JP3445105B2 - Optical element moving device - Google Patents

Optical element moving device

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JP3445105B2
JP3445105B2 JP21387597A JP21387597A JP3445105B2 JP 3445105 B2 JP3445105 B2 JP 3445105B2 JP 21387597 A JP21387597 A JP 21387597A JP 21387597 A JP21387597 A JP 21387597A JP 3445105 B2 JP3445105 B2 JP 3445105B2
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optical element
moving device
element moving
flange
damper means
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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置などの投
影光学系の倍率、収差、歪み等の光学特性を調整するた
めの光学要素移動装置に関し、さらに詳細には、半導体
焼付け装置(マスクアライナ)などで使用される投影光
学系において、原版(例えばマスクおよびレチクル)の
像を対象物(例えばウエハ)に投影露光する際、より正
確な結像関係を得るための付加光学系に用いられる光学
要素移動装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical element moving device for adjusting optical characteristics such as magnification, aberration and distortion of a projection optical system such as an exposure device, and more particularly to a semiconductor printing device (mask aligner). ), Etc., is used in an additional optical system for obtaining a more accurate imaging relationship when projecting and exposing an image of an original plate (eg, mask and reticle) onto an object (eg, wafer). Element moving device.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体露光装置は、数多くの異なる種類
のパターンを有する原版(レチクル)をシリコンウエハ
(基板)に転写する装置である。高集積度の回路を作成
するためには、解像性能だけでなく重ね合せ精度の向上
が不可欠である。
2. Description of the Related Art A semiconductor exposure apparatus is an apparatus for transferring an original plate (reticle) having many different types of patterns onto a silicon wafer (substrate). In order to create highly integrated circuits, not only resolution performance but also overlay accuracy is essential.

【0003】半導体露光装置における重ね合せ誤差はア
ライメント誤差、像歪み、および倍率誤差に分類され
る。アライメント誤差は、原版(レチクル)と基板(ウ
エハ)との相対位置調整によって軽減される。一方、倍
率誤差は、投影光学系の一部を光軸方向に移動させるこ
とによって調整可能である。光軸方向に移動させる際に
は、移動方向以外の他成分、とりわけ平行偏心、および
傾き誤差が大きくならないようにしなければならない。
The overlay error in the semiconductor exposure apparatus is classified into alignment error, image distortion, and magnification error. The alignment error is reduced by adjusting the relative position between the original plate (reticle) and the substrate (wafer). On the other hand, the magnification error can be adjusted by moving a part of the projection optical system in the optical axis direction. When moving in the optical axis direction, it is necessary to prevent other components other than the moving direction, especially parallel eccentricity and tilt error from increasing.

【0004】従来、半導体露光装置用の投影倍率調整装
置としては、特開平9−106944号公報に開示され
ているような平行板ばねを用いた機構による光学要素移
動装置が考案されている。図1はこの種の光学要素移動
装置が搭載される露光装置の全体図、図2は、上記公報
に開示された機構を示す一部破断平面図および断面図で
ある。図2に示すように、この光学要素移動装置は、倍
率、収差等の調整レンズ7、およびそれを支持するセル
8を積載する可動台1および図1の投影光学系104の
固定部分の一部をなす固定台2を有する。駆動要素4
は、ベローズなどによって構成され、その一端を固定台
2に固定されるとともに、他端は可動台1に連結される
クランプ天板5に固定されている。可動台1と固定台2
は、2枚以上で一組の板ばね片3を有する板ばね材を一
対とそれを支持する板ばね押さえ6を有するばね機構に
より連結されている。板ばね材は、可動台1および固定
台2の両端面にそれぞれ一個ずつ配置されている。駆動
要素4は、板ばね片3の隙間であって、可動台1の中心
から等距離、かつ光軸20に対称な位置に配置されてい
る。
Conventionally, as a projection magnification adjusting apparatus for a semiconductor exposure apparatus, an optical element moving apparatus having a mechanism using parallel leaf springs has been devised as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 9-106944. FIG. 1 is an overall view of an exposure apparatus equipped with this type of optical element moving device, and FIG. 2 is a partially cutaway plan view and a sectional view showing the mechanism disclosed in the above publication. As shown in FIG. 2, this optical element moving device includes a movable table 1 on which a lens 7 for adjusting magnification, aberration, etc., and a cell 8 supporting the lens are mounted, and a part of a fixed portion of the projection optical system 104 of FIG. It has a fixed base 2. Drive element 4
Is constituted by a bellows or the like, and one end thereof is fixed to the fixed base 2 and the other end thereof is fixed to the clamp top plate 5 connected to the movable base 1. Movable table 1 and fixed table 2
Is connected by a spring mechanism having a pair of leaf spring members having two or more leaf spring pieces 3 and a leaf spring retainer 6 supporting the pair. One leaf spring material is arranged on each of both end faces of the movable base 1 and the fixed base 2. The drive element 4 is disposed in the gap between the leaf spring pieces 3 at an equal distance from the center of the movable table 1 and at a position symmetrical to the optical axis 20.

【0005】図22に上記公報に記載された駆動要素4
の概要を示す。同図の駆動要素4は、ベローズ9と、2
個のフランジ10aおよび10bによって構成されてい
る。また、一方のフランジ10aは、図2に示すよう
に、板ばね片3の隙間からクランプ天板5に連結され、
他方のフランジ10bは、固定台2内に配置されてお
り、ベローズ9内部に与えられる空気圧力を可動台1に
伝達する。
FIG. 22 shows the drive element 4 described in the above publication.
The outline of is shown. The drive element 4 of the same figure includes bellows 9 and 2
It is constituted by individual flanges 10a and 10b. Further, the one flange 10a is connected to the clamp top plate 5 through the gap of the leaf spring piece 3 as shown in FIG.
The other flange 10b is arranged in the fixed base 2 and transmits the air pressure applied inside the bellows 9 to the movable base 1.

【0006】このような従来例は、レンズの位置を高精
度で制御できる上に、より軽量に、またより小さな空間
で実現することができる。
[0006] In such a conventional example, the position of the lens can be controlled with high accuracy, and it can be realized in a lighter weight and in a smaller space.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
平行板ばねを用いた機構による光学要素移動装置では、
光学要素を高精度で光軸上を駆動することができない場
合があるという問題がある。例えば重量の大きい、かつ
大口径のレンズを可動部とし、板ばねを案内に用いた機
構の場合、固有振動数が比較的低いため、外乱などによ
りレンズを含む可動部が大きく振動するという問題があ
る。その結果、露光装置の転写性能が低下する傾向とな
るため、光学要素移動装置に減衰特性を持たせることが
望ましいことが判明した。
However, in the optical element moving device based on the mechanism using the parallel leaf springs described above,
There is a problem that it may not be possible to drive the optical element on the optical axis with high accuracy. For example, in the case of a mechanism in which a lens having a large weight and a large diameter is used as a movable part and a leaf spring is used as a guide, since the natural frequency is relatively low, there is a problem that the movable part including the lens vibrates greatly due to disturbance or the like. is there. As a result, the transfer performance of the exposure apparatus tends to deteriorate, and it has been found that it is desirable to provide the optical element moving device with damping characteristics.

