JPH1144834A - Optical element moving device - Google Patents

Optical element moving device

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JPH1144834A
JPH1144834A JP9213875A JP21387597A JPH1144834A JP H1144834 A JPH1144834 A JP H1144834A JP 9213875 A JP9213875 A JP 9213875A JP 21387597 A JP21387597 A JP 21387597A JP H1144834 A JPH1144834 A JP H1144834A
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JP
Japan
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optical element
moving device
element moving
fixed
damper means
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JP9213875A
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Makoto Mizuno
誠 水野
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
    • G03F7/70825Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To realize in a space saved state with high cleanness an optical element moving device accurately driving an optical element for adjusting the optical characteristic of a projection optical system on an optical axis by providing a damper means between a movable part and a fixed part. SOLUTION: This device is provided with the damper means between the movable part and the fixed part. Namely, in this device, the driving element 4 is constituted of a bellows 9, etc., and its one end is fixed on a fixed base and the other end is fixed on a clamp top board coupled with a movable base. The element 4 is constituted of the bellows 9, two flanges 10a and 10b, columns 11a and 11b and a viscous body 12 interposed in a gap between the columns 11a and 11b. One flange 10a is coupled with the clamp top board through the gap of a leaf spring piece and the other flange 10b is arranged in the fixed base, so that air pressure applied to the inside of the bellows 9 is transmitted to the movable base. By using such a driving element 4, damping characteristic is added to the operation of a mechanism.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置などの投
影光学系の倍率、収差、歪み等の光学特性を調整するた
めの光学要素移動装置に関し、さらに詳細には、半導体
焼付け装置(マスクアライナ)などで使用される投影光
学系において、原版(例えばマスクおよびレチクル)の
像を対象物(例えばウエハ)に投影露光する際、より正
確な結像関係を得るための付加光学系に用いられる光学
要素移動装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical element moving device for adjusting optical characteristics such as magnification, aberration and distortion of a projection optical system such as an exposure device, and more particularly, to a semiconductor printing apparatus (mask aligner). In the projection optical system used in (1) and the like, when an image of an original (eg, a mask and a reticle) is projected and exposed on an object (eg, a wafer), an optical system used for an additional optical system for obtaining a more accurate imaging relationship It relates to an element moving device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体露光装置は、数多くの異なる種類
のパターンを有する原版(レチクル)をシリコンウエハ
(基板)に転写する装置である。高集積度の回路を作成
するためには、解像性能だけでなく重ね合せ精度の向上
が不可欠である。
2. Description of the Related Art A semiconductor exposure apparatus is an apparatus for transferring an original (reticle) having many different types of patterns onto a silicon wafer (substrate). In order to create a highly integrated circuit, it is essential to improve not only the resolution performance but also the overlay accuracy.

【0003】半導体露光装置における重ね合せ誤差はア
ライメント誤差、像歪み、および倍率誤差に分類され
る。アライメント誤差は、原版(レチクル)と基板(ウ
エハ)との相対位置調整によって軽減される。一方、倍
率誤差は、投影光学系の一部を光軸方向に移動させるこ
とによって調整可能である。光軸方向に移動させる際に
は、移動方向以外の他成分、とりわけ平行偏心、および
傾き誤差が大きくならないようにしなければならない。
[0003] Overlay errors in a semiconductor exposure apparatus are classified into alignment errors, image distortions, and magnification errors. The alignment error is reduced by adjusting the relative position between the original (reticle) and the substrate (wafer). On the other hand, the magnification error can be adjusted by moving a part of the projection optical system in the optical axis direction. When moving in the direction of the optical axis, components other than the moving direction, in particular, parallel eccentricity and inclination error must be prevented from increasing.

【0004】従来、半導体露光装置用の投影倍率調整装
置としては、特開平9−106944号公報に開示され
ているような平行板ばねを用いた機構による光学要素移
動装置が考案されている。図1はこの種の光学要素移動
装置が搭載される露光装置の全体図、図2は、上記公報
に開示された機構を示す一部破断平面図および断面図で
ある。図2に示すように、この光学要素移動装置は、倍
率、収差等の調整レンズ7、およびそれを支持するセル
8を積載する可動台1および図1の投影光学系104の
固定部分の一部をなす固定台2を有する。駆動要素4
は、ベローズなどによって構成され、その一端を固定台
2に固定されるとともに、他端は可動台1に連結される
クランプ天板5に固定されている。可動台1と固定台2
は、2枚以上で一組の板ばね片3を有する板ばね材を一
対とそれを支持する板ばね押さえ6を有するばね機構に
より連結されている。板ばね材は、可動台1および固定
台2の両端面にそれぞれ一個ずつ配置されている。駆動
要素4は、板ばね片3の隙間であって、可動台1の中心
から等距離、かつ光軸20に対称な位置に配置されてい
る。
Heretofore, as a projection magnification adjusting device for a semiconductor exposure apparatus, an optical element moving device using a mechanism using a parallel leaf spring as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-106944 has been devised. FIG. 1 is an overall view of an exposure apparatus on which this kind of optical element moving device is mounted, and FIG. 2 is a partially cutaway plan view and a cross-sectional view showing a mechanism disclosed in the above publication. As shown in FIG. 2, this optical element moving device includes a movable table 1 on which an adjustment lens 7 for adjusting magnification, aberration, etc., and a cell 8 supporting the same, and a part of a fixed portion of the projection optical system 104 of FIG. Is provided. Drive element 4
Is constituted by a bellows or the like, one end of which is fixed to the fixed base 2 and the other end is fixed to a clamp top plate 5 connected to the movable base 1. Movable table 1 and fixed table 2
Are connected by a spring mechanism having a pair of leaf spring members having two or more leaf spring pieces 3 and a leaf spring retainer 6 supporting the pair. One leaf spring material is disposed on each of both end surfaces of the movable base 1 and the fixed base 2. The driving element 4 is arranged in a gap between the leaf spring pieces 3, equidistant from the center of the movable base 1, and symmetrically with respect to the optical axis 20.

【0005】図22に上記公報に記載された駆動要素4
の概要を示す。同図の駆動要素4は、ベローズ9と、2
個のフランジ10aおよび10bによって構成されてい
る。また、一方のフランジ10aは、図2に示すよう
に、板ばね片3の隙間からクランプ天板5に連結され、
他方のフランジ10bは、固定台2内に配置されてお
り、ベローズ9内部に与えられる空気圧力を可動台1に
伝達する。
FIG. 22 shows a driving element 4 disclosed in the above publication.
The outline of is shown. The drive element 4 in FIG.
It is constituted by a plurality of flanges 10a and 10b. As shown in FIG. 2, one flange 10 a is connected to the clamp top plate 5 through a gap between the leaf spring pieces 3,
The other flange 10 b is arranged in the fixed base 2, and transmits the air pressure applied inside the bellows 9 to the movable base 1.

