JPH11506720A

JPH11506720A - ハロゲン及び炭素酸化物流の製造

Info

Publication number: JPH11506720A
Application number: JP9500999A
Authority: JP
Inventors: スパークス，ケビン・エイ; ジヨンストン，ジエイムズ・イー
Original assignee: モルテン・メタル・テクノロジー・インコーポレーテツド
Priority date: 1995-06-07
Filing date: 1996-06-03
Publication date: 1999-06-15
Also published as: US5695732A; AU5968596A; ZA964418B; TW350019B; WO1996040374A1; EP0843579A1

Abstract

(57)【要約】ハロゲン化有機廃棄物を処理して、ハロゲンガス及び炭素酸化物ガス流を製造する方法に関する。この方法は、ハロゲン対水素原子比が約１より小さいハロゲン化有機廃棄物を溶融金属浴へ供給することを含む。但し該溶融金属浴は該ハロゲンに対して不活性であり且つ原子状炭素からの炭素酸化物の生成のそれよりも低い酸化の自由エネルギーを有する。該ハロゲン化有機供給物をハロゲンガス及び原子状炭素に転化し、これによってハロゲンガスを溶融金属浴から遊離させる。酸化剤を溶融金属浴に供給し、これによって原子状炭素を酸化して、炭素酸化物ガスを生成させ、これを溶融金属浴から遊離させる。

Description

【発明の詳細な説明】発明の名称ハロゲン及び炭素酸化物流の製造技術分野本発明は、ハロゲン化有機廃棄物を処理する、ハロゲン化水素ガス及び炭素酸化物ガス流の製造に関する。背景の技術埋め立て及び焼却による有機廃棄物の処分は、処分空間の減少、政治的規制の強化、及び大衆の、危険物質の環境汚染への衝撃に対する認知の増大のため、漸次困難な問題になってきた。危険な有機廃棄物の放出は、空気及び給水を汚染し、かくして影響を受ける人の命を短縮する。有機廃棄物の環境への影響を最小にするために、これらの廃棄物を良好なものに、好ましくは有用な物質に転化する方法が開発されねばならない。この必要に呼応して、危険な有機廃棄物を適当に処理する別の方法の開発に実質的な投資が行われた。最も有望な新しい方法の１つは、バッチ（Ｂａｃｈ）及びナゲル（Ｎａｇｅｌ）の米国特許第４５７４７１４号及び第４６０２５７４号に記述されている。毒性廃棄物を含む有機物質を分解するバッチ／ナゲル法は、溶融金属浴中における有機物質の、その原子構成分への分解並びにこれらの原子構成分の、環境的に許容しうる、水素、一酸化炭素及び／または二酸化炭素ガスを含む生成物への再構成を含む。しかしながら、いくつかの有害廃棄物、特に有害な有機廃棄物は、実質的な量のハロゲン、例えば塩素を含む。高度に塩素化された有害な有機化合物はポリ塩素化ビフェニル（ＰＣＢ）及びダイオキシンを含む。ハロゲン化有機廃棄物は、その廃棄物の有機成分の分解によって遊離するハロゲンが非常に反応性で、典型的には規制に当たる別の有毒化合物を形成するから、焼却が難しい。それゆえに、上述した問題を最小にするまたは排除するハロゲン化有機廃棄物の処理法が必要とされている。発明の概略本発明は、ハロゲン化有機廃棄物を処理する、ハロゲン化水素ガス及び炭素酸化物ガス流の製造に関する。本発明は、ハロゲン対水素の原子比が約１より低いハロゲン化有機廃棄物を溶融金属浴へ導入する事を含む。この溶融浴は、ハロゲンに対して不活性であり、原子状炭素からの炭素酸化物の生成よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する。ハロゲン化有機廃棄物はハロゲンか水素ガスと原子状炭素に転化され、従って溶融金属浴からハロゲン化水素ガスが放出される。また酸化剤を溶融金属浴へ導入し、原子状炭素を酸化して、炭素酸化物を生成させ、これを溶融金属浴から放出する。本発明の他の具体例は、ハロゲン対水素の原子比が約１より高いハロゲン化有機廃棄物を、ハロゲンに対して不活性であり且つ原子状炭素からの炭素酸化物の生成よりも小さい酸化の自由エネルギーを有する溶融金属浴へ導入する事を含む。ハロゲン化有機供給物は、原子状ハロゲン及び原子状炭素に転化され、そのハロゲンは溶融金属浴に溶解する。酸化剤を溶融金属浴に導入し、原子状炭素を酸化して炭素酸化物ガスを生成させ、これを溶融金属浴から放出する。一方還元剤を溶融金属浴に導入し、原子状ハロゲンを還元してハロゲン化水素を生成させ、これを溶融金属浴から放出する。本発明は多くの利点を有する。例えば、高度にハロゲン化された有機成分を含む有害な廃棄物は、ハロゲン化有毒物質の有意な量を大気に放出する事なしに処理できる。さらに、これらの廃棄物はハロゲンを含むために抑制を必要とするハロゲン含有固体、例えば灰分または塩を生成することなしに処理できる。さらに、本発明はハロゲンガス流、例えば塩化水素または塩素ガス流を生成するという利点を持つ。塩素ガスは多くの化学品、例えば四塩化炭素、トリクロロエチレン、ポリ塩化ビニル、金属塩化物などの製造に対する原料として有用である。結果として、有害なハロゲン化有機廃棄物のハロゲン成分は、有用な工業的原料として再循環できる。図面の簡単な説明図面は、本発明の方法に従い、溶融金属浴中においてハロゲン化有機廃棄物からハロゲンガス流と炭素酸化物ガス流とを生成させるのに適当なシステムを系統的に示す。発明の詳細な説明本発明の方法の特徴及び他の詳細は、今や添付する図面を参照にしてさらに詳しく記述され、また請求の範囲において指摘されるであろう。本発明の特別な具体例が例示であって、本発明を限定するものでないことは理解されよう。本発明の本質的な特徴は、本発明の範囲から逸脱しないで、種々の具体例において具現化する事ができる。すべての部及び百分率は、特に断らない限り重量によるものとする。本発明は、一般にハロゲン化有機廃棄物を処理して、ハロゲンガス及び炭素酸化物ガス流、例えばそれぞれ塩素及び合成ガス（ｓｙｎｇａｓ）を生成する方法に関する。本発明は、本明細書に参考文献として全体が引用される米国特許第４５７４７１４号及び第４６０２５７４号に開示されているバッチ／ナゲル法の改良である。本発明の方法を行うのに適当な装置のある具体例を図面に例示する。装置１０は、反応器１２を含む。適当な反応器の例は、技術的に公知の、適当に改良されたスチール製容器、例えばＫ−ＢＯＰ、Ｑ−ＢＯＰ、アルゴン−酸素脱炭素炉（ＡＯＤ）、ＢＯＦなどを含む。他の適当な反応器は、本明細書に参考文献として全体が引用される米国特許第５３０１６２０号に開示されている。反応器１２は、上部部分１４及び下部部分１６を含む。オフガスの出口１８は、上部部分１４から延び、反応器１２からのオフガス組成物を誘導するのに適当である。反応器１２は、耐火性のライニング、例えば酸化アルミニウム、グラファイトまたは技術的に公知の他の適当な物質を含むことができる。