JPH115090A - 洗浄水の供給方法 - Google Patents
洗浄水の供給方法Info
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- JPH115090A JPH115090A JP9159613A JP15961397A JPH115090A JP H115090 A JPH115090 A JP H115090A JP 9159613 A JP9159613 A JP 9159613A JP 15961397 A JP15961397 A JP 15961397A JP H115090 A JPH115090 A JP H115090A
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- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、プラズマディスプレイパネルをは
じめとする平面表示装置に使用されるガラス基板等の洗
浄に用いる洗浄水の供給方法に関し、特に殺菌処理の工
程を必要としなくともバクテリアの繁殖を防止すること
のできる洗浄水の供給方法を提供することを目的として
いる。 【解決手段】 不純物を含んでなる原水を不純物除去装
置を通過させることで、所定の比抵抗値を有する純水と
して、該純水を洗浄ポイントへ送水する洗浄水の供給方
法において、前記原水を純水にするまでの間に、水及び
溶存酸素との反応で、酸化化学種を生成する材料を注入
する構成としている。
じめとする平面表示装置に使用されるガラス基板等の洗
浄に用いる洗浄水の供給方法に関し、特に殺菌処理の工
程を必要としなくともバクテリアの繁殖を防止すること
のできる洗浄水の供給方法を提供することを目的として
いる。 【解決手段】 不純物を含んでなる原水を不純物除去装
置を通過させることで、所定の比抵抗値を有する純水と
して、該純水を洗浄ポイントへ送水する洗浄水の供給方
法において、前記原水を純水にするまでの間に、水及び
溶存酸素との反応で、酸化化学種を生成する材料を注入
する構成としている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネルをはじめとする平面表示装置に使用されるガ
ラス基板等の洗浄に用いる洗浄水の供給方法に関する。
ガラス基板等の洗浄においては、比抵抗値の高い高純度
の純水は必要としないが、表示用の電極をはじめとする
微細パターンが形成されるため、パターン形成及び形成
後の特性等に影響を与える塵埃等の異物は確実に除去す
る必要がある。
レイパネルをはじめとする平面表示装置に使用されるガ
ラス基板等の洗浄に用いる洗浄水の供給方法に関する。
ガラス基板等の洗浄においては、比抵抗値の高い高純度
の純水は必要としないが、表示用の電極をはじめとする
微細パターンが形成されるため、パターン形成及び形成
後の特性等に影響を与える塵埃等の異物は確実に除去す
る必要がある。
【０００２】そのため、異物等が混入していない良好な
状態の洗浄水を供給することが求められている。
状態の洗浄水を供給することが求められている。
【０００３】
【従来の技術】図７は、従来の洗浄水の供給方法を説明
するための図であり、被処理水（純水に至るまでの洗浄
水の呼称）の通過経路を示すものである。水道水等の原
水は、逆浸透装置３１、第１のイオン交換装置３２、紫
外線照射装置３３、第２のイオン交換装置３４及びフィ
ルター３５を通過することによって、所望の比抵抗値を
有する純水となり、ユースポイントへ送られる。以下詳
細に説明する。
するための図であり、被処理水（純水に至るまでの洗浄
水の呼称）の通過経路を示すものである。水道水等の原
水は、逆浸透装置３１、第１のイオン交換装置３２、紫
外線照射装置３３、第２のイオン交換装置３４及びフィ
ルター３５を通過することによって、所望の比抵抗値を
有する純水となり、ユースポイントへ送られる。以下詳
細に説明する。
【０００４】まず、逆浸透装置３１に水道水等の原水を
供給する。逆浸透装置３１は、原水に含まれる塵埃や重
金属等の不純物の大部分（９０％程度）を除去する。そ
の後、イオン交換装置３２及び紫外線照射装置３３を通
過することにより、被処理水中に含まれるイオンを選択
的に除去し、塵埃の原因となるバクテリアを紫外線によ
り殺菌する。
供給する。逆浸透装置３１は、原水に含まれる塵埃や重