【0006】このような従来例は、レンズの位置を高精
度で制御できる上に、より軽量に、またより小さな空間
で実現することができる。
In such a conventional example, the position of the lens can be controlled with high accuracy, and the lens can be realized in a lighter weight and in a smaller space.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
平行板ばねを用いた機構による光学要素移動装置では、
光学要素を高精度で光軸上を駆動することができない場
合があるという問題がある。例えば重量の大きい、かつ
大口径のレンズを可動部とし、板ばねを案内に用いた機
構の場合、固有振動数が比較的低いため、外乱などによ
りレンズを含む可動部が大きく振動するという問題があ
る。その結果、露光装置の転写性能が低下する傾向とな
るため、光学要素移動装置に減衰特性を持たせることが
望ましいことが判明した。
However, in the optical element moving device using the mechanism using the above-mentioned parallel leaf spring,
There is a problem that the optical element cannot be driven on the optical axis with high accuracy. For example, in the case of a mechanism using a heavy, large-diameter lens as a movable part and a leaf spring as a guide, the natural frequency is relatively low, so that the movable part including the lens vibrates greatly due to disturbance or the like. is there. As a result, the transfer performance of the exposure device tends to decrease, and it has been found that it is desirable to provide the optical element moving device with attenuation characteristics.

【0008】本発明の目的は、このような従来技術の問
題点に鑑み、投影光学系の倍率、収差、歪み等の光学特
性を調整するための光学要素を高精度で光軸上を駆動す
る光学要素移動装置を、省スペース、高クリーン度で実
現することにある。
An object of the present invention is to drive an optical element for adjusting optical characteristics such as magnification, aberration, and distortion of a projection optical system on the optical axis with high accuracy in view of the problems of the prior art. An object of the present invention is to realize an optical element moving device with a small space and high cleanness.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明では、可動部に取り付けられた光学要素を固
定部に対して光軸方向へ移動させる駆動手段および案内
手段を有する光学要素移動装置において、可動部と固定
部との間にダンパ手段を設けたことを特徴とする。
In order to achieve the above object, according to the present invention, there is provided an optical element having drive means and guide means for moving an optical element attached to a movable part relative to a fixed part in an optical axis direction. In the moving device, damper means is provided between the movable portion and the fixed portion.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の好ましい実施の形態にお
いて、ダンパ手段としては、粘性体を具備するもの、防
振ゴムを具備するもの、およびショックアブソーバなど
を用いることができる。このようなダンパ手段は、光軸
対称に配置することが好ましい。また、前記駆動手段内
部に設けることも可能であるが、特にダンパ手段を前記
駆動手段とは別個に設ける場合、該ダンパ手段からの発
塵を防止するためベローズ内に配置することが好まし
い。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In a preferred embodiment of the present invention, as a damper means, one having a viscous material, one having a vibration-proof rubber, a shock absorber and the like can be used. Such damper means is preferably arranged symmetrically with respect to the optical axis. Although it is also possible to provide the damper means separately from the drive means, it is preferable to dispose the damper means in a bellows in order to prevent dust generation from the damper means.

【0011】前記ダンパ手段が粘性体を具備するもので
ある場合、この粘性体としては、オイル、またはグリー
ス、またはゲル等を用いることができる。また、粘性手
段は、平面の間に挟んでもよく、シリンダとピストンと
の間に配置してもよい。また、ダンパ手段を駆動手段内
部に設ける場合、駆動手段のフランジ部にダンパ手段を
取り付けるための開口を設け、ダンパ手段をこの開口に
取り付けた後、フランジ部に設けた溝にはめ込んだOリ
ングにより、ダンパ手段と開口との隙間をシールする。
When the damper means has a viscous material, the viscous material may be oil, grease, gel or the like. Further, the viscous means may be interposed between the planes, or may be arranged between the cylinder and the piston. Further, when the damper means is provided inside the drive means, an opening for mounting the damper means is provided in a flange portion of the drive means, and after the damper means is attached to this opening, an O-ring is fitted into a groove provided in the flange portion. The gap between the damper means and the opening is sealed.

【0012】前記ダンパ手段が、防振ゴムを具備するも
のである場合、この防振ゴムとしては、円筒形状または
中空の立方体形状のものを用いることができる。この防
振ゴムには1個以上の穴を設けることが好ましい。この
防振ゴムは駆動手段のフランジ部または固定部および可
動部に溝または段を設けてはめ込むか、接着するか、ま
たはこれらを組み合わせて、前記フランジ部または固定
部および可動部に固定することが好ましい。さらに、防
振ゴムは駆動手段の一部であるベローズと同一寸法とす
ることが好ましい。
When the damper means is provided with an anti-vibration rubber, the anti-vibration rubber may have a cylindrical shape or a hollow cubic shape. It is preferable to provide one or more holes in the vibration-proof rubber. The anti-vibration rubber can be fixed to the flange portion or the fixed portion and the movable portion by providing a groove or a step in the flange portion or the fixed portion and the movable portion of the driving means, fitting or bonding them, or combining them. preferable. Further, it is preferable that the vibration-proof rubber has the same size as the bellows which is a part of the driving means.

【0013】前記ダンパ手段がショックアブソーバを具
備するものであり、これを駆動手段内部に設ける場合、
駆動手段のフランジ部にショックアブソーバを取り付け
るための開口を設け、ショックアブソーバをこの開口に
取り付けた後、フランジ部に設けた溝にはめ込んだOリ
ングにより、ショックアブソーバと開口との隙間をシー
ルする。
When the damper means has a shock absorber and is provided inside the driving means,
An opening for mounting a shock absorber is provided in a flange portion of the driving means. After the shock absorber is mounted in this opening, a gap between the shock absorber and the opening is sealed by an O-ring fitted in a groove provided in the flange portion.

【0014】[0014]

【作用】固定部と可動部との間にダンパ手段を設けるこ
とにより、光学要素駆動時の振動を抑えることができ、
省スペースでありながら、高精度な光学要素駆動を実現
することができる。また、ダンパ手段を駆動手段内部に
設けたり、またはベローズなどで覆うことにより、高ク
リーン度を実現することができる。
[Function] By providing damper means between the fixed part and the movable part, it is possible to suppress the vibration at the time of driving the optical element,
It is possible to realize high-precision optical element driving while saving space. Further, by providing the damper means inside the driving means or covering it with bellows or the like, high cleanliness can be realized.

【0015】[0015]