ハロゲン化有機廃棄物入り口導管２０は、ハロゲン化有機廃棄物入り口２２を含み、反応器１２の下部部分１６から延びる。導管２４は、ハロゲン化有機廃棄物源２６及びハロゲン化有機廃棄物入り口導管２０の間に延びる。ポンプ２８は、ハロゲン化有機廃棄物を、ハロゲン化有機廃棄物源２６からハロゲン化有機廃棄物入り口導管を通して、反応器１２に含まれる溶融金属中に導入するために、導管２４に配置されている。羽口３０は、反応器１２の下部部分１６に配置される。羽口３０は、別の酸化剤を酸化剤入り口３４で導入するための酸化剤導管３２を含む。導管３６は酸化剤導管３２及び酸化剤源３８の間に延びる。羽口３０の外側の導管４０は、酸化剤入り口３４において、酸化剤導管３２の周囲に同心円的に配置されている。導管４２は、適当なシュラウド（ｓｈｒｏｕｄ）ガスを、外側導管４０及び酸化剤導管３２間に延びる同心円的開口を通して、シュラウドガス源４４から酸化剤入り口へ供給するために、外側導管４０及びシュラウドガス源４４間に延びる。しかしながら、１つ以上のハロゲン化有機廃棄物の導管または１つ以上の酸化物の導管、或いはその組み合わせの導管が、ハロゲン化有機廃棄物及び酸化剤の反応器１２への導入のために、反応器１２の下部部分に配置できることは、理解すべきである。ハロゲン化有機廃棄物導管及び酸化剤導管は、廃棄物及び酸化剤を同時に導入するために、別々の導入に対して同心円的であってよく、或いは互いに離れた反応器１２中の位置にあってもよい。適当なハロゲン化有機廃棄物は、随時入り口４６から反応器１２へ導入してもよく、またはハロゲン化有機廃棄物源２６から導管４７を通して反応器１２へ供給してもよく、或いはその両方であってもよい。他の手段、例えば注入ランス（ｌａｎｃｅ）（図示してない）も、ハロゲン化有機廃棄物を反応器１２の溶融金属中へ導入するために使用できる。底部の噴流口４８は下部部分１６から延び、溶融金属を反応器１２から取り出すのに適当である。誘電コイル５０は、反応器１２中の溶融金属浴５６を加熱するために、下部部分１６に配置される。ここに、反応器１２は他の適当な手段により、例えばオキシヒユエル（ｏｘｙｆｕｅｌ）バーナー、電気アークなどで加熱してもよい。トルニオン（ｔｒｕｎｉｏｎ）５２は、反応器１２の操作のために反応器１２に配置される。シール５４は、オフガス出口１８及び口４６の間に配置され、シール５４を壊すことなくトルニオン５２の回りに反応器を部分的に回転させるのに適当である。溶融金属浴５６は反応器１２内にある。溶融金属浴５６は反応器１２を適当な金属で部分的に満たすことにより形成される。ついで金属を、誘導コイルの活性化によりまたは図示してないが他の適当な手段により適当な温度まで加熱する。適当な金属は、システムの運転条件以下での融点を有するものである。一般に反応器１２中の溶融金属浴５６の粘度は、反応器１２の運転条件において約１０センチポイズ以下である。溶融金属浴５６は１つより多い金属を含むことができる。例えば溶融金属浴５６は混和しうる金属、例えばニッケル及び銅の溶液を含む。溶融金属浴５６は、塩素または他のハロゲンと反応して塩を生成してはならず、装置１０中の溶融金属浴５６における温度、圧力、及び成分のモル濃度を含む運転条件でハロゲンに対して不活性であると考えられる。１つの具体例において、溶融金属浴５６は、システム１０の運転条件下に、原子状炭素の一酸化炭素へのそれよりも大きい酸化の自由エネルギーを有する金属を含む。また溶融金属浴中の溶融金属は、溶融金属がハロゲン化有機廃棄物のハロゲンの存在下に認め得るだけの塩を形成しないような条件下にある。これらの金属は金、ニッケル、銅、及びコバルトを含むことができる。またいくつかの場合、例えば銅の溶融浴を使用する場合、少量の第２の金属または無機物、例えば硫黄を浴に添加して、過剰な酸素の存在下におけるダイオキシンの生成を防止する。さらに溶融金属浴５６は、かなりの炭素溶解性を有して、ハロゲンガスを発生させつつ、炭素を浴中に溶解及び蓄積させることができる。溶融金属浴中の溶解した炭素の蓄積は、あったとしても少量しか炭素を含まないハロゲン含有ガス流を発生せしめる。即ち、約０．００３重量％以上の炭素溶解性を有する金属は好適であり、約１重量％以上の炭素溶解性を有するものは特に好適である。１つよりも多い金属を使用する場合、金属の少なくとも１つは上述した炭素溶解性を有するべきである。好適な金属は浴の運転条件下に、所望のハロゲン生成物の生成の自由エネルギーよりも大きいその金属ハロゲン化物の生成の自由エネルギーを有する。随時溶融金属浴５６はガラス質のまたはスラグの層６２を含む。溶融金属浴５６上に位置するガラス質層６２は、溶融金属浴５６と実質的に混和しない。ガラス質層６２は、溶融金属浴５６よりも低い熱伝導性を有する事ができる。これによって、溶融金属浴５６からの輻射熱損失は、ガラス質層の存在しない溶融金属浴５６からの輻射熱損失に比べてかなり減じることができる。典型的には、ガラス質層６２は、システムの運転条件下に、原子状炭素の一酸化炭素への酸化に対するものよりも低い酸化の自由エネルギーを有する金属酸化物を少なくとも１つ含む。適当な金属酸化物の例は酸化カルシウム（ＣａＯ）である。システム１０の適当な運転条件は、少なくとも部分的にハロゲン化有機廃棄物を分解によってハロゲン、炭素及び他の原子状構成分に転化するのに十分な温度を含む。一般に１３００〜１７００℃の範囲の温度が適当である。本発明の方法での処理には、広範なハロゲン化有機廃棄物が適当である。適当なハロゲン化有機廃棄物の例はダイオキシン、ＰＣＢなどを含むハロゲン含有炭素質組成物である。ここに、ハロゲン化有機廃棄物は無機化合物も包含することを理解すべきである。炭素及び少なくとも１つのハロゲンのほかに、ハロゲン化有機廃棄物は他の原子構成分、例えば水素、金属、窒素、硫黄、酸素などを含んでいてよい。１つの具体例において、元素状ハロゲンガスに富んだ、例えば塩素ガス（Ｃｌ₂）に富んだガスを高収率で製造するために好適なハロゲン化有機廃棄物は、比較的高度にハロゲン化された炭素質廃棄物、例えばテトラクロロエタン、ヘキサクロロエタン、ヘキサクロロベンゼンなどを含む。これらの化合物は約１よりも大きいハロゲン対水素原子比を有する。本方法は、ハロゲン化有機廃棄物を、ハロゲン化有機廃棄物源２６からポンプ２８により導管２４を通過させ、ハロゲン化有機廃棄物導管２０から溶融金属浴５６へ導入することを含む。１つの具体例において、ハロゲン化有機廃棄物は、液体に溶解してまたは懸濁して有機廃棄物成分を含む流体である。他の具体例では、ハロゲン化有機廃棄物成分の固体粒子を不活性なガス、例えばアルゴンに懸濁せしめる。溶融金属浴５６に向かうハロゲン化有機廃棄物はその原子状構成分に解離される。水素がハロゲン化有機廃棄物中に存在するならば、ハロゲン化水素ガスが生成する。ハロゲン対水素比が約１よりも大きいハロゲン化有機廃棄物を用いることにより、ハロゲンガスの生成が可能である。しかしながら、ハロゲン化水素は、オフガス流を例えば水で洗浄することによりオフガス流から回収できる。