JPH11501871A - 改良型バフ研磨パッド清掃装置 - Google Patents

改良型バフ研磨パッド清掃装置

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JPH11501871A JP8518918A JP51891896A JPH11501871A JP H11501871 A JPH11501871 A JP H11501871A JP 8518918 A JP8518918 A JP 8518918A JP 51891896 A JP51891896 A JP 51891896A JP H11501871 A JPH11501871 A JP H11501871A
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Abstract

(57)【要約】 液体清掃溶液を含む蓋のない容器内に、複数の支持脚部により調整可能に装着することができる回転動力バフ研磨機上に装着されているバフ研磨パッドを清掃するための装置。バフ研磨パッドは、その寸法を種々の厚さを持つバフ研磨パッドに合うように調整することができる上部エンクロージャに設置されている。エンクロージャの底部は、バフ研磨パッドと係合でき、エンクロージャと容器内の清掃溶液のレベル以下のある点との間を回転することができるように装着されている溶液供給ホイールを含む。その結果、バフ研磨機が動力により作動し、パッドが回転すると、溶液供給ホイールが駆動され、パッドから堆積したワックス、ゴミおよび他の研磨剤を除去するために、パッド・エンクロージャに清掃溶液が供給される。この装置は、従来技術による装置が使用しているタイプの一連の回転可能な清掃ホイールを使用している。上記ホイールも、またバフ研磨パッドにより駆動され、バフ研磨パッドから堆積した研磨材料を取り出し、除去する動作を助ける。

Description

【発明の詳細な説明】 改良型バフ研磨パッド清掃装置 発明の背景 本発明は、動力バフ研磨機上に装着され、また駆動されるタイプの回転バフ研 磨パッドを清掃するための装置に関する。本発明は、本発明者の米国特許第4, 786,333号および第4,983,221号に開示した装置を改良したもの である。 本発明者の上記二つの特許に図示し、説明した装置の場合には、環状エンクロ ージャは、バフ研磨機上に装着した場合、バフ研磨パッドを収容し、囲むことが できる大きさを有し、液体清掃剤が入っているタンクまたは容器の頂部に設置す ることができる。バフ研磨パッド・エンクロージャの底部の床には、被駆動バフ 研磨パッドと係合し、また回転する多数の回転可能な清掃ホイールが設置されて いる。さらに、上記の従来技術による装置は、すべてエンクロージャの下面から 吊り下がっているポンプを含み、上記床を通して清掃溶液を供給するための、コ ンジット手段を備えた容器に入っている清掃溶液に浸漬していて、清掃溶液は回 転バフ研磨パッドの面に吹き付けられ、分配される。本発明者の前の特許の場合 には、ポンプは、独立した外部電源から電力の供給を受ける電気モータにより駆 動される。本発明者のその後の特許の場合には、ポンプは、エンクロージャの床 上に回転自在に装着され、回転パッドにより駆動され、その下に装着されている ポンプのインペラに接続していて、それを駆動する駆動ホイールによって駆動さ れる。 本発明者の前の各特許に開示されている装置は、回転動力被駆動 バフ研磨パッドを清掃するための非常に効率的な手段を提供する。しかし、上記 の両方の装置の場合には、ポンプ駆動手段は幾分複雑であり、前の特許の場合に は独立の電気モータが必要であり、後の特許の場合にはやや複雑な駆動連結装置 を必要とする。さらに、従来技術による両方の装置は、一体型のパッド・エンク ロージャを含み、このエンクロージャは、深さが一定であるので、その中に収容 でき効率的に清掃することができるバフ研磨パッド厚みには制限があった。 本発明の装置は、本発明者の前の装置の簡単で効率的なパッド清掃のすべての 機能をそのまま生かして、上記欠点を改良することを目的としている。 発明の概要 本発明の主な特徴は、回転動力被駆動バフ研磨パッドを清掃するための改良型 装置であり、ホイールそれ自身に清掃溶液インペラを内蔵させることにより、バ フ研磨パッドにより直接駆動される溶液供給ホイールを含んでいることである。 この場合、パッド・エンクロージャを、容器からみて実質的に外部にある上縁部 上に載せないで、清掃溶液内に沈めることができる。そのため、容器の壁の上部 は、パッド・エンクロージャの側壁部を形成している。エンクロージャの床部、 すなわち、下部デッキは調整可能なコネクタによりカバーに着脱自在に取り付け ることもできるし、複数の調整可能な支持脚部により容器内に支持することもで き、そうすることにより、エンクロージャの深さを変化させて種々の厚みを持つ パッドを収容することができる。 