【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。 [実施例1]図1は、本発明が適用される露光装置の概
略構成を示す図である。同図において、101は感光剤
が塗布された半導体ウエハであり、精密な位置決め性能
を有するウエハステージ102上に保持されている。露
光装置の基準に対するウエハステージの位置はレーザ干
渉計113によって計測されている。103は原版とな
るパターンが描かれたレチクルである。投影光学系10
4は本発明による光学要素移動手段110を有してお
り、レチクル上のパターンをウエハ上に結像させる。1
05はレチクルを照明するための照明光学系である。1
06は前行程で作成されたウエハ上のパターンとレチク
ル上のパターンとの位置ずれを検出するアライメント光
学系である。アライメント光学系106とウエハステー
ジ102とによって、レチクル上のパターンとウエハ上
のパターンとを重ね合わせた上で露光する。107はこ
のような露光装置の動作を管理する制御装置である。ア
ライメント光学系と、ウエハステージおよびウエハステ
ージの位置を計測するレーザ干渉計とが協働することに
よって、ウエハ上のパターンの寸法を計測することがで
きる。制御装置はこの寸法から最適な光学特性が得られ
る光学要素の位置を設定する。一方、投影光学系の光学
特性の一つである投影倍率の変動要因として、気圧など
の雰囲気の変化がある。制御装置107は、気圧センサ
108によって得られる気圧の情報や最適な露光倍率の
値から、前記光学要素の一つである投影倍率調整用のレ
ンズの最適な位置を決定し、その位置の指令を光学要素
移動手段の制御部111に与える。図1において、10
9は投影光学系104を支持する定盤(下)、112は
定盤(下)109に支持され照明光学系105やアライ
メント光学系106を支持する定盤(上)である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. [Embodiment 1] FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an exposure apparatus to which the present invention is applied. In FIG. 1, reference numeral 101 denotes a semiconductor wafer to which a photosensitive agent has been applied, which is held on a wafer stage 102 having precise positioning performance. The position of the wafer stage with respect to the reference of the exposure apparatus is measured by the laser interferometer 113. Reference numeral 103 denotes a reticle on which a pattern serving as an original is drawn. Projection optical system 10
Numeral 4 has an optical element moving means 110 according to the present invention, and forms a pattern on a reticle on a wafer. 1
Reference numeral 05 denotes an illumination optical system for illuminating the reticle. 1
Reference numeral 06 denotes an alignment optical system for detecting a positional shift between the pattern on the wafer and the pattern on the reticle created in the previous process. The alignment optical system 106 and the wafer stage 102 expose the pattern on the reticle and the pattern on the wafer after being superimposed on each other. A control device 107 manages the operation of the exposure apparatus. The dimensions of the pattern on the wafer can be measured by the cooperation of the alignment optical system and the wafer stage and the laser interferometer for measuring the position of the wafer stage. The controller sets the position of the optical element at which the optimum optical characteristics are obtained from the dimensions. On the other hand, as a factor of fluctuation of the projection magnification, which is one of the optical characteristics of the projection optical system, there is a change in atmosphere such as atmospheric pressure. The control device 107 determines an optimal position of a lens for adjusting the projection magnification, which is one of the optical elements, from the information on the atmospheric pressure obtained by the atmospheric pressure sensor 108 and the value of the optimal exposure magnification. This is given to the control unit 111 of the optical element moving means. In FIG. 1, 10
9 is a surface plate (lower) supporting the projection optical system 104, and 112 is a surface plate (upper) supported by the surface plate (lower) 109 and supporting the illumination optical system 105 and the alignment optical system 106.

【0016】図2は、本発明の一実施例に係る平行ばね
式光学要素移動機構の平面図および断面図を示す。同図
の機構は、倍率、収差等の調整レンズ7およびそれを支
持するセル8を積載する可動台1および図1の投影光学
系104の固定部の一部をなす固定台2を有する。駆動
要素4は、ベローズなどによって構成され、その一端を
固定台2に固定されるとともに、他端は可動台1に連結
されるクランプ天板5に固定されている。可動台1と固
定台2は、2枚以上で一組の板ばね片3を有する板ばね
材を一対とそれを支持する板ばね押さえ6を有するばね
機構により連結されている。板ばね材は、可動台1およ
び固定台2の両端面にそれぞれ一個ずつ配置されてい
る。駆動要素4は、板ばね片3の隙間であって、可動台
1の中心から等距離、かつ光軸20に対称な位置に配置
されている。図2において、16は継手、21はロック
用ねじ、22はターゲット板、23はバランス板、24
は位置センサ、25はセンサホルダである。
FIG. 2 shows a plan view and a sectional view of a parallel spring type optical element moving mechanism according to an embodiment of the present invention. The mechanism shown in the figure has a movable base 1 on which an adjusting lens 7 for adjusting magnification, aberration and the like and a cell 8 supporting the same are mounted, and a fixed base 2 which forms a part of a fixed part of the projection optical system 104 in FIG. The driving element 4 is formed of a bellows or the like, and has one end fixed to the fixed base 2 and the other end fixed to the clamp top plate 5 connected to the movable base 1. The movable table 1 and the fixed table 2 are connected to each other by a spring mechanism having a pair of leaf spring members having two or more leaf spring pieces 3 and a leaf spring retainer 6 supporting the pair. One leaf spring material is disposed on each of both end surfaces of the movable base 1 and the fixed base 2. The driving element 4 is arranged in a gap between the leaf spring pieces 3, equidistant from the center of the movable base 1, and symmetrically with respect to the optical axis 20. In FIG. 2, 16 is a joint, 21 is a lock screw, 22 is a target plate, 23 is a balance plate, 24
Is a position sensor, and 25 is a sensor holder.

【0017】図3は、本発明の第1の実施例に係る駆動
要素の断面を示す。同図の駆動要素4は、ベローズ9
と、2個のフランジ10aおよび10bと、支柱11a
および11bと、支柱11aと11bの隙間に挟持され
た粘性体12とによって構成されている。また、一方の
フランジ10aは、図2に示すように、板ばね片3の隙
間からクランプ天板5に連結され、他方のフランジ10
bは、固定台2内に配置されており、ベローズ9内部に
与えられる空気圧力を可動台1に伝達する。
FIG. 3 shows a cross section of the driving element according to the first embodiment of the present invention. The drive element 4 in FIG.
And two flanges 10a and 10b and a support 11a.
And 11b, and a viscous body 12 sandwiched in a gap between the columns 11a and 11b. As shown in FIG. 2, one flange 10a is connected to the clamp top plate 5 through a gap between the leaf spring pieces 3 and the other flange 10a.
b is arranged in the fixed base 2 and transmits the air pressure applied inside the bellows 9 to the movable base 1.

【0018】本実施例のようなベローズ9内部にグリー
ス、オイルまたはゲルなどの粘性体12を配置した駆動
要素4の場合、機構の動作に減衰特性を加えることがで
き、かつ粘性体12から発生する塵などを圧縮空気部か
ら出さないという点で高クリーン度を実現することがで
きる。
In the case of the driving element 4 in which the viscous body 12 such as grease, oil or gel is disposed inside the bellows 9 as in the present embodiment, a damping characteristic can be added to the operation of the mechanism and the viscous body 12 generates the vibration. High cleanliness can be realized in that dust generated from the compressed air portion is not emitted.

【0019】ベローズ9の自由長さは、駆動時の動作安
定のために、セット長より長くとるが、ベローズ9の内
部に配置する粘性体12の厚さも、ベローズ9の有効ス
トローク長と同一寸法になるように調整することが望ま
しい。
The free length of the bellows 9 is longer than the set length in order to stabilize the operation at the time of driving. However, the thickness of the viscous body 12 disposed inside the bellows 9 is the same as the effective stroke length of the bellows 9. It is desirable to adjust so that

【0020】粘性体12の配置方法は、図3に示すよう
に、両側のフランジ10aと10bから設けた支柱11
aと11bの隙間に配置することができる他、図4
(a)に示すように、片側のフランジ10aから設けた
支柱11と他方のフランジ10bとの隙間に配置するこ
とができる。図4(a)は、上側のフランジ10aから
支柱11を設けた例である。この支柱11は、図のよう
にフランジ10aと一体で形成するか、あるいは別部品
として形成してもよい。
As shown in FIG. 3, the viscous body 12 is arranged by a column 11 provided from flanges 10a and 10b on both sides.
In addition to the arrangement shown in FIG.
As shown in (a), it can be arranged in the gap between the support 11 provided from one flange 10a and the other flange 10b. FIG. 4A shows an example in which a support 11 is provided from an upper flange 10a. The support 11 may be formed integrally with the flange 10a as shown in the figure, or may be formed as a separate part.