【0008】本発明の目的は、このような従来技術の問
題点に鑑み、投影光学系の倍率、収差、歪み等の光学特
性を調整するための光学要素を高精度で光軸上を駆動す
る光学要素移動装置を、省スペース、高クリーン度で実
現することにある。
In view of the problems of the prior art, an object of the present invention is to drive an optical element for adjusting optical characteristics such as magnification, aberration, distortion of a projection optical system on the optical axis with high accuracy. It is to realize an optical element moving device with space saving and high cleanliness.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明では、固定部と、光学要素を固定した可動部
と、前記固定部に対して前記可動部を光軸方向へ移動さ
せる駆動手段および案内手段を有し、前記駆動手段
は、前記固定部および可動部の夫々に固定されたフラン
ジ部よりなる一対のフランジ部と、該一対のフランジ部
間に設けられ、内部の流体の作用により前記可動部を駆
動する駆動用ベローズと、該駆動用ベローズの内部に配
置されたダンパ手段とにより構成されることを特徴とす
る。
In order to achieve the above object, in the present invention, a fixed portion and a movable portion fixed with an optical element are provided.
If, have a driving means and guiding means is moved in the optical axis direction the movable portion relative to said fixed portion, said drive means
Is a flange fixed to each of the fixed part and the movable part.
And a pair of flange portions formed by a flange portion, and the movable portion is driven by the action of an internal fluid.
A moving drive bellows and a drive bellows inside the drive bellows.
It is characterized in that it is configured by a damper means placed .

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】本発明の好ましい実施の形態にお
いて、ダンパ手段としては、粘性体を具備するもの、防
振ゴムを具備するもの、およびショックアブソーバなど
を用いることができる。このようなダンパ手段は、光軸
対称に配置することが好ましい。また、前記駆動手段内
部に設けることも可能であるが、特にダンパ手段を前記
駆動手段とは別個に設ける場合、該ダンパ手段からの発
塵を防止するためベローズ内に配置することが好まし
い。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION In a preferred embodiment of the present invention, the damper means may be a viscous body, a vibrating rubber, a shock absorber, or the like. Such damper means is preferably arranged symmetrically with respect to the optical axis. Further, although it can be provided inside the drive means, it is preferable to arrange the damper means inside the bellows in order to prevent dust generation from the damper means, particularly when the damper means is provided separately from the drive means.

【0011】前記ダンパ手段が粘性体を具備するもので
ある場合、この粘性体としては、オイル、またはグリー
ス、またはゲル等を用いることができる。また、粘性手
段は、平面の間に挟んでもよく、シリンダとピストンと
の間に配置してもよい。また、ダンパ手段を駆動手段内
部に設ける場合、駆動手段のフランジ部にダンパ手段を
取り付けるための開口を設け、ダンパ手段をこの開口に
取り付けた後、フランジ部に設けた溝にはめ込んだOリ
ングにより、ダンパ手段と開口との隙間をシールする。
When the damper means has a viscous body, oil, grease, gel or the like can be used as the viscous body. Further, the viscous means may be sandwiched between planes, or may be arranged between the cylinder and the piston. When the damper means is provided inside the drive means, an opening for attaching the damper means is provided in the flange portion of the drive means, and after the damper means is attached to this opening, an O-ring fitted in a groove provided in the flange portion is used. , The gap between the damper means and the opening is sealed.

【0012】前記ダンパ手段が、防振ゴムを具備するも
のである場合、この防振ゴムとしては、円筒形状または
中空の立方体形状のものを用いることができる。この防
振ゴムには1個以上の穴を設けることが好ましい。この
防振ゴムは駆動手段のフランジ部または固定部および可
動部に溝または段を設けてはめ込むか、接着するか、ま
たはこれらを組み合わせて、前記フランジ部または固定
部および可動部に固定することが好ましい。さらに、防
振ゴムは駆動手段の一部であるベローズと同一寸法とす
ることが好ましい。
When the damper means is provided with a vibration-proof rubber, the vibration-proof rubber may have a cylindrical shape or a hollow cubic shape. It is preferable to provide one or more holes in the vibration-proof rubber. The anti-vibration rubber may be fitted or adhered by providing a groove or a step in the flange portion or the fixed portion and the movable portion of the drive means, or may be combined with them to be fixed to the flange portion or the fixed portion and the movable portion. preferable. Further, it is preferable that the anti-vibration rubber has the same size as the bellows which is a part of the driving means.

【0013】前記ダンパ手段がショックアブソーバを具
備するものであり、これを駆動手段内部に設ける場合、
駆動手段のフランジ部にショックアブソーバを取り付け
るための開口を設け、ショックアブソーバをこの開口に
取り付けた後、フランジ部に設けた溝にはめ込んだOリ
ングにより、ショックアブソーバと開口との隙間をシー
ルする。
When the damper means is provided with a shock absorber and is provided inside the drive means,
An opening for attaching the shock absorber is provided in the flange portion of the drive means, and after the shock absorber is attached to this opening, the O-ring fitted in the groove provided in the flange portion seals the gap between the shock absorber and the opening.

【0014】[0014]

【作用】固定部と可動部との間にダンパ手段を設けるこ
とにより、光学要素駆動時の振動を抑えることができ、
省スペースでありながら、高精度な光学要素駆動を実現
することができる。また、ダンパ手段を駆動手段内部に
設けたり、またはベローズなどで覆うことにより、高ク
リーン度を実現することができる。
By providing the damper means between the fixed portion and the movable portion, it is possible to suppress the vibration when the optical element is driven,
It is possible to realize highly accurate optical element driving while saving space. Further, a high degree of cleanliness can be realized by providing the damper means inside the driving means or by covering it with a bellows or the like.

【0015】[0015]

