JPH11502942A

JPH11502942A - 反対方向の動きを伴う走査リソグラフィシステム

Info

Publication number: JPH11502942A
Application number: JP8528463A
Authority: JP
Inventors: トーマス，ティモズィ; シー．アレン，ポール
Original assignee: イーテックシステムズ，インコーポレーテッド
Priority date: 1995-03-22
Filing date: 1996-03-19
Publication date: 1999-03-09
Also published as: HK1007905A1; DE69604905T2; KR19980703210A; EP0815494A1; EP0815494B1; US5815245A; KR100331063B1; WO1996029632A1; DE69604905D1; CA2215852A1

Abstract

(57)【要約】小フィールド走査フォトリソグラフィシステム（１００）は反転像をブランク上に形成する慣用のワイン−ダイソン光学系などの投影光学系（１７０）による像反転を補償するためにレチクル（１２０）とブランク（１６０）との互いに反対の方向の動きを用いる。レチクル（１２０）は反転した像（１２２）を有する。走査中はレチクル（１２０）は反転軸沿いにブランク（１６０）の動きと逆の方向に動く。互いに反対の方向のこれら動きでブランク上のストライプを露光しまたは次のストライプの露光のためにレチクルおよびブランクをインデックス送りする。この発明の一つの実施例においては、レチクル（１２０）およびブランク（１６０）を互いに独立な可動精密空気軸受けステージ（２２０，２６０）に取り付ける。ブランク（１６０）およびレチクル（１２０）の動きは反転軸に垂直な方向に等しく反転軸沿いに互いに反対方向である。ステージ（２２０，２６０）は、レチクル（１２０）およびブランク（１６０）の寸法の差の原因となる縮みおよび温度変化を補償するようにレチクル（１２０）およびブランク（１６０）を互いに異なる量だけ動かすことができる。

Description

【発明の詳細な説明】反対方向の動きを伴う走査リソグラフィシステム発明の背景発明の分野この発明は小フィールドリソグラフィに関し、より詳しくいうと反転像を生ずる走査システムを用いた走査システムおよび走査方法に関する。関連技術の説明ノートブック型コンピュータなどのためのフラットパネルディスプレイ（ＦＤＰ）の製造は集積回路（Ｉ.Ｃ.）製造用のものと同じリソグラフィ技術を通常用いた周知のプロセスである。しかし、ＦＤＰは非常に大きい基板（またはブランク）に形成される。通常のフラットパネルディスプレイの寸法は８インチ×６インチであり、そのようなディスプレイ四つ以上を一枚のガラスブランク上に形成する。したがって、フラットパネルディスプレイ用のブランクは集積回路（ＩＣ）よりもずっと大きくＩＣ製造用の直径１２インチ以下のシリコン基板よりも大きい。慣用の単一投影リソグラフィシステムは、ブランク並みの大きさの高精度の像を投影できる光学系の高コストのために、このような大きいブランクに対しては適切でない。ニコンプリシジョン社製およびエムアールエス社製などの慣用のステップ・リピート式リソグラフィシステムはブランクをそれぞれ個別に露光を受けるブロックに区分する。このステップ・リピート式システムは小フィールド寸法（ブロック寸法）の光学系の使用を可能にするが、ブロック相互間の境界における一様な露光の達成に十分な精度で目合せするのが困難である。したがって、ステップ・リピート式システムのスピードは各ステップ動作のあと必要となる目合せのために低下する。また、ブロックごとにパターンが互いに異なる場合はレチクルの頻繁な交換のために能率がさらに低下する。ＩＣ製造用の通常のステップ・リピート式システムでは、境界問題およびレチクル交換を回避するために、各ブロックの大きさを少なくともＩＣ完成品の大きさ並みにしている。完成品ＦＤＰ並みの大きさのフィールドを備える光学系は高価すぎて実際的でない。これと対照的に、小フィールド走査システムはブランクと同じ大きさの大面積レチクルをブランク上に重複ストライプを露光するように倍率１で走査する。小フィールド走査システムは通常３０mmの単一ストライプの幅と等しいフィールドのより経済的な光学系を通常用いる。小フィールド走査システムにはワイン−ダイソン光学系と像反転光学系とを備えるものもある。それらのシステムの中の従来のワイン−ダイソン光学系はレチクルとブランクとの間にあり、入力プリズム、出力プリズム、凹面鏡および選択自由のレンズを備える。レチクルからの光は入力プリズムで反射されて凹面鏡に導かれ、出力プリズムに戻ったのちブランクに像を形成する。ワイン−ダイソン光学系の問題点は反射による像反転である。像反転は物体の右側を左側に、左側を右側に映し出した反転像を形成する。慣用のリソグラフィシステムではブランク上に投影された反転の利用による走査は不可能であり、したがってワイン−ダイソン光学系の像反転を除去するための光学素子を付加しなければならない。ジェイン（Jain）名義の米国特許第5,285,236号「大面積高スループット高精細度投影像形成システム」およびバーニングほか（Burning et al）名義の米国特許第4,171870号「小型像投影装置」をここに参照して全体をこの明細書に組み入れるが、これら特許は像反転除去のための追加の反射を生ずる面をもつ出力プリズム（屋根プリズム）を備えるワイン−ダイソン投影光学系を記載している。スワンソンほか（Swanson et al）名義の米国特許5,298,939号「レチクルパターンを走査によって基板に転写する方法および装置」もここに参照して全体をこの明細書に組み入れるが、この特許は二つのワイン−ダイソン光学系を用いることを記載している。すなわち、第１のワイン−ダイソン光学系はレチクルの反転像を形成し、第２のワイン−ダイソン光学系は反転像をさらに反転して正立で非反転の出力像を形成する。上記特許記載の光学系にも欠点がある。例えば、屋根プリズムはプリズム製作が高精度でなければ多重像を形成することがある。また、屋根プリズムはガラス光路長を増加させ、そのためにフィールド寸法が通常小さくなる。スワンソンほかの特許に記載されている光学系ではワイン−ダイソン光学系のコストが２倍になり、レチクルとブランクとの間の所要スペースが２倍になる。フラットパネルディスプレイ製造におけるもう一つの問題はブランクが通常ソーダ石灰ガラスなどのガラスから成っており、このガラスがＩＣ製造におけるシリコンと異なり高温度処理工程において大幅な焼結縮みを生ずることである。