金属等の不純物の大部分（９０％程度）を除去する。そ
の後、イオン交換装置３２及び紫外線照射装置３３を通
過することにより、被処理水中に含まれるイオンを選択
的に除去し、塵埃の原因となるバクテリアを紫外線によ
り殺菌する。
【０００５】紫外線照射装置３３を通過した被処理水
は、純度を高めるために再度イオン交換装置３４を通っ
た後、分子レベルの濾過を行なうフィルター３５を通過
することにより、純水を得る。この純水は、バルブ３６
を開けることによりユースポイントへ供給されると共
に、循環路３７を介して紫外線照射装置３３の前に戻さ
れている。
は、純度を高めるために再度イオン交換装置３４を通っ
た後、分子レベルの濾過を行なうフィルター３５を通過
することにより、純水を得る。この純水は、バルブ３６
を開けることによりユースポイントへ供給されると共
に、循環路３７を介して紫外線照射装置３３の前に戻さ
れている。
【０００６】循環路３７は、バルブ３６を閉状態として
いる時に、被処理水が滞留することがないように、被処
理水の循環経路を確保するために設けられるものであ
る。このような被処理水の循環経路が確保されているこ
とから、滞留によるバクテリア等の繁殖を防止してい
る。以上の洗浄水供給方法により、比抵抗の高い純水が
得られるが、一般的な紫外線照射装置による殺菌は完全
ではなく、使用時間の経過に従って、被処理水中のバク
テリアが増殖する。バクテリアは塵埃の原因となりパタ
ーン形成等に悪影響を与えることになるため、定期的な
殺菌処理を行なう必要がある。
いる時に、被処理水が滞留することがないように、被処
理水の循環経路を確保するために設けられるものであ
る。このような被処理水の循環経路が確保されているこ
とから、滞留によるバクテリア等の繁殖を防止してい
る。以上の洗浄水供給方法により、比抵抗の高い純水が
得られるが、一般的な紫外線照射装置による殺菌は完全
ではなく、使用時間の経過に従って、被処理水中のバク
テリアが増殖する。バクテリアは塵埃の原因となりパタ
ーン形成等に悪影響を与えることになるため、定期的な
殺菌処理を行なう必要がある。
【０００７】この殺菌処理は、供給装置の動作を停止さ
せた状態で行なうものであり、過酸化水素水或いは熱
水、スチームを用いる方法がある。即ち、供給装置を停
止した後、装置内部の被処理水を過酸化水素水や熱水或
いはスチームに置換して、一定時間保持することで殺菌
を行なう。
せた状態で行なうものであり、過酸化水素水或いは熱
水、スチームを用いる方法がある。即ち、供給装置を停
止した後、装置内部の被処理水を過酸化水素水や熱水或
いはスチームに置換して、一定時間保持することで殺菌
を行なう。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の洗浄水供給
方法によると、バクテリアの殺菌処理を行なうために一
定時間洗浄水の供給動作を停止しなければならず、連続
処理ができない。また、殺菌処理を行なうに当たって
は、過酸化水素或いは熱水等における濃度や温度の諸条
件を調整する必要があり、多大な時間を要する。更に、
過酸化水素水等は、環境上そのまま廃棄することができ
ず、所定の処理を加えなければならないため、専用の設
備や手間を必要とする。
方法によると、バクテリアの殺菌処理を行なうために一
定時間洗浄水の供給動作を停止しなければならず、連続
処理ができない。また、殺菌処理を行なうに当たって
は、過酸化水素或いは熱水等における濃度や温度の諸条
件を調整する必要があり、多大な時間を要する。更に、
過酸化水素水等は、環境上そのまま廃棄することができ
ず、所定の処理を加えなければならないため、専用の設
備や手間を必要とする。
【０００９】以上のような殺菌処理を行なっても、殺菌
処理後、時間経過と共にバクテリアの繁殖は行なわれる
ため、常時バクテリアが存在しない状態にすることは困
難である。従って、洗浄を行なうガラス基板表面にバク
テリアに起因する塵埃が付着する可能性がある。バクテ
リアは、成長或いは増殖により粒子状となり、電極等の
パターン形成に影響を及ぼす塵埃となる。特に生きたバ
クテリアは粘性を有する分泌物を出す等致命的な欠陥の
原因になることがある。
処理後、時間経過と共にバクテリアの繁殖は行なわれる
ため、常時バクテリアが存在しない状態にすることは困
難である。従って、洗浄を行なうガラス基板表面にバク
テリアに起因する塵埃が付着する可能性がある。バクテ
リアは、成長或いは増殖により粒子状となり、電極等の
