JPH1166634A - Manufacture and device of master disk of optical disk stamper - Google Patents
Manufacture and device of master disk of optical disk stamperInfo
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- JPH1166634A JPH1166634A JP22265497A JP22265497A JPH1166634A JP H1166634 A JPH1166634 A JP H1166634A JP 22265497 A JP22265497 A JP 22265497A JP 22265497 A JP22265497 A JP 22265497A JP H1166634 A JPH1166634 A JP H1166634A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク製造用
スタンパの原盤を作製する方法および装置に関するもの
である。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method and an apparatus for producing a master of a stamper for manufacturing an optical disk.
【0002】[0002]
【従来の技術】例えばコンパクトディスクなどの再生専
用型の光ディスクは、一般に、情報信号に対応した無数
の凹凸を透明基板上に形成し、さらにアルミニウム反射
膜や保護膜を設けた構成となっている。この情報信号に
対応した無数の凹凸を透明基板に形成する方法として
は、射出成形法、圧縮成形法、射出成形圧縮法、ガラス
2P(Photo Polymer)法など知られてい
るが、成形サイクルが短く、転写性に優れ、大量生産に
適していることから、射出成形法が主流となっている。2. Description of the Related Art For example, a read-only optical disk such as a compact disk generally has a structure in which innumerable irregularities corresponding to information signals are formed on a transparent substrate and further provided with an aluminum reflective film and a protective film. . As a method of forming countless irregularities corresponding to the information signal on the transparent substrate, an injection molding method, a compression molding method, an injection molding compression method, a glass 2P (Photo Polymer) method, and the like are known, but the molding cycle is short. Injection molding is the mainstream because of excellent transferability and suitable for mass production.
【0003】射出成形法では、透明基板に形成すべき情
報信号の凹凸パターンを反転させた凹凸パターンを有す
るスタンパを作製し、そのスタンパを金型に取り付け、
金型中にディスク材料を射出することで、情報の凹凸パ
ターンが形成された透明基板が作製される。したがっ
て、透明基板を作製するためには、スタンパをまず作製
する必要があるが、このスタンパの作製工程は従来、次
のようなものとなっていた。図3は従来の光ディスクの
スタンパ作製工程を示す工程図である。この工程は、ス
タンパの型となるスタンパ原盤を作製する工程と、その
スタンパ原盤を用いて最終的にスタンパを作製する工程
とから成る。In the injection molding method, a stamper having a concavo-convex pattern obtained by inverting a concavo-convex pattern of an information signal to be formed on a transparent substrate is manufactured, and the stamper is attached to a mold.
By injecting the disk material into the mold, a transparent substrate having an information uneven pattern formed thereon is produced. Therefore, in order to manufacture a transparent substrate, it is necessary to first manufacture a stamper, and the manufacturing process of this stamper has conventionally been as follows. FIG. 3 is a process diagram showing a conventional optical disk stamper manufacturing process. This step includes a step of manufacturing a stamper master serving as a stamper mold, and a step of finally manufacturing a stamper using the stamper master.
【0004】最初に、スタンパ原盤を作製するため、ま
ず、極めて平滑性の高いガラス基板を用意し、図3の
(A)に示したように、このガラス基板102をテーブ
ル104上に固定する。なお、テーブル104は回転軸
106の上部に取り付けられ、回転軸106が不図示の
モータにより駆動されることで回転可能となっている。
この状態で、ガラス基板102の表面をCeO2 (酸化
セリウム)などの研磨剤108および研磨布109など
を用いて研磨し、表面の汚れを除去すると共に極めて微
細な傷に至るまで除去する。つづいて、このガラス基板
102の表面を超音波洗浄などの方法で洗浄し残存して
いる研磨剤108を除去した後、乾燥させる。First, in order to manufacture a stamper master, an extremely smooth glass substrate is first prepared, and this glass substrate 102 is fixed on a table 104 as shown in FIG. The table 104 is mounted on the upper part of the rotating shaft 106, and is rotatable by driving the rotating shaft 106 by a motor (not shown).
In this state, the surface of the glass substrate 102 is polished using an abrasive 108 such as CeO 2 (cerium oxide) and a polishing cloth 109 to remove dirt on the surface and to remove extremely fine scratches. Subsequently, the surface of the glass substrate 102 is cleaned by a method such as ultrasonic cleaning to remove the remaining abrasive 108, and then dried.
【0005】次に、図3の(B)に示したように、ガラ
ス基板102の表面にプライマー110を塗布し、そし
て乾燥させる。その後、プライマー110を塗布したガ
ラス基板102の表面に図3の(C)に示したように、
ポジ型のフォトレジスト112を塗布し、そして、有機
溶剤分を揮発させるため、ホットプレートあるいはコン
ベクションオーブンなどで加熱してプリベークを行う。
なお、プライマー110は、フォトレジスト112とガ
ラス基板102の表面との密着性を高めるために塗布す
るものであり、プライマー110としては一般にHMD
S(Hexa Methyl Di Silazane )、シランカップリ
ング剤、チタンカップリング剤などが用いられている。Next, as shown in FIG. 3B, a primer 110 is applied to the surface of the glass substrate 102 and dried. Then, as shown in FIG. 3C, the surface of the glass substrate 102 coated with the primer 110 is
A positive photoresist 112 is applied, and prebaking is performed by heating with a hot plate or a convection oven in order to volatilize the organic solvent.
Note that the primer 110 is applied to enhance the adhesion between the photoresist 112 and the surface of the glass substrate 102.
S (Hexa Methyl Di Silazane), a silane coupling agent, a titanium coupling agent and the like are used.