全工程におけるそれらガラスの通常の焼結縮みは長さ幅とも例えば約１０乃至１００ppmである。ガラスブランク上にパターンを形成するリソグラフィ技術は加工中に漸次縮んでいくブランクに種々のマスク（レチクル）を正しく目合せしなければならない。通常はマスクまたはレチクルの大きさはブランク上にリソグラフ形成すべき像の公称寸法に合わせてある。一つの手法はレチクル寸法をブランク寸法予想値と等しくする。この手法は焼結縮み発生後のブランク寸法の予測のために製造プロセスに高精度特性抽出を必要とし望ましくない。代替手法はブランクの縮みによる目合せ誤差を許容するやり方である。目合せ誤差は製品の品質を低下させ良品率低下に伴うコスト上昇を招くので望ましくないと考えられる。加工によるガラスブランクの縮みに加えて、レチクル作成時のレチクル温度がブランクへの投影の段階でのレチクル温度と異なることが問題になる。ブランクもレチクルも温度とともに伸縮し、両者の熱膨張係数の差が目合せを複雑にする。製造プロセスの特性抽出が行われレチクル寸法をそれに対応して定めても、プロセス中の高精度の温度制御がなければ、目合せ誤差が生ずる。したがって、リソグラフィの目標はブランクやレチクルがプロセス中に寸法変化を受ける際にそれらレチクル（またはそれ以外の原パターン）とブランクとの間の目合せを改善することである。フラットパネルディスプレイプロセス技術において、市販のＭＲＳステッパー（ステップ・リピート式システム）はフラットパネル加工のための一種の倍率補正用に「パネルスケール」と称する機能を備える。この装置は、レチクルを光学系に近づけたり遠ざけたりして倍率とレチクル像ピントとを微小に変化させることのできるテレセントリック物体面を含む。ウェーハ加工業界については、ＳＰＩＥ第３３４巻「光学的微小リソグラフィ −１９８０年代半ばの技術」（１９８２年刊）所載のジェームズジェイ．グリードほか（James J．Greed et al）著の論文「１：１投影リソグラフィシステムにおける可変倍率」にもう一つの手法が記載されている。パーキン−エルマー社製の装置は慣用の半導体集積回路装置製造用走査マスク目合せ装置においてレチクルおよびウェーハへの温度の影響を補正するためのものである。このような走査マスク目合せ装置においては、少なくともウェーハ上のＩＣと等しい幅のパターンを各走査ストライプで露光する。ウェーハ全体にわたるレチクル像走査により多数のダイスのためのパターンを露光する。これはフラットパネルディスプレイ製造に用いられる小フィールド走査とは異なる。フラットパネルディスプレイ製造においては、ブランク上の個別のディスプレイの各々を数回の互いに重複するストライプで露光する。すなわち、小フィールド走査は慣用のステッパシステムにはないストライプの境界および目合せの問題を伴い、ＩＣ用ステッパまたは走査マスク目合せ装置とは異なる光投影システムを要する。フラットパネルディスプレイ、マルチチップモジュール、ＩＣ、プリント基板などの製造の際に用いる大型ブランクの小フィールド走査のためのフォトリソグラフィ技術は改良を要する。発明の概要この発明による小フィールド走査リソグラフィシステムは、反転像を形成する慣用のワイン−ダイソン光学系などの光学的投影レンズによる像反転を補償するように、レチクルおよびブランクを互いに等しく反対の向きに動かす動きを用いる。小フィールド走査のために、ブランク上のストライプを露光するように投影フィールドを走査方向に走査で動かす。一つのストライプの露光と次のストライプの露光との間に、走査方向と垂直なインデックス送り方向にフィールドをインデックス送りでシフトさせる。この発明の一つの実施例では、走査方向がこの光学系で反転された軸、すなわち反転軸沿いである。もう一つの実施例では、インデックス送り方向が反転軸沿いである。走査またはインデックス送りの反転軸沿いの動きの間に、レチクルとブランクとはその反転軸沿いで互いに反対の方向に動かされる。この反転軸と垂直な非反転軸沿いではレチクルとブランクとは同じ方向に動かされる。この発明の一つの実施例では、物体平面内の軸を反転する光学的投影システムを備え、第１のステージにレチクルを取り付け、第２のステージにブランクを取り付ける。この光学系による反転を補償するようにレチクルは反転パターンを備える。上記第１および第２のステージは反転軸沿いに互いに無関係に動かすことができ、その反転軸沿いの互いに反対方向の動きを制御回路で制御する。もう一つの実施例では、ベルトシステムに搭載したステージにレチクルおよびブランクを保持する。ベルトシステム上のステージの位置はベルトシステム回転時にそれらステージを反対方向に動かすような位置である。これらステージは、像反転軸沿いの方向、例えばレチクルおよびブランクの反対方向の動きによりブランク上にストライプを露光する際のインデックス送りのための方向にレチクルとブランクとを動かすことができる。また、これらステージは、レチクルの動きの大きさと速さとがブランクのそれと異なるようにベルトシステムの動きの方向沿いに動くことができる。この動きの違いが、レチクルとブランクとの寸法の差の原因となるブランクの収縮および一時的温度変動を補償することによって、走査中のレチクルおよびブランクの間の目合せを確保する。図面の簡単な説明図１はこの発明の実施例によるフォトリソグラフィシステムにおける照射器、レチクル、投影光学系およびブランクの斜視図である。図２Ａ、２Ｂ、２Ｃおよび２Ｄは図１のシステムの代替的実施例の図である。図３はこの発明の実施例によるもう一つのフォトリソグラフィシステムの斜視図である。図４Ａおよび４Ｂは図３の実施例におけるレンズの象限およびそれら象限と形成像との間の関係を示す。図５Ａおよび５Ｂはこの発明の実施例による折返し通過ワイン−ダイソン光学系の実施例の光線追跡図である。図６はこの発明の実施例においてプリズムが生じさせる口径食の図解のための光線追跡図である。図７Ａ、７Ｂおよび７Ｃはこの発明による折返し通過ワイン−ダイソン光学系および倍率調節光学系を有する小フィールドフォトリソグラフィ走査システムの各部の斜視図を示す。図８Ａおよび図８Ｂはこの発明の実施例による折返し通過ワイン−ダイソン光学系の実施例の光線追跡図を示す。図９はこの発明による倍率調節光学系を含む折返しプリズムを示す。図１０は口径食を減らすための基底面ブロック付きの折返しプリズムを示す。互いに異なる図面にわたって用いた同一の参照符号は同様のまたは同一の素子を表す。好ましい実施例の詳細な説明反対方向動き走査図１はこの発明の実施例による反対方向動き走査を用いた小フィールド走査フォトリソグラフィシステム１００における主要光学系構成部分の斜視図である。システム１００において、通常は半導体ウェーハ、プリント基板または感光フォトレジストまたは乳剤塗布ずみのガラス基板であるブランク１６０を、このブランク１６０に転写すべき不透明パターンを有し専用支持部材に支持されたレチクル１２０と平行にこれと相対させて支持体（図示してない）に取り付ける。