パターン形成に影響を及ぼす塵埃となる。特に生きたバ
クテリアは粘性を有する分泌物を出す等致命的な欠陥の
原因になることがある。
【００１０】本発明は、上記課題を解決して、特に殺菌
処理の工程を必要としなくともバクテリアの繁殖を防止
することのできる洗浄水の供給方法を提供することを目
的としている。
処理の工程を必要としなくともバクテリアの繁殖を防止
することのできる洗浄水の供給方法を提供することを目
的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明は、不純物を含んでなる原水を不純物除去装置
を通過させることで、所定の比抵抗値を有する純水とし
て、該純水を洗浄ポイントへ送水する洗浄水の供給方法
において、前記原水を純水にするまでの間に、水及び溶
存酸素との反応で、酸化化学種を生成する材料を注入す
ることを特徴としている。
の本発明は、不純物を含んでなる原水を不純物除去装置
を通過させることで、所定の比抵抗値を有する純水とし
て、該純水を洗浄ポイントへ送水する洗浄水の供給方法
において、前記原水を純水にするまでの間に、水及び溶
存酸素との反応で、酸化化学種を生成する材料を注入す
ることを特徴としている。
【００１２】上記本発明の洗浄水の供給方法によれば、
原水に含まれる酸素及び水との反応により、常に酸化化
学種が存在する状態にすることができ、特に洗浄水の供
給動作を停止することなく、酸化化学種により塵埃の原
因となるバクテリアを殺菌することができる。そのた
め、常時良好な状態の洗浄水を供給することが可能とな
る。
原水に含まれる酸素及び水との反応により、常に酸化化
学種が存在する状態にすることができ、特に洗浄水の供
給動作を停止することなく、酸化化学種により塵埃の原
因となるバクテリアを殺菌することができる。そのた
め、常時良好な状態の洗浄水を供給することが可能とな
る。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面を参
照しながら詳細に説明する。図１は、本発明の一実施例
を説明するための図である。本実施例は、水道水等の原
水と共に、重金属イオン水と、重金属イオン水の還元剤
を入口部から注入するものである。以下、これらが混合
され純水に至るまでのものを被処理水と称する。
照しながら詳細に説明する。図１は、本発明の一実施例
を説明するための図である。本実施例は、水道水等の原
水と共に、重金属イオン水と、重金属イオン水の還元剤
を入口部から注入するものである。以下、これらが混合
され純水に至るまでのものを被処理水と称する。
【００１４】重金属イオン水は、水との反応で水酸化物
を生成するものであり、本実施例では硫酸銅（ＣｕＳＯ
4 ）を使用する。また、還元剤は水酸化物及び溶存酸素
との反応で酸化化学種を生成するもので、本実施例では
ヒドラジン（Ｎ2 Ｈ4)を用いる。被処理水は、図１に示
すように、逆浸透装置１と紫外線照射装置２、イオン交
換装置３及びフィルター４をそれぞれ通過することによ
り、所望の純水となり、バルブ５の開閉によりユースポ
イントへの供給が制御される。
を生成するものであり、本実施例では硫酸銅（ＣｕＳＯ
4 ）を使用する。また、還元剤は水酸化物及び溶存酸素
との反応で酸化化学種を生成するもので、本実施例では
ヒドラジン（Ｎ2 Ｈ4)を用いる。被処理水は、図１に示
すように、逆浸透装置１と紫外線照射装置２、イオン交
換装置３及びフィルター４をそれぞれ通過することによ
り、所望の純水となり、バルブ５の開閉によりユースポ
イントへの供給が制御される。
【００１５】逆浸透装置１は、圧力を加えることで、不
純物濃度の高い方から不純物濃度の低い方へ被処理水を
通過させる半透膜を備えるものであり、被処理水に含ま
れる塵埃や重金属等の不純物の大部分（９０％程度）を
除去する。その後、紫外線照射装置２による紫外線照射
により、被処理水中のバクテリアを滅菌する。紫外線照
射装置２は、従来技術でも述べたとおり、バクテリアを
完全に殺菌することはできないため、紫外線照射装置２
を通過した被処理水は、依然としてバクテリアが存在す
ると共に、逆浸透装置１で除去されない重金属イオンや
酸素が含まれる状態となっている。
純物濃度の高い方から不純物濃度の低い方へ被処理水を
通過させる半透膜を備えるものであり、被処理水に含ま
れる塵埃や重金属等の不純物の大部分（９０％程度）を
除去する。その後、紫外線照射装置２による紫外線照射