【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。 [実施例1]図1は、本発明が適用される露光装置の概
略構成を示す図である。同図において、101は感光剤
が塗布された半導体ウエハであり、精密な位置決め性能
を有するウエハステージ102上に保持されている。露
光装置の基準に対するウエハステージの位置はレーザ干
渉計113によって計測されている。103は原版とな
るパターンが描かれたレチクルである。投影光学系10
4は本発明による光学要素移動手段110を有してお
り、レチクル上のパターンをウエハ上に結像させる。1
05はレチクルを照明するための照明光学系である。1
06は前行程で作成されたウエハ上のパターンとレチク
ル上のパターンとの位置ずれを検出するアライメント光
学系である。アライメント光学系106とウエハステー
ジ102とによって、レチクル上のパターンとウエハ上
のパターンとを重ね合わせた上で露光する。107はこ
のような露光装置の動作を管理する制御装置である。ア
ライメント光学系と、ウエハステージおよびウエハステ
ージの位置を計測するレーザ干渉計とが協働することに
よって、ウエハ上のパターンの寸法を計測することがで
きる。制御装置はこの寸法から最適な光学特性が得られ
る光学要素の位置を設定する。一方、投影光学系の光学
特性の一つである投影倍率の変動要因として、気圧など
の雰囲気の変化がある。制御装置107は、気圧センサ
108によって得られる気圧の情報や最適な露光倍率の
値から、前記光学要素の一つである投影倍率調整用のレ
ンズの最適な位置を決定し、その位置の指令を光学要素
移動手段の制御部111に与える。図1において、10
9は投影光学系104を支持する定盤(下)、112は
定盤(下)109に支持され照明光学系105やアライ
メント光学系106を支持する定盤(上)である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. [Embodiment 1] FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an exposure apparatus to which the present invention is applied. In the figure, reference numeral 101 denotes a semiconductor wafer coated with a photosensitive agent, which is held on a wafer stage 102 having precise positioning performance. The position of the wafer stage with respect to the reference of the exposure apparatus is measured by the laser interferometer 113. Reference numeral 103 is a reticle on which a pattern serving as an original plate is drawn. Projection optical system 10
Reference numeral 4 has an optical element moving means 110 according to the present invention, which images the pattern on the reticle onto the wafer. 1
Reference numeral 05 is an illumination optical system for illuminating the reticle. 1
Reference numeral 06 is an alignment optical system that detects a positional deviation between the pattern on the wafer and the pattern on the reticle created in the previous step. The alignment optical system 106 and the wafer stage 102 superimpose the pattern on the reticle and the pattern on the wafer before exposure. Reference numeral 107 is a control device that manages the operation of such an exposure apparatus. The alignment optical system and the laser interferometer that measures the position of the wafer stage and the wafer stage cooperate with each other to measure the dimensions of the pattern on the wafer. The controller sets the position of the optical element that obtains optimum optical characteristics from this dimension. On the other hand, a change factor of the projection magnification, which is one of the optical characteristics of the projection optical system, is a change in atmosphere such as atmospheric pressure. The control device 107 determines the optimum position of the projection magnification adjusting lens, which is one of the optical elements, from the information on the atmospheric pressure obtained by the atmospheric pressure sensor 108 and the value of the optimum exposure magnification, and issues a command for that position. It is given to the control unit 111 of the optical element moving means. In FIG. 1, 10
Reference numeral 9 is a surface plate (lower) that supports the projection optical system 104, and 112 is a surface plate (upper) that is supported by the surface plate (lower) 109 and supports the illumination optical system 105 and the alignment optical system 106.

【0016】図2は、本発明の一実施例に係る平行ばね
式光学要素移動機構の平面図および断面図を示す。同図
の機構は、倍率、収差等の調整レンズ7およびそれを支
持するセル8を積載する可動台1および図1の投影光学
系104の固定部の一部をなす固定台2を有する。駆動
要素4は、ベローズなどによって構成され、その一端を
固定台2に固定されるとともに、他端は可動台1に連結
されるクランプ天板5に固定されている。可動台1と固
定台2は、2枚以上で一組の板ばね片3を有する板ばね
材を一対とそれを支持する板ばね押さえ6を有するばね
機構により連結されている。板ばね材は、可動台1およ
び固定台2の両端面にそれぞれ一個ずつ配置されてい
る。駆動要素4は、板ばね片3の隙間であって、可動台
1の中心から等距離、かつ光軸20に対称な位置に配置
されている。図2において、16は継手、21はロック
用ねじ、22はターゲット板、23はバランス板、24
は位置センサ、25はセンサホルダである。
FIG. 2 shows a plan view and a sectional view of a parallel spring type optical element moving mechanism according to an embodiment of the present invention. The mechanism shown in FIG. 1 has a movable base 1 on which a lens 7 for adjusting magnification, aberration and the like and a cell 8 supporting the same are mounted, and a fixed base 2 which is a part of a fixed portion of the projection optical system 104 in FIG. The drive element 4 is composed of a bellows or the like, and one end thereof is fixed to the fixed base 2 and the other end thereof is fixed to a clamp top plate 5 connected to the movable base 1. The movable base 1 and the fixed base 2 are connected by a spring mechanism having a pair of leaf spring materials having two or more leaf spring pieces 3 and a leaf spring retainer 6 supporting the pair. One leaf spring material is arranged on each of both end faces of the movable base 1 and the fixed base 2. The drive element 4 is disposed in the gap between the leaf spring pieces 3 at an equal distance from the center of the movable table 1 and at a position symmetrical to the optical axis 20. In FIG. 2, 16 is a joint, 21 is a locking screw, 22 is a target plate, 23 is a balance plate, 24
Is a position sensor, and 25 is a sensor holder.

【0017】図3は、本発明の第1の実施例に係る駆動
要素の断面を示す。同図の駆動要素4は、ベローズ9
と、2個のフランジ10aおよび10bと、支柱11a
および11bと、支柱11aと11bの隙間に挟持され
た粘性体12とによって構成されている。また、一方の
フランジ10aは、図2に示すように、板ばね片3の隙
間からクランプ天板5に連結され、他方のフランジ10
bは、固定台2内に配置されており、ベローズ9内部に
与えられる空気圧力を可動台1に伝達する。
FIG. 3 shows a cross section of a drive element according to a first embodiment of the invention. The drive element 4 in the figure is a bellows 9.
And two flanges 10a and 10b and a post 11a
And 11b, and the viscous body 12 sandwiched between the columns 11a and 11b. Further, as shown in FIG. 2, one flange 10 a is connected to the clamp top plate 5 through the gap of the leaf spring piece 3 and the other flange 10 a.
The b is arranged in the fixed base 2 and transmits the air pressure applied to the inside of the bellows 9 to the movable base 1.

【0018】本実施例のようなベローズ9内部にグリー
ス、オイルまたはゲルなどの粘性体12を配置した駆動
要素4の場合、機構の動作に減衰特性を加えることがで
き、かつ粘性体12から発生する塵などを圧縮空気部か
ら出さないという点で高クリーン度を実現することがで
きる。
In the case of the drive element 4 in which the viscous body 12 such as grease, oil or gel is arranged inside the bellows 9 as in the present embodiment, a damping characteristic can be added to the operation of the mechanism, and the viscous body 12 generates the damping characteristic. A high degree of cleanliness can be achieved in that dust that does not come out of the compressed air portion is discharged.