【0006】次に、図3の(D)に示したように、フォ
トレジスト112が塗布されたガラス基板102を、光
学カッティングマシンにセットし、レーザ光Lを照射す
ることで、所定の情報信号に対応したパターンでフォト
レジスト112を露光する。つづいて、図3の(E)に
示したように、ガラス基板102を現像機内に移して、
フォトレジスト112を現像液114で処理し、露光部
分を現像除去する。その結果、図3の(F)に示したよ
うな情報信号に対応した凹凸パターンを有するスタンパ
原盤116が得られる。Next, as shown in FIG. 3D, the glass substrate 102 coated with the photoresist 112 is set on an optical cutting machine and irradiated with a laser beam L, thereby obtaining a predetermined information signal. The photoresist 112 is exposed to light in a pattern corresponding to. Subsequently, as shown in FIG. 3E, the glass substrate 102 was moved into a developing machine,
The photoresist 112 is treated with a developing solution 114, and the exposed portions are developed and removed. As a result, a stamper master 116 having a concavo-convex pattern corresponding to the information signal as shown in FIG.
【0007】次に、図3の(G)に示したように、この
スタンパ原盤116を型として、スパッタリング法、蒸
着法、無電解メッキ法などの方法でニッケルなどの金属
皮膜118を形成する。さらに、図3の(H)に示した
ように、この金属皮膜118を電極として電気メッキ法
によって所望の厚さに電気メッキ膜120を析出形成す
る。Next, as shown in FIG. 3G, a metal film 118 of nickel or the like is formed by a method such as a sputtering method, a vapor deposition method, and an electroless plating method using the stamper master 116 as a mold. Further, as shown in FIG. 3H, an electroplating film 120 is deposited and formed to a desired thickness by electroplating using the metal film 118 as an electrode.
【0008】その後、金属皮膜118および電気メッキ
膜120をガラス基板102から引き剥し、さらに、表
面に残存しているフォトレジスト112を洗い流し、そ
して乾燥させる。最後に、周辺部の余分な金属をプレス
除去することにより、図3の(I)に示すようなスタン
パ122が完成する。Thereafter, the metal film 118 and the electroplating film 120 are peeled off from the glass substrate 102, and the photoresist 112 remaining on the surface is washed away and dried. Finally, a stamper 122 as shown in FIG. 3I is completed by press-removing excess metal in the peripheral portion.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】上述のようにスタンパ
原盤116を作製する工程では、ガラス基板102とフ
ォトレジスト112との密着性を向上させるために、H
MDS、シランカップリング剤、チタンカップリング剤
などのプライマーが用いられているが、どのプライマー
も以下のようにそれぞれ問題を有している。In the process of manufacturing the stamper master 116 as described above, in order to improve the adhesion between the glass substrate 102 and the photoresist 112, H
Primers such as MDS, a silane coupling agent, and a titanium coupling agent are used, but all of them have problems as described below.
【0010】まず、HMDSを用いた場合には、スピン
コータなどにより基板上に塗布し、回転振り切りを行っ
て乾燥させるだけでよく、HMDSを塗布するための工
程は非常に簡素である。しかし、他のプライマーに比べ
て密着力の点で劣るという欠点がある。この密着力が弱
い場合には、金属皮膜118および電気メッキ膜12
0、すなわちスタンパ122をスタンパ原盤116から
引き剥す際に、フォトレジスト112が金属皮膜118
側に付着して残存し易い。残存したフォトレジスト11
2はアセトンなどの有機溶剤で洗い流すことができる
が、フォトレジスト112の残存量が多い場合には除去
しきれないことがある。そして、フォトレジスト112
が完全に除去できなかった場合には、そのようなスタン
パ122を用いて光ディスクを成形すると、光ディスク
にムラやシミが発生して情報信号の凹凸が正しく形成さ
れなかったり、あるいは離型不良が生じ、製造歩留りが
低下する結果となる。[0010] First, when HMDS is used, it is only necessary to apply it on a substrate by a spin coater or the like, and then to spin off and dry, and the process for applying HMDS is very simple. However, there is a disadvantage that the adhesion is inferior to other primers. If the adhesion is weak, the metal film 118 and the electroplated film 12
0, that is, when the stamper 122 is peeled off from the stamper master 116, the photoresist 112
It easily adheres to the side and remains. Residual photoresist 11
2 can be washed away with an organic solvent such as acetone, but may not be completely removed when the remaining amount of the photoresist 112 is large. Then, the photoresist 112
If the stamper 122 could not be completely removed, molding the optical disk using such a stamper 122 would cause unevenness or spots on the optical disk, causing irregularities in the information signal to be incorrectly formed, or a mold release defect. As a result, the manufacturing yield is reduced.
【0011】次に、シランカップリング剤は、HMDS
に比べ密着力が強く、HMDSのような問題は起りにく
い。しかし、ガラス基板102に例えばディッピング法
などで塗布した後、超純水で洗浄し、IPA(Iso P
ropyl Alcohol)乾燥させて、さらに120°Cで2時
間ベークしてから除冷するといった処理を行わなければ
ならず、HMDSに比べて非常に時間がかかり、また、
洗浄機やオーブンなどの専用設備を設けなければならな
い。Next, the silane coupling agent is HMDS
And the problem like HMDS is unlikely to occur. However, after applying to the glass substrate 102 by, for example, a dipping method or the like, the substrate is washed with ultrapure water, and IPA (IsoP
ropyl alcohol), drying, baking at 120 ° C. for 2 hours, and then cooling down. This takes much time compared to HMDS, and
Special equipment such as a washing machine and an oven must be provided.