【0021】図4(b)は、粘性体12をシリンダの配
置に設けた場合である。すなわち、一方のフランジ10
aに設けられた支柱であるピストン13と、他方のフラ
ンジ10bから設けられたシリンダ14との間に粘性体
12を配置した例である。
FIG. 4B shows a case in which the viscous body 12 is provided in a cylinder arrangement. That is, one flange 10
This is an example in which a viscous body 12 is arranged between a piston 13 which is a support provided on a and a cylinder 14 provided from the other flange 10b.

【0022】図4(c)は、粘性体12を駆動要素4に
後から注入できるように、フランジl0bに穴が設けて
ある例である。この穴は、粘性体12注入後にOリング
15とふた17を用いて栓をする。この例は、ベローズ
9が溶接式の場合など、成形時に高温になる場合に有効
である。
FIG. 4C shows an example in which a hole is provided in the flange 10b so that the viscous body 12 can be injected into the driving element 4 later. This hole is plugged with the O-ring 15 and the lid 17 after the injection of the viscous material 12. This example is effective when the bellows 9 becomes a high temperature at the time of molding such as a welding type.

【0023】図5(a)は、シリンダ14をフランジl
0bに後から取り付けることのできる構成例である。シ
リンダ14は、粘性体12を入れた後、ねじとΟリング
15を利用してフランジ10bに固定される。この例
も、ベローズ9が溶接式の場合など、成形時に高温にな
る場合に有効である。この例の場合、ピストンはフラン
ジ10aにねじ止めしても一体で形成してもよい。
FIG. 5A shows that the cylinder 14 is
This is an example of a configuration that can be attached later to Ob. After the viscous body 12 is put in the cylinder 14, the cylinder 14 is fixed to the flange 10b using a screw and a Ο ring 15. This example is also effective when the temperature becomes high during molding, such as when the bellows 9 is a welding type. In this example, the piston may be screwed to the flange 10a or may be formed integrally.

【0024】図5(b)は、シリンダ14内に粘性体1
2を後から注入することができるように、穴があけられ
ている。この穴は、粘性体12を注入した後にOリング
15とふた17で栓をする。この例も、ベローズ9が溶
接式の場合など、成形時に高温になる場合に有効であ
る。この例の場合、ピストンはフランジ10aにねじ止
めしても一体で形成してもよい。
FIG. 5B shows the viscous material 1 in the cylinder 14.
Holes are drilled so that 2 can be injected later. This hole is plugged with an O-ring 15 and a lid 17 after the viscous material 12 is injected. This example is also effective when the temperature becomes high during molding, such as when the bellows 9 is a welding type. In this example, the piston may be screwed to the flange 10a or may be formed integrally.

【0025】図5(c)は、ピストン13内に穴をあ
け、後から粘性体12を注入できるようにした構成例で
ある。この穴は、粘性体12を注入した後にOリング1
5とふた17で栓をする。この例も、ベローズ9が溶接
式の場合など、成形時に高温になる場合に有効である。
この例の場合、ピストンはフランジ10aにねじ止めし
ても一体で形成してもよい。
FIG. 5C shows an example of a configuration in which a hole is formed in the piston 13 so that the viscous body 12 can be injected later. After the viscous material 12 is injected, the O-ring 1
Plug 5 and lid 17. This example is also effective when the temperature becomes high during molding, such as when the bellows 9 is a welding type.
In this example, the piston may be screwed to the flange 10a or may be formed integrally.

【0026】このように、粘性体12を用いたダンパの
場合、粘性体12の厚さを少なくした方が、あるいは粘
性体12との接触面積を大きくした方が制振効果が大き
い。しかしながら、本実施例のようにダンパを配置する
スペースが狭い場合、特にシリンダ型のダンパの場合、
図6(a)に示すようなピストンの先端形状よりも、図
6(b)に示すような複数の切り欠きを設けた方が粘性
体12との接触面積が増し、大きな制振効果を得ること
ができる。
As described above, in the case of a damper using the viscous body 12, the vibration damping effect is greater when the thickness of the viscous body 12 is reduced or when the contact area with the viscous body 12 is increased. However, when the space for disposing the damper is narrow as in the present embodiment, particularly in the case of a cylinder type damper,
Providing a plurality of notches as shown in FIG. 6 (b) increases the contact area with the viscous body 12 and obtains a large vibration damping effect, as compared with the piston tip shape as shown in FIG. 6 (a). be able to.

【0027】[実施例2]図7は、本発明の第2の実施
例に係る光学要素移動機構の平面図および断面図を示
す。本実施例は、粘性体12から発生する塵などが周囲
の環境に影響を及ぼさないために、金属のベローズ(不
図示)などで覆った制振機構を、クランプ天板5に取り
付けたターゲット板22または固定金具23と固定台2
に取り付けたセンサホルダ25または固定金具26の間
に配置する構成となっている。図7の例では、3個の制
振機構を取り付けた場合を示している。
Embodiment 2 FIG. 7 shows a plan view and a sectional view of an optical element moving mechanism according to a second embodiment of the present invention. In this embodiment, a target plate in which a damping mechanism covered with a metal bellows (not shown) or the like is attached to the clamp top plate 5 so that dust generated from the viscous body 12 does not affect the surrounding environment. 22 or fixture 23 and fixture 2
It is configured to be arranged between the sensor holder 25 or the fixture 26 attached to the sensor holder 25. FIG. 7 shows an example in which three vibration damping mechanisms are attached.

【0028】制振機構は、図8に示すように、平面間に
オイル、グリースまたはゲルなどの粘性体12を挟む
か、あるいはシリンダ状にしてシリンダ14とピストン
13との間に粘性体12を入れるのが望ましい。また、
シリンダ14およびピストン13は、ターゲット板22
または固定金具23と、あるいはセンサホルダ25また
は固定金具26と一体で形成しても別体で形成してもよ
い。27a。27bは中継ブロックである。
As shown in FIG. 8, the vibration damping mechanism sandwiches a viscous body 12 such as oil, grease or gel between planes, or forms a cylinder and places the viscous body 12 between a cylinder 14 and a piston 13. It is desirable to put. Also,
The cylinder 14 and the piston 13
Alternatively, it may be formed integrally with the fixing bracket 23, the sensor holder 25 or the fixing bracket 26, or may be formed separately. 27a. 27b is a relay block.

【0029】図7に示す光学要素移動機構ではクランプ
天板5に光軸周りに8カ所の面取りを設け、そのうち1
カ所に可動台1の位置を計測するセンサ24のターゲッ
ト板22を取り付け、2カ所に可動部1を固定する固定
金具23を配置する構成となっている。このため、制振
機構の取り付け位置は、これらセンサのターゲット板2
2とセンサホルダ25の間、および2カ所の固定金具2
3と固定台2との間のいずれかの位置に配置するか、も
しくはクランプ天板5の残る面取り箇所の5カ所のうち
の、いずれかに配置することが望ましい。ここでは、前
者の例として、固定金具23と制振機構を取り付ける中
継ブロック27aとを統合した構成をとっており、スペ
ース効率がよい。図9は、後者のうちの1例として、3
個の制振機構を取り付けた例を示す。
In the optical element moving mechanism shown in FIG. 7, the clamp top plate 5 is provided with eight chamfers around the optical axis.
A target plate 22 of a sensor 24 for measuring the position of the movable base 1 is mounted at two positions, and a fixing bracket 23 for fixing the movable unit 1 is disposed at two positions. For this reason, the mounting position of the vibration damping mechanism depends on the target plate 2 of these sensors.
2 and the sensor holder 25, and two fixing brackets 2
It is desirable to arrange it at any position between the base 3 and the fixing base 2 or at any one of the remaining five chamfered places of the clamp top plate 5. Here, as the former example, a configuration in which the fixing bracket 23 and the relay block 27a for attaching the vibration damping mechanism are integrated is adopted, and the space efficiency is high. FIG. 9 shows, as an example of the latter, 3
An example in which individual vibration suppression mechanisms are attached is shown.