好適な実施形態の場合には、本発明の装置は、液体清掃溶液を収 容するためのタンクを含み、このタンクは、周囲の上壁部まで延びていて、上部 の自由端部を形成している外壁部を持つ。フレームが、タンクの上縁部上に着脱 自在に支持されていて、内部自由空間を形成している。この内部自由空間は、バ フ研磨機に取り付けた場合、バフ研磨パッドを収容することができる大きさを有 している。フレームは、パッドがフレームの上記自由空間に収容されたとき、パ ッドの面の部分に隣接しているほぼ水平なデッキ部材を含む。複数の清掃ホイー ルは、デッキに回転自在に取り付けられていて、パッドの面の部分に接触する位 置に設置されている。溶液供給ホイールも、デッキに回転自在に取り付けられて いて、パッドの面と接触している上の部分と、タンクの清掃溶液と接触している 下の部分との間で回転することができる周辺縁部を有する。清掃ホイールおよび 溶液供給ホイールにバフ研磨パッドが回転自在に接触しているため、回転が起こ り清掃溶液がタンクからパッドに供給される。 好適な実施形態の場合には、溶液供給ホイールは、デッキ部材の下面に取り付 けられているハウジングを含み、溶液供給ホイールの周辺縁部の上部および下部 との間に清掃溶液を流すための通路を形成し、インペラは周辺縁部を含み、上記 通路に沿って清掃溶液を移動させるために、ハウジング上に回転自在に装着され ている。上記通路は、環状チャネルを含み、インペラは、インペラが回転したと き、通路に沿って移動するように配置されている、円周方向に間隔を置いて設置 され、半径方向に延びる一連の羽根を含む。 好適な実施形態の場合には、フレームはタンクの上縁部上にフレームを支持し ている上部リムを含む。カバーは上記上部リムに取り付けられていて、パッドを フレームの内部自由空間に挿入することができる開位置と、パッドを内部の自由 空間に収容する閉位置の間 を移動することができる。コネクタ手段が、デッキ部材を上部リムにしっかりと 相互に接続している。デッキ部材と、閉位置にあるカバーと、タンクの外壁部と の組み合わせが、内部自由空間を形成し、その中にパッドを実質的に収容してい る。コネクタ手段は、好適には、着脱自在に装着し、デッキ空間と上部リムの間 の間隔を調整し、それによりパッド・エンクロージャの深さを調整することがで きるように接続状態を調整するための手段を含むことが好ましい。 本発明の最も基本的な実施形態の場合には、回転動力バフ研磨機上に装着して いるバフ研磨パッドを清掃するための装置は、液体清掃溶液を含み、タンク内に 取り付けることができる側面が開いているフレームを含む、蓋のない円筒形の壁 を持つ容器の上縁部上に装着することができる。本発明の装置は、容器の上縁部 上に本装置を支持することができる上部周辺リムを含む。フレームは、上部リム から下に向かって伸び、上部リムとの間に間隔を持つデッキ部材と、デッキ空間 を上記リムに取り付けるための円周方向に間隔を置いて設置されているコネクタ 手段、およびリムの上に置くことができるカバーを含む。デッキ部材、カバーお よび容器の壁部の隣接する部分は接続していて、バフ研磨機に取り付けられてい る間、バフ研磨パッドを収容し、囲むことができる大きさを持つ内部自由空間を 形成している。溶液供給ホイールは、デッキ部材の下面に装着され、水平軸を中 心にして回転することができる。溶液供給ホイールは、縁部がデッキ部材を通っ て延び、バフ研磨パッドに接線接触している上部位置と、容器の清掃溶液に浸っ ている下部位置との間で自由に回転することができる周辺縁部を持ち、その結果 、バフ研磨パッドが動力により回転すると、溶液供給ホイールが回転し清掃溶液 をパッドに供給する。溶液供給ホイールは、好適には、ホイールの周 辺縁部に沿って延びている羽根付きインペラを含み、清掃溶液を汲み出してパッ ドに供給することが好ましい。すでに説明した実施形態の場合のように、コネク タ手段は、好適には、デッキ空間と上部リムとの間の間隔を選択的に変化させる ために、調整することができるものであることが好ましい。 他の実施形態の場合には、回転動力バフ研磨機上に装着されたバフ研磨パッド を清掃するための装置は、液体清掃溶液を収容するためにタンクを含み、このタ ンクは上端部を形成している周辺上壁部まで延びる外壁部を備えている。上部リ ムは、タンクの上縁部上に着脱自在に支持されていて、バフ研磨機に取り付けら れている間、バフ研磨パッドを収容することができる大きさの空間を形成してい る。本発明の装置は、内部自由空間を形成するために、下に向かって間隔を置い て、タンク内に支持されているほぼ水平のデッキ部材を含む。この水平デッキは 、パッドが上部リムの開口部内に設置されたとき、パッドの面の部分に隣接する 位置にくる。