【0012】一方、チタンカップリング剤は、シランカ
ップリング剤と同様、強い密着力を有し、ガラス基板1
02に対する塗布工程も、一般にフォトレジスト112
の溶剤で希釈してスピンコータなどで塗布し、回転振り
切り乾燥させればよく、簡単である。しかし、チタンカ
ップリング剤は、取り扱いが難しく、空気中に放置する
だけで空気中の水分と反応して白く結晶化する。したが
って、プライマーを塗布するノズル先端にチタンカップ
リング剤が付着して固化し、固化したチタンカップリン
グ剤がガラス基板102上に落下するなどして表面に付
着するという問題が発生し易い。固化したチタンカップ
リング剤がガラス基板102に付着すると、フォトレジ
スト塗布後にムラやシミとなって現れて良好なスタンパ
原盤116が得られず、このような原盤でスタンパ12
2を作製しても情報信号の凹凸は正しく形成さないの
で、結局、光ディスクの製造歩留りが低下する。また、
いずれのプライマーの場合にも、程度の差はあれ、乾燥
などにより固化したプライマーがガラス基板102に付
着するという問題が発生している。On the other hand, the titanium coupling agent has a strong adhesive force like the silane coupling agent, and
In general, the coating process for the photoresist 112
Simply dilute with a solvent, apply with a spin coater or the like, and spin off and dry. However, the titanium coupling agent is difficult to handle, and reacts with moisture in the air to crystallize white just by being left in the air. Therefore, a problem that the titanium coupling agent adheres to the tip of the nozzle to which the primer is applied and solidifies, and the solidified titanium coupling agent drops on the glass substrate 102 and adheres to the surface easily occurs. When the solidified titanium coupling agent adheres to the glass substrate 102, it appears as unevenness or spots after the application of the photoresist, and a good stamper master 116 cannot be obtained.
Even if No. 2 is manufactured, the unevenness of the information signal is not formed correctly, so that the manufacturing yield of the optical disc eventually decreases. Also,
In either case, there is a problem that the primer solidified by drying or the like adheres to the glass substrate 102 to some extent.
【0013】そこで、本発明の目的は、簡素な設備およ
び簡単な工程で、固化したプライマーがガラス基板に付
着することを防止し、さらにガラス基板に対するフォト
レジストの密着力を高めることが可能な光ディスクのス
タンパ原盤作製方法および装置を提供することにある。Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical disk capable of preventing the solidified primer from adhering to a glass substrate with a simple facility and a simple process, and further capable of increasing the adhesion of a photoresist to the glass substrate. To provide a stamper master production method and apparatus.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】本発明の光ディスクのス
タンパ原盤作製方法は、上記課題を解決するため、プラ
イマーを塗布した基板上にフォトレジストを塗布し、前
記フォトレジストを記録すべき情報信号にもとづいてパ
ターン化して光ディスクのスタンパ原盤を作製する方法
において、前記プライマーを基板に塗布する前に、前記
フォトレジストの溶剤を基板に塗布し、前記プライマー
をノズルから吐出させて基板に塗布した後に、前記ノズ
ルに前記フォトレジストの前記溶剤を供給して前記溶剤
により前記ノズルを洗浄することを特徴とする。また、
本発明の光ディスクのスタンパ原盤作製装置は、プライ
マーを塗布した基板上にフォトレジストを塗布し、前記
フォトレジストを記録すべき情報信号にもとづいてパタ
ーン化して光ディスクのスタンパ原盤を作製する装置に
おいて、前記プライマーを基板に塗布する前に、前記フ
ォトレジストの溶剤を基板に塗布する溶剤塗布手段と、
前記プライマーをノズルから吐出させて基板に塗布した
後に、前記ノズルに前記フォトレジストの前記溶剤を供
給して前記溶剤により前記ノズルを洗浄するノズル洗浄
手段とを備えたことを特徴とする。In order to solve the above-mentioned problems, a method for producing a stamper master for an optical disk according to the present invention comprises applying a photoresist on a substrate to which a primer has been applied, and applying the photoresist to an information signal to be recorded. In a method of producing a stamper master of an optical disk by patterning based on, before applying the primer to the substrate, after applying the solvent of the photoresist to the substrate, after applying the primer to the substrate by discharging the nozzle from a nozzle, The method may further include supplying the solvent of the photoresist to the nozzle and cleaning the nozzle with the solvent. Also,
The apparatus for manufacturing a stamper master for an optical disc of the present invention is an apparatus for manufacturing a stamper master for an optical disc by applying a photoresist on a substrate coated with a primer and patterning the photoresist based on an information signal to be recorded. Before applying the primer to the substrate, a solvent application means for applying the photoresist solvent to the substrate,
After applying the primer to the substrate by discharging the primer from a nozzle, a nozzle cleaning means for supplying the solvent of the photoresist to the nozzle and cleaning the nozzle with the solvent is provided.
【0015】本発明では、プライマーをノズルから吐出
させて基板に塗布した後に、ノズルにフォトレジストの
溶剤を供給して溶剤によりノズルを洗浄するので、ノズ
ルの先端部に付着したプライマーは洗い流される。その
ため、固化したプライマーが基板上に落下するなどして
付着し、悪影響を及ぼすという問題は発生しない。した
がってまた、チタンカップリング剤などのように強い密
着力は得られるが、固化し易いという欠点を持つプライ
マーを用いることができ、フォトレジストの基板に対す
る密着力を高めることができる。さらに、本発明では、
プライマーを基板に塗布する前に、フォトレジストの溶
剤を基板に塗布するため、基板上の水分は溶剤の揮発と
共に乾燥排除され、さらに、フォトレジストの溶剤、す
なわちプライマーの希釈溶剤を塗布しておくことで基板
の濡れ性が高まる。したがって、プライマーの効果が一
層強く発揮され、基板とフォトレジストとの密着性が向
上する。In the present invention, after the primer is discharged from the nozzle and applied to the substrate, the photoresist solvent is supplied to the nozzle and the nozzle is washed with the solvent, so that the primer attached to the tip of the nozzle is washed away. Therefore, there is no problem that the solidified primer adheres by dropping onto the substrate and adversely affects the primer. Therefore, although a strong adhesive force such as a titanium coupling agent can be obtained, a primer having a drawback of being easily solidified can be used, and the adhesive force of the photoresist to the substrate can be increased. Further, in the present invention,
Before applying the primer to the substrate, the solvent of the photoresist is applied to the substrate, so that the moisture on the substrate is removed by drying together with the evaporation of the solvent, and the solvent of the photoresist, that is, the diluting solvent for the primer is applied. This increases the wettability of the substrate. Therefore, the effect of the primer is exerted more strongly, and the adhesion between the substrate and the photoresist is improved.