により、被処理水中のバクテリアを滅菌する。紫外線照
射装置２は、従来技術でも述べたとおり、バクテリアを
完全に殺菌することはできないため、紫外線照射装置２
を通過した被処理水は、依然としてバクテリアが存在す
ると共に、逆浸透装置１で除去されない重金属イオンや
酸素が含まれる状態となっている。
【００１６】この時点で、被処理水の比抵抗は１ＭΩ・
ｃｍ程度である。紫外線照射装置２を通過した被処理水
は、鎖線矢印で示すようにイオン交換装置３に送られる
と共に、一部がイオン交換装置３を回避するために設け
られるバイパス６へ流れる。このバイパス６は、重金属
イオンがイオン交換装置３により完全に除去されること
なく、被処理水中に常に存在する状態にするためのもの
である。
ｃｍ程度である。紫外線照射装置２を通過した被処理水
は、鎖線矢印で示すようにイオン交換装置３に送られる
と共に、一部がイオン交換装置３を回避するために設け
られるバイパス６へ流れる。このバイパス６は、重金属
イオンがイオン交換装置３により完全に除去されること
なく、被処理水中に常に存在する状態にするためのもの
である。
【００１７】因みに、イオン交換装置３を通過した直
後、即ちバイパス６からの被処理水が混合する前の被処
理水の比抵抗は１７ＭΩ・ｃｍ程度と高純度になってい
る。イオン交換装置３及びバイパス６を通過した被処理
水は合流してフィルター４へ送られる。フィルター４
は、分子レベルの異物濾過を行ない、洗浄水となる最終
的な純水を生成する。フィルター４を通過した純水は、
比抵抗が数ＭΩ・ｃｍ程度であり、銅（Ｃｕ）及びヒド
ラジン（Ｎ2 Ｈ4 ）がそれぞれ数ｐｐｔずつ含まれてい
る。
後、即ちバイパス６からの被処理水が混合する前の被処
理水の比抵抗は１７ＭΩ・ｃｍ程度と高純度になってい
る。イオン交換装置３及びバイパス６を通過した被処理
水は合流してフィルター４へ送られる。フィルター４
は、分子レベルの異物濾過を行ない、洗浄水となる最終
的な純水を生成する。フィルター４を通過した純水は、
比抵抗が数ＭΩ・ｃｍ程度であり、銅（Ｃｕ）及びヒド
ラジン（Ｎ2 Ｈ4 ）がそれぞれ数ｐｐｔずつ含まれてい
る。
【００１８】重金属イオン水及び還元剤を注入すること
により、上記の如く純度は低下しているが、ガラス基板
の洗浄には十分なものであり、バクテリアによる塵埃が
発生しない分、精度良い洗浄が可能となる。このよう
に、フィルター４を通過した純水は、バルブ５を開くこ
とにより、ユースポイントである洗浄ポイントへと送水
される。
により、上記の如く純度は低下しているが、ガラス基板
の洗浄には十分なものであり、バクテリアによる塵埃が
発生しない分、精度良い洗浄が可能となる。このよう
に、フィルター４を通過した純水は、バルブ５を開くこ
とにより、ユースポイントである洗浄ポイントへと送水
される。
【００１９】一方、バルブ５が閉められた状態におい
て、被処理水が滞留することがないように、フィルター
４の後段と紫外線照射装置２の前段との間を結ぶ循環路
７が設けられており、フィルター４を通過した純水の一
部は紫外線照射装置２へ戻されている。尚、バルブ５が
閉められている状態では、フィルター４を通過するほと
んどの純水が循環することになる。
て、被処理水が滞留することがないように、フィルター
４の後段と紫外線照射装置２の前段との間を結ぶ循環路
７が設けられており、フィルター４を通過した純水の一
部は紫外線照射装置２へ戻されている。尚、バルブ５が
閉められている状態では、フィルター４を通過するほと
んどの純水が循環することになる。
【００２０】本実施例における各装置を接続する配管に
は、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）やポリフッ化ビニリデン
（ＰＶＤＦ）等の一般的な材料を使用している。図２
は、フィルター４を通過した純水が送られる洗浄ポイン
トにおけるガラス基板の洗浄状態を示す斜視図である。
配管１３は、図１におけるバルブ５と連通しており、ガ
ラス基板１１の搬送に合わせて、バルブ５を開けること
により、フィルター４を通過する純水を配管１３及び洗
浄水噴射管１２を介してガラス基板上に噴射する。加工
処理が施される前のガラス基板１１は、搬送路１４上を
一定速度で矢印のように搬送され、所定の圧力により噴
射される洗浄水により、その表面を洗浄される。