解離した廃棄物からの炭素は、溶融金属浴を浸炭しうる。ここに「浸炭」とは、別に添加される酸化剤による酸化のために溶融金属からの炭素の実質的な損失なしに、溶融金属浴中の炭素の量を増加させて、溶融金属浴中に炭素を含有させることを意味する。炭素は金属に溶解することができる。１つの具体例において、元素状炭素は、金属と錯体を形成する。ついで原子状ハロゲンを元素ハロゲンに転化させる。例えば原子状塩素（Ｃｌ）は塩素ガス（Ｃｌ₂）に転化されよう。溶融金属は、金属に溶解する炭素が約１重量％またはそれ以上であるならば、高炭素溶解性を有すると考えられる。低炭素溶解性は、約０．５重量％またはそれ以下の濃度であると考えられる。好ましくは炭素濃度は、約０．５％、さらに好ましくは０．１％、最も好ましくは０．０５％である。ある具体例において、溶融金属浴は、約０．０１〜０，０２％の範囲の炭素濃度を有するニッケルを含む。その様な炭素低濃度での運転の利点は、ハロゲン、例えば塩素が耐火性材料例えば酸化アルミニウムと反応しうるから、ハロゲンの存在下における耐火性ライニングの消耗を最小にすることを含む。金属中の高い炭素濃度は、炭素飽和点またはその付近での炭素量と考えられる。ハロゲンガスは、拡散またはバブリングにより溶融金属浴５６中を移動し、溶融金属浴５６の上に蓄積する。ハロゲンの少なくとも一部は、溶融金属浴の上部で、オフガス出口１８に近い反応器部分に移動して、ハロゲンに富むガス流を形成する。ここに使用するようなハロゲンに富むガス流とは、ガス流中に含まれるハロゲンガスのモル画分が、有機廃棄物の同時の、組み合さった分解及び酸化を伴うバッチ／ナゲルの米国特許第４５７４７１４号及び第４６０２５７４号に開示される典型的な方法で一般的に生成されるものよりも高いガス流を意味する。元素ハロゲンのモル画分は、ガス流中に含まれる元素ハロゲンのモル数の、ガス流中に含まれる元素ハロゲンのモル数及び炭素酸化物ガスのモル数の合計に対する比である。生成した元素ハロゲンは、適当な方法、例えばスクラバーまたは膜での分離により回収できる。溶融金属浴５６に溶解した炭素の濃度は、好ましくは溶融金属浴５６の温度における炭素の飽和点以下の量に制限される。例えば溶融金属浴５６がニッケルの場合、炭素の飽和点は、１４００℃で約２．２〜１８００℃で約２．５重量％の範囲にある。同様に銅の場合、炭素の飽和点は、１４００℃で約０．００１〜１８００℃で約０．００５重量％の範囲にある。高炭素溶解性の溶融金属、例えばニッケル、コバルト及びタングステンの場合、反応器は好ましくは炭素の低濃度で運転できる。低炭素溶解性の溶融金属、例えば銅及びジルコニウムの場合、反応器は好ましくは炭素の高濃度で運転することができる。溶融金属に含まれる炭素が、溶融金属が炭素で飽和されたために不溶になったならば、炭素の不溶性部分はハロゲンに富むガス流に随伴し、オフガス出口１８を通って溶融金属から除去されるようになる。これが起こる場合、技術的には公知のような適当な装置を用いて、随伴された炭素ダストをハロゲンガス流から分離する。適当な装置の例はサイクロン分離器またはバグハウス（ｂａｇｈｏｕｓｅ）・フィルターを含む。酸化剤を溶融金属浴５６に向かわせて、溶融金属浴５６中に溶解した炭素と反応させ、炭素酸化物ガスを生成せしめる。適当な酸化剤の例は酸素ガス（Ｏ₂）、空気などである。ある具体例において、酸化剤は酸化剤入り口導管３２を通して溶融金属浴５６中に導入される。酸化剤入り口導管３２は、ハロゲンガスを逃げさせ且つ溶融金属浴５６に炭素を溶解させるために廃棄物入り口導管２０から十分離れて反応器１２内に位置し、ついで廃棄物からの炭素の酸化剤との反応を行わせる。酸化剤の遠方注入は、ハロゲン化有機廃棄物及び酸化剤を、溶融金属浴５６へ同時に導入する間、はっきりしたハロゲンに富む及び炭素酸化物に富むガス流を生成せしめる。ここで使用する「炭素酸化物に富むガス流」とは、ガス流中に含まれる炭素酸化物ガスの、ガス流中のハロゲン及び炭素酸化物の全量に基づくモル画分が、バッチ／ナゲルの米国特許第４５７４７１４号及び第４６０２５７４号に開示される典型的な方法で一般的に生成されるものより高いガス流を意味する。炭素酸化物ガス流のモル画分は、ガス流中に含まれる炭素酸化物ガスのモル数の、ガス流中に含まれるハロゲンのモル数及び炭素酸化物ガスのモル数の合計に対する比である。ほかに、ハロゲン化有機廃棄物及び酸化剤は、反応器１２内の同一の位置でまたは近い位置で、但し添加時を交互に変えて溶融金属浴５６に供給して、はっきりしたハロゲンに富む及び炭素酸化物に富むガス流を得てもよい。この添加時の交互の間隔は、ハロゲン化有機廃棄物の導入後の炭素の溶解及び溶融金属浴５６からのハロゲンガスの散逸、続く酸化剤の導入後の炭素酸化物ガスの溶融金属浴からの散逸をもたらすのに十分な間隔である。廃棄物及び酸化剤の離れたまたは交互の導入中、ハロゲン化有機廃棄物は酸化剤を含んでいても良いことを理解すべきである。さらにハロゲン化有機廃棄物及び酸化剤は、溶融金属浴５６へ連続的に及び一緒に導入できることも理解すべきである。一酸化炭素と二酸化炭素の炭素酸化物ガス組成物比は、多くの技術により調整できる。１つのその様な技術は溶融金属浴５６を作るために使用した金属または金属混合物の選択に関わる。例えば溶融鉄は一酸化炭素を生成させる傾向があり、一方溶融銅は二酸化炭素の量を増大させ、溶融金属浴５６から遊離させる傾向がある。随時溶融金属浴５６中において混和しない溶融金属の組み合わせも使用しうる。例えば１９９３年１月５日付のＪ．ナゲルの米国特許第５１７７３０４号は、混和しない金属の溶融浴における炭素質廃棄物からの二酸化炭素の生成を増加させる方法及びシステムを開示している。この米国特許第５１７７３０４号の教示は、全体が本明細書に参考文献として引用される。ここに教示されているように、二酸化炭素は、第１が原子状炭素の一酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有し、そして第２が一酸化炭素の酸化による二酸化炭素の生成よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する、２つの混和しない金属を含む溶融金属浴から増大した量で製造することができる。ここに記述される本発明は、上述した具体例に限定されはしない。例えば別の具体例は、ハロゲン化有機廃棄物を、酸化剤を別に添加しないで及びハロゲン化有機廃棄物を分解するのに十分な条件下に溶融金属中に導入して、溶融金属を浸炭し、ハロゲンに富むガス流を生成せしめることを含む。ついでこの浸炭した金属を固化させる。後になって、この浸炭した金属を溶融し、ついで別の酸化剤を添加して、浸炭した溶融金属に含まれる炭素を酸化し、炭素酸化物に富むガス流を生成させても良い。今や、次の例示によって本発明を記述しよう。例示Ｉハロゲン化有機化合物クロロメタンを、図面に示すようなシステムに供給した。溶融金属浴５６は、溶解した炭素１％を含むニッケル金属であり、温度１４００℃であった。