【0016】[0016]
【発明の実施の形態】次に本発明を実施の形態例にもと
づき図面を参照して説明する。図1は本実施の形態例の
光ディスクのスタンパ原盤作製装置によるスタンパ原盤
作製工程を示す要部工程図、図2は本実施の形態例の光
ディスクのスタンパ原盤作製装置を示す要部構成図であ
る。図中、図3と同一の要素には同一の符号を付した。
以下ではこれらの図を参照して本実施の形態例の光ディ
スクのスタンパ原盤作製装置について説明する同時に本
発明の光ディスクのスタンパ原盤作製方法の実施の形態
例について説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, the present invention will be described based on embodiments with reference to the drawings. FIG. 1 is a main part process diagram showing a stamper master manufacturing process by the optical disk stamper master manufacturing device of the present embodiment, and FIG. 2 is a main configuration diagram showing an optical disc stamper master manufacturing device of the present embodiment. . In the figure, the same elements as those in FIG. 3 are denoted by the same reference numerals.
Hereinafter, an apparatus for manufacturing a stamper master for an optical disc according to the present embodiment will be described with reference to these drawings, and at the same time, an embodiment of a method for manufacturing a stamper master for an optical disc according to the present invention will be described.
【0017】図2に示したように、この光ディスクのス
タンパ原盤作製装置2は、プライマー供給源4、溶剤供
給源6、ノズル8、配管10、12、弁14、16、コ
ントローラ18などを含んでいる。溶剤供給源6とノズ
ル8とは配管12(溶剤供給配管)により接続され、配
管12の途中には弁16が配設されている。溶剤供給源
6は、不図示の溶剤タンクと、このタンクから溶剤を取
り出して配管12に供給する不図示のポンプとを備えて
いる。溶剤(有機溶剤)は後述するフォトレジストおよ
びプライマーを希釈するためのもので、本実施の形態例
では一例としてPGMEA(Propylene Glycol Mon
omethyl Ether Acetate)を用い、したがってこの溶
剤が溶剤供給源6の上記溶剤タンクに貯留されている。
プライマー供給源4とノズル8とは配管(プライマー供
給配管)10により接続され、配管10の途中には弁1
4が配設されている。プライマー供給源4は、不図示の
プライマータンクと、このタンクからプライマーを取り
出して配管10に供給する不図示のポンプとを備えてい
る。As shown in FIG. 2, the stamper master disc manufacturing apparatus 2 for an optical disk includes a primer supply source 4, a solvent supply source 6, a nozzle 8, pipes 10, 12, valves 14, 16, a controller 18, and the like. I have. The solvent supply source 6 and the nozzle 8 are connected by a pipe 12 (solvent supply pipe), and a valve 16 is provided in the pipe 12. The solvent supply source 6 includes a solvent tank (not shown) and a pump (not shown) which takes out the solvent from the tank and supplies the solvent to the pipe 12. The solvent (organic solvent) is for diluting a photoresist and a primer described later, and in the present embodiment, as an example, PGMEA (Propylene Glycol Mon) is used.
The solvent is therefore stored in the solvent tank of the solvent supply 6.
The primer supply source 4 and the nozzle 8 are connected by a pipe (primer supply pipe) 10.
4 are provided. The primer supply source 4 includes a primer tank (not shown) and a pump (not shown) that takes out the primer from the tank and supplies it to the pipe 10.
【0018】なお、本実施の形態例ではプライマーとし
てチタンカップリング剤を用い、したがって上記プライ
マータンクには溶剤により希釈されたチタンカップリン
グ剤が貯留されている。このチタンカップリング剤とし
ては具体的には、HULSAMERICA社製のTIA
CA、Dupon社製のTYZO AAなどを用いるこ
とができる。また、チタンカップリング剤を希釈する溶
剤としては、フォトレジストを希釈する上記溶剤、すな
わちPGMEAを用い、本実施の形態例ではチタンカッ
プリング剤はこの溶剤により1%以下に希釈されてい
る。上述した溶剤供給源6、配管12、弁16、ノズル
8などにより本発明に係わる溶剤塗布手段が構成され、
また本実施の形態例ではこの溶剤塗布手段がノズル洗浄
手段をも構成している。一方、プライマー供給源4、配
管10、弁14、ノズル8などにより本発明に係わるプ
ライマー塗布手段が構成されている。In this embodiment, a titanium coupling agent is used as a primer. Therefore, the primer coupling tank stores a titanium coupling agent diluted with a solvent. Specific examples of the titanium coupling agent include TIA manufactured by HULSAMERICA.