は、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）やポリフッ化ビニリデン
（ＰＶＤＦ）等の一般的な材料を使用している。図２
は、フィルター４を通過した純水が送られる洗浄ポイン
トにおけるガラス基板の洗浄状態を示す斜視図である。
配管１３は、図１におけるバルブ５と連通しており、ガ
ラス基板１１の搬送に合わせて、バルブ５を開けること
により、フィルター４を通過する純水を配管１３及び洗
浄水噴射管１２を介してガラス基板上に噴射する。加工
処理が施される前のガラス基板１１は、搬送路１４上を
一定速度で矢印のように搬送され、所定の圧力により噴
射される洗浄水により、その表面を洗浄される。
【００２１】以上のような洗浄水の供給方法によれば、
洗浄水中にバクテリアが存在しておらず、洗浄後のガラ
ス基板表面において、バクテリアに起因する塵埃の付着
のないことが確認された。通常、逆浸透装置１や紫外線
照射装置２、イオン交換装置３、フィルター４では、バ
クテリアを完全に殺菌することはできないため、本実施
例においては、被処理水中で以下のような現象が起きて
いるものと推測される。
洗浄水中にバクテリアが存在しておらず、洗浄後のガラ
ス基板表面において、バクテリアに起因する塵埃の付着
のないことが確認された。通常、逆浸透装置１や紫外線
照射装置２、イオン交換装置３、フィルター４では、バ
クテリアを完全に殺菌することはできないため、本実施
例においては、被処理水中で以下のような現象が起きて
いるものと推測される。
【００２２】まず、被処理水中における銅イオンが水及
び溶存酸素と反応することにより水酸化銅を生成する。
その反応式は式１のとおりである。 ［式１］ Ｃｕ＋Ｈ2 Ｏ＋１／２Ｏ2 →Ｃｕ（ＯＨ）2 このように生成された水酸化銅（Ｃｕ（ＯＨ）2 ）は、
ヒドラジン及び溶存酸素の存在により、還元反応を起こ
し、過酸化水素を生成する。その反応式は、式２のとお
りである。 ［式２］ Ｃｕ（ＯＨ）2 ＋Ｎ2 Ｈ4 ＋Ｏ2 →Ｃｕ＋Ｎ2 ＋Ｈ2 Ｏ
2 ＋２Ｈ2 Ｏ 被処理水中では、常にこのような反応が起きており、過
酸化水素を有する状態となっている。過酸化水素は、バ
クテリアを殺菌する作用があるため、これによって、バ
クテリアのいない状態が維持されて、ガラス基板の確実
な洗浄が可能となっている。
び溶存酸素と反応することにより水酸化銅を生成する。
その反応式は式１のとおりである。 ［式１］ Ｃｕ＋Ｈ2 Ｏ＋１／２Ｏ2 →Ｃｕ（ＯＨ）2 このように生成された水酸化銅（Ｃｕ（ＯＨ）2 ）は、
ヒドラジン及び溶存酸素の存在により、還元反応を起こ
し、過酸化水素を生成する。その反応式は、式２のとお
りである。 ［式２］ Ｃｕ（ＯＨ）2 ＋Ｎ2 Ｈ4 ＋Ｏ2 →Ｃｕ＋Ｎ2 ＋Ｈ2 Ｏ
2 ＋２Ｈ2 Ｏ 被処理水中では、常にこのような反応が起きており、過
酸化水素を有する状態となっている。過酸化水素は、バ
クテリアを殺菌する作用があるため、これによって、バ
クテリアのいない状態が維持されて、ガラス基板の確実
な洗浄が可能となっている。
【００２３】図３は、本実施例と従来の洗浄水の供給方
法におけるバクテリアの増殖推移を相対的に示すグラフ
である。グラフ中、Ａが本実施例によるもの、Ｂが従来
技術によるものであり、本実施例ではバクテリアの増殖
が見られないのに対して、従来技術では日数にほぼ比例
してバクテリアが増殖している。Ｃは従来技術におい
て、供給動作を停止させ、配管等の殺菌処理を行なった
ところであり、点線で示すように一時的にバクテリアが
減少するが、洗浄処理後は同様に増殖していく。そのた
め、バクテリアのいない状態を維持するには、面倒な殺
菌処理頻度を多くする必要がある。
法におけるバクテリアの増殖推移を相対的に示すグラフ
である。グラフ中、Ａが本実施例によるもの、Ｂが従来
技術によるものであり、本実施例ではバクテリアの増殖
が見られないのに対して、従来技術では日数にほぼ比例
してバクテリアが増殖している。Ｃは従来技術におい
て、供給動作を停止させ、配管等の殺菌処理を行なった
ところであり、点線で示すように一時的にバクテリアが
減少するが、洗浄処理後は同様に増殖していく。そのた
め、バクテリアのいない状態を維持するには、面倒な殺
菌処理頻度を多くする必要がある。
【００２４】本実施例は、特に殺菌処理を行なうことな
く、常にバクテリアの存在しない状態を維持することが
できる。図４は、本発明の第二実施例を説明するための
図であり、第一実施例と同一部分には同一符号を付して