レーザまたは水銀アークランプなどの慣用の照射器１１０によって、ブランク１６０表面上のフォトレジストを変化（「露光」）させ得る波長の光でレチクル１２０の一部分を照射する。照射器１１０は可動式に取り付け、レチクル照射部分変動用の光学系を含めてもよい。照明器１１０はレチクル１２０の照射を所定の寸法および範囲に限定するフィールド絞り（図示してない）を通常備える。慣用のワイン−ダイソン光学系１７０はレチクル１２０を通過した光を集光して像１６２の一部をブランク１６０上に形成する。ワイン−ダイソン光学系１７０は入力プリズム１３１、レンズ１４０、反射鏡１５０および出力プリズム１３２を備える。レンズ１４０は通常は集束レンズであり、反射鏡１５０は凹面球面鏡である。この明細書でいうワイン−ダイソン光学系は一つの反射表面付きのカタディオプトリレンズ系を含み、レンズ１４０と凹面鏡１５０との曲率中心をほぼ一致させた光学系に限られない。入力プリズム１３１の集光した光は凹面鏡１５０による反射の前にレンズ１４０の上側半分を通過する。凹面鏡１５０で反射された光はレンズ１４０の下側半分を通過し、出力プリズム１３２がその光をブランク１６０に向けて反射してブランク１６０上に像の一部１６２を形成する。ワイン−ダイソン光学系１７０の像形成特性は主としてレンズ１４０および凹面鏡１５０によって定まる。これらレンズ１４０および凹面鏡１５０は倍率１の像をブランク１６０に形成するように選んだ分離距離および焦点距離を有する。倍率１の場合は光学系の対称性が横収差、歪み、側方色収差およびコマ収差を零にするからである。光学系１７０はレチクル１２０上のパターンおよびブランク１６０上の像１６２の寸法よりも小さいフィールドを有する。照射器１１０および光学糸１７０に対してレチクル１２０およびブランク１６０を動かすことによる走査で光学系１７０の口径と同じ幅で移動距離と同じ長さのストライプを露光する。このストライプがブランク１６０の幅よりも狭い場合はブランク１６０の残りの部分の露光を光学系１７０および照射器１１０またはレチクル１２０およびブランク１６０のインデックス送り（すなわち、ストライプと垂直な方向へのシフト）によって行う。このインデックス送りののち、次のストライプを露光する。走査中は、照射器１１０および光学系１７０をレチクル１２０およびブランク１６０に対して動かすなど慣用のやり方でレンズ１４０および反射鏡１５０の光軸１７５に垂直な方向の動きを生じさせることはできない。光学システム１７０内の入力プリズム１３１、凹面鏡１５０、および出力プリズム１３２による反射の組合せが光軸１７５を垂直な反転軸沿いに像を反転させるからである。像１６２が正しく形成されるためにはレチクル１２０の左端がブランク１６０の右端１６４に結像し、レチクル１２０の右端がブランク１６０の左端に結像しなければならない。軸１７５沿いに鏡像を生じたパターン１２２をプリントし、レチクル１２０およびブランク１６０を互いに反対方向に軸１７５に垂直に動かすことによって、この像反転への補正がなされる。レチクル１２０およびブランク１６０を互いに反対方向に動かすと、レチクル１２０およびブランク１６０の加速中の無反跳操作が達成できて有利であり、また、比較的簡単なワイン−ダイソン光学系１７０の使用を可能にする。図２Ａは光学系１７０など反転像形成の投影光学系を用いたフォトリソグラフィシステムの斜視図を示す。この投影光学系は照射器１１０からの光を投影光学系に到達させるための開口２１０を含むレンズハウジング２１０の内部に取り付けてある。レンズハウジング２７０は投影光学系および開口２１０をＹ軸沿いに動かす精密ステージ２７５に取り付けてある。このＹ軸は投影光学系の反転軸と垂直である。ステージ２７５は制御ユニット（図示してない）操作のリニアモータで駆動される空気軸受けステージで通常構成する。レーザ干渉計などの位置測定装置２４７でレンズハウジング２７０の位置を測定し、その測定値を制御ユニットに供給する。レチクル１２０をステージ２２５上の二次ステージ２２０に取り付ける。ブランク１６０はステージ２６５上の二次ステージ２６０に取り付ける。制御ユニットは測定デバイス２４２および２４６、およびレンズハウジング２７０内の慣用の目合せシステム（図示してない）からの測定値にしたがってステージ２２０、２２５、２６０および２６５の動きを制御する。二次ステージ２２０はレチクル１２０をブランク１６０に目合せする慣用の目合せ操作のためのＹ軸方向の動きおよびＺ軸のまわりの回転が可能な精密ステージである。二次ステージ２６０は微細動きのためのＸ軸方向の動きおよびブランク１６０表面の投影光学系結像面への動きのためのＺ軸方向の動きが可能な精密ステージである。ステージ２２５および２６５はＸ軸、すなわちこの投影光学系で反転されるＸ軸に沿って動く空気軸受けステージなしの精密ステージである。Ｘ軸沿いの動きは走査用でもインデックス送り用でもよい。制御ユニットはレチクル１２０をブランク１６０の動き（ステージ２６０）とは反対の方向に動かすリニアモータ（ステージ２２０）を制御するが、後述のように倍率補正のために動きにわずかの差を与えてもよい。図２Ｂおよび２Ｃは走査中またはインデックス送り中にレチクル１２０およびブランク１６０を動かすもう一つの機構の断面図である。レチクル１２０およびブランク１６０を駆動ベルトシステム２５０上に搭載したステージ２２０および２６０にそれぞれ取り付ける。一つの実施例ではブランク１６０上のストライプを露光中にレチクル１２０およびブランク１６０を逆方向に動かす。図２Ｂは一つのストライプについてのレチクル１２０およびブランク１６０の開始位置を示す。開始位置では光学系１７０はレチクル１２０の左端１２６の像をブランク１６０の右端に形成する。レチクル１２０およびブランク１６０は、光学システム１７０による像のストライプ１６２形成中は、図２Ｃに示した位置すなわち光学系１７０がレチクル１２０の右端１２４の像をブランク１６０の左端１６６に形成する位置に達するまで互いに逆方向に動く。ベルトシステム２５０はレチクル１２０およびブランク１６０の動きおよび変位を等しく逆方向に保ちそれによって結像の支障となる反跳および振動を減らすステージ２２０または２６０はブランク１６０の縮みの補正または光学系１７０の倍率の補正のためにレチクル１２０およびブランク１６０の相対的動きおよび変位を変化させることができる。倍率補正を次に詳述する。レチクル１２０およびブランク１６０が図２Ｃに示した位置に到達すると、レチクル１２０およびブランク１６０または照明器１１０のインデックス送りによってブランク１６０を次のストライプの露光に備えさせる。