TYZO AA manufactured by DuPont, CA or the like can be used. As the solvent for diluting the titanium coupling agent, the above-mentioned solvent for diluting the photoresist, that is, PGMEA is used. In the present embodiment, the titanium coupling agent is diluted to 1% or less with this solvent. The solvent supply means according to the present invention is constituted by the solvent supply source 6, the pipe 12, the valve 16, the nozzle 8, and the like described above,
Further, in the present embodiment, the solvent applying means also constitutes a nozzle cleaning means. On the other hand, the primer supply source 4, the pipe 10, the valve 14, the nozzle 8, and the like constitute a primer coating unit according to the present invention.
【0019】図2に示した駆動手段20は、ノズル8を
駆動して移動させるためのものである。コントローラ1
8はコンピュータにより構成され、弁14、16の開
閉、駆動手段20および上記各ポンプの運転を制御す
る。ガラス基板102はテーブル104上に固定されて
おり、テーブル104は回転軸106の上部に取り付け
られ、回転軸106が不図示のモータにより駆動される
ことで回転する。The driving means 20 shown in FIG. 2 is for driving and moving the nozzle 8. Controller 1
A computer 8 controls the opening and closing of the valves 14 and 16 and the operation of the driving means 20 and the pumps. The glass substrate 102 is fixed on a table 104, and the table 104 is mounted on a rotating shaft 106, and is rotated by driving the rotating shaft 106 by a motor (not shown).
【0020】次に、このように構成された光ディスクの
スタンパ原盤作製装置2を用いて行う光ディスクのスタ
ンパ原盤の作製工程について説明する。まず、ガラス基
板102の研磨を行う。ガラス基板102の研磨は従来
と同様の方法で行い、したがって図3の(A)に示した
ように、ガラス基板102の表面をCeO2などの研磨
剤108および研磨布109などを用いて研磨し、表面
の汚れを除去すると共に極めて微細な傷に至るまで除去
する。そして、ガラス基板102の表面を超音波洗浄な
どの方法で洗浄し残存している研磨剤108を除去した
後、乾燥させる。なお、このときガラス基板102に水
分が残っているとチタンカップリング剤と反応し白く結
晶化してしまうため、ガラス基板102の表面は洗浄後
十分に乾燥させておく。具体的には、回転振り切り乾燥
を行う場合は、1000rpm以上の回転数で3分間以
上回転させることが望ましい。Next, a process of manufacturing a master stamper of an optical disk performed by using the optical disk stamper master manufacturing apparatus 2 configured as described above will be described. First, the glass substrate 102 is polished. Polishing of the glass substrate 102 is performed in the same manner as in the related art. Therefore, as shown in FIG. 3A, the surface of the glass substrate 102 is polished using a polishing agent 108 such as CeO 2 and a polishing cloth 109. It removes dirt on the surface and even very fine flaws. Then, the surface of the glass substrate 102 is cleaned by a method such as ultrasonic cleaning to remove the remaining abrasive 108, and then dried. At this time, if moisture remains on the glass substrate 102, it reacts with the titanium coupling agent and crystallizes white, so that the surface of the glass substrate 102 is sufficiently dried after cleaning. Specifically, in the case of performing the spin-off drying, it is preferable to rotate at 1,000 rpm or more for 3 minutes or more.
【0021】その後、プライマーの塗布に先だって、図
1の(A)に示したように、コントローラ18によって
弁16を一定時間開放し、また溶剤供給源6の上記ポン
プを一定時間運転して、溶剤供給源6から配管12を通
じガラス基板102のほぼ中心上に配置されたノズル8
に溶剤(PGMEA)を供給する。これにより適量の溶
剤28がノズル8から吐出され、ガラス基板102の中
心部に滴下される。そして、テーブル104を500r
pm程度の回転数で約2分間回転させ、振り切り乾燥を
行う。Thereafter, prior to the application of the primer, as shown in FIG. 1A, the valve 16 is opened by the controller 18 for a certain period of time, and the pump of the solvent supply source 6 is operated for a certain period of time. Nozzle 8 arranged substantially on the center of glass substrate 102 through pipe 12 from supply source 6
Is supplied with a solvent (PGMEA). As a result, an appropriate amount of the solvent 28 is discharged from the nozzle 8 and is dropped on the center of the glass substrate 102. Then, the table 104 is set to 500r
Rotate at about rpm for about 2 minutes and shake off to dry.
【0022】次に、コントローラ18により弁14を一
定時間開き、プライマー供給源4の上記ポンプを一定時
間運転して、プライマー供給源4から配管10を通じて
ノズル8にプライマー、すなわちチタンカップリング剤
を供給する。これにより適量のプライマー22がノズル
8から吐出され、ガラス基板102上に滴下される。
なお、このとき、配管10、12の合流点24からノズ
ル8までの配管内には溶剤28が残留しているので、こ
の溶剤が完全に排出されるまでの時間を考慮してプライ
マー22の供給時間を設定する必要がある。Next, the valve 14 is opened for a predetermined time by the controller 18, and the pump of the primer supply source 4 is operated for a certain time to supply a primer, that is, a titanium coupling agent from the primer supply source 4 to the nozzle 8 through the pipe 10. I do. Thereby, an appropriate amount of the primer 22 is discharged from the nozzle 8 and dropped on the glass substrate 102.
At this time, since the solvent 28 remains in the pipe from the junction 24 of the pipes 10 and 12 to the nozzle 8, the supply of the primer 22 is considered in consideration of the time until the solvent is completely discharged. You need to set the time.