【0030】[実施例3]図10は、本発明の第3の実
施例に係る駆動要素の断面を示す。同図の駆動要素4
は、ベローズ9と2個のフランジ10aおよび10bと
防振ゴム31によって構成されている。一方のフランジ
10aは、図2に示すように、板ばね片3の隙間からク
ランプ天板5に連結され、他方のフランジ10bは、固
定台2内に配置されており、ベローズ9内部に与えられ
る空気圧力を可動台1に伝達する。
[Embodiment 3] FIG. 10 shows a cross section of a driving element according to a third embodiment of the present invention. Driving element 4 in FIG.
Is constituted by a bellows 9, two flanges 10 a and 10 b, and an anti-vibration rubber 31. As shown in FIG. 2, one flange 10 a is connected to the clamp top plate 5 through a gap between the leaf spring pieces 3, and the other flange 10 b is disposed in the fixed base 2 and provided inside the bellows 9. The air pressure is transmitted to the movable base 1.

【0031】本実施例のようなベローズ9内部に防振ゴ
ム31を配置した駆動要素4の場合、機構の動作に減衰
特性を加えることができ、かつ防振ゴム31から発生す
る塵などを圧縮空気部から出さないという点で高クリー
ン度を実現することができる。
In the case of the driving element 4 in which the anti-vibration rubber 31 is disposed inside the bellows 9 as in this embodiment, it is possible to add a damping characteristic to the operation of the mechanism, and to compress dust and the like generated from the anti-vibration rubber 31. A high degree of cleanliness can be realized in that it is not discharged from the air portion.

【0032】ベローズ9の自由長さは、駆動時の動作安
定のために、セット長より長くとるが、ベローズ9の内
部に配置する防振ゴム31も、ベローズ9の有効長さと
同一寸法にすることが望ましい。
The free length of the bellows 9 is longer than the set length in order to stabilize the operation at the time of driving, but the vibration-isolating rubber 31 disposed inside the bellows 9 has the same size as the effective length of the bellows 9. It is desirable.

【0033】防振ゴム31の両端は、図11(a)に示
すようにフランジ10a、10bに設けた溝にはめ込む
か、図11(b)に示すようにフランジ10a、10b
に設けた段差にはめ込むか、あるいは図11(c)に示
すように接着剤32で接着することが、駆動以外の方向
のずれを軽減し、またベローズ9のフランジ10a、1
0bとの溶接時の熱変形を妨げる上で望ましい。また、
防振ゴム31の両端に接着剤32を塗布した上で溝には
め込むなど複数の方法を併用してもよい。
Both ends of the vibration-isolating rubber 31 are fitted into grooves provided in the flanges 10a and 10b as shown in FIG. 11A, or the flanges 10a and 10b as shown in FIG.
11c or by bonding with an adhesive 32 as shown in FIG. 11 (c) to reduce the displacement in directions other than the driving, and to reduce the flanges 10a, 1b of the bellows 9.
This is desirable in preventing thermal deformation during welding with Ob. Also,
A plurality of methods may be used in combination, such as applying the adhesive 32 to both ends of the vibration-proof rubber 31 and fitting it into the groove.

【0034】防振ゴム31は、図12に示すように、側
面に1個以上の穴が開けてあることが望ましい。この場
合には、ベローズ9の有効面積を大きく使え、駆動力を
増すことができる。
The anti-vibration rubber 31 preferably has one or more holes in the side surface as shown in FIG. In this case, the effective area of the bellows 9 can be largely used, and the driving force can be increased.

【0035】[実施例4]図13は、本発明の第4の実
施例に係る駆動要素の断面を示す。同図の駆動要素4
は、ベローズ9と2個のフランジ10a、10b、およ
びショックアブソーバ(緩衝器)51によって構成され
ている。一方のフランジ10aは、図2に示すように、
板ばね片3の隙間からクランプ天板5に連結され、他方
のフランジ10bは、固定台2内に配置されており、ベ
ローズ9内部に与えられる空気圧力を可動台1に伝達す
る。
Fourth Embodiment FIG. 13 shows a cross section of a driving element according to a fourth embodiment of the present invention. Driving element 4 in FIG.
Is constituted by a bellows 9, two flanges 10a and 10b, and a shock absorber (buffer) 51. One flange 10a is, as shown in FIG.
The other flange 10 b is connected to the fixed top 2 through the gap between the leaf spring pieces 3, and transmits the air pressure applied to the inside of the bellows 9 to the movable base 1.

【0036】本実施例のようなベローズ9内部にショッ
クアブソーバ51を配置した駆動要素4の場合、機構の
動作に減衰特性を加えることができ、かつ摺動部から発
生する塵などを圧縮空気部から出さないという点で高ク
リーン度を実現することができる。
In the case of the drive element 4 in which the shock absorber 51 is disposed inside the bellows 9 as in the present embodiment, it is possible to add an attenuation characteristic to the operation of the mechanism and to remove dust and the like generated from the sliding portion into the compressed air portion. It is possible to realize a high degree of cleanliness in that it does not get out of the way.

【0037】両フランジ10a、10bとショックアブ
ソーバ51との締結部には圧縮空気が漏れないように、
例えば図13のようにOリング53でシールし、他端は
フランジ部を貫通しないようなねじ孔で締結することに
より漏れを防ぐのもよい。
In order to prevent the compressed air from leaking to the joint between the flanges 10a, 10b and the shock absorber 51,
For example, as shown in FIG. 13, it is also possible to prevent leakage by sealing with an O-ring 53 and fastening the other end with a screw hole that does not penetrate the flange portion.

【0038】ショックアブソーバ51は、図13に示す
ような単孔オリフィス52とオイルを用いた構造以外の
構造のものを用いてもよい。
The shock absorber 51 may have a structure other than the structure using a single hole orifice 52 and oil as shown in FIG.

【0039】[実施例5]図14は、本発明の第5の実
施例に係る光学要素移動機構の平面図および断面図を示
す。本実施例は、摺動部から発生する塵などが周囲の環
境に影響を及ぼさないために、図15に示すように金属
のベローズ54などで覆ったショックアブソーバ51な
ど緩衝器を、クランプ天板5に取り付けた中継ブロック
27aと固定台2に取り付けた中継ブロック27bの間
に配置する構成となっている。図14の例では、3個の
緩衝装置を取り付けた場合を示している。この配置によ
って、ショックアブソーバ51を交換することも容易に
できる。ショックアブソーバ51は、図13に示すよう
な単孔オリフィス52とオイルを用いた構造以外の構造
のものを用いてもよい。
[Embodiment 5] FIG. 14 is a plan view and a sectional view of an optical element moving mechanism according to a fifth embodiment of the present invention. In this embodiment, a shock absorber such as a shock absorber 51 covered with a metal bellows 54 or the like as shown in FIG. 15 is mounted on a clamp top plate in order to prevent dust and the like generated from the sliding portion from affecting the surrounding environment. 5 and the relay block 27b mounted on the fixed base 2. FIG. 14 shows an example in which three shock absorbers are attached. With this arrangement, the shock absorber 51 can be easily replaced. The shock absorber 51 may have a structure other than the structure using the single-hole orifice 52 and oil as shown in FIG.