いる。本実施例が第１実施例と異なる構成は、重金属イ
オン水及び還元剤の注入位置を変えることによりバイパ
スが不要になった点である。
く、常にバクテリアの存在しない状態を維持することが
できる。図４は、本発明の第二実施例を説明するための
図であり、第一実施例と同一部分には同一符号を付して
いる。本実施例が第１実施例と異なる構成は、重金属イ
オン水及び還元剤の注入位置を変えることによりバイパ
スが不要になった点である。
【００２５】即ち、イオン交換装置３とフィルター４の
間に重金属イオン水と還元剤とを注入しており、イオン
交換装置３の後段に重金属イオン水を注入することか
ら、バイパスは設けていない。本実施例においては、水
道水等の原水を、逆浸透装置１、紫外線照射装置２及び
イオン交換装置３を通過させ、この時点で被処理水中に
重金属イオン水である硫酸銅（ＣｕＳＯ4 ）と、その還
元剤であるヒドラジン（Ｎ2 Ｈ4 ）を混合させる。ここ
で、第１実施例と同様の反応が起きて、過酸化水素が発
生する。
間に重金属イオン水と還元剤とを注入しており、イオン
交換装置３の後段に重金属イオン水を注入することか
ら、バイパスは設けていない。本実施例においては、水
道水等の原水を、逆浸透装置１、紫外線照射装置２及び
イオン交換装置３を通過させ、この時点で被処理水中に
重金属イオン水である硫酸銅（ＣｕＳＯ4 ）と、その還
元剤であるヒドラジン（Ｎ2 Ｈ4 ）を混合させる。ここ
で、第１実施例と同様の反応が起きて、過酸化水素が発
生する。
【００２６】イオン交換装置３を通過した直後の被処理
水は、やはり１７ＭΩ・ｃｍ程度の高純度の状態である
が、重金属イオン水と還元剤を注入することにより、純
度は低下する。その後、フィルター４を介すことで所望
の純水が生成され、バルブ５の開閉により洗浄ポイント
への供給が制御されることになる。
水は、やはり１７ＭΩ・ｃｍ程度の高純度の状態である
が、重金属イオン水と還元剤を注入することにより、純
度は低下する。その後、フィルター４を介すことで所望
の純水が生成され、バルブ５の開閉により洗浄ポイント
への供給が制御されることになる。
【００２７】尚、バルブ５の閉状態における被処理水の
滞留を防止するために、循環路７が第一実施例同様設け
られている。以上説明した第一、第二実施例において
は、重金属イオン水として硫酸銅を、還元剤としてヒド
ラジンをそれぞれ使用したが、重金属イオン水として
は、イオン化傾向が低く還元され易い金属を含む、例え
ば硫酸クロム（ＣｒＳＯ4 ）や、硫酸亜鉛（ＺｎＳ
Ｏ4 ）、硫酸鉛（ＰｂＳＯ4 ）等を、還元剤としては重
亜硫酸ナトリウム（ＮａＨＳＯ3 ）等を使用することが
できる。
滞留を防止するために、循環路７が第一実施例同様設け
られている。以上説明した第一、第二実施例において
は、重金属イオン水として硫酸銅を、還元剤としてヒド
ラジンをそれぞれ使用したが、重金属イオン水として
は、イオン化傾向が低く還元され易い金属を含む、例え
ば硫酸クロム（ＣｒＳＯ4 ）や、硫酸亜鉛（ＺｎＳ
Ｏ4 ）、硫酸鉛（ＰｂＳＯ4 ）等を、還元剤としては重
亜硫酸ナトリウム（ＮａＨＳＯ3 ）等を使用することが
できる。
【００２８】このような材料によっても、実施例同様水
酸化物の生成に続いて、酸化化学種が作られることにな
り、常にバクテリアの殺菌を行なっている状態にするこ
とができる。図５は、本発明の第三実施例を説明するも
のであり、前記第一、第二実施例と同一部分には同一符
号を付している。
酸化物の生成に続いて、酸化化学種が作られることにな
り、常にバクテリアの殺菌を行なっている状態にするこ
とができる。図５は、本発明の第三実施例を説明するも
のであり、前記第一、第二実施例と同一部分には同一符
号を付している。
【００２９】第一、第二実施例が重金属イオン水と還元
剤とを注入することによる反応で、酸化化学種を生成す
るものであるのに対して、本実施例は塩素（Ｃｌ2 ）或
いは次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）による反応を
利用するものである。即ち、イオン交換装置３とフィル
ター４との間に塩素または次亜塩素酸ナトリウムを注入
するよう構成しており、塩素と水との反応により、酸化
化学種を生成するものである。反応式は式３の通りであ
る。 ［式３］ Ｃｌ2 ＋Ｈ2 Ｏ→ＨＣｌＯ＋ＨＣｌ ここで、ＨＣｌＯは、酸化化学種であるＣｌＯ- に対し
