【数２】
【００３１】上記（３）式で求めたａ，ｂ，ｃ，ｄの値
を用いて、測定点Ｐi（ｘi，ｙi，ｚi）における変位ｔ
iは、下記（３）式で求まる。
を用いて、測定点Ｐi（ｘi，ｙi，ｚi）における変位ｔ
iは、下記（３）式で求まる。
【００３２】
【数３】
【００３３】上記（３）式で求めた変位ｔiにおける最
大値と最小値との差を反り値ｔとする。
大値と最小値との差を反り値ｔとする。
【００３４】なお、試料を再度セットしたり、試料の向
きを変えたり、試料に故意に傾きを与えて同様の測定を
行ったが、測定値の違いは１μｍ以内であった。
きを変えたり、試料に故意に傾きを与えて同様の測定を
行ったが、測定値の違いは１μｍ以内であった。
【００３５】上記本発明の反り値の測定方法によって、
ミクロンオーダーで反り値を測定することができた。
ミクロンオーダーで反り値を測定することができた。
【００３６】実施例２ 上記で得られた磁気ディスク用ガラス基板の両面に、イ
ンライン式のスパッタリング装置を用いて、Ｃｒ下地
層、ＣｒＭｏ下地層、ＣｏＰｔＣｒＴａ磁性層、Ｃ保護
層を順次成膜して磁気ディスクを得た。
ンライン式のスパッタリング装置を用いて、Ｃｒ下地
層、ＣｒＭｏ下地層、ＣｏＰｔＣｒＴａ磁性層、Ｃ保護
層を順次成膜して磁気ディスクを得た。
【００３７】得られた磁気ディスクについて、反り値を
調べたところ、磁気ディスク用ガラス基板の反り値を試
料の置き方や試料面の傾きの影響を受けずに正確に測定
してあり、再度同様の方法で測定を行っているので、両
者の反り値の違いは誤差の範囲内であった。すなわち、
本発明方法はデーターの信頼性が高く、磁気ディスク製
造後の出荷検査あるいは入荷検査において反り値の値が
規格外であるため不良とされるケースが激減できる。
調べたところ、磁気ディスク用ガラス基板の反り値を試
料の置き方や試料面の傾きの影響を受けずに正確に測定
してあり、再度同様の方法で測定を行っているので、両
者の反り値の違いは誤差の範囲内であった。すなわち、
本発明方法はデーターの信頼性が高く、磁気ディスク製
造後の出荷検査あるいは入荷検査において反り値の値が
規格外であるため不良とされるケースが激減できる。
【００３８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の反り値の
測定方法及び測定装置によれば、試料の置き方や試料面
の傾きの影響を受けずに正確に反り値の測定ができる。
測定方法及び測定装置によれば、試料の置き方や試料面
の傾きの影響を受けずに正確に反り値の測定ができる。
【図１】本発明の一実施例に係る反り値の測定方法を説
明するための斜視図である。
明するための斜視図である。
【図２】従来の反り値の測定方法の例を説明するための
正面図である。
正面図である。
１ レーザー変位計 ２ 実際の試料面 ３ 仮想平面 ４ 測定点
Claims (7)
- 【請求項１】 試料表面の位置座標（ｘi，ｙi，ｚi）
を複数点で測定し、それらの位置座標から試料表面が本
来持つべき仮想平面を求め、この仮想平面と実際の試料
表面との距離を求め、これに基づき反り値を求めること
を特徴とする反り値の測定方法。 - 【請求項２】 最小二乗法により仮想平面の式を求める
こと特徴とする請求項１記載の反り値の測定方法。 - 【請求項３】 仮想平面と実際の試料表面との変位の最
大値と最小値との差を反り値とすることを特徴とする請
求項１又は２記載の反り値の測定方法。 - 【請求項４】 試料が、ガラス基板であることを特徴と
する請求項１乃至３記載の反り値の測定方法。 - 【請求項５】 試料が、磁気抵抗型磁気ヘッドによって
電磁変換される磁気ディスクに使用されるガラス基板で
あることを特徴とする請求項１乃至４記載の反り値の測
定方法。 - 【請求項６】 請求項１乃至５に記載された反り値の測
定方法によって測定された情報記録媒体用ガラス基板上
に、少なくとも記録層を形成することを特徴とする情報
記録媒体の製造方法。 - 【請求項７】 試料表面の位置座標（ｘi，ｙi，ｚi）
を複数点で測定する手段と、 それらの位置座標から試料表面が本来持つべき仮想平面
を求める手段と、 この仮想平面に対する実際の試料表面の変位を求め、こ
れに基づき反り値を求める手段とを具備することを特徴
とする磁気記録媒体用ガラス基板又は薄板の反り値の測
定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17650297A JPH116726A (ja) | 1997-06-17 | 1997-06-17 | 反り値の測定方法及び測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17650297A JPH116726A (ja) | 1997-06-17 | 1997-06-17 | 反り値の測定方法及び測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH116726A true JPH116726A (ja) | 1999-01-12 |
Family
ID=16014771
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17650297A Pending JPH116726A (ja) | 1997-06-17 | 1997-06-17 | 反り値の測定方法及び測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH116726A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007121183A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Hioki Ee Corp | 回路基板検査装置 |
| JP2008134127A (ja) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Seiko Instruments Inc | 自動薄切装置及び自動薄切方法 |
| JP2009521674A (ja) * | 2005-12-22 | 2009-06-04 | タッチダウン・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | プローブカード組立体 |
| DE112009003641B4 (de) | 2008-11-21 | 2018-05-30 | The Yokohama Rubber Co., Ltd. | Luftreifen |
| WO2024014340A1 (ja) * | 2022-07-13 | 2024-01-18 | 日本電気硝子株式会社 | マザーガラス板およびマザーガラス板の製造方法 |
-
1997
- 1997-06-17 JP JP17650297A patent/JPH116726A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007121183A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Hioki Ee Corp | 回路基板検査装置 |
| JP2009521674A (ja) * | 2005-12-22 | 2009-06-04 | タッチダウン・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | プローブカード組立体 |
| JP2008134127A (ja) * | 2006-11-28 | 2008-06-12 | Seiko Instruments Inc | 自動薄切装置及び自動薄切方法 |
| DE112009003641B4 (de) | 2008-11-21 | 2018-05-30 | The Yokohama Rubber Co., Ltd. | Luftreifen |
| WO2024014340A1 (ja) * | 2022-07-13 | 2024-01-18 | 日本電気硝子株式会社 | マザーガラス板およびマザーガラス板の製造方法 |
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