【0040】図14に示す光学要素移動機構ではクラン
プ天板5に光軸周りに8カ所の面取りを設け、そのうち
1カ所に可動台1の位置を計測するセンサターゲットを
取り付け、2カ所に可動部1を固定する固定金具23を
配置する構成となっている。このため、ショックアブソ
ーバ51の取り付け位置は、これらセンサターゲット2
2とセンサホルダ25の間、および2カ所の固定金具2
3と固定台2との間のいずれかの位置に配置するか、も
しくはクランプ天板5の残る面取り箇所の5カ所のうち
の、いずれかに配置することが望ましい。ここでは、前
者の例として、固定金具23とショックアブソーバ51
を取り付ける中継ブロック27aとを統合した構成をと
っており、スペース効率がよい。
In the optical element moving mechanism shown in FIG. 14, the clamp top plate 5 is provided with eight chamfers around the optical axis, and one of them is provided with a sensor target for measuring the position of the movable base 1, and two movable parts are provided. In this configuration, a fixing member 23 for fixing the fixing member 1 is arranged. Therefore, the mounting position of the shock absorber 51 depends on the sensor target 2.
2 and the sensor holder 25, and two fixing brackets 2
It is desirable to arrange it at any position between the base 3 and the fixing base 2 or at any one of the remaining five chamfered places of the clamp top plate 5. Here, as an example of the former, the fixing bracket 23 and the shock absorber 51
Is integrated with the relay block 27a for mounting the, so that space efficiency is good.

【0041】図16は、後者のうちの1例として、3個
のショックアブソーバ51を取り付けた例を示す。
FIG. 16 shows an example in which three shock absorbers 51 are attached as one of the latter.

【0042】[実施例6]図17は、本発明の第6の実
施例に係る光学要素移動機構の平面図および断面図を示
す。本実施例は、摺動部から発生する塵などが周囲の環
境に影響を及ぼさないために、図18に示すように金属
のベローズ61などで覆った防振ゴム21を、クランプ
天板5に取り付けた中継ブロック27aと固定台2に取
り付けた中継ブロック27bの間に配置する構成となっ
ている。図17の例では、3個の防振ゴム21を取り付
けた場合を示している。この配置によって、防振ゴム2
1を交換することも容易にできる。
[Embodiment 6] FIG. 17 shows a plan view and a sectional view of an optical element moving mechanism according to a sixth embodiment of the present invention. In this embodiment, the anti-vibration rubber 21 covered with a metal bellows 61 or the like as shown in FIG. 18 is attached to the clamp top plate 5 so that dust generated from the sliding portion does not affect the surrounding environment. It is configured to be disposed between the attached relay block 27a and the relay block 27b attached to the fixed base 2. The example of FIG. 17 shows a case where three vibration isolation rubbers 21 are attached. With this arrangement, the vibration isolating rubber 2
1 can be easily replaced.

【0043】図17に示す光学要素移動機構ではクラン
プ天板5に光軸周りに8カ所の面取りを設け、そのうち
1カ所に可動台1の位置を計測するセンサターゲットを
取り付け、2カ所に可動部1を固定する固定金具23を
配置する構成となっている。このため、防振ゴム21の
取り付け位置は、これらセンサターゲット22とセンサ
ホルダ25の間、および2カ所の固定金具23と固定台
2との間のいずれかの位置に配置するか(この場合、2
個の中継ブロック27a、27bはそれぞれセンサター
ゲットとセンサホルダ、固定金具23で代用することが
できる)、もしくはクランプ天板5の残る面取り箇所の
5カ所のうちのいずれかに配置することが望ましい。図
17は、前者の例として、固定金具23とショックアブ
ソーバ51を取り付ける中継ブロック27aとを統合し
た構成をとっており、スペース効率がよい。
In the optical element moving mechanism shown in FIG. 17, the clamp top plate 5 is provided with eight chamfers around the optical axis, one of which is provided with a sensor target for measuring the position of the movable base 1, and the other two movable parts. In this configuration, a fixing member 23 for fixing the fixing member 1 is arranged. For this reason, the mounting position of the vibration-proof rubber 21 may be any of the positions between the sensor target 22 and the sensor holder 25 and between the two fixing brackets 23 and the fixing base 2 (in this case, 2
Each of the relay blocks 27a and 27b can be replaced with a sensor target, a sensor holder, and the fixing bracket 23), or it is desirable to arrange the clamp top plate 5 at any of the remaining five chamfered portions. FIG. 17 shows an example in which the fixing bracket 23 and the relay block 27a for attaching the shock absorber 51 are integrated as an example of the former, and the space efficiency is high.

【0044】図19は、後者のうちの1例として、3個
の防振ゴム21を取り付けた例を示す。
FIG. 19 shows an example in which three anti-vibration rubbers 21 are attached as one of the latter.

【0045】[0045]

【デバイス生産方法の実施例】次に上記説明した露光装
置または露光方法を利用したデバイスの生産方法の実施
例を説明する。図20は微小デバイス(ICやLSI等
の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッ
ド、マイクロマシン等)の製造のフローを示す。ステッ
プ1(回路設計)ではデバイスのパターン設計を行な
う。ステップ2(マスク製作)では設計したパターンを
形成したマスクを製作する。一方、ステップ3(ウエハ
製造)ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを
製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼
ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラ
フィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次
のステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ
4によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化す
る工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンデ
ィング)、パッケージング工程(チップ封入)等の工程
を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製され
た半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の
検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完
成し、これが出荷(ステップ7)される。
[Embodiment of Device Production Method] Next, an embodiment of a device production method using the above-described exposure apparatus or exposure method will be described. FIG. 20 shows a flow of manufacturing a microdevice (a semiconductor chip such as an IC or LSI, a liquid crystal panel, a CCD, a thin-film magnetic head, a micromachine, etc.). In step 1 (circuit design), a device pattern is designed. Step 2 is a process for making a mask on the basis of the designed pattern. On the other hand, in step 3 (wafer manufacture), a wafer is manufactured using a material such as silicon or glass. Step 4 (wafer process) is called a pre-process, and an actual circuit is formed on the wafer by lithography using the prepared mask and wafer. The next step 5 (assembly) is called a post-process, and is a process of forming a semiconductor chip using the wafer produced in step 4, and includes processes such as an assembly process (dicing and bonding) and a packaging process (chip encapsulation). including. In step 6 (inspection), inspections such as an operation confirmation test and a durability test of the semiconductor device manufactured in step 5 are performed. Through these steps, a semiconductor device is completed and shipped (step 7).