て式４のような可逆性を有している。 ［式４］ ＨＣｌＯ←→ＣｌＯ- ＋Ｈ+ ＨＣｌＯとＣｌＯ- は、ｐＨ値の変化に伴って、その量
の割合が変化するものであり、ｐＨ値が高い程、酸化化
学種であるＣｌＯ- の量が増え、バクテリアの殺菌作用
が強くなる。
剤とを注入することによる反応で、酸化化学種を生成す
るものであるのに対して、本実施例は塩素（Ｃｌ2 ）或
いは次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）による反応を
利用するものである。即ち、イオン交換装置３とフィル
ター４との間に塩素または次亜塩素酸ナトリウムを注入
するよう構成しており、塩素と水との反応により、酸化
化学種を生成するものである。反応式は式３の通りであ
る。 ［式３］ Ｃｌ2 ＋Ｈ2 Ｏ→ＨＣｌＯ＋ＨＣｌ ここで、ＨＣｌＯは、酸化化学種であるＣｌＯ- に対し
て式４のような可逆性を有している。 ［式４］ ＨＣｌＯ←→ＣｌＯ- ＋Ｈ+ ＨＣｌＯとＣｌＯ- は、ｐＨ値の変化に伴って、その量
の割合が変化するものであり、ｐＨ値が高い程、酸化化
学種であるＣｌＯ- の量が増え、バクテリアの殺菌作用
が強くなる。
【００３０】図６は、ｐＨ値変化に伴うＨＣｌＯとＣｌ
Ｏ- の量の関係を示すグラフであり、ｐＨ値が低いとＨ
ＣｌＯが多く、ｐＨ値が高くなるとＣｌＯ- が多くな
る。従って、ｐＨ値を高い状態にしておくことにより、
バクテリアの殺菌を効果的に行なうことが可能となる。
また、図５における塩素（または次亜塩素酸ナトリウ
ム）に代えて、ヒドラジン（Ｎ2 Ｈ4 ）を単体で注入す
ることによっても、バクテリアを減らすことが可能であ
る。
Ｏ- の量の関係を示すグラフであり、ｐＨ値が低いとＨ
ＣｌＯが多く、ｐＨ値が高くなるとＣｌＯ- が多くな
る。従って、ｐＨ値を高い状態にしておくことにより、
バクテリアの殺菌を効果的に行なうことが可能となる。
また、図５における塩素（または次亜塩素酸ナトリウ
ム）に代えて、ヒドラジン（Ｎ2 Ｈ4 ）を単体で注入す
ることによっても、バクテリアを減らすことが可能であ
る。
【００３１】即ち、ヒドラジンが注入されることによ
り、ヒドラジンと被処理水中に含まれる溶存酸素とが反
応して窒素を生成する。式５にその反応式を示す。 ［式５］ Ｎ2 Ｈ4 ＋Ｏ2 →２Ｈ2 Ｏ＋Ｎ2 酸素がバクテリアの繁殖を促進する物質であるのに対し
て、窒素はバクテリアを殺菌する作用を有するものであ
る。そのため、酸化化学種による殺菌作用よりは劣ると
思われるが、バクテリアを減らす効果は期待できる。
り、ヒドラジンと被処理水中に含まれる溶存酸素とが反
応して窒素を生成する。式５にその反応式を示す。 ［式５］ Ｎ2 Ｈ4 ＋Ｏ2 →２Ｈ2 Ｏ＋Ｎ2 酸素がバクテリアの繁殖を促進する物質であるのに対し
て、窒素はバクテリアを殺菌する作用を有するものであ
る。そのため、酸化化学種による殺菌作用よりは劣ると
思われるが、バクテリアを減らす効果は期待できる。
【００３２】
【発明の効果】本発明の洗浄水の供給方法によれば、原
水に含まれる酸素及び水との反応で、常に酸化化学種を
生成しているため、特に洗浄水の供給動作を停止するこ
となく、酸化化学種または窒素により塵埃の原因となる
バクテリアを殺菌することができる。そのため、常時良
好な状態の洗浄水を供給することが可能で、表面に塵埃
の付着のない精度良いガラス基板の洗浄を実施すること
ができる。
水に含まれる酸素及び水との反応で、常に酸化化学種を
生成しているため、特に洗浄水の供給動作を停止するこ
となく、酸化化学種または窒素により塵埃の原因となる
バクテリアを殺菌することができる。そのため、常時良
好な状態の洗浄水を供給することが可能で、表面に塵埃
の付着のない精度良いガラス基板の洗浄を実施すること
ができる。
【００３３】従って、その後の電極パターン形成及び形
成後の特性等に塵埃による悪影響を与えることがない。
成後の特性等に塵埃による悪影響を与えることがない。
【図１】本発明の第一実施例を説明するための図であ
る。
る。
【図２】ガラス基板の洗浄状態を示す斜視図である。
【図３】本発明と従来技術のバクテリア増殖推移を示す
グラフである。
グラフである。
【図４】本発明の第二実施例を説明するための図であ
る。
る。
【図５】本発明の第三実施例を説明するための図であ
る。
る。
【図６】ｐＨ値変化に伴うＨＣｌＯとＣｌＯ- の量の関
係を示すグラフである。
