JPH11354899A - Printed wiring board and manufacture thereof - Google Patents

Printed wiring board and manufacture thereof

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JPH11354899A
JPH11354899A JP16209698A JP16209698A JPH11354899A JP H11354899 A JPH11354899 A JP H11354899A JP 16209698 A JP16209698 A JP 16209698A JP 16209698 A JP16209698 A JP 16209698A JP H11354899 A JPH11354899 A JP H11354899A
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JP
Japan
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phosphorus compound
printed wiring
wiring board
base material
resin
Prior art date
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Application number
JP16209698A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshihiro Kawakita
嘉洋 川北
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance bonding strength between conductive layers by applying a phosphorus compound to the surface of fibers composing a basic material at the time of laminating a plurality of conductive layers through an insulating layer formed by impregnating a basic material with an insulating resin layer. SOLUTION: This printed wiring board comprises two or more conductive layers laminated with an insulating layer composed of a composite material of a base material and an insulating resin wherein a phosphorus compound is present on the interface between the base material and the insulating resin of the insulating layer. A porous material for carrying the insulating resin is principally comprises fibers. The phosphorus compound includes phosphate, phosphite, or the like. The process for introducing a phosphorus compound into the base material is a process for applying the phosphorus compound to the surface of fibers composing the base material, e.g. a nonwoven fabric, and preferably forming a phosphorus compound on the surface of fibers. The phosphorus compound is applied by 0.1-10 wt.% to the base material.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、プリント配線基板
およびその製造方法に関するものである。
The present invention relates to a printed wiring board and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子機器の小型・軽量化および高
機能化に伴い、プリント配線基板に対して小型・軽量
化、高密度化、高速信号処理化などが要求されている。
このような要求に応えるために様々な工夫が為されてお
り、プリント配線基板の構造および製造方法が多様化し
ている。例えば、特開平6−268345号公報にはイ
ンナビアホール(IVH)構造を有するプリント配線基
板が提案されている。IVH構造は、2以上の導電層が
絶縁層を介して積層した構造を有する点では従来のスル
ーホール構造と同様であるが、導電層間の電気的接続を
ビア穴に充填された導電性ペーストによって確保する点
でスルーホール構造と相違している。
2. Description of the Related Art In recent years, as electronic devices have become smaller, lighter, and more sophisticated, printed circuit boards have been required to be smaller, lighter, have higher densities, and have higher speed signal processing.
Various devices have been devised to meet such demands, and the structures and manufacturing methods of printed wiring boards have been diversified. For example, JP-A-6-268345 proposes a printed wiring board having an inner via hole (IVH) structure. The IVH structure is similar to the conventional through-hole structure in that it has a structure in which two or more conductive layers are stacked with an insulating layer interposed therebetween, but the electrical connection between the conductive layers is made by a conductive paste filled in via holes. It differs from the through-hole structure in that it is secured.

【0003】また、プリント配線基板の構造および製造
方法の多様化に伴って使用される材料も多様化してい
る。例えば、一般に絶縁層には基材に絶縁性樹脂を含浸
させたものが使用されるが、この基材として従来のガラ
ス基材のほかに、低熱膨張、軽量などの特徴を有するア
ラミド基材などの有機系基材が使用されている。
In addition, the materials used have been diversified with the diversification of the structure and manufacturing method of the printed wiring board. For example, in general, a material obtained by impregnating an insulating resin into a base material is used for an insulating layer. In addition to a conventional glass base material, an aramid base material having characteristics such as low thermal expansion and light weight is used as the base material. Is used.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】どのような構造のプリ
ント配線基板においても、導電層の剥離強度、すなわち
導電層間の接着強度を十分に確保することが共通の課題
である。導電層の剥離の原因としては、導電層と絶縁層
との間の界面破壊と、絶縁層内部で生じる破壊とが考え
られる。特に前者は、近年の回路のファイン化に伴って
回路パターンと絶縁材との接触面積が減少するため、益
々発生し易くなる傾向にある。
It is a common problem in printed wiring boards of any structure to ensure a sufficient peel strength of the conductive layer, that is, a sufficient adhesive strength between the conductive layers. Possible causes of the peeling of the conductive layer include interface destruction between the conductive layer and the insulating layer and destruction occurring inside the insulating layer. In particular, the former tends to be more and more likely to occur because the contact area between the circuit pattern and the insulating material decreases with the recent trend toward finer circuits.