【0023】つづいて、コントローラ18により駆動手
段20を制御してノズル8を駆動し、図1の(C)に示
したように、ノズル8をガラス基板102から外れた位
置にまで移動させる。この状態で、コントローラ18に
より再度、弁16を一定時間開放し、また溶剤供給源6
の上記ポンプを一定時間運転して、溶剤供給源6から配
管12を通じノズル8に溶剤28を供給する。これによ
り溶剤がノズル8から吐出され、ノズル8の先端部など
に付着しているプライマー22が洗い流される。Subsequently, the nozzle 18 is driven by controlling the driving means 20 by the controller 18, and the nozzle 8 is moved to a position off the glass substrate 102 as shown in FIG. In this state, the valve 16 is again opened for a predetermined time by the controller 18 and the solvent supply source 6
The above pump is operated for a certain period of time to supply the solvent 28 to the nozzle 8 from the solvent supply source 6 through the pipe 12. As a result, the solvent is discharged from the nozzle 8 and the primer 22 attached to the tip of the nozzle 8 and the like is washed away.
【0024】その後の工程は従来と基本的に同じであ
る。すなわち、図3の(D)に示したように、まずプラ
イマー22が塗布されたガラス基板102上に、ポジ型
のフォトレジスト112をノズルを通じ供給して塗布
し、ガラス基板102と共にテーブル104を回転させ
て振り切り乾燥させる。その際、テーブル104の回転
数と回転時間を調整することにより、フォトレジスト1
12の厚さを適切に設定することができる。なお、フォ
トレジスト112としては、例えば東京応化製のOFP
R77、シプレイ社製のS1805、ヘキスト社製のA
Z6112、日本合成ゴム社製のGX250ELSなど
のノボラック樹脂(キノンジアジド系のポジ型フォトレ
ジスト)などを用いることができる。The subsequent steps are basically the same as in the prior art. That is, as shown in FIG. 3D, first, a positive photoresist 112 is supplied through a nozzle onto the glass substrate 102 to which the primer 22 has been applied, and the positive photoresist 112 is applied, and the table 104 is rotated together with the glass substrate 102. And shake off to dry. At this time, by adjusting the number of rotations and the rotation time of the table 104, the photoresist 1
12 can be set appropriately. The photoresist 112 is, for example, an OFP manufactured by Tokyo Ohka.
R77, Shipley S1805, Hoechst A
Novolak resins (quinonediazide-based positive photoresists) such as ZX1122 and GX250ELS manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd. can be used.
【0025】つづいて、プリベークを行い、さらに図3
の(D)および(E)に示したように、レーザ光による
露光および現像液114による現像処理を行って露光部
分を現像除去することで、図3の(F)に示したような
情報信号に対応した凹凸パターンを有するスタンパ原盤
が完成する。そして、このスタンパ原盤を型として、図
3の(G)および(H)に示したように金属皮膜118
を形成し、さらに電気メッキによって電気メッキ膜12
0を形成した後、金属皮膜118および電気メッキ膜1
20をガラス基板102からの引き剥すことで、図3の
(I)に示した光ディスクのスタンパ122が得られ
る。Subsequently, pre-baking is performed, and FIG.
As shown in (D) and (E) of FIG. 3, by exposing with a laser beam and developing with a developing solution 114 to develop and remove the exposed portion, an information signal as shown in (F) of FIG. A stamper master having a concavo-convex pattern corresponding to the above is completed. Then, using this stamper master as a mold, as shown in FIGS.
Is formed, and the electroplating film 12 is formed by electroplating.
0, the metal film 118 and the electroplated film 1
By peeling 20 from the glass substrate 102, the stamper 122 of the optical disk shown in FIG.
【0026】このように本実施の形態例では、プライマ
ー22をノズル8から吐出させてガラス基板102に塗
布した後に、ノズル8にフォトレジスト112の溶剤を
供給して溶剤によりノズル8を洗浄するので、ノズル8
の先端部などに付着したプライマー22は洗い流され
る。したがって、本実施の形態例のようにプライマー2
2として、空気中の水分などと反応して結晶を形成し固
化し易いチタンカップリング剤を用いた場合にも、ノズ
ル8の先端部などに付着したチタンカップリング剤は洗
い流されるため、固化したチタンカップリング剤がガラ
ス基板102上に落下するなどして付着するという問題
を解決できる。As described above, in this embodiment, after the primer 22 is discharged from the nozzle 8 and applied to the glass substrate 102, the solvent of the photoresist 112 is supplied to the nozzle 8 and the nozzle 8 is washed with the solvent. , Nozzle 8
The primer 22 adhering to the tip portion or the like is washed away. Therefore, as in the present embodiment, the primer 2
In the case of 2, when a titanium coupling agent that forms crystals by reacting with moisture in the air and is easily solidified is used, the titanium coupling agent attached to the tip of the nozzle 8 is washed away, and thus solidified. The problem that the titanium coupling agent adheres to the glass substrate 102 by dropping or the like can be solved.
【0027】そのため、チタンカップリング剤を使用し
てフォトレジスト112のガラス基板102に対する密
着力を高め、良好なスタンパ原盤を作製することができ
る。このようなスタンパ原盤によりスタンパを作製する
ことで、スタンパ側にフォトレジスト112が付着する
ことを回避でき、光ディスクの製造歩留りを向上させる
ことができる。そして、ノズル8を洗浄するのみである
から、必要な設備はわずかであり、また工程も簡単であ
る。Therefore, the adhesion of the photoresist 112 to the glass substrate 102 can be increased by using a titanium coupling agent, and a good stamper master can be manufactured. By manufacturing a stamper from such a stamper master, it is possible to prevent the photoresist 112 from adhering to the stamper side, and it is possible to improve the manufacturing yield of the optical disc. And since only the nozzle 8 is cleaned, the required equipment is small and the process is simple.