同時に酸化剤例えば酸素ガスを溶融金属に供給した。ハロゲン化有機組成物は解離し、一酸化炭素ガス、水素ガス、及び塩化水素ガスになった。一酸化炭素は、二酸化炭素及び酸化ニッケルの酸化の自由エネルギーが炭素の一酸化炭素への酸化の自由エネルギーよりも大きかったから、金属の金属酸化物または二酸化炭素よりも優先的に生成した。一酸化炭素、水素ガス、及び塩化水素ガスを、オフガス出口に通して溶融金属から分離し、これを分離手段、例えば圧力スウイング吸収に供して、一酸化炭素及び水素ガスを別の流れとして得た。塩化水素は例えば適当な塩化水素吸収装置においてガス流から水で回収した。例示 II 塩素及び炭素を含むハロゲン化有機組成物、例えばヘキサクロロベンゼンを、図面に示したような適当なシステムに供給した。溶融金属浴５６の金属は１２００℃の金を含んだ。ハロゲン化組成物を、溶融金属中において、塩素及び炭素を含むその原子状構成分に分解した。塩素が生成し、それを塩素ガスに富む流れとして、オフガス出口１８を通し、反応器１０から取り出した。溶融金属浴５６は同時に浸炭された。塩素ガスを除去した後、酸化剤酸素ガスをシステム中の浸炭された溶融金属に添加した。炭素と酸化剤の反応は、炭素の酸化の自由エネルギーが溶融金属の温度において金のそれより低かったから、溶融金属中の金の酸化より優先的に進行した。炭素は、二酸化炭素及び金の酸化の自由エネルギーが炭素の酸化による一酸化炭素の生成の自由エネルギーよりも大きかったから、酸化金または二酸化炭素よりも一酸化炭素を優先的に生成した。炭素が溶融金属浴５６から除去されるまで、酸素ガスを添加した。一酸化炭素を、オフガス出口を通して溶融金属から十分に分離し、ついで図示してないが一酸化炭素補集タンクへ送り、または大気中へ放出させた。例示 III ハロゲン化ダイオキシンを、約１６００℃の温度でニッケル浴中に供給した。ニッケル浴の炭素濃度は約０．０１％であり、一方実質的な酸素、即ち約０．５％の酸素が浴に溶解した。ハロゲン化有機組成物が解離し、一酸化炭素、二酸化炭素、水素ガス、塩化水素及び水蒸気に変化した。溶融浴に溶解した酸素を、ＣＯ₂を一緒に浴屁供給することにより維持した。塩化水素及び水蒸気を水でのスクラバーでガスから回収し、一酸化炭素及び水素を化学合成の供給原料として使用した。ほかに一酸化炭素及び水素ガスを、化学品製造会社で燃料として使用した。二酸化炭素は浴に再循環した。例示 IV ポリ塩素化ビフェニル（ＰＣＢ）を、約１６００℃の溶融コバルト浴に供給した。最初溶融浴の炭素含量は、約０．１％より僅かに高く、ＰＣＢ廃棄物を、共反応物なしに供給した。この結果、炭素が浴に蓄積し、一方水素ガス及び塩化水素ガスが浴内で生成し、ガス流として流出した。炭素の溶解が飽和に近付くにつれて、廃棄物の注入を停止し、酸素ガスの注入を始めた。酸素ガスは、溶解した炭素と反応して一酸化炭素を生成し、これがガス流として存在した。浴中に蓄積した炭素が約０．１％より僅かに大きい値まで減少するにつれて、酸素ガスの注入を停止し、ＰＣＢの注入を再開した。これは運転サイクルを確立し、これを繰り返した。流れを実質的に異なるタンクへ誘導することにより、生成物の一酸化炭素を水素ガス及び塩化水素流から分離した。水素ガスを、膜分離により塩化水素から分離し、これによって全生成物ガス流を分離した。例示Ｖヘキサフルオロエタン廃棄物を、溶融亜鉛浴に、約１０００℃の温度及び２５バールの圧力で注入した。弗素は金属浴に溶解して、弗素を保有する金属相を形成した。酸素を金属浴に共流的に注入して一酸化炭素を生成させた。弗素が亜鉛中で溶解限界に達するにつれて、廃棄物の注入及び酸素の注入を止め、水素ガスを還元剤として注入して、溶解した弗素を金属亜鉛に対して還元し、ガス相に存在するフッ化水素を生成させた。弗素が溶融金属浴からほとんど減少するにつれて、水素ガスの注入を止め、廃棄物及び酸素ガスの注入を再開した。これは工程サイクルを確立した。ついで、このサイクルを連続的に繰り返した。等価物同業者は、僅かにすぎない慣例的実験により、本明細書で特に記述した本発明の特別な具体例に対する多くの等価物を認識しまたは確認できるであろう。その様な等価物は特許請求の範囲に包含されるものとする。

【手続補正書】特許法第１８４条の４第４項【提出日】１９９６年１２月１９日【補正内容】請求の範囲１、ａ）ハロゲン対水素原子比が約１より小さいハロゲン化有機廃棄物を溶融金属浴へ供給し、但し該溶融金属浴が該ハロゲンに対して不活性であり且つ原子状炭素からの炭素酸化物の生成のそれよりも大きい酸化の自由エネルギーを有し、該ハロゲン化有機供給物をハロゲン化水素ガス及び原子状炭素に転化し、これによって該ハロゲン化水素ガスを溶融金属浴から遊離させ、そしてｂ）酸化剤を溶融金属浴に供給し、これによって原子状炭素を酸化して、炭素酸化物ガスを生成させ、これを溶融金属浴から遊離させ、これによってハロゲン化有機廃棄物を処理してハロゲン化水素と炭素生成物ガス流を製造する段階を含んでなる、ハロゲン化有機廃棄物の処理によりハロゲン化水素ガス及び炭素酸化物ガスを製造する方法。２、酸化剤の溶融金属浴への注入を、ハロゲン化有機供給物のそれと別に行い、これによってハロゲン化水素に富むガス流を生成させ、そして別に炭素酸化物に富むガス流を生成させる、請求の範囲１の方法。３、ハロゲン化有機供給物及び酸化剤を溶融金属浴に交互に供給する、請求の範囲２の方法。４、酸化剤を、ハロゲン化有機供給物の場所から離れた位置で溶融金属浴に供給し、そしてはっきりした炭素酸化物ガス及びハロゲン化水素ガス流を同時に生成させる、請求の範囲１の方法。５、ハロゲン化炭化水素供給物のハロゲンが塩素を含む、請求の範囲１の方法。６、ハロゲン化炭化水素供給物のハロゲンが弗素、臭素及びよう素からなる群から選択される、請求の範囲１の方法。７、炭素酸化物ガス流が一酸化炭素を含む、請求の範囲１の方法。８、炭素酸化物ガス流が二酸化炭素を含む、請求の範囲１の方法。９、ハロゲン化水素が塩化水素を含む、請求の範囲１の方法。１０、ハロゲン化水素が弗化水素、臭化水素及びよう化水素からなる群から選択される、請求の範囲１の方法。１１、ハロゲン化水素流がさらに塩素ガス、弗素ガス、臭素ガス及びよう素ガスからなる群から選択されるハロゲンガスを含む、請求の範囲１の方法。１２、ハロゲン化水素ガスがさらに水素ガスを含む、請求の範囲１の方法。１３、酸化剤が酸素ガスを含む、請求の範囲１の方法。１４、酸化剤が二酸化炭素または水を含む、請求の範囲１の方法。１５、溶融浴が金、ニッケル、銅及びコバルトからなる群から選択される溶融金属を含む、請求の範囲１の方法。１６、原子状炭素が溶融金属に可溶である、請求の範囲１の方法。１７、溶融金属浴中の炭素濃度が約０．５％である、請求の範囲１６の方法。１８、溶融金属浴中の炭素濃度が約０．１％である、請求の範囲１６の方法。１９、溶融金属浴中の炭素濃度が約０．０５％である、請求の範囲１６の方法。２０、該溶融金属浴がグラファイトの耐火性ライニングを含む、請求の範囲１の方法。