【0005】また、後者の絶縁層内部での破壊は、絶縁
層を構成する基材と絶縁性樹脂との間で生じる界面破壊
が主な原因であり、これを抑制する方法として、基材表
面に特定の処理を施すことによって基材と絶縁性樹脂と
の接着性を改善する方法が提案されている。ガラス基材
に対する表面処理としてはシランカップリング剤による
化学的処理が提案されているが、有機系の基材に対する
表面処理としては、紫外線、コロナおよびプラズマ処理
等に代表される物理的方法が主流であり、有効な化学的
処理は提案されていない。また、前述の物理的方法によ
る表面処理では、導電層の接着強度において十分な効果
を得られていないのが実状である。
[0005] The latter type of breakdown inside the insulating layer is mainly caused by interfacial destruction occurring between the base material constituting the insulating layer and the insulating resin. A method for improving the adhesion between the base material and the insulating resin by performing a specific treatment on the base material has been proposed. Chemical treatment with a silane coupling agent has been proposed as a surface treatment for glass substrates, but physical methods typified by ultraviolet, corona, plasma treatments, etc. are mainly used as surface treatments for organic substrates. And no effective chemical treatment has been proposed. Moreover, in the surface treatment by the above-mentioned physical method, a sufficient effect on the adhesive strength of the conductive layer is not actually obtained.

【0006】本発明は、導電層間の接着強度を向上させ
たプリント配線基板およびその製造方法を提供すること
を目的とする。
An object of the present invention is to provide a printed wiring board having improved adhesion strength between conductive layers and a method of manufacturing the same.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の第1のプリント配線基板は、金属箔体によ
って形成された2以上の導電層が、基材に絶縁性樹脂を
含浸して形成された絶縁層を介して積層してなるプリン
ト配線基板であって、前記基材を構成する繊維の表面に
リン化合物が付着していることを特徴とする。このよう
な構成としたことにより、基材を構成する繊維と絶縁性
樹脂との間で生じる界面破壊を抑制することができ、導
電層間の接着強度を向上させることができる。また、リ
ン化合物は、難燃化剤としての性質をも有するため、プ
リント配線基板の難燃性を向上させることもできる。
In order to achieve the above object, a first printed wiring board according to the present invention is characterized in that two or more conductive layers formed of a metal foil impregnate a base material with an insulating resin. A printed wiring board formed by laminating via an insulating layer formed as described above, wherein a phosphorus compound is attached to a surface of a fiber constituting the base material. With this configuration, it is possible to suppress interfacial destruction occurring between the fibers constituting the base material and the insulating resin, and to improve the adhesive strength between the conductive layers. Further, since the phosphorus compound also has a property as a flame retardant, the flame retardancy of the printed wiring board can be improved.

【0008】前記目的を達成するため、本発明の第2の
プリント配線基板は、金属箔体によって形成された2以
上の導電層が、基材に絶縁性樹脂を含浸して形成された
絶縁層を介して積層してなるプリント配線基板であっ
て、前記導電層と前記絶縁層との間にリン化合物層が介
在していることを特徴とする。このような構成にしたこ
とにより、導電層と絶縁層との間で生じる界面破壊を抑
制し、導電層間の接着強度を向上させることができる。
また、リン化合物は、難燃化剤および防錆剤としての性
質を有するため、プリント配線基板の難燃性の向上およ
び導電層の防錆を図ることができる。
In order to achieve the above object, a second printed wiring board according to the present invention is characterized in that an insulating layer formed by impregnating an insulating resin into a base material comprises two or more conductive layers formed of a metal foil. Wherein the phosphorous compound layer is interposed between the conductive layer and the insulating layer. With such a structure, interface destruction occurring between the conductive layer and the insulating layer can be suppressed, and the adhesive strength between the conductive layers can be improved.
Further, since the phosphorus compound has properties as a flame retardant and a rust preventive, it can improve the flame retardancy of the printed wiring board and prevent rust of the conductive layer.

【0009】前記第1および第2のプリント配線基板に
おいては、前記絶縁層が貫通孔を有し、前記貫通孔に充
填された導電性ペーストによって前記導電層間が電気的
に接続されていることが好ましい。この好ましい例は、
IVH構造のプリント配線基板であり、小型軽量化に有
効な構造であるという利点がある。また、更には、前記
導電層と前記導電性ペーストとの間にリン化合物層が形
成されていることが好ましい。前記導電層と前記導電性
ペーストとの接着強度が向上するため、導電層間の電気
的接続に対する信頼性を向上させることができるからで
ある。
In the first and second printed wiring boards, the insulating layer has a through hole, and the conductive layers are electrically connected by a conductive paste filled in the through hole. preferable. This preferred example is
This is a printed wiring board having an IVH structure, and has an advantage that the structure is effective for reducing the size and weight. Further, it is preferable that a phosphorus compound layer is formed between the conductive layer and the conductive paste. This is because the adhesive strength between the conductive layer and the conductive paste is improved, so that the reliability of the electrical connection between the conductive layers can be improved.