【0028】さらに、本実施の形態例では、プライマー
22を基板に塗布する前に、フォトレジスト112の溶
剤(プライマー22の溶剤と同一)を基板に塗布するた
め、ガラス基板102上の水分は溶剤の揮発と共に乾燥
排除され、さらに、プライマー22を希釈している溶剤
を塗布しておくことでその濡れ性が高まる。したがっ
て、プライマー22の効果が一層強く発揮され、ガラス
基板102とフォトレジスト112との密着性が向上す
る。そのため、一層良好なスタンパ原盤26を作製する
ことが可能となる。Further, in this embodiment, since the solvent of the photoresist 112 (same as the solvent of the primer 22) is applied to the substrate before applying the primer 22 to the substrate, the water on the glass substrate 102 is Is removed by drying together with the volatilization of the primer, and the wettability of the primer 22 is increased by applying a solvent that dilutes the primer 22 in advance. Therefore, the effect of the primer 22 is further exerted, and the adhesion between the glass substrate 102 and the photoresist 112 is improved. Therefore, it is possible to manufacture a better stamper master 26.
【0029】そして、本実施の形態例では、溶剤の塗布
を専用のノズル8を設けて行うのではなく、プライマー
22を塗布するためのノズル8を兼用して行っているの
で、溶剤の塗布を行ってもノズルを移動させる機構など
を新たに追加する必要がない。また、本実施の形態例で
は溶剤によるノズル8の洗浄は、溶剤を塗布するための
設備、すなわち溶剤供給源6、配管12、弁16、ノズ
ル8により行っているので、無駄のない構成で溶剤の塗
布およびノズル8の洗浄を行うことができる。In the present embodiment, the solvent is not applied by providing the nozzle 8 for exclusive use, but is also used by the nozzle 8 for applying the primer 22. Even if it is performed, it is not necessary to newly add a mechanism for moving the nozzle. Further, in the present embodiment, the cleaning of the nozzle 8 with the solvent is performed by the equipment for applying the solvent, that is, by the solvent supply source 6, the pipe 12, the valve 16, and the nozzle 8, so that the solvent is not wastefully configured. And cleaning of the nozzle 8 can be performed.
【0030】なお、本実施の形態例では、プライマー2
2としてチタンカップリング剤を用いたが、それ以外の
プライマー22を用いた場合にも、プライマー22がノ
ズル8の先端部に付着しても溶剤によって洗い流される
ので、スタンパ原盤26の作製における不良品の発生を
防止できる。In this embodiment, the primer 2
Although a titanium coupling agent was used as 2, even if other primers 22 were used, even if the primers 22 adhered to the tip of the nozzle 8, they would be washed away by the solvent, and thus defective products in the production of the stamper master 26. Can be prevented.
【0031】[0031]
【発明の効果】以上説明したように本発明では、プライ
マーをノズルから吐出させて基板に塗布した後に、ノズ
ルにフォトレジストの溶剤を供給して溶剤によりノズル
を洗浄するので、ノズルの先端部に付着したプライマー
は洗い流される。そのため、固化したプライマーが基板
上に落下するなどして付着し、悪影響を及ぼすという問
題は発生せず、良好なスタンパ原盤を作製できる。その
結果、このスタンパ原盤により形成したスタンパによ
り、ムラやシミのない光ディスクを作製でき、製造歩留
りを高めることができる。また、ノズルを洗浄すること
から、チタンカップリング剤などのように強い密着力は
得られるが、固化し易いという欠点を持つプライマーを
容易に用いることができ、フォトレジストの基板に対す
る密着力を高めることが可能となる。これにより、スタ
ンパ原盤を型にしてスタンパを作製する際、フォトレジ
ストがスタンパ側に付着することを回避でき、良好なス
タンパを作製して光ディスクの製造歩留りを向上させる
ことができる。そして、ノズルを洗浄するのみであるか
ら、必要な設備はわずかであり、また工程も簡単であ
る。さらに、本発明では、プライマーを基板に塗布する
前に、フォトレジストの溶剤を基板に塗布するため、基
板上の水分は溶剤の揮発と共に乾燥排除され、さらに、
フォトレジストの溶剤、すなわちプライマーの希釈溶剤
を塗布しておくことで基板の濡れ性が高まる。したがっ
て、プライマーの効果が一層強く発揮され、基板とフォ
トレジストとの密着性が向上する。As described above, in the present invention, after the primer is discharged from the nozzle and applied to the substrate, the photoresist solvent is supplied to the nozzle and the nozzle is washed with the solvent. The attached primer is washed away. Therefore, there is no problem that the solidified primer is attached to the substrate by dropping or the like and adversely affects, and a good stamper master can be manufactured. As a result, an optical disk free of unevenness and spots can be manufactured by the stamper formed from the stamper master, and the production yield can be increased. In addition, since the nozzle is washed, a strong adhesive force such as a titanium coupling agent can be obtained, but a primer having a disadvantage of being easily solidified can be easily used, and the adhesive force of the photoresist to the substrate is increased. It becomes possible. Thus, when a stamper is manufactured using the stamper master as a mold, it is possible to avoid the photoresist from adhering to the stamper side, and it is possible to manufacture a good stamper and improve the manufacturing yield of the optical disc. And, since only the nozzles are cleaned, the required equipment is small and the process is simple. Furthermore, in the present invention, before applying the primer to the substrate, the solvent of the photoresist is applied to the substrate, so that the water on the substrate is dried and eliminated together with the volatilization of the solvent.
By applying a solvent for the photoresist, that is, a diluting solvent for the primer, the wettability of the substrate is enhanced. Therefore, the effect of the primer is exerted more strongly, and the adhesion between the substrate and the photoresist is improved.