デッキ部材は、内部自由空間の大きさを変更する目的で、デッキ部 材および上部リムとの間の間隔を変化させるために調整することができる、複数 の調整可能な支持脚部により、タンク内に支持されている。 好適な実施形態の場合には、カバーは上部リムに取り付けられていて、パッド を内部自由空間に挿入することができる開位置と、パッドを内部の自由空間に収 容する閉位置の間を移動することができる。本発明の装置の上部リムは、タンク の上縁部上に上部リムを支持する周辺オーバーハングを含む。複数のアタッチメ ント・ラッチが、上記オーバーハングに固定されていて、上部リムとタンクの壁 部の外側との間に取り付けるための部分を供給する。デッキ部材と、閉位置にあ るカバーと、タンクの外壁部との組み合わせが、内部自 由空間を形成し、その中にパッドを実質的に収容する。 好適な実施形態の場合には、本発明の装置のフレームは、タンクの上縁部上に 上部リムを支持する周辺オーバーハングを持つ上部リムを含む。ほぼ水平なデッ キ部材は、パッドが上部リムの開口部内に設置されたとき、下に間隔を置いて設 置され、タンク内に支持され、パッドの面の部分に隣接する位置にくる。デッキ 部材は、上部リムの下に間隔を置いて設置されていて、内部自由空間を形成する 。カバーは上記上部リムに取り付けられていて、パッドを内部自由空間に挿入す ることができる開位置と、パッドを内部自由空間に収容する閉位置の間を移動す ることができる。デッキ部材と、閉位置にあるカバーと、タンクの外壁部との組 み合わせが、内部自由空間を形成し、その中にパッドを実質的に収容する。デッ キ部材は、好適には、デッキ空間および上部リムとの間の間隔を変化させ、それ によりパッド・エンクロージャの深さを変更するために、脚部を調整するための 手段を含む複数の調整可能な支持脚部により、タンク内に支持することが好まし い。複数のアタッチメント・ラッチが、上記オーバーハングに固定されていて、 上部リムとタンクの壁部の外側との間に取り付けるための部分を供給する。 図面の簡単な説明 図1は、容器の頂部に設置され、機械に装着しているバフ研磨パッドを収容し ている本発明の清掃装置の斜視図である。 図2は、図1の2−2線に沿って切断した部分垂直断面図である。 図3は、本発明の装置の平面図である。 図4は、図2の4−4線に沿って切断した水平断面図である。 図5は、図2の5−5線に沿って切断した垂直断面図である。 図6は、図5の6−6線に沿って切断した垂直断面図である。 図7は、図4の7−7線に沿って切断した拡大垂直断面図である。 図8aは、図2の8a−8a線に沿って切断した拡大垂直断面図である。 図8bは、ある接続の位置を変えた、図8a類似の垂直断面図である。 図9は、図1の2−2線に沿って切断した、本発明の他の実施形態の部分垂直 断面図である。 図10は、図9の10−10線に沿って切断した拡大水平断面図である。 図11は、図9の11−11線に沿って切断した拡大垂直断面図である。 図12は、本発明の他の実施形態の装置の平面図である。 図13は、図12の13−13線に沿って切断した拡大水平断面図である。 図14は、図12の14−14線に沿って切断した水平断面図である。 好適な実施形態の詳細な説明 図1に最もハッキリ示したように、本発明のバフ研磨パッド清掃装置10は、 その内部に装着することができ、その頂部に液体清掃溶液を含む容器を設置する ことができる。上記容器11は、便宜上、従来の5ガロン(約19リットル)の プラスチック製のバケツを含むことができる。図2について説明すると、装置1 0は、円筒形の容器11の上部の自由端部に挿入することができ、その上端部1 2上に設置することができる。装置10の上部は、従来のバフ研磨機 16の被動軸上に装着された、従来のバフ研磨パッド13を収容することができ る大きさの自由内部空間14を形成しているフレーム15を含む。後で詳細に説 明するように、バフ研磨機16によって駆動される回転バフ研磨パッド13は、 上記の本発明者の前の装置に類似の方法で、清掃装置を動作するための原動力を 供給するが、かなりの改良が行われている。 図3−図5について説明すると、フレーム15は、その内部に吊り下げられて いる清掃装置を支持するために、容器11の上縁部12上に設置することができ る環状リム17を含む。このリム17は、バフ研磨機上に装着されている従来の バフ研磨パッド13を容易に収容することができる十分な大きさの、上部が切断 された大きな円形開口部18を形成する。上記のパッドとしては、通常使用され ている種々の大きさのものを使用することができる。開口部18の頭部を切断し た部分を形成している、リム17の広くなっている部分20は、その上に一組の 半円形のカバー部材21の端部を回転自在に装着している。各カバー部材21は 、ピボット・ピン22により取り付けられていて、カバー部材の両端部は、リム の表面と上部リテーナ23との間に設置されている。