【0010】また、前記第1および第2のプリント配線
基板においては、前記リン化合物が、リン酸エステルお
よび亜リン酸エステルからなる群より選ばれる少なくと
も1種のエステルであることが好ましい。
In the first and second printed wiring boards, it is preferable that the phosphorus compound is at least one ester selected from the group consisting of a phosphate ester and a phosphite ester.

【0011】また、前記第1および第2のプリント配線
基板においては、前記基材が、ガラス繊維または有機繊
維を主な構成材料とすることが好ましい。また、有機繊
維としては、全芳香族ポリアミドおよび全芳香族ポリエ
ステルより選ばれる少なくとも1種の有機繊維が好まし
い。
Further, in the first and second printed wiring boards, it is preferable that the base material is mainly composed of glass fiber or organic fiber. Further, as the organic fiber, at least one kind of organic fiber selected from a wholly aromatic polyamide and a wholly aromatic polyester is preferable.

【0012】また、前記第1および第2のプリント配線
基板においては、前記絶縁性樹脂が、エポキシ樹脂、ビ
スマレイミドトリアジン樹脂、ポリエステル樹脂および
ポリイミド樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種
の樹脂を含むことが好ましい。
In the first and second printed wiring boards, the insulating resin contains at least one resin selected from the group consisting of an epoxy resin, a bismaleimide triazine resin, a polyester resin and a polyimide resin. Is preferred.

【0013】前記目的を達成するため、本発明の第1の
プリント配線基板の製造方法は、基材に絶縁性樹脂を含
浸してプリプレグを作製する工程と、前記プリプレグに
金属箔体を積層する工程と、前記金属箔体をパターニン
グして回路を形成する工程とを含み、前記プリプレグを
作製する工程の前に、前記基材を構成する繊維の表面に
リン化合物を付着させる工程を実施することを特徴とす
る。このような構成にしたことにより、絶縁層を構成す
る繊維と絶縁性樹脂との間で生じる界面破壊を抑制する
ことができ、導電層間の接着強度の高いプリント配線基
板とすることができる。また、プリント配線基板の難燃
性が向上するという利点も有する。
In order to achieve the above object, a first method of manufacturing a printed wiring board according to the present invention comprises a step of impregnating a base material with an insulating resin to produce a prepreg, and laminating a metal foil body on the prepreg. And a step of patterning the metal foil body to form a circuit, and before the step of producing the prepreg, performing a step of attaching a phosphorus compound to the surface of the fiber constituting the base material. It is characterized by. With such a configuration, it is possible to suppress the interface destruction occurring between the fibers constituting the insulating layer and the insulating resin, and it is possible to obtain a printed wiring board having a high adhesive strength between the conductive layers. Another advantage is that the flame retardancy of the printed wiring board is improved.

【0014】前記目的を達成するため、本発明の第2の
プリント配線基板の製造方法は、基材に絶縁性樹脂を含
浸してプリプレグを作製する工程と、前記プリプレグに
金属箔体を積層する工程と、前記金属箔体をパターニン
グして回路を形成する工程とを含み、前記プリプレグに
金属箔体を積層する工程において、前記プリプレグと前
記金属箔体との間にリン化合物層を介在させることを特
徴とする。このような構成にしたことにより、導電層と
絶縁層との間で生じる界面破壊を抑制することができ、
導電層間の接着強度が高いプリント配線基板とすること
ができる。また、プリント配線基板の難燃性の向上およ
び導電層の防錆を図ることもできる。
In order to achieve the above object, a second method of manufacturing a printed wiring board according to the present invention comprises a step of impregnating a base material with an insulating resin to produce a prepreg, and laminating a metal foil body on the prepreg. And a step of patterning the metal foil body to form a circuit, and in the step of laminating the metal foil body on the prepreg, interposing a phosphorus compound layer between the prepreg and the metal foil body. It is characterized by. With such a configuration, it is possible to suppress interface destruction occurring between the conductive layer and the insulating layer,
A printed wiring board having high adhesive strength between conductive layers can be obtained. In addition, the flame retardancy of the printed wiring board can be improved and the conductive layer can be prevented from rusting.