ステージ２２０および２６０はレチクル１２０およびブランク１６０を軸１７５と平行に動かすことができる。代替的には、光学系１７０およびレチクル１２０照射をインデックス送り中の軸１７５と平行な方向に動かす。ベルトシステム２５０の動きの向きは次のストライプの形成のために逆にする。図２Ｄは走査またはインデックス送りの際にレチクル１２０およびブランク１６０を動かすためのキャプスタンまたは摩擦駆動機構の断面図を示す。図２Ｄのシステムにおいて、ステージ２２０および２６０は精密軸受け（図示してない）に取り付けてありローラ２８０と摩擦接触している。精密軸受けはローラ２８０の回転がステージ２２０および２６０を互いに逆方向に動かす際にこれらステージ２２０および２６０の間隔および向きを維持する。上述の走査方法にはいくつかの変形が可能である。例えば、ベルトシステム２５０またはローラ２８０の動きは、ストライプ形成のためにステージ２２０および２６０がレチクル１２０およびブランク１６０を軸１７５沿いに動かす際にインデックス送りを行うことができる。走査は往復両方の向きにもタイプライター式に一方向にも行うことができる。折返し通過ワイン−ダイソン光学系図３はこの発明のもう一つの実施例による小フィールド走査式フォトリソグラフィシステム３００を示す。システム３００は不透明パターン３２２を含むレチクル１２０の一部分を照射する慣用の照射器１１０を備える。この実施例による折返し通過ワイン−ダイソン光学系３７０は、レチクル１２０の透明部分を透過してきた光からパターン３２２の非倒立像パターン３６２をブランク１６０上に形成する。プリズム３３１はレチクル１２０からの入力光を内部で反射させ、反射光をレンズ３４０経由で凹面鏡３５０に導く。図４Ａはレンズ３４０の正面図を示す。プリズム３３１からの光はレンズ３４０の第１象限４１０を通過して凹面鏡３５０（図３）に導かれる。凹面鏡３５０はレンズ３４０の象限４１０からの光をレンズ３４０の第２象限４２０経由で図３の折返しプリズム３３２などの折返しプリズムに向けて反射する。この光は折返しプリズム３３２の第１の面３３２Ａで内部反射される。レンズ３４０および凹面鏡３５０はパターン３３２の像がプリズム３３２の中心面に結像するように選ぶ。プリズム３３２の第２の面の３３２Ｂは入射光をレンズ３４０の第３象限４３０経由で凹面鏡３５０に向けて反射する。凹面鏡３５０は象限４３０からの光をレンズ３４０の第４象限４４０経由で出力プリズム３３３に向けて反射し、このプリズムがその光をブランク１６０に向けて反射する。光はブランク１６０上に集束される前にレンズ３４０を４回通過し、これは従来のワイン−ダイソン光学系を２回通過するのと等価である。初めの通過、すなわちレチクル１２０の物体面から中間像までの光路は第２の通過、すなわち中間像からブランク１６０上の出力像までの光路と完全に対称であり、この第２の通過が従来のワイン−ダイソン光学系に起因する像反転を解消する。図４Ａはプリズム３３１、凹面鏡３５０、プリズム３３２および凹面鏡３５０での反射でそれぞれ生ずる向きの変化４１２、４２２、４３２、４４２を示す。パターン３２２の向きは像３６２の向きと同じである。したがって、レチクル３２０およびブランク３６０を照射器１１０および光学系３７０に関して同じ方向に動かす従来のプロセスを採用できる。図４Ｂに示した台形開口４４４は走査中の露光を均一にするのに通常用いる。周知の通り、開口４４４の斜辺４４４Ａおよび４４４Ｂはストライプ端部近傍で強度の小さい光を供給し、重複ストライプの総合露光がストライプ端部を露光過剰（または露光不足）にならないようにする。開口４４４の大きさ、すなわち走査の際に露光されるストライプの幅はレンズ３４０の利用可能面積に左右される。レンズ３４０を象限４１０、４２０、４３０および４４０に区分する直径近傍のレンズ３４０の面積４４６は後述のとおり入力プリズムおよび出力プリズムに起因する口径食のために使用できない。開口４４４は走査方向が開口４４４の平行辺と垂直である場合に各ストライプの幅を最大にする。この向きに対しては、レンズ３４０および凹面鏡３５０の光軸３７５が走査方向と４５°の角度をなすようにする。フラットパネルディスプレイフォトリソグラフィ用の光学系３７０の通常の目標は、解像度が少なくとも２ミクロンであって開口４４４の幅の平均値で定まるストライプ幅または利用可能フィールド寸法が少なくとも３０mmであることである。この解像度への要求が式Ｒ＝０．８λ／ＮＡを用いて波長λが４３６nmのとき０．１７よりも大きい数値開口（ＮＡ）に反映される。ニューヨーク州フェアポートのシンクレアオプティックス社から市販されているＧＥＮ１１またはＯＳＬＯなどの従来の光学設計プログラムにおける折返し通過ワイン−ダイソン光学系３７０の分析のためにプリズム３３１、３３２および３３３における四つの反射を折り返しなしとした。その結果、プリズム３３１、３３２および３３３を適当なガラス厚で置換して二つのレンズ３４０を互いに相対させた相似のレイアウト構成になった。歪および横方向色収差はシステム３７０の対称性のために生じない。また、中間像面はテレセントリックであるので、コマ収差もない。設計の仕事は、使用波長において種々のフィールド位置についてのひとみ全体にわたる光路差を減らすとともにフィールド曲率を最小にするために、曲率、厚さおよびガラスの種類を最適化することになる。この設計の課題は、小さい低インデックス素子の十分な厚さを維持するとともにフィールド端部での収差を抑えながら凹面鏡３５０の半径外に結像面および物体面（実際の折返し構成における）を配置することである。図１は照射器１１０からのｇ（４３６nm）およびｈ（４０５nm）水銀スペクトル線で最適化した光学系３７０の一つの特定の実施例の光学的パラメータを示す。ｉ線による設計は非感光光学ガラスの選択が限られるために難しくなるものの可能である。表１の各列は図５Ａに示した表面、その表面の曲率半径、次の表面までの距離、次の表面に到達するのに通過する光路構成材料を特定する。表１において負の厚さは主反射鏡３５０の表面５０６からの反射のあと逆向きに伝搬する光線を示す。ＳＦ２、ＫＦ６およびＬＡＫＮ７はペンシルヴァニア州デュレア所在のショットグラステクノロジー社から市販されているそれぞれ低密度鉛ガラス、高密度鉛ガラスおよび高密度光学ガラスである。図５Ａに示す光線はレチクル１２０の物体面５０１からＬＡＫＮ７ガラスの入力プリズム３３１およびＫＦ６ガラス素子およびＳＦ２ガラス素子を有する複合レンズを通じて伝わる。複合レンズ３４０は反射鏡３５０とこの反射鏡３５０の曲率中心との間に使用波長４３６nm・４０５nm間の色収差補正用の色消しレンズを含む。レンズ３４０からの光線は反射鏡３５０の表面５０６で反射して複合レンズ３４０を通りＬＡＫＮ７ガラスの折返しプリズム３３２に達し、このプリズム３３２内部の中心面５１０に中間像を形成する。