カバー部材21の突き合わ せ端部は、相互に係合している歯24を持ち、そのためそのピボット・ピン22 を中心にして、一方のカバー部材21が回転すると、他方のカバー部材が回転す る。カバー部材21の上部表面は、その外側の縁部に一体に形成された半円形の リブ19を持つ。このリブは剛性を与え、開閉動作を行うためにカバー部材の一 方を掴む。カバー部材21が図3に示す開位置にある場合には、バフ研磨パッド 13は、開口部18を通して内部開口部14に挿入され、その後カバー部材21 は図1に示す閉位置に回転する。 フレーム15は、間隔をおいて下に、またリム17およびカバー部材21にほ ぼ平行に設置されている下部デッキ部材25を含む。デッキ部材25は、その外 縁部の周囲に多数の円周方向に間隔を置いて設置されているポスト26を含み、 それによりデッキ部材を着脱自在に環状リム17に取り付けることができる。好 適には、図2に最もハッキリと示すように、ポスト26は、中空で下向きに開い ているが、塞がれた、すなわち、閉じた上部端部27を含むことが好ましい。上 端部27は、リム17の下面から下に向かって延びる装着ボス30内にネジ込ま れている装着ボルト28を収容するための適当な装着孔を備えている。本発明の 改良した諸機能の一つによれば、図8aおよび図8bに示すように、リム17は 、各装着ボス30に直接隣接している一体型補助装着ボス31を備えている。こ れらの図の補助装着ボス31は、延ばした状態であり、リムにデッキ部材25を 取り付けるためこのボスを使用すると、その間の垂直方向の空間が広がり、もっ と厚いバフ研磨パッドを収容することができる。 また、図2に最もハッキリ示すように、(開示の実施形態には6本だけを図示 した)その一体型装着ポスト26を通して、上部リムおよびカバー・アッセンブ リにデッキ部材25を取り付けると、その全周囲にわたって側面方向に開いてい るフレーム15が形成される。しかし、フレームを容器11内に挿入し、環状リ ム17によりその上に支持すると、容器の側壁部は、フレームに対する外壁部に なり、内部開口部14およびその中のバフ研磨パッドをほぼ収容する。それ故、 パッド・エンクロージャの一部を形成するために、容器11を使用すると、装置 の構造が簡単になり、本発明者の前の装置を改良することができる。図4に示す ように、各装着ポストに隣 接するデッキ部材の外縁部は容器の内壁部に直接隣接し、その内部での装置の位 置を維持しやすくする。しかし、装着ポストの間のデッキ部材の縁部は平らで、 容器の壁部から離れているので、後で詳細に説明するように、清掃溶液は容易に 容器内に戻ることができる。 デッキ部材25は、半径方向に間隔をおいて配置されている二列の清掃ホイー ル32を備えている。各列のホイールは、一組の装着プレート34により、デッ キの下面に固定されている共通軸33上に回転自在に装着されている。デッキ部 材のほぼ平らな上部平面35は、上記本発明者の前の特許に開示したのとほぼ同 じ方法で、そこを通して上部表面35の平面上に突出している、清掃ホイール3 2の上部周辺縁部を収容するための複数の自由スロット36を含む。清掃ホイー ル32は、図2および図7に最もハッキリ示すように、歯を持ち、バフ研磨パッ ド13の被駆動回転に抗して、上記の歯の力で回転すると、パッドの面から固ま ったワックスおよび他の研磨剤を取り外す効果を促進する。この効果の促進は、 後で説明するように、下からの清掃溶液の噴射によりさらに大きくなる。一方の 列のホイールの位置は、他方の列のホイールの位置からずれていて、その結果、 各清掃ホイールは、回転バフ研磨パッドの面に対する異なる直径の円形経路をし っかりと辿る。それ故、ホイールとバフ研磨パッド面との間の接触は、事実上確 実に行われる。 容器11の底部の液体清掃溶液37は、デッキを通して上に向かって供給され 、本発明の主な特徴である溶液供給ホイール38により、回転バフ研磨パッド1 3の面に供給される。溶液供給ホイールは、簡単であるが効率的な方法で組み立 てられ、作動し、従来技術と比較すると、有意な改善が行われる。それ故、図6 について説明すると、溶液供給ホイール38は、装着ネジ43により、上面の対 向する端部上の装着用突出部42を介して、デッキ部材25の下面に取り付けら れているほぼ円形のハウジング40を含む。ハウジング40の平らな上縁部は、 デッキ25の内壁部の大きなスロット45と整合している上部開口部44を備え ている。ハウジング40の内面は、容器11からデッキ25の上面に、清掃溶液 を供給するための通路である環状チャネル46を備えている。インペラ41は、 ハウジングの内面に対して、ピン47上に回転自在に装着されている。インペラ は、清掃ホイール32とほぼ同じ高さに、デッキ部材25のスロットを通して突 出している歯付き周辺縁部48を備えている。