係を示すグラフである。
【図７】従来技術を説明するための図である。
１ 逆浸透装置 ２ 紫外線照射装置 ３ イオン交換装置 ４ フィルター ５ バルブ ６ バイパス ７ 循環路
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５４０ Ｃ０２Ｆ 1/50 ５４０Ａ ５４０Ｂ ５５０ ５５０Ｈ ５６０ ５６０Ｃ ５６０Ｄ ５６０Ｅ ５６０Ｚ 1/76 1/76 Ａ 9/00 ５０２ 9/00 ５０２Ｄ ５０２Ｆ ５０２Ｊ ５０２Ｎ ５０２Ｒ ５０３ ５０３Ｂ ５０４ ５０４Ｂ Ｈ０１Ｊ 9/38 Ｈ０１Ｊ 9/38 Ａ 17/48 17/48
Claims (5)
- 【請求項１】 不純物を含んでなる原水を不純物除去装
置を通過させることで、所定の比抵抗値を有する純水と
して、該純水を洗浄ポイントへ送水する洗浄水の供給方
法において、 前記原水を純水にするまでの間に、水及び溶存酸素との
反応で、酸化化学種を生成する材料を注入することを特
徴とする洗浄水の供給方法。 - 【請求項２】 前記原水を純水にするまでの間に、水と
の反応で水酸化物を生成する重金属イオン水と、前記水
酸化物及び溶存酸素との反応で酸化化学種を生成する前
記重金属イオン水の還元剤とを注入することを特徴とす
る請求項１記載の洗浄水の供給方法。 - 【請求項３】 前記原水を純水にするまでの間に、塩素
或いは次亜塩素酸ナトリウムを注入することを特徴とす
る請求項１記載の洗浄水の供給方法。 - 【請求項４】 前記還元剤は、ヒドラジン或いは重亜硫
酸ナトリウムであることを特徴とする請求項２記載の洗
浄水の供給方法。 - 【請求項５】 不純物を含んでなる原水を不純物除去装
置を通過させることで、所定の比抵抗値を有する純水と
して、該純水を洗浄ポイントへ送水する洗浄水の供給方
法において、 前記原水を純水にするまでの間に、溶存酸素との反応
で、窒素を生成するヒドラジンを注入することを特徴と
する洗浄水の供給方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9159613A JPH115090A (ja) | 1997-06-17 | 1997-06-17 | 洗浄水の供給方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9159613A JPH115090A (ja) | 1997-06-17 | 1997-06-17 | 洗浄水の供給方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH115090A true JPH115090A (ja) | 1999-01-12 |
Family
ID=15697548
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9159613A Pending JPH115090A (ja) | 1997-06-17 | 1997-06-17 | 洗浄水の供給方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH115090A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021065483A1 (ja) * | 2019-09-30 | 2021-04-08 | オルガノ株式会社 | 有機溶剤の精製方法及び精製システム |
-
1997
- 1997-06-17 JP JP9159613A patent/JPH115090A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2021065483A1 (ja) * | 2019-09-30 | 2021-04-08 | オルガノ株式会社 | 有機溶剤の精製方法及び精製システム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040109 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050127 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050208 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050607 |