図５Ａでは折返しプリズム３３２内で中間像を結像する光線をよりよく図解するためにやはりＬＡＫＮ７ガラス製の出力プリズム３３３は省略してある。図５Ｂは折返しプリズム３３２の中心面５１０から出力３３３を経てブランク１６０に至る光学系３７０を示す。図５Ｂに示した光線は図５Ａに示した光線と全く対称であるが光学素子を逆の順序で伝わる。図５Ａおよび５Ｂで追跡した光線はフィールド高さ５０mmであり、レンズ図示のための縮尺を設定している。反射鏡主表面からプリズム３３１、３３２および３３３付きのレンズ３４０の表面に至るこの組立体の長さは８９８mmである。表２に表１の実施例についての設計パラメータおよび性能パラメータを示す。フィールド半径は光軸３７５からの像光線高さ最大値である。使用可能フィールド幅最大値は口径食を考慮してフィールド寸法を小さくしたのちに結像可能な弦の最大値である。ＯＰＤ（光路差）最大値は同一焦点位置における両波長を含み、フィールド曲率収差およびそれ以外の収差からの影響をすべて含む。フィールド平坦度は両波長における全範囲であり、口径食なしのフィールド全体にわたる近軸サジタル集束および接線集束についての値である。ＯＰＤおよびフィールド平坦度性能の両方については、これらの値を重複走査用台形開口４４４（図４Ｂ）で用いたフィールド位置のみについて最適化すれば若干の改善が期待できる。主反射鏡隙間は主反射鏡３５０の端とレチクル１２０との間に得られる空隙である。数値開口を僅かに減らす設計変更、または数ミリ余分に空隙を設けるようにする主反射鏡平坦部の切削によって主反射鏡空隙を大きくすることはできよう。作業距離は最終段光学面（出力プリズム３３３）と結像面との間の距離である。光学系３７０を開いた状態にした説明はＧＥＮ１１などのレンズ設計プログラムを用いた分析には有用であるが、入力プリズム、出力プリズムおよび折り返しプリズム３３１、３３３および３３２に起因する口径食は明らかにしない。しかし、プリズム３３１、３３２および３３３の幾何学的数値およびレンズ設計プログラムからの光学系情報から算出できる。主光線がプリズム境界に接近する45° 近傍および側面のフィールド領域は口径食を受ける。図６は口径食を受ける領域を図解している。物体上の点６１０は入力プリズム３３１により反射されて光学系３７０に向かう光ビーム円錐の限界にある境界光線６２０を有する。入力プリズム３３１の表面５０３近傍の点は光学系３７０の形成する像で強度の低下した口径食領域にある。この口径食を受けた領域の幅Ｖは表面５０３上の軸緑部光線の高さで与えられる。これは境界光線６２０がプリズム３３１を出る点で物体点を出る光束の拡散値のちょうど半分である。図４Ｂの開口４４４が幅Ｖの口径食領域４４６における光を阻止する。表１および表２に示した光学系では入力プリズム３３１および出力プリズム３３３が開口４４４の限界を画する。すなわち、半折返しプリズム３１２経由の光路長は入力プリズム３３１および出力プリズム３３３経由の光路長よりも小さいからである。口径食領域の幅Ｖが与えられると、使用可能なフィールドは幾何学的に計算できる。図４ＢはＬ型口径食領域４４６除去後に得られるフィールドを示す。台形開口４４４はレンズ３４０の円形境界の弦である長さＬの底辺を有する。利用可能フィールド領域内のこの弦の長さＬの最大値はで与えられる。表１および表２の実施例では弦の長さＬは４１．７mmである。台形の高さが１０mmの場合はブランク上の走査線、ストライプ、相互間の分離は３１．７mmである。台形の高さと走査分離との間はトレードオフの関係にあり、開口４４４の高さの増加は開口４４４の透過光を増加させるがストライプ相互間の分離を低下させる。また、数値開口と使用可能なフィールド寸法との間もトレードオフの関係にある。口径食を受けたフィールドの幅Ｖは光学系３７０による集束を受ける物体光の拡散に比例するからである。システム設計によって装置構成を高精細度小フィールド寸法モードから低精細度大フィールド寸法モードに変更できる。反射鏡３５０の開口絞り（図示してない）直径および照射器１１０のフィールド絞りの寸法を同時に変更することによって、精細度をフィールド寸法のために下げることもできる。より大きい開口絞りを小さいフィールド絞りと併せて使うこともでき、その逆も可能である。この折返し通過ワイン−ダイソン構成では使用可能なフィールド面積の割合はごく小さい。二つの点に留意する必要がある。第１に、光路が２回折り返されるのでレンズ３４０の円形領域の４分の１だけが利用可能であること、第２に物体面および結像面を平行にし主反射鏡直径以上に分離する必要があるために光路長が大きくなり光束の拡散が大きくなることである。この２番目の問題は周知のワイン−ダイソン光学系にも共通の問題である。上記バーニングほか名義の米国特許第4,171,870号記載の屋根プリズム、または上記スワンソンほか名義の米国特許第5,298,939号記載の二重ダイソン構成に対比したこの折返し通過ダイソン手法の有利性は明らかである。屋根プリズムは屋根角度が正確に作成されていない場合はフィールド中心近傍に多重像を生ずる。また、屋根プリズムは像の主反射鏡通過の際のガラス内光路長を増加させるのでフィールド寸法を減少させる。さらに、屋根プリズム構成へのフィールド絞り挿入は困難である。上記二重ダイソン手法は大きいフィールドを形成できるが、レンズ系１つでなく２つを組み立てて軸合わせするコストと複雑さを伴う。投影システムおよび倍率補正光学系図７Ａはこの発明のもう一つの実施例による折返し通過ワイン−ダイソン光学系７７０を示す。光学系７７０は入力プリズム７３１および出力プリズム７３３と結合した倍率調節光学系を含む。倍率調節光学系は曲率半径の大きいレンズ素子の二つの組合せ７１０および７２０を含む。各レンズ組７１０または７２０は平面−凸面レンズ素子７１２または７２２と平面−凹面レンズ素子７１４または７２４とを含み、レンズ素子間に狭い（約０．１mmと５mmとの間）メニスカス空隙７１３または７２３を画する。光学系７７０において、平面−凸面素子７１２および７２２はプリズム７１４および７２４にそれぞれ接着し、平面−凹面素子７１４および７２４は上記素子７１２および７１４に対して可動にし、光学糸７７０の倍率の調節に備える。代替的実施例では、平面−凹面素子７１４および７２４をプリズム７３１および７３２にそれぞれ接着し、平面−凸面素子７１２および７２２を可動にする。素子７１２、７１４、７２２および７２４の曲率半径は互いに等しく、レンズ組７１０および７２０は光学系７７０の倍率にはほとんど影響を及ぼさない。この倍率調節光学系は倍率中性点、すなわち空隙７１３および７２３が互いに等しく折り返しプリズム７３３の中心の中間像結像面について光学系が完全に対称となる倍率中心点を有する。