【0019】ベローズ9の自由長さは、駆動時の動作安
定のために、セット長より長くとるが、ベローズ9の内
部に配置する粘性体12の厚さも、ベローズ9の有効ス
トローク長と同一寸法になるように調整することが望ま
しい。
The free length of the bellows 9 is longer than the set length for stable operation during driving, but the thickness of the viscous body 12 disposed inside the bellows 9 is the same as the effective stroke length of the bellows 9. It is desirable to adjust so that

【0020】粘性体12の配置方法は、図3に示すよう
に、両側のフランジ10aと10bから設けた支柱11
aと11bの隙間に配置することができる他、図4
(a)に示すように、片側のフランジ10aから設けた
支柱11と他方のフランジ10bとの隙間に配置するこ
とができる。図4(a)は、上側のフランジ10aから
支柱11を設けた例である。この支柱11は、図のよう
にフランジ10aと一体で形成するか、あるいは別部品
として形成してもよい。
As shown in FIG. 3, the viscous body 12 is arranged in such a manner that the column 11 is provided with the flanges 10a and 10b on both sides.
In addition to being able to be placed in the gap between a and 11b, FIG.
As shown in (a), it can be arranged in the gap between the column 11 provided from the flange 10a on one side and the flange 10b on the other side. FIG. 4A shows an example in which the support 11 is provided from the upper flange 10a. The column 11 may be formed integrally with the flange 10a as shown in the figure, or may be formed as a separate component.

【0021】図4(b)は、粘性体12をシリンダの配
置に設けた場合である。すなわち、一方のフランジ10
aに設けられた支柱であるピストン13と、他方のフラ
ンジ10bから設けられたシリンダ14との間に粘性体
12を配置した例である。
FIG. 4B shows the case where the viscous body 12 is provided in the cylinder arrangement. That is, one flange 10
This is an example in which the viscous body 12 is arranged between the piston 13 which is a column provided in a and the cylinder 14 which is provided from the other flange 10b.

【0022】図4(c)は、粘性体12を駆動要素4に
後から注入できるように、フランジl0bに穴が設けて
ある例である。この穴は、粘性体12注入後にOリング
15とふた17を用いて栓をする。この例は、ベローズ
9が溶接式の場合など、成形時に高温になる場合に有効
である。
FIG. 4C shows an example in which a hole is provided in the flange 10b so that the viscous body 12 can be injected into the drive element 4 later. This hole is plugged with an O-ring 15 and a lid 17 after pouring the viscous body 12. This example is effective when the bellows 9 has a high temperature during molding, such as a welding type.

【0023】図5(a)は、シリンダ14をフランジl
0bに後から取り付けることのできる構成例である。シ
リンダ14は、粘性体12を入れた後、ねじとΟリング
15を利用してフランジ10bに固定される。この例
も、ベローズ9が溶接式の場合など、成形時に高温にな
る場合に有効である。この例の場合、ピストンはフラン
ジ10aにねじ止めしても一体で形成してもよい。
FIG. 5 (a) shows the cylinder 14 with a flange l.
It is a configuration example that can be attached to 0b later. After inserting the viscous body 12, the cylinder 14 is fixed to the flange 10b using a screw and an O-ring 15. This example is also effective when the bellows 9 has a high temperature during molding, such as a welding type. In the case of this example, the piston may be screwed to the flange 10a or integrally formed.

【0024】図5(b)は、シリンダ14内に粘性体1
2を後から注入することができるように、穴があけられ
ている。この穴は、粘性体12を注入した後にOリング
15とふた17で栓をする。この例も、ベローズ9が溶
接式の場合など、成形時に高温になる場合に有効であ
る。この例の場合、ピストンはフランジ10aにねじ止
めしても一体で形成してもよい。
FIG. 5B shows that the viscous body 1 is placed inside the cylinder 14.
The holes are drilled so that 2 can be injected later. This hole is plugged with an O-ring 15 and a lid 17 after injecting the viscous body 12. This example is also effective when the bellows 9 has a high temperature during molding, such as a welding type. In the case of this example, the piston may be screwed to the flange 10a or integrally formed.

【0025】図5(c)は、ピストン13内に穴をあ
け、後から粘性体12を注入できるようにした構成例で
ある。この穴は、粘性体12を注入した後にOリング1
5とふた17で栓をする。この例も、ベローズ9が溶接
式の場合など、成形時に高温になる場合に有効である。
この例の場合、ピストンはフランジ10aにねじ止めし
ても一体で形成してもよい。
FIG. 5C shows an example of a structure in which a hole is formed in the piston 13 so that the viscous body 12 can be injected later. This hole is for the O-ring 1 after the viscous body 12 is injected.
Cap with 5 and lid 17. This example is also effective when the bellows 9 has a high temperature during molding, such as a welding type.
In the case of this example, the piston may be screwed to the flange 10a or integrally formed.

【0026】このように、粘性体12を用いたダンパの
場合、粘性体12の厚さを少なくした方が、あるいは粘
性体12との接触面積を大きくした方が制振効果が大き
い。しかしながら、本実施例のようにダンパを配置する
スペースが狭い場合、特にシリンダ型のダンパの場合、
図6(a)に示すようなピストンの先端形状よりも、図
6(b)に示すような複数の切り欠きを設けた方が粘性
体12との接触面積が増し、大きな制振効果を得ること
ができる。
As described above, in the case of the damper using the viscous body 12, the damping effect is greater when the thickness of the viscous body 12 is reduced or when the contact area with the viscous body 12 is increased. However, when the space for arranging the damper is small as in the present embodiment, particularly in the case of the cylinder type damper,
The contact area with the viscous body 12 is increased by providing a plurality of notches as shown in FIG. 6B rather than the tip shape of the piston as shown in FIG. 6A, and a large damping effect is obtained. be able to.

【0027】[実施例2]図7は、本発明の第2の実施
例に係る光学要素移動機構の平面図および断面図を示
す。本実施例は、粘性体12から発生する塵などが周囲
の環境に影響を及ぼさないために、金属のベローズ(不
図示)などで覆った制振機構を、クランプ天板5に取り
付けたターゲット板22または固定金具23と固定台2
に取り付けたセンサホルダ25または固定金具26の間
に配置する構成となっている。図7の例では、3個の制
振機構を取り付けた場合を示している。
[Embodiment 2] FIG. 7 shows a plan view and a sectional view of an optical element moving mechanism according to a second embodiment of the present invention. In this embodiment, since the dust or the like generated from the viscous body 12 does not affect the surrounding environment, a vibration control mechanism covered with a metal bellows (not shown) is attached to the clamp top plate 5 as a target plate. 22 or fixing bracket 23 and fixing base 2
It is arranged between the sensor holder 25 or the fixing metal fitting 26 attached to. The example of FIG. 7 shows a case where three damping mechanisms are attached.

【0028】制振機構は、図8に示すように、平面間に
オイル、グリースまたはゲルなどの粘性体12を挟む
か、あるいはシリンダ状にしてシリンダ14とピストン
13との間に粘性体12を入れるのが望ましい。また、
シリンダ14およびピストン13は、ターゲット板22
または固定金具23と、あるいはセンサホルダ25また
は固定金具26と一体で形成しても別体で形成してもよ
い。27a。27bは中継ブロックである。
As shown in FIG. 8, the damping mechanism has a viscous body 12 such as oil, grease or gel sandwiched between planes, or is formed into a cylinder so that the viscous body 12 is provided between a cylinder 14 and a piston 13. It is desirable to put it in. Also,
The cylinder 14 and the piston 13 are connected to the target plate 22.
Alternatively, it may be formed integrally with the fixing member 23, or the sensor holder 25 or the fixing member 26, or may be formed separately. 27a. 27b is a relay block.