【0015】前記第2の製造方法においては、前記プリ
プレグを作製する工程の前に、前記基材を構成する繊維
の表面にリン化合物を付着させる工程を実施することが
好ましい。この好ましい例によれば、絶縁層内部の繊維
と絶縁性樹脂との間で生じる界面破壊と、導電層と絶縁
層との間で生じる界面破壊の両方を抑制することができ
るため、導電層間の接着強度のより高いプリント配線基
板とすることができる。
In the second manufacturing method, it is preferable to carry out a step of attaching a phosphorus compound to the surface of the fiber constituting the base material before the step of preparing the prepreg. According to this preferred example, it is possible to suppress both the interfacial breakdown generated between the fiber inside the insulating layer and the insulating resin and the interfacial breakdown generated between the conductive layer and the insulating layer. A printed wiring board having higher adhesive strength can be obtained.

【0016】前記第1および第2の製造方法において
は、前記リン化合物が、リン酸エステルおよび亜リン酸
エステルからなる群より選ばれる少なくとも1種のエス
テルであることが好ましい。
In the first and second production methods, it is preferable that the phosphorus compound is at least one ester selected from the group consisting of a phosphoric ester and a phosphite.

【0017】また、前記第1および第2の製造方法にお
いては、前記基材が、ガラス繊維または有機繊維を主な
構成材料とすることが好ましい。また、有機繊維として
は、全芳香族ポリアミドおよび全芳香族ポリエステルよ
り選ばれる少なくとも1種の有機繊維が好ましい。
In the first and second manufacturing methods, it is preferable that the base material is mainly made of glass fiber or organic fiber. Further, as the organic fiber, at least one kind of organic fiber selected from a wholly aromatic polyamide and a wholly aromatic polyester is preferable.

【0018】また、前記第1および第2の製造方法にお
いては、前記絶縁性樹脂が、エポキシ樹脂、ビスマレイ
ミドトリアジン樹脂、ポリエステル樹脂およびポリイミ
ド樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の樹脂を
含むことが好ましい。
In the first and second manufacturing methods, the insulating resin may include at least one resin selected from the group consisting of an epoxy resin, a bismaleimide triazine resin, a polyester resin, and a polyimide resin. Is preferred.

【0019】[0019]

【発明の実施の形態】(第1の実施形態)本発明の第1
の実施形態は、2以上の導電層が基材と絶縁性樹脂との
複合材料で構成される絶縁層を介して積層しており、絶
縁層中の基材と絶縁性樹脂とが接触する界面にリン化合
物が介在するプリント配線基板である。以下に、このプ
リント配線基板の製造方法の一例を説明する。
(First Embodiment) A first embodiment of the present invention.
In the embodiment, two or more conductive layers are laminated via an insulating layer composed of a composite material of a base material and an insulating resin, and an interface at which the base material and the insulating resin in the insulating layer are in contact with each other. Is a printed wiring board in which a phosphorus compound is interposed. Hereinafter, an example of a method for manufacturing the printed wiring board will be described.

【0020】まず、基材にリン化合物を導入する工程が
実施される。基材は絶縁層の補強材としての機能を果た
すものであり、絶縁性樹脂を担持し得るような多孔性の
材料、具体的には、紙、織布または不織布など繊維を主
な構成要素とする材料が使用される。基材を構成する繊
維としてはガラス繊維および有機繊維が挙げられる。有
機繊維としては、例えば、全芳香族ポリアミド(アラミ
ド樹脂)、全芳香族ポリエステル、ポリブチレンオキシ
ド(PBO)などが挙げられ、なかでも全芳香族ポリア
ミドおよび全芳香族ポリエステルが好ましい。また、基
材の厚さは50〜110μm程度、目付は25〜150
g/m2程度が適当である。
First, a step of introducing a phosphorus compound into a substrate is performed. The base material functions as a reinforcing material for the insulating layer, and is made of a porous material capable of supporting an insulating resin, specifically, paper, a fiber such as a woven fabric or a nonwoven fabric, and a main component. Material is used. The fibers constituting the base material include glass fibers and organic fibers. Examples of the organic fiber include a wholly aromatic polyamide (aramid resin), a wholly aromatic polyester, polybutylene oxide (PBO), and the like. Among them, a wholly aromatic polyamide and a wholly aromatic polyester are preferable. The thickness of the base material is about 50 to 110 μm, and the basis weight is 25 to 150.
g / m 2 is appropriate.