インペラ41の内面は、ハウジン グの環状チャネル46内にぴったりと収まり、インペラ41がピン47を中心に 回転したとき、上記チャネルに沿って移動できるような大きさと形をした、一連 の円周方向に間隔を置いて設置され、半径方向に延びる羽根50を備えている。 上記羽根は、スロット45の一方の側面上の薄いデッキ部分52の下面すれすれ のところを通る。このデッキ部分は、一列の清掃溶液供給孔53を備えている。 インペラ41の内面に直接隣接するハウジング40の下縁部は、清掃溶液37用 の入力スロット51を備えている。容器11の清掃溶液の液面は、バフ研磨パッ ドの全清掃サイクルの間、入力スロットを覆うことができる高さであれば十分で ある。 バフ研磨パッド13の下面39とインペラ41の上縁部との間の接線接触によ り、(清掃ホイール32の回転のところで、すでに説明したのと同じ方法で)、 後者、すなわち、インペラが回転する。ハウジング40の下部の環状チャネル4 6に入った清掃溶液は、その内部で回転しているインペラの羽根50により取り 出され、ハウジングの上部開口部44およびデッキ部分52の供給孔53を通し て上方に送られる。それ故、清掃溶液は、自由内部14に送られ、その内部で回 転しているバフ研磨パッド31の面と直接接触する。清掃溶液は、デッキ部材の 上面35上を急速に広がり、清掃ホイール32の働きによりパッドの材質内に浸 透する。清掃溶液は、スロット36および45、およびデッキ部材および容器の 内壁部の間の縁部の空間を通って容器11内に戻る。 図9−図14について簡単に説明すると、これらの図は本発明の他の好適な実 施形態であり、上部リブ62に固定されているのではなく、複数の調整可能な支 持脚部60により支持されている下部デッキ部材25を含む。図9−図14につ いて説明する場合、本明細書ですでに開示した構成部分については、可能な限り 対応する参照番号を使用する。さらに、すでにその動作については詳細に説明済 みなので、上記対応する構成部分の動作についての説明は省略する。 図9について説明すると、この装置は、容器11の上縁部12によって支持す ることができる修正上部リム62を含む。上部リム62は、上記のように接続し 、動作する回転自在に装着している一組の半円形カバー部材21を支持するため のものである。 図9に示すように、水平デッキ部材25は、間隔を置いて下向きに、また上部 リム62およびカバー部材21にほぼ平行に設置されている。デッキ部材25は 、複数の支持脚部60により、上部リム62およびカバー部材21から独立して 、容器11内に支持されている。好適な実施形態に示すように、デッキ部材は、 三本の間隔を持った支持脚部60により支持されている。各支持脚部は、上部6 4と下部66を持つ二部構造になっている。各支持脚部60の上部64は、支持 脚部60をデッキ部材25にしっかりと取り付けるために使用する装着用開口部 68を含む。図11に示すように、ボル トまたはリベットのような固定手段70は、デッキ部材25の延長支持リブ72 および上部64の装着開口部68を貫通している。上部フランジ74は、支持脚 部60をさらに安定させるため、支持脚部60とデッキ部材25との間の接触面 積を増大する目的で、デッキ部材25の下部面と接触している。図11を見れば 分かるように、支持脚部60は容器11の外壁部から少しは離れている。 図9−図11にさらに示すように、支持脚部60の上部64は、容器11内で デッキ部材25の高さを調整するための複数の調整孔76を含む。図9に示すよ うに、ネジ78は、上記調整孔76の一番下の孔を通る。図10および図11に さらにハッキリ示すように、ネジ78は、支持脚部60の上部64および下部6 6の両方を貫通する。より詳細に説明すると、ネジ78は、調整孔76の一つを 通り、さらに支持脚部60の下部66のネジ山付き装着孔80も通る。下部66 は、支持脚部60をさらに安定させるために、容器11の底部上に設置されてい る平らな端部81を含む。 図9に示すように、内部自由空間82は、下部のデッキ部材25、デッキ部材 を取り囲んでいる容器11の外壁部、および上縁部のところのカバー部材21に より形成される。実際には、内部自由空間82の厚さは、掃除の対象となるバフ 研磨パッドの厚さに対応する。図9に示すように、内部空間82の深さは、現在 最も浅くなっている。何故なら、ネジ78が支持脚部60の最も下の調整孔76 を通っているからである。内部空間82の幅を変えるには、ネジ78を最も下の 調整孔76から引き出せばよい。上記ネジを引き出すと、支持脚部60の上部6 4および下部66は、相互に移動する。その後、ネジ78を異なる調整孔76お よび装着孔80に挿入する。そうすることにより、支持脚部60の長さが変わり 、デッキ部材25 が移動して、内部空間82の必要な幅に対応する。支持脚部をネジ78により再 びしっかりと接続すると、デッキ部材25は、容器11内でカバー部材21から 必要な距離だけ離れた場所に支持される。