【0029】図7に示す光学要素移動機構ではクランプ
天板5に光軸周りに8カ所の面取りを設け、そのうち1
カ所に可動台1の位置を計測するセンサ24のターゲッ
ト板22を取り付け、2カ所に可動部1を固定する固定
金具23を配置する構成となっている。このため、制振
機構の取り付け位置は、これらセンサのターゲット板2
2とセンサホルダ25の間、および2カ所の固定金具2
3と固定台2との間のいずれかの位置に配置するか、も
しくはクランプ天板5の残る面取り箇所の5カ所のうち
の、いずれかに配置することが望ましい。ここでは、前
者の例として、固定金具23と制振機構を取り付ける中
継ブロック27aとを統合した構成をとっており、スペ
ース効率がよい。図9は、後者のうちの1例として、3
個の制振機構を取り付けた例を示す。
In the optical element moving mechanism shown in FIG. 7, the chamfer top plate 5 is provided with eight chamfers around the optical axis.
The target plate 22 of the sensor 24 for measuring the position of the movable table 1 is attached to the two places, and the fixing fittings 23 for fixing the movable part 1 are arranged in two places. For this reason, the mounting position of the vibration damping mechanism is set at the target plate 2
2 and the sensor holder 25, and two fixing brackets 2
It is desirable to dispose it at any position between 3 and the fixed base 2, or at any of the five chamfered positions where the clamp top plate 5 remains. Here, as an example of the former, the fixing bracket 23 and the relay block 27a to which the vibration damping mechanism is attached are integrated, and the space efficiency is good. FIG. 9 shows an example of the latter, 3
An example in which individual vibration damping mechanisms are attached is shown.

【0030】[実施例3]図10は、本発明の第3の実
施例に係る駆動要素の断面を示す。同図の駆動要素4
は、ベローズ9と2個のフランジ10aおよび10bと
防振ゴム31によって構成されている。一方のフランジ
10aは、図2に示すように、板ばね片3の隙間からク
ランプ天板5に連結され、他方のフランジ10bは、固
定台2内に配置されており、ベローズ9内部に与えられ
る空気圧力を可動台1に伝達する。
[Embodiment 3] FIG. 10 shows a cross section of a drive element according to a third embodiment of the present invention. Drive element 4 in FIG.
Is composed of a bellows 9, two flanges 10a and 10b, and a vibration-proof rubber 31. As shown in FIG. 2, one flange 10 a is connected to the clamp top plate 5 through the gap of the leaf spring piece 3, and the other flange 10 b is arranged in the fixed base 2 and provided inside the bellows 9. The air pressure is transmitted to the movable table 1.

【0031】本実施例のようなベローズ9内部に防振ゴ
ム31を配置した駆動要素4の場合、機構の動作に減衰
特性を加えることができ、かつ防振ゴム31から発生す
る塵などを圧縮空気部から出さないという点で高クリー
ン度を実現することができる。
In the case of the drive element 4 in which the vibration isolating rubber 31 is arranged inside the bellows 9 as in the present embodiment, it is possible to add a damping characteristic to the operation of the mechanism and to compress dust and the like generated from the vibration isolating rubber 31. High cleanliness can be achieved in that it does not come out of the air section.

【0032】ベローズ9の自由長さは、駆動時の動作安
定のために、セット長より長くとるが、ベローズ9の内
部に配置する防振ゴム31も、ベローズ9の有効長さと
同一寸法にすることが望ましい。
The free length of the bellows 9 is set longer than the set length in order to stabilize the operation during driving, but the antivibration rubber 31 arranged inside the bellows 9 has the same size as the effective length of the bellows 9. Is desirable.

【0033】防振ゴム31の両端は、図11(a)に示
すようにフランジ10a、10bに設けた溝にはめ込む
か、図11(b)に示すようにフランジ10a、10b
に設けた段差にはめ込むか、あるいは図11(c)に示
すように接着剤32で接着することが、駆動以外の方向
のずれを軽減し、またベローズ9のフランジ10a、1
0bとの溶接時の熱変形を妨げる上で望ましい。また、
防振ゴム31の両端に接着剤32を塗布した上で溝には
め込むなど複数の方法を併用してもよい。
Both ends of the anti-vibration rubber 31 are fitted into the grooves formed in the flanges 10a and 10b as shown in FIG. 11 (a), or the flanges 10a and 10b are shown in FIG. 11 (b).
It is possible to reduce the deviation in the direction other than the driving by fitting it into the step provided on the base plate or by adhering it with the adhesive 32 as shown in FIG.
It is desirable to prevent thermal deformation during welding with 0b. Also,
A plurality of methods may be used in combination, such as applying the adhesive 32 to both ends of the antivibration rubber 31 and then fitting the adhesive 32 into the groove.

【0034】防振ゴム31は、図12に示すように、側
面に1個以上の穴が開けてあることが望ましい。この場
合には、ベローズ9の有効面積を大きく使え、駆動力を
増すことができる。
As shown in FIG. 12, the vibration-proof rubber 31 preferably has one or more holes on its side surface. In this case, a large effective area of the bellows 9 can be used, and the driving force can be increased.

【0035】[実施例4]図13は、本発明の第4の実
施例に係る駆動要素の断面を示す。同図の駆動要素4
は、ベローズ9と2個のフランジ10a、10b、およ
びショックアブソーバ(緩衝器)51によって構成され
ている。一方のフランジ10aは、図2に示すように、
板ばね片3の隙間からクランプ天板5に連結され、他方
のフランジ10bは、固定台2内に配置されており、ベ
ローズ9内部に与えられる空気圧力を可動台1に伝達す
る。
[Fourth Embodiment] FIG. 13 is a sectional view of a drive element according to a fourth embodiment of the present invention. Drive element 4 in FIG.
Is composed of a bellows 9, two flanges 10a and 10b, and a shock absorber (shock absorber) 51. One flange 10a, as shown in FIG.
The flange 10b is connected to the clamp top plate 5 through the gap of the leaf spring piece 3, and the other flange 10b is arranged in the fixed base 2 and transmits the air pressure applied inside the bellows 9 to the movable base 1.

【0036】本実施例のようなベローズ9内部にショッ
クアブソーバ51を配置した駆動要素4の場合、機構の
動作に減衰特性を加えることができ、かつ摺動部から発
生する塵などを圧縮空気部から出さないという点で高ク
リーン度を実現することができる。
In the case of the drive element 4 in which the shock absorber 51 is arranged inside the bellows 9 as in the present embodiment, damping characteristics can be added to the operation of the mechanism, and dust generated from the sliding portion can be compressed air portion. A high degree of cleanliness can be achieved in that it does not get out of the room.