２１、原子状塩素が溶融金属に溶解する、請求の範囲１の方法。２２、ハロゲン化有機供給物がクロロエタンを含む、請求の範囲１の方法。２３、ハロゲン化有機供給物がクロロベンゼンを含む、請求の範囲１の方法。２４、ハロゲン化有機供給物がダイオキシンを含む、請求の範囲１の方法。２５、ハロゲン化有機供給物がポリ塩素化ビフェニルを含む、請求の範囲１の方法。２６、溶融浴が、原子状炭素の、一酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する第１の金属、及び一酸化炭素の、二酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する第２の金属を含んでなる、請求の範囲１の方法。２７、溶融金属浴の金属が一酸化炭素の、二酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する、請求の範囲１の方法。２８、ａ）ハロゲン対水素原子比が約１より小さいハロゲン化有機廃棄物を溶融ニッケル浴へ供給し、但し該溶融ニッケル浴がニッケル溶融浴の条件下に該ハロゲンに対して不活性であり且つ原子状炭素からの炭素酸化物の生成のそれよりも大きい酸化の自由エネルギーを有し、該ハロゲン化有機供給物をハロゲン化水素ガス及び原子状炭素に転化し、これによってニッケル溶融浴中の炭素を低濃度に維持しつつ該ハロゲン化水素ガスを溶融ニッケル浴から遊離させ、そしてｂ）酸化剤を溶融ニッケル浴に供給し、これによって原子状炭素を酸化して、炭素酸化物ガスを生成させ、これを溶融ニッケル浴から遊離させる、ことを含んでなる、ハロゲン化有機廃棄物の処理によりハロゲン化水素ガス及び炭素酸化物ガスを製造する方法。２９、ａ）ハロゲン対水素原子比が約１より小さいハロゲン化有機廃棄物を溶融ニッケル浴へ供給し、但し該溶融ニッケル浴がニッケル溶融浴の条件下に該ハロゲンに対して不活性であり且つ原子状炭素からの炭素酸化物の生成のそれよりも大きい酸化の自由エネルギーを有し、該ハロゲン化有機供給物をハロゲン化水素ガス及び原子状炭素に転化し、これによってニッケル溶融浴中の炭素を低濃度に維持しつつ該ハロゲン化水素ガスを溶融ニッケル浴から遊離させ、そしてｂ）酸化剤を溶融金属浴に供給し、これによって原子状炭素を酸化して、炭素酸化物ガスを生成させ、これを溶融ニッケル浴から遊離させる、ことを含んでなる、ハロゲン化有機廃棄物の処理によりハロゲン化水素ガス及び炭素酸化物ガスを製造する方法。３０、ａ）ハロゲン対水素原子比が約１より小さいハロゲン化有機廃棄物を溶融銅浴へ供給し、但し該溶融銅浴が溶融銅浴の条件下に該ハロゲンに対して不活性であり且つ原子状炭素からの炭素酸化物の生成のそれよりも大きい酸化の自由エネルギーを有し、該ハロゲン化有機供給物をハロゲン化水素ガス及び原子状炭素に転化し、これによって銅浴中の炭素を高濃度に維持しつつ該ハロゲン化水素ガスを溶融銅浴から遊離させ、そしてｂ）酸化剤を溶融銅浴に供給し、これによって原子状炭素を酸化して、炭素酸化物ガスを生成させ、これを溶融銅浴から遊離させる、ことを含んでなる、ハロゲン化有機廃棄物の処理によりハロゲン化水素ガス及び炭素酸化物ガスを製造する方法。３１、溶融銅浴がさらにニッケルを含む、請求の範囲２９の方法。３２、ニッケルが銅−ニッケル浴の約１重量％である、請求の範囲３０の方法。３３、ａ）ハロゲン対水素原子比が約１より大きいハロゲン化有機廃棄物を溶融金属浴へ供給し、但し該溶融金属浴が該ハロゲンに対して不活性であり且つ原子状炭素からの炭素酸化物の生成のそれよりも低い酸化の自由エネルギーを有し、該ハロゲン化有機供給物をハロゲンガス及び原子状炭素に転化し、これによって該ハロゲンガスを溶融金属浴から遊離させ、そしてｂ）酸化剤を溶融金属浴に供給し、これによって原子状炭素を酸化して、炭素酸化物ガスを生成させ、これを溶融金属浴から遊離させ、これによってハロゲン化有機廃棄物を処理してハロゲン化水素及び炭素酸化物ガス流を製造する段階を含んでなる、ハロゲン化有機廃棄物の処理によりハロゲン化水素ガス及び炭素酸化物ガスを製造する方法。３４、酸化剤の溶融金属浴への注入を、ハロゲン化有機供給物のそれと別に行い、これによってハロゲンに富むガス流を生成させ、そして別に炭素酸化物に富むガス流を生成させる、請求の範囲３５の方法。３５、ハロゲン化有機供給物及び酸化剤を溶融金属浴に交互に供給する、請求の範囲３３の方法。３６、酸化物を、ハロゲン化有機供給物の場所から離れた位置で溶融金属浴に供給し、そしてはっきりした炭素酸化物ガス及びハロゲン化水素ガス流を同時に生成させる、請求の範囲３３の方法。３７、ハロゲン化炭化水素供給物のハロゲンが塩素を含む、請求の範囲３３の方法。３８、ハロゲン化炭化水素供給物のハロゲンが弗素、臭素及びよう素からなる群から選択される、請求の範囲３３の方法。３９、炭素酸化物ガス流が一酸化炭素を含む、請求の範囲３３の方法。４０、炭素酸化物ガス流が二酸化炭素を含む、請求の範囲３３の方法。４１、ハロゲンガスが塩素ガス、弗素ガス、臭素ガス及びよう素ガスからなる群から選択される、請求の範囲３３の方法。４２、酸化剤が酸素ガスを含む、請求の範囲３３の方法。４３、酸化剤が二酸化炭素または水を含む、請求の範囲３３の方法。４４、溶融浴が金、ニッケル、銅及びコバルトからなる群から選択される溶融金属を含む、請求の範囲３３の方法。４５、原子状炭素が溶融金属に溶解する、請求の範囲３３の方法。４６、溶融金属浴中の炭素濃度が約０．５％である、請求の範囲４５の方法。４７、溶融金属浴中の炭素濃度が約０．１％である、請求の範囲４５の方法。４８、溶融金属浴中の炭素濃度が約０．０５％である、請求の範囲４５の方法。４９、該溶融金属浴がグラファイトの耐火性ライニングを含む、請求の範囲３３の方法。５０、原子状塩素が溶融金属に溶解する、請求の範囲３３の方法。５１、ハロゲン化有機供給物がテトラクロロエタンを含む、請求の範囲３３の方法。５２、ハロゲン化有機供給物がヘキサクロロベンゼンを含む、請求の範囲３３の方法。５３、ハロゲン化有機供給物がダイオキシンを含む、請求の範囲３３の方法。５４、ハロゲン化有機供給物がポリ塩素化ビフェニルを含む、請求の範囲３３の方法。５５、溶融浴が、原子状炭素の、一酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する第１の金属、及び一酸化炭素の、二酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する第２の金属を含んでなる、請求の範囲３３の方法。５６、溶融金属浴の金属が一酸化炭素の、二酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する、請求の範囲３３の方法。