負性素子７１４および７２４の両方を同じ方向に動かすと、一方の空隙７１３または７２３が狭くなり他方の空隙７２３または７１３が広がり、倍率および光学系７７０の像フィールド寸法が僅かに変化する。折返しプリズム７３２の中心の空隙にあるフィールド絞り７６０がブランク１６０への出力像を形成する中間像の一部を選択する。図４Ｂは小フィールド走査用の典型的な台形開口４４４を示す。フィールド絞り７６０は照射器１１０中のフィールド絞りの像を物体面（レチクル１２０）に転写する際の精度の要求を緩和する。折返しプリズム７３２内におけるフィールド絞り７６０の目合せは同じ組立体の一部であるレンズ７４０に対して行い、したがって、入力プリズム７３１およびレンズ７４０の照射器１１０への目合せ精度要求が緩和される。倍率調節光学系７１０および７２０と折返しプリズム７３２空隙内のフィールド絞り７６０は互いに独立であり、この発明の代替的実施例はこれらの一方または他方を含むシステムを含む。一つの実施例においては、倍率調節素子７１２、７１４、７２２および７２４は慣用の円形素子の４分の１の区画であり、これら素子の光軸が、プリズム７３１および７３３による反射ののちにレンズ７４０および反射鏡７５０の光軸と一致するように、入力および出力プリズム７３１および７３３の光軸と軸合わせされている。図７Ｂおよび７Ｃは上記４分の１区画７１２および７２２の軸合わせを図解する光学系７７０の一部の二つの斜視図である。素子７１２、７１４、７２２および７２４を光軸７７５と軸合わせすることはこの光学系の対称性のよりよい維持を可能にするが、目合せおよび製造において不利である。この軸合わせについては、倍率調節用の定常点は光軸沿いにある。代替的には、素子７１２、７１４、７２２および７２４は、これら素子の光軸沿いの光線が反射後に開口７６０のほぼ中心を通過するように軸合わせした慣用の円形素子であってもよい。しかし、素子７１２、７１４、７２２および７２４を台形開口中心と正確に軸合わせすることは可能性が低く、物体と像との相互間の相対的動きが倍率調節の際に生じ得る。したがって、倍率を変化させると像が物体に対して動き、レチクル１１０およびブランク１６０を倍率調節後に目合せしなければならない。表３は素子７１４および７２４が倍率中心点にあるときの図７Ａの光学系７７０の実施例の構成パラメータを示す。表４は素子７１２、７１４、７２２および７２４の光軸を軸７７５と軸合わせしたときの表３の実施例の性能パラメータおよび構成パラメータを示す。素子７１２、７１４、７２２および７２４の光軸が光軸７７５からずれている場合のシステム分析からも同様の性能が得られる。表３および４のパラメータは前述の表１および２のパラメータと同じに定義してある。図８Ａは物体面８０１から折り返しプリズム７３２中心の中間像結像面８１２、すなわち光学システム７７０の対称面に至る光学系７７０の光線追跡図を示す。図８Ｂは中間像結像面８１２から出力像結像面８１９に至る光線追跡を示す。表面８０３と表面８０４との間の１mm空隙７１３は、光学系７７０の倍率を１から外れるように調節するように等しい値だけ空隙７２３を減らす（増やす）と増える。空隙７１３および７２３の0.158mmの変化は倍率を１００ppmだけ変化させる。倍率調節に要する動きは１mm以下でごく小さいので、可動素子７１４（および素子７２４）を屈服受け部材に取り付けて、カリフォルニア州アーヴィン所在のメレスグリオ社（Melles Griot，Inc.）から市販されているステッパモータ微小位置定め装置で動かすこともできる。この実施例において所定の倍率変化に必要な動きの量は上記四つの倍率素子の光学的拡大率を変化させることによって調節できる。表２の光学糸は表４の光学系と同様であるが、注目すべき差異がいくつかある。すなわち、倍率補正レンズの数値開口が０．２から０．１８に減っている。これによって口径食が減り、使用可能なフィールド寸法がより大きい４５mmになっている。また、Ｎ.Ａ.が小さくなったために反射鏡の直径が２６９mmから２４２ mmに小さくなり、結像面８１９の余裕が１５mm以上になっている。倍率１の状態におけるＯＰＤは０．０８λであり、倍率調節の際の収差余裕がそれだけ大きくなる。高さ１０mm台形開口で走査分離は３５mmとなり、高さ５mmの台形開口で走査分離は４０mmとなる。表３および４の実施例は倍率１の状態だけについて最適化してある。調節倍率全部にわたる最適化はＯＰＤ最大値を小さくする。折返しプリズム７３２内部の表面８１１と表面８１３との間に空隙を設けると、入力プリズム７３１および出力プリズム７３２に起因する口径食にさらに加わる口径食の原因になる。これは、折返しプリズム７３２の半分ずつをフィールド寸法および像形成光線円錐ビームの拡散を収容するのに十分な大きさにすることによって防止できる。光学設計が要求する付加的ガラス内光路長はガラスブロック７３２Ｃを図９に示したプリズム半分片７３２Ａおよび７３２Ｂの基底面に接着することによって形成できる、表３の実施例についてはＬＡＫＮ７ガラス光路長101.1653mmをプリズム半分片７３２Ａ（または７３２Ｂ）についての６１mmと基底面７３２Ｃについての39.1653mmとに分けることができる。こうすると、口径食は入力プリズム７３１および出力プリズム７３３に起因するものとなる。図１０は折返しプリズム１０００が二つのメニスカス空隙１０２５および１０３５を含む折返し通過ワイン−ダイソン光学系用の倍率調節光学系の実施例を示す。折り返しプリズム１０００は、このプリズム１０００の部分１０１０および１０５０の内側表面に接着した二つの平面−凹面素子１０２０および１０４０の間に可動凸面素子１０３０を含み、この対称素子１０３０を動かすことによって倍率を調節する。可動素子１０３０は対称凸面素子を形成するように結合した素子７１２および７２２（図７Ａ）と等価であり、素子１０２０および１０４０は素子７１４および７２４（図７Ａ）と等価である。倍率調節光学系付きの代替的折返しプリズムは互いに結合した素子７１４および７２４（図７Ａ）に等価な可動対称凹面素子と、折返しプリズムの内側壁面に接着した素子７１２および７２２（図７Ａ）に等価な平面−凹面素子とを有する。倍率調節光学系を折り返しプリズム１０００内に配置することには不都合もある。すなわち、三つの素子１０２０、１０３０および１０４０の収容のために折り返しプリズム１０００内部に大きい空胴を必要とし、口径食の生ずる可能性が高まる。中間像結像面が対称素子１０３０の内部にあり、そのためにその素子表面およびその表面上の塵芥を焦点はずれにしておくのに十分な厚みをその素子１０３０が備えていなければならない。また、中間像が素子１０３０内部を動き、その位置でフィールド絞りを挿入する機会がない。