図9に点線で示すように、ネジ78を 調整すると、デッキ部材25、支持脚部60の上部64、および溶液供給ホイー ル38は、すべて下方に移動する。 図9を見れば分かるように、上部リム62は、容器11の上縁部12を通って 延びる周辺オーバーハング84を含む。周辺オーバーハング84は、上部リム6 2およびカバー部材21を支持するために使用する。周辺オーバーハング84は 、さらに容器11の外壁部に平行に延びるオーバーハング・リップ86を含む。 図12に示すように、周辺オーバーハング84は、周辺オーバーハング84の下 部面に取り付けられている複数のアタッチメント・ラッチ88を含む。図13に 最もハッキリ示すように、各アタッチメント・ラッチ88は、ハンドル90、カ ム作動面92、およびピボット・アタッチメント94を含む。各アタッチメント ・ラッチ88のある場所において、周辺オーバーハング・リップ86が除去され 、ラッチ88はピボット・アタッチメント94を中心にして回転することができ る。アタッチメント・ラッチ88が閉位置にある場合には、カム面92は容器の 外壁部11に押しつけられ、上部リム62を上縁部12にしっかりと接触させる 。上縁部12は、水平方向に延びる部分96を含む。アタッチメント・ラッチ8 8のカム作動面92は、水平方向に延びる部分96の下で移動し、上部リム62 が容器11から上方に移動するのを防止する。上部リムを取り外すには、図12 に示すように、アタッチメント・ラッチ88を開位置に移動する。この位置にセ ットされた場合、カム作動面92は、もはや容器11 の外壁部と接触していないし、上縁部12の水平方向に延びる部分96の下にも 存在しない。この状態で、上部リム62を除去することができる。このようにし て、一組のアタッチメント・ラッチ88は上部リム62にしっかりと取り付けら れ、そのためカバー部材21が容器11に取り付けられる。 図12には、上から見た支持脚部60が点線で図示されている。タンク11内 でデッキ部材25をしっかりと支持するために、三本の支持脚部60が、デッキ 部材25の外縁部の付近に設置されている。さらに、周辺オーバーハング84は 、その上表面の一部に成型により形成された工具台98を含む。工具台98は、 バフ研磨パッドが清掃装置内に設置されたとき、バフ研磨機16を支持するため の湾曲面100を含む。 図12に、デッキ部材25の下面上に形成された支持隆起部72の輪郭を点線 で示す。図11および図12に示すように、支持脚部60は、それぞれデッキ部 材25の支持隆起部72に接続している。 すでに説明した実施形態の場合のように、デッキ部材25は、内部空間82に 挿入されたバフ研磨パッドを清掃するための、対応する清掃ホイール32および 溶液供給ホイール38を含む。類似の方法で、これらの構成部分は、清掃溶液を 回転バフ研磨パッドに供給し、パッド面から固形状になったワックスおよび他の 研磨剤を除去する。 本発明者の上記の前の二つの特許の場合には、パッドを完全に清掃した後で、 清掃溶液供給ポンプの運転を停止するか、清掃溶液供給通路を手動でオフにする 。その結果、バフ研磨パッドは清掃溶液が存在しなくても回転することができ、 遠心力でそこから清掃溶液を排出することができる。本発明者は、清掃溶液供給 を別個にオフ にする必要がないことを発見したので、その範囲でできるだけ本発明の装置を簡 略化した。フレーム15内に、垂直方向に十分な深さを持つ内部空間を設けるこ とによって、本発明のユーザは、簡単に、バフ研磨機を持ち上げ、取り付けてあ るパッドを少し持ち上げ、溶液供給ホイール38との接触を外することができ、 (それにより、パッドも清掃ホイール32との接触から外す)ことができる。も ちろん、清掃ホイールのインペラ41の回転が停止すると、清掃溶液の供給も停 止するが、パッドが引き続き回転するので、遠心力によりその中に溜まった水を 排出することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FR,GB,GR,IE,IT,LU,M C,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF,CG ,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE,SN, TD,TG),AP(KE,LS,MW,SD,SZ,U G),AL,AM,AT,AU,BB,BG,BR,B Y,CA,CH,CN,CZ,DE,DK,EE,ES ,FI,GB,GE,HU,IS,JP,KE,KG, KP,KR,KZ,LK,LR,LT,LU,LV,M D,MG,MK,MN,MW,MX,NO,NZ,PL ,PT,RO,RU,SD,SE,SG,SI,SK, TJ,TM,TT,UA,UG,UZ,VN