【0037】両フランジ10a、10bとショックアブ
ソーバ51との締結部には圧縮空気が漏れないように、
例えば図13のようにOリング53でシールし、他端は
フランジ部を貫通しないようなねじ孔で締結することに
より漏れを防ぐのもよい。
In order to prevent compressed air from leaking to the joint between the flanges 10a and 10b and the shock absorber 51,
For example, as shown in FIG. 13, it may be possible to prevent leakage by sealing with an O-ring 53 and fastening the other end with a screw hole that does not penetrate the flange portion.

【0038】ショックアブソーバ51は、図13に示す
ような単孔オリフィス52とオイルを用いた構造以外の
構造のものを用いてもよい。
The shock absorber 51 may have a structure other than the structure using the single hole orifice 52 and oil as shown in FIG.

【0039】[実施例5]図14は、本発明の第5の実
施例に係る光学要素移動機構の平面図および断面図を示
す。本実施例は、摺動部から発生する塵などが周囲の環
境に影響を及ぼさないために、図15に示すように金属
のベローズ54などで覆ったショックアブソーバ51な
ど緩衝器を、クランプ天板5に取り付けた中継ブロック
27aと固定台2に取り付けた中継ブロック27bの間
に配置する構成となっている。図14の例では、3個の
緩衝装置を取り付けた場合を示している。この配置によ
って、ショックアブソーバ51を交換することも容易に
できる。ショックアブソーバ51は、図13に示すよう
な単孔オリフィス52とオイルを用いた構造以外の構造
のものを用いてもよい。
[Embodiment 5] FIG. 14 shows a plan view and a sectional view of an optical element moving mechanism according to a fifth embodiment of the present invention. In this embodiment, since the dust generated from the sliding portion does not affect the surrounding environment, a shock absorber 51 covered with a metal bellows 54 or the like as shown in FIG. 5 is arranged between the relay block 27a attached to the No. 5 and the relay block 27b attached to the fixed base 2. In the example of FIG. 14, the case where three shock absorbers are attached is shown. With this arrangement, the shock absorber 51 can be easily replaced. The shock absorber 51 may have a structure other than the structure using the single hole orifice 52 and oil as shown in FIG.

【0040】図14に示す光学要素移動機構ではクラン
プ天板5に光軸周りに8カ所の面取りを設け、そのうち
1カ所に可動台1の位置を計測するセンサターゲットを
取り付け、2カ所に可動部1を固定する固定金具23を
配置する構成となっている。このため、ショックアブソ
ーバ51の取り付け位置は、これらセンサターゲット2
2とセンサホルダ25の間、および2カ所の固定金具2
3と固定台2との間のいずれかの位置に配置するか、も
しくはクランプ天板5の残る面取り箇所の5カ所のうち
の、いずれかに配置することが望ましい。ここでは、前
者の例として、固定金具23とショックアブソーバ51
を取り付ける中継ブロック27aとを統合した構成をと
っており、スペース効率がよい。
In the optical element moving mechanism shown in FIG. 14, the clamp top plate 5 is provided with eight chamfers around the optical axis, one of which is provided with a sensor target for measuring the position of the movable table 1, and two movable parts are provided. The fixing metal fitting 23 for fixing 1 is arranged. For this reason, the mounting position of the shock absorber 51 is set to the sensor target 2
2 and the sensor holder 25, and two fixing brackets 2
It is desirable to dispose it at any position between 3 and the fixed base 2, or at any of the five chamfered positions where the clamp top plate 5 remains. Here, as an example of the former, the fixing bracket 23 and the shock absorber 51
The relay block 27a for mounting is integrated, and space efficiency is good.

【0041】図16は、後者のうちの1例として、3個
のショックアブソーバ51を取り付けた例を示す。
FIG. 16 shows an example in which three shock absorbers 51 are attached as an example of the latter.

【0042】[実施例6]図17は、本発明の第6の実
施例に係る光学要素移動機構の平面図および断面図を示
す。本実施例は、摺動部から発生する塵などが周囲の環
境に影響を及ぼさないために、図18に示すように金属
のベローズ61などで覆った防振ゴム21を、クランプ
天板5に取り付けた中継ブロック27aと固定台2に取
り付けた中継ブロック27bの間に配置する構成となっ
ている。図17の例では、3個の防振ゴム21を取り付
けた場合を示している。この配置によって、防振ゴム2
1を交換することも容易にできる。
[Embodiment 6] FIG. 17 shows a plan view and a sectional view of an optical element moving mechanism according to a sixth embodiment of the present invention. In this embodiment, since the dust or the like generated from the sliding portion does not affect the surrounding environment, the vibration damping rubber 21 covered with the metal bellows 61 or the like is attached to the clamp top plate 5 as shown in FIG. It is configured to be arranged between the attached relay block 27a and the relay block 27b attached to the fixed base 2. In the example of FIG. 17, the case where three anti-vibration rubbers 21 are attached is shown. With this arrangement, the anti-vibration rubber 2
It is also easy to replace 1.

【0043】図17に示す光学要素移動機構ではクラン
プ天板5に光軸周りに8カ所の面取りを設け、そのうち
1カ所に可動台1の位置を計測するセンサターゲットを
取り付け、2カ所に可動部1を固定する固定金具23を
配置する構成となっている。このため、防振ゴム21の
取り付け位置は、これらセンサターゲット22とセンサ
ホルダ25の間、および2カ所の固定金具23と固定台
2との間のいずれかの位置に配置するか(この場合、2
個の中継ブロック27a、27bはそれぞれセンサター
ゲットとセンサホルダ、固定金具23で代用することが
できる)、もしくはクランプ天板5の残る面取り箇所の
5カ所のうちのいずれかに配置することが望ましい。図
17は、前者の例として、固定金具23とショックアブ
ソーバ51を取り付ける中継ブロック27aとを統合し
た構成をとっており、スペース効率がよい。
In the optical element moving mechanism shown in FIG. 17, the clamp top plate 5 is provided with eight chamfers around the optical axis, one of which is provided with a sensor target for measuring the position of the movable table 1, and two movable parts are provided. The fixing metal fitting 23 for fixing 1 is arranged. For this reason, the mounting position of the anti-vibration rubber 21 should be set between the sensor target 22 and the sensor holder 25, and between the two fixing fittings 23 and the fixing base 2 (in this case, Two
The individual relay blocks 27a and 27b can be respectively substituted by the sensor target, the sensor holder, and the fixing metal fitting 23), or it is desirable to arrange the relay blocks 27a and 27b at any of the five chamfered positions where the clamp top plate 5 remains. As an example of the former, FIG. 17 has a configuration in which the fixing bracket 23 and the relay block 27a to which the shock absorber 51 is attached are integrated, and space efficiency is good.

【0044】図19は、後者のうちの1例として、3個
の防振ゴム21を取り付けた例を示す。
FIG. 19 shows an example in which three anti-vibration rubbers 21 are attached as an example of the latter.