上述の光学系は、フィールド寸法拡大のために各素子を大きくすることによって大きさを変えることができる。しかし、上述の実施例の直径約１mmよりもそれほど大きくない寸法では製造の困難度およびコストがより大きい問題となる。これら光学系のＮ.Ａ.を大きくすることは、口径食および収差の両面からみてより難しい。平均幅すなわち走査分離に大きく影響する台形開口高さの最適値は照射器の設計と関連づけて検討しなければならない。この手法をｉライン照射に拡張することはガラスの選択に制限が加わるもののより直接的である。倍率補正のための相対的動きを伴うシステム小フィールド走査リソグラフィに対しては、レチクルを基準としたブランクの縮小（または拡大）の補正のための光学的倍率調節に加えて、レチクルとブランクとの相対的動きを利用できる。より詳しく述べると、ブランクがレチクルよりも小さい寸法に縮んだ場合は、光学系の倍率を１以下、すなわちレチクル寸法対ブランク寸法比に減らして、レチクル並みの寸法のブランク領域でなくブランクの縮小した領域を走査で露光しなければならない。レチクルとブランクとの相対的動きは互いに寸法の異なるレチクルおよびブランクに関する走査の方向に動かすことによってしばしば行われる。ブランクを走査方向に連続的に動かすことによってブランクを基準とした照射器および光学系の動きを削減する。レチクルとブランクとの相対的動きも露光ストライプと垂直なインデックス送り方向に沿った長さの差を補償するのに好都合である。すなわち、小フィールド走査システムにおいて十分な倍率補正を行うには光学的倍率補正と相対的レチクル−ブランク移動との組合せが有利である。ブランクとレチクルとの間の相対的動きは両者の一方だけの動きでもよい。両者の走査をレチクルまたはブランクの一方を他方に対して動かす、例えば二次ステージによって行うと、レチクルまたはブランクに僅かながら相対速度が生ずる。この相対的動きの量は倍率補正所要量に比例する。したがって、ブランクの縮みまたは拡大による走査方向の目合せ誤差は補正できる。上記の相対的動きによる倍率補正は光学的倍率補正には左右されず、両者は互いに独立に利用できる。相対的動きによる倍率補正を用いて一方向の誤差を選択的に補正できる。例えば、各走査ストライプの分離の調節を、インデックス送り方向に全ストライプの間で必要となる倍率補正の合計値を一部分担する距離だけ行うことができる。光学的倍率補正を行わない場合は、通常３０乃至４０mmの走査フィールド直径方向に、ブランク縮みの１０乃至１００ppmの未補正残留目合せずれが残る。レチクルをブランクに対して動かすシステムには多様のシステムがあり、レチクルおよびブランクの一方を保持しながら他方をステージに対して動かす上述の二次ステージの実施は一つの例に過ぎない。上記相対的動きは、レチクル目合せシステムからの帰還を受ける慣用の制御機構による制御の下に上記二次ステージを駆動するマイクロステッパなどの精密モニタによって通常生じさせる。ここに述べた倍率補正機構は、屋根プリズム、二重ダイソン、従来型ワイン− ダイソン、テレセントリック倍率１屈折光学系など既述の光学系構成にも適応できる。特定の実施例を参照してこの発明を上に述べてきたが、この説明はこの発明の応用の一例に留まり、限定的に解釈してはならない。この発明にはこれ以外の多様な実施態様が可能である。例えば、この発明による倍率調節光学系やブランク −レチクル間相対的動きによる倍率調節は、ワイン−ダイソン光学系および像反転用素子付きのシステムや、逆方向動き走査付きワイン−ダイソン光学系や折返し通過ワイン−ダイソン光学系や、それら以外の投影光学系など多様な投影システムに採用できる。倍率調節光学系は入力プリズムおよび出力プリズムに取り付けることができ、投影光学系に内蔵することができる。ここに述べた実施例の特徴項の上記以外の多様な変形や組合せは当業者に明らかであり、それら変形や組合せは添付請求の範囲の請求項に定義したこの発明の範囲に入るものである。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項【提出日】１９９７年３月１７日【補正内容】請求の範囲１．レチクルの被照射部分の反転像、すなわち第１の軸沿いに裏返しされその第１の軸と垂直な第２の軸沿いには裏返しされていない反転像をブランクの上に形成するように配置された光学系と、前記レチクル上のパターンを集団的に照射する繰返しストライプに沿って走査するように前記ブランクおよび前記レチクルを前記光学系に対して動かす手段とを含む小フィールド走査フォトリソグラフィシステムであって、前記動かす手段が前記レチクルおよび前記ブランクを前記第１の軸沿いに互いに反対の方向に同時に動かす手段と、前記レチクルおよび前記ブランクを前記第２の軸沿いに互いに同じ方向に同時に動かす手段とを含む小フィールド走査フォトグラフィシステム。２．前記レチクルおよびブランクを同時に動かす手段がレチクルを保持するのに適合した第１のステージと、ブランクを保持するのに適合した第２のステージと、前記第１および第２のステージに動作可能な状態で結合され走査中に前記第１および第２のステージを互いに反対の方向に動かす駆動機構とを含む請求項１記載のシステム。３．前記駆動機構が前記第１のステージに結合した第１のリニアモータと、前記第２のステージに結合した第２のリニアモータと、前記第１の軸沿いで互いに反対の方向に前記第１および第２のステージを動かすように前記第１および第２のリニアモータを制御するのに適合した制御ユニットとを含む請求項２記載のシステム。４．前記第１のステージが第１の空気軸受けステージとその第１の空気軸受けステージに取り付けた第１のサブステージとをさらに含み、前記第２のステージが第２の空気軸受けステージとその第２の空気軸受けステージに取り付けた第２のサブステージとをさらに含む請求項２記載のシステム。５．前記駆動機構が前記第１および第２のステージを取り付けたベルトを含む請求項２記載のシステム。６．前記駆動機構が前記ベルトと動作可能な状態で結合したステッパモータをさらに含み、それによって前記第１のステージを第１の方向に動かし、前記第２のステージを前記第１の方向と反対の第２の方向に動かす請求項５記載のシステム。７．前記第１および第２のステージが前記レチクルおよび前記ブランクを前記第１および第２の方向と垂直な第３の方向にそれぞれ動かすことができる請求項６記載のシステム。８．前記光学系がワイン−ダイソンレンズを含む請求項７記載のシステム。９．前記光学系が前記レチクルの表面と実質的に平行な光軸を有するレンズと、前記レチクルを透過した光を反射して前記レンズの第１の部分を通過させる第１の反射鏡と、前記レンズの前記第１の部分からの光を反射して前記レンズの第２の部分を通過させる凹面鏡と、前記レンズの前記第２の部分からの光を反射して前記ブランク上の前記反転像の結像する部分に向ける第２の反射鏡とを含む請求項７記載のシステム。