５７、ａ）ハロゲン対水素原子比が約１より大きいハロゲン化有機廃棄物を溶融金属浴へ供給し、但し該溶融金属浴が該ハロゲンに対して不活性であり且つ原子状炭素からの炭素酸化物の生成のそれよりも大きい酸化の自由エネルギーを有し、該ハロゲン化有機供給物を原子状ハロゲン及び原子状炭素に転化し、これによって該ハロゲンを溶融金属浴に溶解させ、そしてｂ）酸化剤を溶融金属浴に供給し、これによって原子状炭素を酸化して、炭素酸化物ガスを生成させ、これを溶融金属浴から遊離させる、ｃ）還元剤を溶融金属浴に供給し、これによって原子状ハロゲンを還元して、ハロゲン化水素を生成させ、これを溶融金属浴から遊離させ、これによってハロゲン化有機廃棄物を処理してハロゲン化水素及び炭素酸化物ガス流を製造する段階を含んでなる、ハロゲン化有機廃棄物の処理によりハロゲン化水素ガス及び炭素酸化物ガス流を製造する方法。５８、還元剤が水素ガスである、請求の範囲５７の方法。５９、溶融金属浴が亜鉛を含む、請求の範囲５７の方法。【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項【提出日】１９９７年６月３日【補正内容】本発明の方法による溶融金属浴中においてハロゲン化有機廃棄物・・・・・・発明の詳細な説明本発明の方法の特徴及び他の詳細は、今や添付する図面を参照にしてさらに詳しく記述され、また請求の範囲において指摘されるであろう。本発明の特別な具体例が例示であって、本発明を限定するものでないことは理解されよう。すべての部及び百分率は、特に断らない限り重量によるものとする。本発明は、一般にハロゲン化有機廃棄物を処理して、ハロゲンガス及び炭素酸化物ガス流、例えばそれぞれ塩素及び合成ガス（ｓｙｎｇａｓ）を生成する方法に関する。本発明は、本明細書に参考文献として全体が引用される米国特許第４５７４７１４号及び第４６０２５７４号に開示されているバッチ／ナゲル法の改良である。本発明の方法を行うのに適当な装置のある具体例を図面に例示する。装置１０は、反応器１２を含む。適当な反応器の例は、技術的に公知の、適当に改良されたスチール製容器、例えばＫ−ＢＯＰ、Ｑ−ＢＯＰ、アルゴン−酸素脱炭素炉（ＡＯＤ）、ＢＯＦなどを含む。他の適当な反応器は米国特許第５３０１６２０号に開示され、その教示は・・・・請求の範囲１、ａ）ハロゲン対水素原子比が約１より小さいハロゲン化有機供給物を溶融金属浴へ供給し、但し該溶融金属浴が該ハロゲンに対して不活性であり且つ原子状炭素からの炭素酸化物の生成のそれよりも低い酸化の自由エネルギーを有し、該ハロゲン化有機供給物をハロゲン化水素ガス及び原子状炭素に転化し、これによって該ハロゲン化水素ガスを溶融金属浴から遊離させ、そしてｂ）酸化剤を溶融金属浴に供給し、これによって原子状炭素を酸化して炭素酸化物ガスを生成させ、これを溶融金属浴から遊離させ、これによってハロゲン化有機供給物を処理してハロゲン化水素及び炭素酸化物ガス流を製造する、ことを含んでなる、ハロゲン化有機供給物の処理によりハロゲン化水素ガス及び炭素酸化物ガスを製造する方法。２、酸化剤の溶融金属浴への注入を、ハロゲン化有機供給物のそれと別に行い、これによってハロゲン化水素に富むガス流を生成させ、そして別に炭素酸化物に富むガス流を生成させる、請求の範囲１の方法。３、ハロゲン化有機供給物及び酸化剤を溶融金属浴に交互に供給する、請求の範囲２の方法。４、酸化剤を、ハロゲン化有機供給物の場所から離れた位置で溶融金属浴に供給し、そしてはっきりした炭素酸化物ガス及びハロゲン化水素ガス流を同時に生成させる、請求の範囲１の方法。５、ハロゲン化炭化水素供給物のハロゲンが塩素を含む、請求の範囲１の方法。６、ハロゲン化炭化水素供給物のハロゲンが弗素、臭素及びよう素からなる群から選択される、請求の範囲１の方法。７、炭素酸化物ガス流が一酸化炭素を含む、請求の範囲１の方法。８、炭素酸化物ガス流が二酸化炭素を含む、請求の範囲１の方法。９、ハロゲン化水素が塩化水素を含む、請求の範囲１の方法。１０、ハロゲン化水素が弗化水素、臭化水素及びよう化水素からなる群から選択される、請求の範囲１の方法。１１、ハロゲン化水素流がさらに塩素ガス、弗素ガス、臭素ガス及びよう素ガスからなる群から選択されるハロゲンガスを含む、請求の範囲１の方法。１２、ハロゲン化水素ガスがさらに水素ガスを含む、請求の範囲１の方法。１３、酸化剤が酸素ガスを含む、請求の範囲１の方法。１４、酸化剤が二酸化炭素または水を含む、請求の範囲１の方法。１５、溶融浴が金、ニッケル、銅及びコバルトからなる群から選択される溶融金属を含む、請求の範囲１の方法。１６、原子状炭素が溶融金属に溶解する、請求の範囲１の方法。１７、溶融金属浴中の炭素濃度が約０．５％である、請求の範囲１６の方法。１８、溶融金属浴中の炭素濃度が約０．１％である、請求の範囲１６の方法。１９、溶融金属浴中の炭素濃度が約０．０５％である、請求の範囲１６の方法。２０、該溶融金属浴がグラファイトの耐火性ライニングを含む、請求の範囲１の方法。２１、ハロゲン化有機供給物の塩素が溶融金属浴の溶融金属に可溶である、請求の範囲１の方法。２２、ハロゲン化有機供給物がクロロエタンを含む、請求の範囲１の方法。２３、ハロゲン化有機供給物がクロロベンゼンを含む、請求の範囲１の方法。２４、ハロゲン化有機供給物がダイオキシンを含む、請求の範囲１の方法。２５、ハロゲン化有機供給物がポリ塩素化ビフェニルを含む、請求の範囲１の方法。２６、溶融金属浴が、原子状炭素の、一酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する第１の金属、及び一酸化炭素の、二酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する第２の金属を含んでなる、請求の範囲１の方法。２７、溶融金属浴の金属が一酸化炭素の、二酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する、請求の範囲１の方法。２８、溶融金属がニッケルであり、そして該ハロゲン化水素ガスを、ニッケル金属浴中の炭素を低濃度に維持しつつ溶融ニッケル浴から遊離させる、請求の範囲１５の方法。２９、溶融金属がニッケルであり、そして該ハロゲン化水素ガスを、ニッケル金属浴中の炭素を高濃度に維持しつつ溶融ニッケル浴から遊離させる、請求の範囲１５の方法。３０、ａ）ハロゲン対水素原子比が約１より大きいハロゲン化有機供給物を溶融金属浴へ供給し、但し該溶融金属浴が該ハロゲンに対して不活性であり且つ原子状炭素からの炭素酸化物の生成のそれよりも高い酸化の自由エネルギーを有し、該ハロゲン化有機供給物をハロゲンガス及び原子状炭素に転化し、これによって該ハロゲンガスを溶融金属浴から遊離させ、そしてｂ）酸化剤を溶融金属浴に供給し、これによって原子状炭素を酸化して、炭素酸化物ガスを生成させ、これを溶融金属浴から遊離させ、ハロゲン化有機供給物を処理してハロゲンガス及び炭素酸化物ガス流を製造する、ことを含んでなる、ハロゲン化有機供給物の処理によりハロゲンガス及び炭素酸化物ガスを製造する方法。３１、酸化剤の溶融金属浴への注入を、ハロゲン化有機供給物のそれと別に行い、これによってハロゲンに富むガス流を生成させ、そして別に炭素酸化物に富むガス流を生成させる、請求の範囲３０の方法。