【0045】[0045]

【デバイス生産方法の実施例】次に上記説明した露光装
置または露光方法を利用したデバイスの生産方法の実施
例を説明する。図20は微小デバイス(ICやLSI等
の半導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッ
ド、マイクロマシン等)の製造のフローを示す。ステッ
プ1(回路設計)ではデバイスのパターン設計を行な
う。ステップ2(マスク製作)では設計したパターンを
形成したマスクを製作する。一方、ステップ3(ウエハ
製造)ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを
製造する。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼
ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラ
フィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次
のステップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ
4によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化す
る工程であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンデ
ィング)、パッケージング工程(チップ封入)等の工程
を含む。ステップ6(検査)ではステップ5で作製され
た半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の
検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完
成し、これが出荷(ステップ7)される。
[Embodiment of Device Manufacturing Method] Next, an embodiment of a device manufacturing method using the above-described exposure apparatus or exposure method will be described. FIG. 20 shows a flow of manufacturing minute devices (semiconductor chips such as IC and LSI, liquid crystal panels, CCDs, thin film magnetic heads, micromachines, etc.). In step 1 (circuit design), a device pattern is designed. In step 2 (mask manufacturing), a mask having the designed pattern is manufactured. On the other hand, in step 3 (wafer manufacturing), a wafer is manufactured using a material such as silicon or glass. Step 4 (wafer process) is called a pre-process, and an actual circuit is formed on the wafer by the lithography technique using the mask and the wafer prepared above. The next step 5 (assembly) is called a post-process, and is a process of forming a semiconductor chip by using the wafer manufactured in step 4, such as an assembly process (dicing, bonding), a packaging process (chip encapsulation), and the like. including. In step 6 (inspection), the semiconductor device manufactured in step 5 undergoes inspections such as an operation confirmation test and a durability test. Through these steps, the semiconductor device is completed and shipped (step 7).

【0046】図21は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ13(電極形成)ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオ
ン打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ1
5(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ16(露光)では上述の光学要素移動装置を有す
る露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに焼
付露光する。ステップ17(現像)では露光したウエハ
を現像する。ステップ18(エッチング)では現像した
レジスト像以外の部分を削り取る。ステップ19(レジ
スト剥離)ではエッチングが済んで不要となったレジス
トを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうこと
によって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成され
る。
FIG. 21 shows a detailed flow of the wafer process. In step 11 (oxidation), the surface of the wafer is oxidized. In step 12 (CVD), an insulating film is formed on the wafer surface. In step 13 (electrode formation), electrodes are formed on the wafer by vapor deposition. In step 14 (ion implantation), ions are implanted in the wafer. Step 1
In 5 (resist processing), a photosensitive agent is applied to the wafer. In step 16 (exposure), the circuit pattern of the mask is printed and exposed on the wafer by the exposure apparatus having the above-described optical element moving device. In step 17 (development), the exposed wafer is developed. In step 18 (etching), parts other than the developed resist image are removed. In step 19 (resist stripping), the resist that is no longer needed after etching is removed. By repeating these steps, multiple circuit patterns are formed on the wafer.

【0047】本実施例の生産方法を用いれば、従来は製
造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造す
ることができる。
By using the production method of this embodiment, a highly integrated device, which has been difficult to produce in the past, can be produced at a low cost.

【0048】[0048]

【発明の効果】本発明によれば、投影光学系の倍率、収
差、歪み等の光学特性を調整するための光学要素を高精
度で光軸上を駆動する光学要素移動装置を、省スペー
ス、高クリーン度で実現することができる。
According to the present invention, there is provided a space-saving optical element moving device for driving an optical element for adjusting optical characteristics such as magnification, aberration and distortion of a projection optical system with high accuracy on an optical axis. It can be realized with high cleanliness.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明が適用される露光装置の構成を示す図
である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of an exposure apparatus to which the present invention is applied.

【図2】 本発明が適用される平行板ばね機構を用いた
光学要素移動装置の平面図および断面図である。
FIG. 2 is a plan view and a sectional view of an optical element moving device using a parallel leaf spring mechanism to which the present invention is applied.

【図3】 駆動要素のベローズ内に粘性体を配置した本
発明の第1の実施例に係るダンパ手段の構成を示す図で
ある。
FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a damper means according to a first embodiment of the present invention in which a viscous body is arranged in a bellows of a drive element.

【図4】 第1の実施例の変形例を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a modification of the first embodiment.

【図5】 第1の実施例のさらなる変形例を示す図であ
る。
FIG. 5 is a diagram showing a further modification of the first embodiment.

【図6】 第1の実施例におけるピストンの変形例を示
す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a modified example of the piston in the first embodiment.

【図7】 粘性体を有するダンパ手段を機構外部に配置
した本発明の第2の実施例に係る光学要素移動装置の平
面図および断面図である。
7A and 7B are a plan view and a cross-sectional view of an optical element moving device according to a second embodiment of the present invention, in which damper means having a viscous body is arranged outside the mechanism.

【図8】 図7におけるダンパ手段の詳細構成を示す図
である。
FIG. 8 is a diagram showing a detailed configuration of damper means in FIG.

【図9】 第2の実施例の変形例を示す光学要素移動装
置の平面図および断面図である。
9A and 9B are a plan view and a sectional view of an optical element moving device showing a modified example of the second embodiment.

【図10】 駆動要素のベローズ内に防振ゴムを配置し
た本発明の第3の実施例に係るダンパ手段の構成を示す
図である。
FIG. 10 is a diagram showing a configuration of a damper means according to a third embodiment of the present invention in which a vibration-proof rubber is arranged inside a bellows of a drive element.

【図11】 第3の実施例の変形例を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a modification of the third embodiment.

【図12】 第3の実施例における防振ゴムの詳細を示
す図である。
FIG. 12 is a diagram showing details of a vibration-proof rubber according to a third embodiment.

【図13】 駆動要素のベローズ内にショックアブソー
バを配置した本発明の第4の実施例に係るダンパ手段の
構成を示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing a configuration of a damper means according to a fourth embodiment of the present invention in which a shock absorber is arranged inside a bellows of a drive element.

【図14】 ショックアブソーバを有するダンパ手段を
機構外部に配置した本発明の第5の実施例に係る光学要
素移動装置の平面図および断面図である。
14A and 14B are a plan view and a sectional view of an optical element moving device according to a fifth embodiment of the present invention, in which a damper means having a shock absorber is arranged outside the mechanism.

【図15】 第5の実施例におけるダンパ手段の詳細を
示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing details of damper means in the fifth embodiment.

【図16】 第5の実施例の変形例を示す光学要素移動
装置の平面図および断面図である。
FIG. 16 is a plan view and a sectional view of an optical element moving device showing a modification of the fifth embodiment.

【図17】 防振ゴムを有するダンパ手段を機構外部に
配置した本発明の第6の実施例に係る光学要素移動装置
の平面図および断面図である。
17A and 17B are a plan view and a cross-sectional view of an optical element moving device according to a sixth embodiment of the present invention, in which a damper means having a vibration proof rubber is arranged outside the mechanism.