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.バフ研磨パッドがバフ研磨機に装着している間、バフ研磨面部分を有する 回転動力バフ研磨パッドを清掃するための装置であって、 上部の自由端部を形成している上部周辺壁部を有する外壁部を含み、液体清掃 溶液を収容するためのタンクと、 上記タンクの上縁部上に着脱自在に支持されていて、バフ研磨機に取り付けた 場合、バフ研磨パッドを収容することができる大きさの内部自由空間を形成する フレームと、 上記デッキ部材に、回転自在に取り付けられていて、パッドの面の部分に接触 する位置に設置されている複数の清掃ホイールと、 デッキに回転自在に取り付けられていて、パッドの面と接触している上の部分 と、タンクの清掃溶液と接触している下の部分との間で回転することができる周 辺縁部を有する溶液供給ホイールとを含み、 上記フレームが、パッドが上記フレームの上記自由空間に収容されたとき、パ ッドの面の部分に隣接しているほぼ水平なデッキ部材を含み、 バフ研磨パッドが清掃ホイールおよび溶液供給ホイールに回転しながら接触し た場合に、清掃ホイールおよび溶液供給ホイールが回転し、清掃溶液がタンクか らパッドに供給される装置。 2.上記溶液供給ホイールが、上記デッキ部材の下面に取り付けられ、溶液供 給ホイールの周辺縁部の上部と下部との間に通路を形成しているハウジングと、 上記通路に沿って清掃溶液を移送するために、ハウジング上に回 転自在に装着されている上記周辺壁部を含むインペラとを含む請求項1に記載の 装置。 3.上記通路が環状チャネルを含み、上記インペラがインペラの回転に従って 、通路に沿って移動するように配置され、円周方向に間隔を置いて軸方向に延び る一連の羽根を含む請求項2に記載の装置。 4.上記フレームが、 上記タンクの上縁部上に上記フレームを支持するための上部リムと、 上記上部リムに取り付けられていて、パッドを上記フレームの内部自由空間に 挿入することができる開位置と、上記内部自由空間に上記パッドを収容する閉位 置との間を移動することができるカバーと、 上記デッキ部材と上記上部リムとをしっかりと相互に接続するためのコネクタ 手段とを含む請求項1に記載の装置。 5.上記デッキ部材と、閉位置にある上記カバーと、上記タンクの外壁部とが 内部自由空間を形成し、その内部にパッドを実質的に収容する請求項4に記載の 装置。 6.上記コネクタ手段が、着脱自在である請求項4に記載の装置。 7.上記デッキ部材と上記上部リムとの間の間隔を変化させるために、上記コ ネクタ手段を調整することができる請求項6に記載の装置。 8.回転動力バフ研磨機上に装着された、バフ研磨パッドを清掃するための液 体清掃溶液を含む、円筒形の自由壁部を持つ容器の上縁部に装着することができ る装置であって、 容器内に設置することができ、容器の上縁部上に装置を支持する ことができる上部周辺リムを持つ側面が開いているフレームと、 水平軸を中心に回転できるように、デッキ部材の下面に装着され、縁部が上記 のデッキ部材を通して延び、バフ研磨パッドと接線接触する上の位置と、容器の 清掃溶液の中に浸される下の位置との間を回転することができる周辺壁部を持つ 溶液供給ホイールとを含み、 上記フレームが、上記リムから下に向かって延びていて、その下に間隔を置い て設置されているデッキ部材と、上記リムに上記デッキ部材を取り付けるための 円周方向に間隔を置いて設置されている手段と、上記リム上に載せることができ るカバーとを含み、 上記デッキ部材と、上記カバーと、容器壁部の隣接部分とが、バフ研磨機上に 取り付けられている間、バフ研磨パッドを収容し、取り囲むことができる大きさ の内部自由空間を形成し、 バフ研磨パッドが動力により回転すると、溶液供給ホイールが回転し、清掃溶 液をパッドに供給する装置。 9.上記溶液供給ホイールの周辺縁部に沿って延びる羽根付きインペラを含み 、上記のように供給するために清掃溶液を汲み上げることができる請求項8に記 載の装置。 10.上記デッキ部材と上記上部リムとの間の間隔を選択的に変化させるため に、上記コネクタ手段を調整することができる請求項8に記載の装置。 11.バフ研磨パッドがバフ研磨機に装着している間、バフ研磨面部分を有す る回転動力バフ研磨パッドを清掃するための装置であって、 上部の自由端部を形成している上部周辺壁部を持つ外壁部を含み、液体清掃溶 液を収容するためのタンクと、 上記タンクの上縁部上に着脱自在に支持されていて、バフ研磨機 に取り付けた場合、バフ研磨パッドを収容することができる大きさの内部自由空 間を形成している上部リムと、 パッドが上記開口部内に設置されたとき、容器内に支持され、パッドの面の部 分に隣接しているほぼ水平なデッキ部材と、 上記デッキ部材に、回転自在に取り付けられていて、パッドの面の部分に接触 する位置に設置されている複数の清掃ホイールと、 デッキに回転自在に取り付けられていて、パッドの面と接触している上の部分 と、タンクの清掃溶液と接触している下の部分との間で回転することができる周 辺縁部を有する溶液供給ホイールとを含み、 バフ研磨パッドが清掃ホイールおよび溶液供給ホイールに回転しながら接触し た場合に、清掃ホイールおよび溶液供給ホイールが回転し、清掃溶液がタンクか らパッドに供給される装置。 