３２、ハロゲン化有機供給物及び酸化剤を溶融金属浴に交互に供給する、請求の範囲３０の方法。３３、酸化物を、ハロゲン化有機供給物の場所から離れた位置で溶融金属浴に供給し、そしてはっきりした炭素酸化物ガス及びハロゲン化水素ガス流を同時に生成させる、請求の範囲３０の方法。３４、ハロゲン化炭化水素供給物のハロゲンが塩素を含む、請求の範囲３０の方法。３５、ハロゲン化炭化水素供給物のハロゲンが弗素、臭素及びよう素からなる群から選択される、請求の範囲３０の方法。３６、炭素酸化物ガス流が一酸化炭素を含む、請求の範囲３０の方法。３７、炭素酸化物ガス流が二酸化炭素を含む、請求の範囲３０の方法。３８、ハロゲンガスが塩素ガス、弗素ガス、臭素ガス及びよう素ガスからなる群から選択される、請求の範囲３０の方法。３９、酸化剤が酸素ガスを含む、請求の範囲３０の方法。４０、酸化剤が二酸化炭素または水を含む、請求の範囲３０の方法。４１、溶融浴が金、ニッケル、銅及びコバルトからなる群から選択される溶融金属を含む、請求の範囲３０の方法。４２、原子状炭素が溶融金属に溶解する、請求の範囲３０の方法。４３、溶融金属浴中の原子状炭素濃度が約０．５％である、請求の範囲３０の方法。４４、溶融金属浴中の原子状炭素濃度が約０．１％である、請求の範囲３０の方法。４５、溶融金属浴中の原子状炭素濃度が約０．０５％である、請求の範囲３０の方法。４６、該溶融金属浴がグラファイトの耐火性ライニングを含む、請求の範囲３０の方法。４７、ハロゲン化有機供給物の塩素が溶融金属浴の溶融金属に可溶である、、請求の範囲３０の方法。４８、ハロゲン化有機供給物がテトラクロロエタンを含む、請求の範囲３０の方法。４９、ハロゲン化有機供給物がヘキサクロロベンゼンを含む、請求の範囲３０の方法。５０、ハロゲン化有機供給物がダイオキシンを含む、請求の範囲３０の方法。５１、ハロゲン化有機供給物がポリ塩素化ビフェニルを含む、請求の範囲３０の方法。５２、溶融金属浴が、原子状炭素の、一酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する第１の金属、及び一酸化炭素の、二酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する第２の金属を含んでなる、請求の範囲３０の方法。５３、溶融金属浴の金属が一酸化炭素の、二酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する、請求の範囲３０の方法。５４、ａ）ハロゲン対水素原子比が約１より大きいハロゲン化有機供給物を溶融金属浴へ供給し、但し該溶融金属浴が該ハロゲンに対して不活性であり且つ原子状炭素からの炭素酸化物の生成のそれよりも高い酸化の自由エネルギーを有し、該ハロゲン化有機供給物を原子状ハロゲン及び原子状炭素に転化し、これによって該ハロゲンを溶融金属浴に溶解させ、そしてｂ）酸化剤を溶融金属浴に供給し、これによって原子状炭素を酸化して、炭素酸化物ガスを生成させ、これを溶融金属浴から遊離させる、ｃ）還元剤を溶融金属浴に供給し、これによって原子状ハロゲンを還元して、ハロゲン化水素を生成させ、これを溶融金属浴から遊離させ、これによってハロゲン化有機供給物を処理することによりハロゲン化水素及び炭素酸化物ガス流を製造することを含んでなる、ハロゲン化水素流及び炭素酸化物ガス流システムを製造するためのハロゲン化有機供給物の処理法。５５、還元剤が水素ガスである、請求の範囲５７の方法。５６、溶融金属浴が亜鉛を含む、請求の範囲５７の方法。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ)，ＵＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ

Claims

【特許請求の範囲】１、ａ）ハロゲン対水素原子比が約１より小さいハロゲン化有機廃棄物を溶融金属浴へ供給し、但し該溶融金属浴が該ハロゲンに対して不活性であり且つ原子状炭素からの炭素酸化物の生成のそれよりも低い酸化の自由エネルギーを有し、該ハロゲン化有機供給物をハロゲン化水素ガス及び原子状炭素に転化し、これによって該ハロゲン化水素ガスを溶融金属浴から遊離させ、そしてｂ）酸化剤を溶融金属浴に供給し、これによって原子状炭素を酸化して、炭素酸化物ガスを生成させ、これを溶融金属浴から遊離させる、ことを含んでなる、ハロゲン化有機廃棄物の処理によりハロゲン化水素ガス及び炭素酸化物ガスを製造する方法。２、酸化剤の溶融金属浴への注入を、ハロゲン化有機供給物のそれと別に行い、これによってハロゲン化水素に富むガス流を生成させ、そして別に炭素酸化物に富むガス流を生成させる、請求の範囲１の方法。３、ハロゲン化有機供給物及び酸化剤を溶融金属浴に交互に供給する、請求の範囲２の方法。４、酸化剤を、ハロゲン化有機供給物の場所から離れた位置で溶融金属浴に供給し、そしてはっきりした炭素酸化物ガス及びハロゲン化水素ガス流を同時に生成させる、請求の範囲１の方法。５、ハロゲン化炭化水素供給物のハロゲンが塩素を含む、請求の範囲１の方法。６、ハロゲン化炭化水素供給物のハロゲンが弗素、臭素及びよう素からなる群から選択される、請求の範囲１の方法。７、炭素酸化物ガス流が一酸化炭素を含む、請求の範囲１の方法。８、炭素酸化物ガス流が二酸化炭素を含む、請求の範囲１の方法。９、ハロゲン化水素が塩化水素を含む、請求の範囲１の方法。１０、ハロゲン化水素が弗化水素、臭化水素及びよう化水素からなる群から選択される、請求の範囲１の方法。１１、ハロゲン化水素流がさらに塩素ガス、弗素ガス、臭素ガス及びよう素ガスからなる群から選択されるハロゲンガスを含む、請求の範囲１の方法。１２、ハロゲン化水素ガスがさらに水素ガスを含む、請求の範囲１の方法。１３、酸化剤が酸素ガスを含む、請求の範囲１の方法。１４、酸化剤が二酸化炭素または水を含む、請求の範囲１の方法。１５、溶融浴が金、ニッケル、銅及びコバルトからなる群から選択される溶融金属を含む、請求の範囲１の方法。１６、原子状炭素が溶融金属に可溶である、請求の範囲１の方法。１７、溶融金属浴中の炭素濃度が約０．５％である、請求の範囲１６の方法。１８、溶融金属浴中の炭素濃度が約０．１％である、請求の範囲１６の方法。１９、溶融金属浴中の炭素濃度が約０．０５％である、請求の範囲１６の方法。２０、該溶融金属浴がグラファイトの耐火性ライニングを含む、請求の範囲１の方法。２１、原子状塩素が溶融金属に溶解する、請求の範囲１の方法。２２、ハロゲン化有機供給物がクロロエタンを含む、請求の範囲１の方法。２３、ハロゲン化有機供給物がクロロベンゼンを含む、請求の範囲１の方法。２４、ハロゲン化有機供給物がダイオキシンを含む、請求の範囲１の方法。２５、ハロゲン化有機供給物がポリ塩素化ビフェニルを含む、請求の範囲１の方法。