【図18】 図17におけるダンパ手段の詳細構成を示
す図である。
FIG. 18 is a diagram showing a detailed configuration of damper means in FIG.

【図19】 第6の実施例の変形例を示す光学要素移動
装置の平面図および断面図である。
FIG. 19 is a plan view and a cross-sectional view of an optical element moving device showing a modification of the sixth embodiment.

【図20】 微小デバイスの製造の流れを示す図であ
る。
FIG. 20 is a diagram showing a flow of manufacturing a microdevice.

【図21】 図20におけるウエハプロセスの詳細な流
れを示す図である。
21 is a diagram showing a detailed flow of the wafer process in FIG. 20. FIG.

【図22】 従来の駆動要素の構成を示す図である。FIG. 22 is a diagram showing a configuration of a conventional drive element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:可動台、2:固定台、3:板ばね、4:駆動要素、
5:クランプ天板、6:板ばね押さえ、7:レンズ、
8:セル、9:ベローズ、10a,10b:フランジ、
11:支柱、12:粘性体、13:ピストン、14:シ
リンダ、15,53:Oリング、16:継手、17:ふ
た、22:ターゲット板、23:バランス板、25:セ
ンサホルダ、26:固定金具、27a,27b:中継ブ
ロック、31:防振ゴム、32:接着剤、51:ショッ
クアブソーバ、54,61:ベローズ。
1: movable base, 2: fixed base, 3: leaf spring, 4: drive element,
5: Clamp top plate, 6: Leaf spring holder, 7: Lens,
8: cell, 9: bellows, 10a, 10b: flange,
11: Strut, 12: Viscous body, 13: Piston, 14: Cylinder, 15, 53: O-ring, 16: Joint, 17: Lid, 22: Target plate, 23: Balance plate, 25: Sensor holder, 26: Fixed Metal fittings 27a, 27b: relay block, 31: anti-vibration rubber, 32: adhesive, 51: shock absorber, 54, 61: bellows.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平6−313833(JP,A) 特開 昭62−65243(JP,A) 特開 平4−222928(JP,A) 特開 平5−134155(JP,A) 特開 平3−154235(JP,A) 特開 平8−63768(JP,A) 特開 平9−128776(JP,A) 特開 平6−204106(JP,A) 特開 平3−100935(JP,A) 特開 平9−106944(JP,A) 実開 昭60−173126(JP,U) 実開 平5−67914(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G02B 7/00 - 7/16 H01L 21/30,21/46 G03F 7/20 - 7/24 G03F 9/00 - 9/02 G11B 7/08 - 7/22 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (56) Reference JP-A-6-313833 (JP, A) JP-A-62-65243 (JP, A) JP-A-4-222928 (JP, A) JP-A-5- 134155 (JP, A) JP 3-154235 (JP, A) JP 8-63768 (JP, A) JP 9-128776 (JP, A) JP 6-204106 (JP, A) JP-A-3-100935 (JP, A) JP-A-9-106944 (JP, A) Actual development Shou 60-173126 (JP, U) Actual development HEI 5-67914 (JP, U) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) G02B 7 /00-7/16 H01L 21 / 30,21 / 46 G03F 7 /20-7/24 G03F 9/00-9/02 G11B 7/08-7/22

Claims (10)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 固定部と、光学要素を固定た可動部
と、前記固定部に対して前記可動部を光軸方向へ移動さ
せる駆動手段および案内手段とを有し、 前記駆動手段
は、前記固定部および可動部の夫々に固定されたフラン
ジ部よりなる一対のフランジ部と、該一対のフランジ部
間に設けられ、内部の流体の作用により前記可動部を駆
動する駆動用ベローズと、該駆動用ベローズの内部に配
置されたダンパ手段とにより構成されることを特徴と
る光学要素移動装置。
And 1. A fixing unit includes a movable portion to fix the optical element, and a drive means and guide means for moving the movable part in the optical axis direction with respect to the fixed portion, the driving means
Is a flange fixed to each of the fixed part and the movable part.
A pair of flange portions formed of a flange portion, a driving bellows provided between the pair of flange portions and driving the movable portion by the action of an internal fluid, and a driving bellows disposed inside the driving bellows.
An optical element moving device , characterized in that the optical element moving device is configured by a mounted damper means.
【請求項2】 前記ダンパ手段が、光軸対称に配置され
ていることを特徴とする請求項1記載の光学要素移動装
置。
2. The optical element moving device according to claim 1, wherein the damper means is arranged symmetrically about an optical axis.
【請求項3】 前記ダンパ手段が、粘性体を具備するこ
とを特徴とする請求項記載の光学要素移動装置。
Wherein said damper means, optical element moving device according to claim 1, characterized by comprising a viscous material.
【請求項4】 前記粘性体が、オイル、グリースまたは
ゲルであることを特徴とする請求項記載の光学要素移
動装置。
4. The optical element moving device according to claim 3 , wherein the viscous body is oil, grease or gel.
【請求項5】 前記一対のフランジ部の少なくとも一方
に前記ダンパ手段を取り付けるために設けた開口と、該
ダンパ手段を取り付けた後、該ダンパ手段と該開口との
隙間をシールするために該フランジ部に設けられた
と、 該溝にはめ込むためのOリングを持つことを特徴
とする請求項記載の光学要素移動装置。
An opening 5. A provided for attaching said damper means to at least one of the pair of flange portions, after attaching the damper, the flange to seal the gap between said damper means and opening Groove provided in the part
When the optical element moving device according to claim 3, characterized by having a O-ring for fitting to the groove.
【請求項6】 前記ダンパ手段が、筒形または中空の防
振ゴムを具備することを特徴とする請求項記載の光学
要素移動装置。
Wherein said damper means, optical element moving device according to claim 1, characterized by comprising a tubular or hollow rubber vibration insulator.
【請求項7】 前記防振ゴムが、1個以上の穴を有する
ことを特徴とする請求項記載の光学要素移動装置。
7. The optical element moving device according to claim 6 , wherein the anti-vibration rubber has one or more holes.
【請求項8】 前記ダンパ手段が、単孔オリフィスとオ
イルを用いた構造を具備することを特徴とする請求項
記載の光学要素移動装置。
8. The damper means comprises a single hole orifice and an orifice.
Claim, characterized in that it comprises structures using yl 1
The described optical element moving device.
【請求項9】 請求項1〜8のいずれかに記載の光学要
素移動装置を有し、レチクルのパターンをウエハに結像
する投影光学系を有することを特徴とする露光装置。
9. comprises an optical element moving device according to any one of claims 1-8, imaging the pattern of a reticle onto a wafer
An exposure apparatus having a projection optical system for
【請求項10】10. 請求項9に記載の露光装置を用いてウUsing the exposure apparatus according to claim 9,
エハを露光するステップと、該露光したウエハを現像すExposing the exposed wafer and developing the exposed wafer
るステップとを有することを特徴とするデバイスの生産Of a device characterized by the following steps:
方法。Method.
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