【0046】図21は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ13(電極形成)ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオ
ン打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ1
5(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ16(露光)では上述の光学要素移動装置を有す
る露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに焼
付露光する。ステップ17(現像)では露光したウエハ
を現像する。ステップ18(エッチング)では現像した
レジスト像以外の部分を削り取る。ステップ19(レジ
スト剥離)ではエッチングが済んで不要となったレジス
トを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうこと
によって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成され
る。
FIG. 21 shows a detailed flow of the wafer process. Step 11 (oxidation) oxidizes the wafer's surface. Step 12 (CVD) forms an insulating film on the wafer surface. Step 13 (electrode formation) forms electrodes on the wafer by vapor deposition. In step 14 (ion implantation), ions are implanted into the wafer. Step 1
In 5 (resist processing), a photosensitive agent is applied to the wafer. Step 16 (exposure) uses the exposure apparatus having the above-described optical element moving device to print and expose the circuit pattern of the mask onto the wafer. Step 17 (development) develops the exposed wafer. In step 18 (etching), portions other than the developed resist image are removed. In step 19 (resist stripping), unnecessary resist after etching is removed. By repeating these steps, multiple circuit patterns are formed on the wafer.

【0047】本実施例の生産方法を用いれば、従来は製
造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造す
ることができる。
By using the production method of this embodiment, it is possible to produce a highly integrated device, which was conventionally difficult to produce, at low cost.

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明によれば、投影光学系の倍率、収
差、歪み等の光学特性を調整するための光学要素を高精
度で光軸上を駆動する光学要素移動装置を、省スペー
ス、高クリーン度で実現することができる。
According to the present invention, an optical element moving device for driving an optical element for adjusting optical characteristics such as magnification, aberration and distortion of a projection optical system with high accuracy on an optical axis can be realized in a space-saving manner. It can be realized with high cleanliness.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明が適用される露光装置の構成を示す図
である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an exposure apparatus to which the present invention is applied.

【図2】 本発明が適用される平行板ばね機構を用いた
光学要素移動装置の平面図および断面図である。
FIG. 2 is a plan view and a sectional view of an optical element moving device using a parallel leaf spring mechanism to which the present invention is applied.

【図3】 駆動要素のベローズ内に粘性体を配置した本
発明の第1の実施例に係るダンパ手段の構成を示す図で
ある。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a damper means according to a first embodiment of the present invention in which a viscous body is disposed in a bellows of a driving element.

【図4】 第1の実施例の変形例を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a modification of the first embodiment.

【図5】 第1の実施例のさらなる変形例を示す図であ
る。
FIG. 5 is a diagram showing a further modification of the first embodiment.

【図6】 第1の実施例におけるピストンの変形例を示
す図である。
FIG. 6 is a view showing a modification of the piston in the first embodiment.

【図7】 粘性体を有するダンパ手段を機構外部に配置
した本発明の第2の実施例に係る光学要素移動装置の平
面図および断面図である。
FIG. 7 is a plan view and a sectional view of an optical element moving device according to a second embodiment of the present invention in which damper means having a viscous body is disposed outside the mechanism.

【図8】 図7におけるダンパ手段の詳細構成を示す図
である。
FIG. 8 is a diagram showing a detailed configuration of a damper unit in FIG. 7;

【図9】 第2の実施例の変形例を示す光学要素移動装
置の平面図および断面図である。
FIG. 9 is a plan view and a sectional view of an optical element moving device showing a modification of the second embodiment.

【図10】 駆動要素のベローズ内に防振ゴムを配置し
た本発明の第3の実施例に係るダンパ手段の構成を示す
図である。
FIG. 10 is a view showing a configuration of a damper means according to a third embodiment of the present invention in which a vibration isolating rubber is disposed in a bellows of a driving element.

【図11】 第3の実施例の変形例を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a modification of the third embodiment.

【図12】 第3の実施例における防振ゴムの詳細を示
す図である。
FIG. 12 is a diagram showing details of an anti-vibration rubber according to a third embodiment.

【図13】 駆動要素のベローズ内にショックアブソー
バを配置した本発明の第4の実施例に係るダンパ手段の
構成を示す図である。
FIG. 13 is a view showing a configuration of a damper means according to a fourth embodiment of the present invention in which a shock absorber is disposed in a bellows of a driving element.

【図14】 ショックアブソーバを有するダンパ手段を
機構外部に配置した本発明の第5の実施例に係る光学要
素移動装置の平面図および断面図である。
FIG. 14 is a plan view and a sectional view of an optical element moving device according to a fifth embodiment of the present invention in which damper means having a shock absorber is arranged outside the mechanism.

【図15】 第5の実施例におけるダンパ手段の詳細を
示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing details of damper means in the fifth embodiment.

【図16】 第5の実施例の変形例を示す光学要素移動
装置の平面図および断面図である。
FIG. 16 is a plan view and a cross-sectional view of an optical element moving device showing a modification of the fifth embodiment.

【図17】 防振ゴムを有するダンパ手段を機構外部に
配置した本発明の第6の実施例に係る光学要素移動装置
の平面図および断面図である。
FIGS. 17A and 17B are a plan view and a sectional view of an optical element moving device according to a sixth embodiment of the present invention in which damper means having an anti-vibration rubber is arranged outside the mechanism.

【図18】 図17におけるダンパ手段の詳細構成を示
す図である。
18 is a diagram showing a detailed configuration of a damper unit in FIG.

【図19】 第6の実施例の変形例を示す光学要素移動
装置の平面図および断面図である。
FIG. 19 is a plan view and a sectional view of an optical element moving device showing a modification of the sixth embodiment.

【図20】 微小デバイスの製造の流れを示す図であ
る。
FIG. 20 is a diagram showing a flow of manufacturing a micro device.

【図21】 図20におけるウエハプロセスの詳細な流
れを示す図である。
FIG. 21 is a diagram showing a detailed flow of the wafer process in FIG. 20;

【図22】 従来の駆動要素の構成を示す図である。FIG. 22 is a diagram showing a configuration of a conventional driving element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:可動台、2:固定台、3:板ばね、4:駆動要素、
5:クランプ天板、6:板ばね押さえ、7:レンズ、
8:セル、9:ベローズ、10a,10b:フランジ、
11:支柱、12:粘性体、13:ピストン、14:シ
リンダ、15,53:Oリング、16:継手、17:ふ
た、22:ターゲット板、23:バランス板、25:セ
ンサホルダ、26:固定金具、27a,27b:中継ブ
ロック、31:防振ゴム、32:接着剤、51:ショッ
クアブソーバ、54,61:ベローズ。
1: movable table, 2: fixed table, 3: leaf spring, 4: drive element,
5: clamp top plate, 6: leaf spring holding, 7: lens,
8: cell, 9: bellows, 10a, 10b: flange,
11: Support, 12: Viscous body, 13: Piston, 14: Cylinder, 15, 53: O-ring, 16: Joint, 17: Lid, 22: Target plate, 23: Balance plate, 25: Sensor holder, 26: Fixed Metal fittings, 27a, 27b: relay block, 31: anti-vibration rubber, 32: adhesive, 51: shock absorber, 54, 61: bellows.