２６、溶融浴が、原子状炭素の、一酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する第１の金属、及び一酸化炭素の、二酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する第２の金属を含んでなる、請求の範囲１の方法。２７、溶融金属浴の金属が一酸化炭素の、二酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する、請求の範囲１の方法。２８、ａ）ハロゲン対水素原子比が約１より小さいハロゲン化有機廃棄物を溶融ニッケル浴へ供給し、但し該溶融ニッケル浴がニッケル溶融浴の条件下に該ハロゲンに対して不活性であり且つ原子状炭素からの炭素酸化物の生成のそれよりも大きい酸化の自由エネルギーを有し、該ハロゲン化有機供給物をハロゲン化水素ガス及び原子状炭素に転化し、これによってニッケル溶融浴中の炭素を低濃度に維持しつつ該ハロゲン化水素ガスを溶融ニッケル浴から遊離させ、そしてｂ）酸化剤を溶融ニッケル浴に供給し、これによって原子状炭素を酸化して、炭素酸化物ガスを生成させ、これを溶融ニッケル浴から遊離させる、ことを含んでなる、ハロゲン化有機廃棄物の処理によりハロゲン化水素ガス及び炭素酸化物ガスを製造する方法。２９、ａ）ハロゲン対水素原子比が約１より小さいハロゲン化有機廃棄物を溶融ニッケル浴へ供給し、但し該溶融ニッケル浴がニッケル溶融浴の条件下に該ハロゲンに対して不活性であり且つ原子状炭素からの炭素酸化物の生成のそれよりも大きい酸化の自由エネルギーを有し、該ハロゲン化有機供給物をハロゲン化水素ガス及び原子状炭素に転化し、これによってニッケル溶融浴中の炭素を低濃度に維持しつつ該ハロゲン化水素ガスを溶融ニッケル浴から遊離させ、そしてｂ）酸化剤を溶融金属浴に供給し、これによって原子状炭素を酸化して、炭素酸化物ガスを生成させ、これを溶融ニッケル浴から遊離させる、ことを含んでなる、ハロゲン化有機廃棄物の処理によりハロゲン化水素ガス及び炭素酸化物ガスを製造する方法。３０、ａ）ハロゲン対水素原子比が約１より小さいハロゲン化有機廃棄物を溶融銅浴へ供給し、但し該溶融銅浴が溶融銅浴の条件下に該ハロゲンに対して不活性であり且つ原子状炭素からの炭素酸化物の生成のそれよりも大きい酸化の自由エネルギーを有し、該ハロゲン化有機供給物をハロゲン化水素ガス及び原子状炭素に転化し、これによって銅浴中の炭素を高濃度に維持しつつ該ハロゲン化水素ガスを溶融銅浴から遊離させ、そしてｂ）酸化剤を溶融銅浴に供給し、これによって原子状炭素を酸化して、炭素酸化物ガスを生成させ、これを溶融銅浴から遊離させる、ことを含んでなる、ハロゲン化有機廃棄物の処理によりハロゲン化水素ガス及び炭素酸化物ガスを製造する方法。３１、溶融銅浴がさらにニッケルを含む、請求の範囲２９の方法。３２、ニッケルが銅−ニッケル浴の約１重量％である、請求の範囲３０の方法。３３、ａ）ハロゲン対水素原子比が約１より大きいハロゲン化有機廃棄物を溶融金属浴へ供給し、但し該溶融金属浴が該ハロゲンに対して不活性であり且つ原子状炭素からの炭素酸化物の生成のそれよりも低い酸化の自由エネルギーを有し、該ハロゲン化有機供給物をハロゲンガス及び原子状炭素に転化し、これによって該ハロゲンガスを溶融金属浴から遊離させ、そしてｂ）酸化剤を溶融金属浴に供給し、これによって原子状炭素を酸化して、炭素酸化物ガスを生成させ、これを溶融金属浴から遊離させる、ことを含んでなる、ハロゲン化有機廃棄物の処理によりハロゲン化水素ガス及び炭素酸化物ガスを製造する方法。３４、酸化剤の溶融金属浴への注入を、ハロゲン化有機供給物のそれと別に行い、これによってハロゲンに富むガス流を生成させ、そして別に炭素酸化物に富むガス流を生成させる、請求の範囲３５の方法。３５、ハロゲン化有機供給物及び酸化剤を溶融金属浴に交互に供給する、請求の範囲３３の方法。３６、酸化物を、ハロゲン化有機供給物の場所から離れた位置で溶融金属浴に供給し、そしてはっきりした炭素酸化物ガス及びハロゲン化水素ガス流を同時に生成させる、請求の範囲３３の方法。３７、ハロゲン化炭化水素供給物のハロゲンが塩素を含む、請求の範囲３３の方法。３８、ハロゲン化炭化水素供給物のハロゲンが弗素、臭素及びよう素からなる群から選択される、請求の範囲３３の方法。３９、炭素酸化物ガス流が一酸化炭素を含む、請求の範囲３３の方法。４０、炭素酸化物ガス流が二酸化炭素を含む、請求の範囲３３の方法。４１、ハロゲンガスが塩素ガス、弗素ガス、臭素ガス及びよう素ガスからなる群から選択される、請求の範囲３３の方法。４２、酸化剤が酸素ガスを含む、請求の範囲３３の方法。４３、酸化剤が二酸化炭素または水を含む、請求の範囲３３の方法。４４、溶融浴が金、ニッケル、銅及びコバルトからなる群から選択される溶融金属を含む、請求の範囲３３の方法。４５、原子状炭素が溶融金属に溶解する、請求の範囲３３の方法。４６、溶融金属浴中の炭素濃度が約０．５％である、請求の範囲４５の方法。４７、溶融金属浴中の炭素濃度が約０．１％である、請求の範囲４５の方法。４８、溶融金属浴中の炭素濃度が約０．０５％である、請求の範囲４５の方法。４９、該溶融金属浴がグラファイトの耐火性ライニングを含む、請求の範囲３３の方法。５０、原子状塩素が溶融金属に溶解する、請求の範囲３３の方法。５１、ハロゲン化有機供給物がテトラクロロエタンを含む、請求の範囲３３の方法。５２、ハロゲン化有機供給物がヘキサクロロベンゼンを含む、請求の範囲３３の方法。５３、ハロゲン化有機供給物がダイオキシンを含む、請求の範囲３３の方法。５４、ハロゲン化有機供給物がポリ塩素化ビフェニルを含む、請求の範囲３３の方法。５５、溶融浴が、原子状炭素の、一酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する第１の金属、及び一酸化炭素の、二酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する第２の金属を含んでなる、請求の範囲３３の方法。５６、溶融金属浴の金属が一酸化炭素の、二酸化炭素への酸化よりも大きい酸化の自由エネルギーを有する、請求の範囲３３の方法。５７、ａ）ハロゲン対水素原子比が約１より大きいハロゲン化有機廃棄物を溶融金属浴へ供給し、但し該溶融金属浴が該ハロゲンに対して不活性であり且つ原子状炭素からの炭素酸化物の生成のそれよりも低い酸化の自由エネルギーを有し、該ハロゲン化有機供給物を原子状ハロゲン及び原子状炭素に転化し、これによって該ハロゲンを溶融金属浴に溶解させ、そしてｂ）酸化剤を溶融金属浴に供給し、これによって原子状炭素を酸化して、炭素酸化物ガスを生成させ、これを溶融金属浴から遊離させる、ｃ）還元剤を溶融金属浴に供給し、これによって原子状ハロゲンを還元して、ハロゲン化水素を生成させ、これを溶融金属浴から遊離させる、ことを含んでなる、ハロゲン化有機廃棄物の処理によりハロゲン化水素ガス及び炭素酸化物ガス流を製造する方法。５８、還元剤が水素ガスである、請求の範囲５７の方法。５９、溶融金属浴が亜鉛を含む、請求の範囲５７の方法。