12.上記デッキ部材が、複数の調整可能な支持脚部によって、タンク内に支 持されている請求項11に記載の装置。 13.バフ研磨パッドがバフ研磨機に装着している間、バフ研磨面部分を有す る回転動力バフ研磨パッドを清掃するための装置であって、 上部の自由端部を形成している上部周辺縁部を持つ外壁部を含み、液体清掃溶 液を収容するためのタンクと、 上記タンクの上縁部上に着脱自在に支持されていて、バフ研磨機に取り付けた 場合、バフ研磨パッドを収容することができる大きさの開口部を形成している上 部リムと、 パッドが上記開口部内に設置されたとき、容器内に支持され、パッドの面の部 分に隣接していて、内部自由空間を形成するために、上記上部リムの下に間隔を 置いて設置されているほぼ水平なデッキ 部材と、 上記デッキ部材に、回転自在に取り付けられていて、パッドの面の部分に接触 する位置に設置されている複数の清掃ホイールと、 デッキに回転自在に取り付けられていて、上記パッドの面と接触している上の 部分と、タンクの清掃溶液と接触している下の部分との間で回転することができ る周辺縁部を持つ溶液供給ホイールとを含み、 バフ研磨パッドが清掃ホイールおよび溶液供給ホイールに回転しながら接触し た場合に、清掃ホイールおよび溶液供給ホイールが回転し、清掃溶液がタンクか らパッドに供給される装置。 14.上記内部自由空間を変化させるために、上記のデッキ部材と上記リムと の間の間隔を変化させる目的で、上記デッキ部材支持脚部を調整することができ る請求項13に記載の装置。 15.上記溶液供給ホイールが、上記デッキ部材の下面に取り付けられ、溶液 供給ホイールの周辺縁部の上部と下部との間に通路を形成しているハウジングと 、 上記通路に沿って清掃溶液を移送するために、ハウジング上に回転自在に装着 されている上記周辺壁部を持つインペラとを含む請求項13に記載の装置。 16.上記通路が環状チャネルを含み、上記のインペラがインペラの回転に従 って、通路に沿って移動するように配置された円周方向に間隔を置いて軸方向に 延びる一連の羽根を含む請求項15に記載の装置。 17.上記上部リムが、上記タンクの上縁部上に上記フレームを支持するため の周辺オーバーハングと、 上記上部リムに取り付けられていて、パッドを上記フレームの内 部自由空間に挿入することができる開位置と、上記内部自由空間に上記パッドを 収容する閉位置との間を移動することができるカバーと、 上記上部リムと上記タンク外壁部との間を接続するために上記のオーバーハン グに取り付けられているアタッチメント手段とを含む請求項13に記載の装置。 18.上記デッキ部材と、閉位置にある上記カバーと、上記タンクの外壁部と が内部自由空間を形成し、その内部にパッドを実質的に収容する請求項17に記 載の装置。 19.上記アタッチメント手段が、ハンドルおよび作動面を有する複数のアタ ッチメント・ラッチである請求項17に記載の装置。 20.回転動力バフ研磨機上に装着されたバフ研磨パッドを清掃するための液 体清掃溶液を含む円筒形の自由壁部を持つ容器内に支持され、上縁部に装着する ことができる装置であって、 上記容器の上縁部上に、上記の上部リムを支持することができる周辺オーバー ハングと、上記リムに載せることができるカバーとを持つ上部リムと、 上記上部リムの下に間隔を置いて設置されていて、複数の支持脚部により容器 内に支持されているほぼ水平なデッキ部材と、 水平軸を中心にして回転することができるように、デッキ部材の下面に装着さ れ、縁部が上記のデッキ部材を通して延び、バフ研磨パッドと接線接触する上の 位置と、容器の清掃溶液の中に浸される下の位置との間を回転することができる 周辺壁部を持つ溶液供給ホイールとを含み、 上記デッキ部材と、上記カバーと、容器壁部の隣接部分とが、バフ研磨機上に 取付けられている間、バフ研磨パッドを収容し、取り 囲むことができる大きさの内部自由空間を形成し、 バフ研磨パッドが動力により回転すると、溶液供給ホイールが回転し、清掃溶 液をパッドに供給する装置。 21.上記溶液供給ホイールの周辺縁部に沿って延びる羽根付きインペラを含 み、上記のように供給するために清掃溶液を取り上げることができる請求項20 に記載の装置。 22.上記デッキ部材と上記上部リムとの間の間隔を選択的に変化させるため に、上記支持脚部を調整することができる請求項20に記載の装置。
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