１０．前記駆動機構が、前記第１および第２のステージに結合され前記第１のステージを第１の方向に前記第２のステージを前記第１の方向と反対の第２の方向にそれぞれ回転で動かすローラを含む請求項２記載のシステム。１１．前記光学系が前記レチクルの表面と実質的に平行な光軸を有するレンズと、前記レチクルを透過した光を反射して前記レンズの第１の部分を通過させる第１の反射鏡と、前記レンズの前記第１の部分からの光を反射して前記レンズの第２の部分を通過させる凹面鏡と前記レンズの前記第２の部分からの光を反射して前記ブランク上の前記反転像の結像する部分に向ける第２の反射鏡とを含む請求項１記載のシステム。１２．レチクルの一部の反転像、すなわち第１の軸沿いに裏返しされ第２の軸沿いには裏返しされていない反転像をブランク上に形成する過程と、前記ブランク上の第１のストライプを露光し前記レチクルの第１の部分の反転像である第１のパターンを前記ブランクの上に形成するように走査軸沿いに前記レチクルおよびブランクを走査する過程と、前記レチクルおよび前記ブランクを前記第１のストライプの幅よりも小さい距離だけ前記走査軸と垂直に動かすことによって前記レチクルを前記ブランクに対してインデックス送りする過程と、前記ブランク上の第２のストライプを露光し前記レチクルの第２の部分の反転像である第２のパターンを前記ブランクの上に形成するように前記走査軸沿いに前記レチクルおよび前記ブランクを走査する過程とを含む走査リソグラフィ方法。１３．前記走査する過程が、前記反転像を前記ブランク上に形成する光学系に対して前記レチクルおよび前記ブランクを同時に動かすことを含む請求項１２記載の方法。１４．前記走査軸沿いに走査する過程が、前記ストライプの露光中に前記第１の軸沿いの互いに反対の方向に前記レチクルおよび前記ブランクを動かすことを含む請求項１３記載の方法。１５．前記光学系がワイン−ダイソンレンズを含む請求項１４記載の方法。１６．前記走査軸沿いに走査する過程が、前記ブランクへの前記ストライプの露光中に前記第２の軸沿いに前記レチクルおよび前記ブランクを同時に共に動かすことを含む請求項１３記載の方法。

───────────────────────────────────────────────────── 【要約の続き】に異なる量だけ動かすことができる。

Claims

【特許請求の範囲】１．レチクルおよびブランクを互いに反対の方向に同時に動かす手段と、前記レチクルの一部の反転像を前記ブランク上に形成するように配置した光学系とを含むリソグラフィシステム。２．前記レチクルおよびブランクを同時に動かす手段がレチクルを保持するのに適合した第１のステージと、ブランクを保持するのに適合した第２のステージと、前記第１および第２のステージに動作可能な状態で結合され走査中に前記第１および第２のステージを互いに反対の方向に動かす駆動機構とを含む請求項１記載のリソグラフィシステム。３．前記駆動機構が前記第１のステージに結合した第１のリニアモータと、前記第２のステージに結合した第２のリニアモータと、前記光学系による反転された像の軸沿いで互いに反対の方向に前記第１および第２のステージを動かすように前記第１および第２のリニアモータを制御するのに適合した制御ユニットとを含む請求項２記載のリソグラフィシステム。４．前記第１のステージが第１の空気軸受けステージとその第１の空気軸受けステージに取り付けた第１のサブステージとをさらに含み、前記第２のステージが第２の空気軸受けステージとその第２の空気軸受けステージに取り付けた第２のサブステージとをさらに含む請求項２記載のリソグラフィシステム。５．前記駆動機構が前記第１および第２のステージを取り付けたベルトを含む請求項２記載のリソグラフィシステム。６．前記駆動機構が前記ベルトと動作可能な状態で結合したステッパモータをさらに含み、それによって前記第１のステージを第１の方向に動かし、前記第２のステージを前記第１の方向と反対の第２の方向に動かす請求項５記載のリソグラフィシステム。７．前記第１および第２のステージが前記レチクルおよび前記ブランクを前記第１および第２の方向と垂直な第３の方向にそれぞれ動かすことができる請求項６記載のリソグラフィシステム。８．前記光学系がワイン−ダイソンレンズを含む請求項７記載のリソグラフィシステム。９．前記光学系が前記レチクルの表面と実質的に平行な光軸を有するレンズと、前記レチクルを透過した光を反射して前記レンズの第１の部分を通過させる第１の反射鏡と、前記レンズの前記第１の部分からの光を反射して前記レンズの第２の部分を通過させる凹面鏡と、前記レンズの前記第２の部分からの光を反射して前記ブランク上の前記反転像の結像する部分に向ける第２の反射鏡とを含む請求項７記載のリソグラフィシステム。１０．前記駆動機構が、前記第１および第２のステージに結合され前記第１のステージを第１の方向に前記第２のステージを前記第１の方向と反対の第２の方向にそれぞれ回転で動かすローラを含む請求項２記載のリソグラフィシステム。１１．前記光学系が前記レチクルの表面と実質的に平行な光軸を有するレンズと、前記レチクルを透過した光を反射して前記レンズの第１の部分を通過させる第１の反射鏡と、前記レンズの前記第１の部分からの光を反射して前記レンズの第２の部分を通過させる凹面鏡と前記レンズの前記第２の部分からの光を反射して前記ブランク上の前記反転像の結像する部分に向ける第２の反射鏡とを含む請求項１記載のリソグラフィシステム。１２．レチクルの一部の反転像、すなわち像の中の一つの軸が反転した反転像をブランク上に形成する過程と、前記ブランク上にストライプを露光するように前記レチクルおよびブランクを走査する過程とを含むリソグラフィ方法。１３．前記走査する過程が、前記反転像を前記ブランク上に形成する光学系に対して前記レチクルおよび前記ブランクを同時に動かすことを含む請求項１２記載の方法。１４．前記走査する過程が、前記ストライプの露光中に前記反転軸沿いの互いに反対の方向に前記レチクルおよび前記ブランクを動かすことを含む請求項１３記載の方法。１５．前記光学系がワイン−ダイソンレンズを含む請求項１４記載の方法。１６．前記走査する過程が、前記ブランクへの前記ストライプの露光中に前記反転軸と垂直な方向に前記レチクルおよび前記ブランクを同時に共に動かすことを含む請求項１３記載の方法。１７．前記ストライプの露光後に前記レチクルおよび前記ブランクを前記反転軸沿いに互いに反対の方向に動かす過程と、前記ブランクへの第２のストライプの露光中に前記レチクルおよび前記ブランクを前記反転軸と垂直な互いに同じ方向に同時に動かす過程とをさらに含む請求項１６記載の方法。１８．前記光学系がワイン−ダイソンレンズを含む請求項１７記載の方法。