【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]
【図1】本発明の実施の形態例の光ディスクのスタンパ
原盤作製装置によるスタンパ原盤作製工程を示す要部工
程図である。FIG. 1 is a main part process diagram showing a stamper master manufacturing process by an optical disk stamper master manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の実施の形態例の光ディスクのスタンパ
原盤作製装置を示す要部構成図である。FIG. 2 is a main part configuration diagram showing an optical disk stamper master manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図3】従来の光ディスクのスタンパ原盤およびスタン
パの作製工程を示す工程図である。FIG. 3 is a process diagram showing a conventional stamper master for an optical disc and a process for producing the stamper.
2……スタンパ原盤作製装置、4……プライマー供給
源、6……溶剤供給源、8……ノズル、10、12……
配管、14、16……弁、18……コントローラ、20
……駆動手段、22……プライマー、102……ガラス
基板、104……テーブル、112……フォトレジス
ト。2 ... stamper master production device, 4 ... primer supply source, 6 ... solvent supply source, 8 ... nozzle, 10, 12 ...
Piping, 14, 16 ... valve, 18 ... controller, 20
... Driving means, 22 primer, 102 glass substrate, 104 table, 112 photoresist.
Claims (7)
ジストを塗布し、前記フォトレジストを記録すべき情報
信号にもとづいてパターン化して光ディスクのスタンパ
原盤を作製する方法において、 前記プライマーを基板に塗布する前に、前記フォトレジ
ストの溶剤を基板に塗布し、 前記プライマーをノズルから吐出させて基板に塗布した
後に、前記ノズルに前記フォトレジストの前記溶剤を供
給して前記溶剤により前記ノズルを洗浄する、 ことを特徴とする光ディスクのスタンパ原盤作製方法。1. A method for producing a stamper master of an optical disc by applying a photoresist on a substrate coated with a primer and patterning the photoresist based on an information signal to be recorded, wherein the primer is applied to the substrate. Before applying the photoresist solvent to the substrate, after applying the primer to the substrate by discharging the primer from a nozzle, supplying the solvent of the photoresist to the nozzle and washing the nozzle with the solvent, A method for producing a master stamper of an optical disc, characterized by comprising:
記溶剤は、前記ノズルを洗浄するための前記フォトレジ
ストの前記溶剤の供給源から、前記ノズルを通じて基板
に供給することを特徴とする請求項1記載の光ディスク
のスタンパ原盤作製方法。2. The method according to claim 1, wherein the solvent of the photoresist applied to the substrate is supplied from the supply source of the solvent of the photoresist for cleaning the nozzle to the substrate through the nozzle. A method for producing a stamper master of the optical disc described in the above.
であることを特徴とする請求項1記載の光ディスクのス
タンパ原盤作製方法。3. The method according to claim 1, wherein the primer is a titanium coupling agent.
ジストを塗布し、前記フォトレジストを記録すべき情報
信号にもとづいてパターン化して光ディスクのスタンパ
原盤を作製する装置において、 前記プライマーを基板に塗布する前に、前記フォトレジ
ストの溶剤を基板に塗布する溶剤塗布手段と、 前記プライマーをノズルから吐出させて基板に塗布した
後に、前記ノズルに前記フォトレジストの前記溶剤を供
給して前記溶剤により前記ノズルを洗浄するノズル洗浄
手段と、 を備えたことを特徴とする光ディスクのスタンパ原盤作
製装置。4. An apparatus for applying a photoresist on a substrate coated with a primer and patterning the photoresist based on an information signal to be recorded to produce a stamper master for an optical disk, wherein the primer is applied to the substrate. Before, the solvent of the photoresist is applied to a substrate by a solvent application unit, and after the primer is ejected from a nozzle and applied to the substrate, the solvent of the photoresist is supplied to the nozzle and the nozzle is formed by the solvent. And a nozzle cleaning means for cleaning the stamper.
とは前記フォトレジストの前記溶剤の供給源および前記
ノズルを共有していることを特徴とする請求項4記載の
光ディスクのスタンパ原盤作製装置。5. An apparatus according to claim 4, wherein said solvent applying means and said nozzle cleaning means share a supply source of said solvent of said photoresist and said nozzle.
マー塗布手段は、プライマーの供給源と、前記ノズルと
前記プライマーの供給源とを接続するプライマー供給配
管と、前記プライマー供給配管の途中に配設された第1
の弁とを備え、前記溶剤塗布手段および前記ノズル洗浄
手段の前記フォトレジストの前記溶剤の供給源と前記ノ
ズルとは溶剤供給配管により接続され、前記溶剤供給配
管の途中には第2の弁が配設されていることを特徴とす
る請求項5記載の光ディスクのスタンパ原盤作製装置。6. A primer applying means for applying the primer to the substrate, the primer applying means being provided in the middle of the primer supply pipe, a primer supply pipe connecting the nozzle and the primer supply source, and a primer supply pipe. First
A supply source of the solvent of the photoresist of the solvent coating means and the nozzle cleaning means and the nozzle are connected by a solvent supply pipe, and a second valve is provided in the middle of the solvent supply pipe. 6. The apparatus according to claim 5, wherein the stamper master is provided.
であることを特徴とする請求項4記載の光ディスクのス
タンパ原盤作製装置。7. The apparatus according to claim 4, wherein the primer is a titanium coupling agent.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22265497A JPH1166634A (en) | 1997-08-19 | 1997-08-19 | Manufacture and device of master disk of optical disk stamper |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22265497A JPH1166634A (en) | 1997-08-19 | 1997-08-19 | Manufacture and device of master disk of optical disk stamper |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1166634A true JPH1166634A (en) | 1999-03-09 |
Family
ID=16785846
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22265497A Pending JPH1166634A (en) | 1997-08-19 | 1997-08-19 | Manufacture and device of master disk of optical disk stamper |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH1166634A (en) |
-
1997
- 1997-08-19 JP JP22265497A patent/JPH1166634A/en active Pending
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