Claims (22)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 固定部と、光学要素を固定された可動部
と、前記固定部に対して前記可動部を光軸方向へ移動さ
せる駆動手段および案内手段と、前記固定部と可動部と
の間に配置されたダンパ手段とを有する光学要素移動装
置。
A fixed section, a movable section to which an optical element is fixed, a driving section and a guide section for moving the movable section in an optical axis direction with respect to the fixed section, and the fixed section and the movable section. An optical element moving device having damper means disposed therebetween.
【請求項2】 前記ダンパ手段が、光軸対称に配置され
ていることを特徴とする請求項1記載の光学要素移動装
置。
2. The optical element moving device according to claim 1, wherein said damper means is arranged symmetrically with respect to an optical axis.
【請求項3】 前記ダンパ手段が、防塵用ベローズ内に
配置されていることを特徴とする請求項1または2記載
の光学要素移動装置。
3. The optical element moving device according to claim 1, wherein said damper means is disposed in a dustproof bellows.
【請求項4】 前記ダンパ手段が、前記駆動手段内部に
設けられていることを特徴とする請求項1または2記載
の光学要素移動装置。
4. The optical element moving device according to claim 1, wherein said damper means is provided inside said driving means.
【請求項5】 前記ダンパ手段が、粘性体を具備するこ
とを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の光
学要素移動装置。
5. The optical element moving device according to claim 1, wherein said damper means includes a viscous body.
【請求項6】 前記ダンパ手段が、粘性体を具備するこ
とを特徴とする請求項4記載の光学要素移動装置。
6. The optical element moving device according to claim 4, wherein said damper means includes a viscous body.
【請求項7】 前記粘性体が、平面の間に挟まれている
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の
光学要素移動装置。
7. The optical element moving device according to claim 1, wherein the viscous body is sandwiched between flat surfaces.
【請求項8】 前記ダンパ手段が、シリンダおよびピス
トンとこれらのシリンダとピストンの間に配置された粘
性体からなることを特徴とする請求項7記載の光学要素
移動装置。
8. An optical element moving device according to claim 7, wherein said damper means comprises a cylinder and a piston and a viscous body disposed between said cylinder and said piston.
【請求項9】 前記粘性体が、オイル、グリースまたは
ゲルであることを特徴とする請求項5〜8のいずれか1
つに記載の光学要素移動装置。
9. The method according to claim 5, wherein the viscous body is oil, grease, or gel.
4. The optical element moving device according to claim 1.
【請求項10】 前記駆動手段が、前記固定部および可
動部にそれぞれ固定される一対のフランジ部とこれらの
フランジ部間に配置されたアクチュエータからなり、該
フランジ部の少なくとも一方に前記ダンパ手段を取り付
けるための開口と、該ダンパ手段を取り付けた後該開口
との隙間をシールするための溝およびOリングを持つこ
とを特徴とする請求項6記載の光学要素移動装置。
10. The driving means comprises a pair of flange portions fixed to the fixed portion and the movable portion, respectively, and an actuator disposed between the flange portions, and the damper means is provided on at least one of the flange portions. 7. The optical element moving device according to claim 6, further comprising an opening for mounting, a groove and an O-ring for sealing a gap with the opening after the damper means is mounted.
【請求項11】 前記ダンパ手段が、筒形または中空の
防振ゴムを具備することを特徴とする請求項1〜3のい
ずれか1つに記載の光学要素移動装置。
11. The optical element moving device according to claim 1, wherein said damper means comprises a cylindrical or hollow rubber vibration insulator.
【請求項12】 前記防振ゴムが、前記固定部および可
動部の防振ゴム取り付け部に溝または段を設けてはめ込
むか、または接着により、前記固定部および可動部に固
定されていることを特徴とする請求項11記載の光学要
素移動装置。
12. A method according to claim 1, wherein said vibration-proof rubber is fixed to said fixed part and movable part by providing a groove or a step in a vibration-proof rubber mounting part of said fixed part and movable part, or fitted by bonding. The optical element moving device according to claim 11, wherein:
【請求項13】 前記ダンパ手段が、筒形または中空の
防振ゴムを具備することを特徴とする請求項4記載の光
学要素移動装置。
13. The optical element moving device according to claim 4, wherein said damper means comprises a cylindrical or hollow vibration-proof rubber.
【請求項14】 前記駆動手段が、前記固定部および可
動部にそれぞれ固定される一対のフランジ部とこれらの
フランジ部間に配置されたアクチュエータからなり、前
記防振ゴムが、前記フランジ部に設けられた溝または段
にはめ込まれるか、または前記フランジ部に接着される
ことにより、前記フランジ部に固定されていることを特
徴とする請求項13記載の光学要素移動装置。
14. The driving means comprises a pair of flange portions fixed to the fixed portion and the movable portion, respectively, and an actuator disposed between the flange portions, and the vibration-proof rubber is provided on the flange portions. 14. The optical element moving device according to claim 13, wherein the optical element moving device is fixed to the flange portion by being fitted into a groove or a step provided or being adhered to the flange portion.
【請求項15】 前記駆動手段が、内部の流体の作用に
より、前記可動部を駆動する駆動用ベローズを有し、前
記防振ゴムの前記光軸方向の長さが、該駆動用ベローズ
と同一であることを特徴とする請求項13または14記
載の光学要素移動装置。
15. The driving means has a driving bellows for driving the movable portion by an action of an internal fluid, and a length of the vibration isolating rubber in the optical axis direction is the same as that of the driving bellows. The optical element moving device according to claim 13, wherein:
【請求項16】 前記防振ゴムが、1個以上の穴を有す
ることを特徴とする請求項11〜15のいずれか1つに
記載の光学要素移動装置。
16. The optical element moving device according to claim 11, wherein the vibration isolating rubber has one or more holes.
【請求項17】 前記ダンパ手段が、ショックアブソー
バを具備することを特徴とする請求項1〜3のいずれか
1つに記載の光学要素移動装置。
17. The optical element moving device according to claim 1, wherein said damper means comprises a shock absorber.
【請求項18】 前記ダンパ手段が、ショックアブソー
バを具備することを特徴とする請求項4記載の光学要素
移動装置。
18. The optical element moving device according to claim 4, wherein said damper means comprises a shock absorber.
【請求項19】 前記駆動手段が、前記固定部および可
動部にそれぞれ固定される一対のフランジ部とこれらの
フランジ部間に配置されたアクチュエータからなり、該
フランジ部の少なくとも一方に前記ショックアブソーバ
を取り付けるための開口と、該ショックアブソーバを取
り付けた後該開口との隙間をシールするための溝および
Oリングを持つことを特徴とする請求項18記載の光学
要素移動装置。
19. The drive means comprises a pair of flange portions fixed to the fixed portion and the movable portion, respectively, and an actuator disposed between the flange portions, and the shock absorber is attached to at least one of the flange portions. 19. The optical element moving device according to claim 18, further comprising an opening for attachment, a groove and an O-ring for sealing a gap between the shock absorber and the opening after attaching the shock absorber.
【請求項20】 内部にダンパ手段を備えたことを特徴
とするベローズ。
20. A bellows having damper means therein.
【請求項21】 請求項1ないし19のいずれかに記載
の光学要素移動装置を具備する光学装置を投影光学系と
して備え、レチクルのパターンをウエハに投影露光する
手段を有することを特徴とする露光装置。
21. An exposure apparatus, comprising: an optical device having the optical element moving device according to claim 1 as a projection optical system, and a unit for projecting and exposing a reticle pattern onto a wafer. apparatus.
【請求項22】 請求項21に記載の露光装置を用いて
製造したことを特徴とする半導体デバイス。
22. A semiconductor device manufactured by using the exposure apparatus according to claim 21.
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