【0021】リン化合物としては、リン酸エステル、亜
リン酸エステルなどが使用できる。リン酸エステルとし
ては、例えば、ブチルアシッドホスフェート、ブトキシ
エチルアシッドフォスフェート、2−エチルヘキシルア
シドフォスフェートなどのモノアルキル(またはアリー
ル)リン酸エステル、ジアルキル(またはアリール)リ
ン酸エステルおよびトリアルキル(またはアリール)リ
ン酸エステルなどが使用できる。亜リン酸エステルとし
ては、トリフェニルホスファイトなどのトリアルキル
(またはアリール)リン酸エステル、モノアルキル(ま
たはアリール)亜リン酸エステル、ジアルキル(または
アリール)リン酸エステルなどが挙げられる。また、ポ
リリン酸エステルまたはポリ亜リン酸エステルを使用す
ることもでき、そのようなエステルとしては、例えばテ
トラフェニルジプロピレングリコールジホスファイトな
どが挙げられる。
As the phosphorus compound, phosphate esters, phosphite esters, and the like can be used. Examples of the phosphate include monoalkyl (or aryl) phosphates such as butyl acid phosphate, butoxyethyl acid phosphate, 2-ethylhexyl acid phosphate, dialkyl (or aryl) phosphate, and trialkyl (or aryl). ) Phosphate esters and the like can be used. Examples of the phosphite include a trialkyl (or aryl) phosphate such as triphenyl phosphite, a monoalkyl (or aryl) phosphite, a dialkyl (or aryl) phosphate, and the like. In addition, a polyphosphoric acid ester or a polyphosphorous acid ester can be used, and examples of such an ester include tetraphenyldipropylene glycol diphosphite.

【0022】基材にリン化合物を導入する工程は、換言
すれば、基材となる不織布などを構成する繊維の表面に
リン化合物を付着させ、好ましくは繊維表面にリン化合
物層を形成する工程である。付着させるリン化合物の量
は、基材に対して0.1〜10重量%となる程度とする
のが適当である。この工程は、リン酸エステルまたは亜
リン酸エステルなどのリン化合物を適当な溶媒に溶解さ
せ、この溶液中に基材を浸漬した後、乾燥させることに
より実施することができる。このような方法によれば、
基材となる不織布などを構成する繊維表面をリン化合物
層によって被覆することができる。溶媒としては、リン
化合物を溶解させることができるものであれば特に限定
されないが、揮発性の溶媒が好ましく、例えば、エタノ
ール、メチルエチルケトン、ジエチルエーテルなどが使
用できる。また、特に限定するものではないが、リン化
合物溶液の濃度は0.05〜15重量%程度、浸漬時間
は数秒程度が適当である。
The step of introducing the phosphorus compound into the base material is, in other words, a step of adhering the phosphorus compound to the surface of the fibers constituting the nonwoven fabric or the like as the base material, preferably forming a phosphorus compound layer on the fiber surface. is there. It is appropriate that the amount of the phosphorus compound to be attached is about 0.1 to 10% by weight based on the substrate. This step can be performed by dissolving a phosphorus compound such as a phosphoric ester or a phosphite in a suitable solvent, immersing the substrate in the solution, and then drying the substrate. According to such a method,
The surface of a fiber constituting a nonwoven fabric or the like serving as a base material can be covered with a phosphorus compound layer. The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the phosphorus compound, but a volatile solvent is preferable, and for example, ethanol, methyl ethyl ketone, diethyl ether and the like can be used. Although not particularly limited, it is appropriate that the concentration of the phosphorus compound solution is about 0.05 to 15% by weight, and the immersion time is about several seconds.

【0023】次に、リン化合物を導入した基材に樹脂ワ
ニスを含浸させた後乾燥し、プリント配線基板の絶縁層
となるプリプレグを作製する。樹脂ワニスは、絶縁性樹
脂を、必要に応じて硬化剤と共に、エタノールやメチル
エチルケトンなどの揮発性溶媒に溶解させて作製するこ
とができる。絶縁性樹脂としては、エポキシ樹脂、ビス
マレイミドトリアジン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイ
ミド樹脂、フェノール樹脂などの熱硬化性樹脂が挙げら
れる。また、樹脂ワニスの含浸は、絶縁性樹脂のプリプ
レグ全体における割合が45〜60重量%程度となるよ
うに行うのが適当である。
Next, the substrate into which the phosphorus compound has been introduced is impregnated with a resin varnish and then dried to prepare a prepreg to be an insulating layer of a printed wiring board. The resin varnish can be produced by dissolving an insulating resin in a volatile solvent such as ethanol or methyl ethyl ketone together with a curing agent if necessary. Examples of the insulating resin include thermosetting resins such as an epoxy resin, a bismaleimide triazine resin, a polyester resin, a polyimide resin, and a phenol resin. The resin varnish is preferably impregnated so that the proportion of the insulating resin in the entire prepreg is about 45 to 60% by weight.

【0024】作製したプリプレグに貫通孔を形成し、こ
の貫通孔に導電性ペーストを充填する。導電性ペースト
としては、銅、銀、金、銀パラジウムなどの導電性物質
の粉体と、エポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂とを混練し
たものを使用することができる。導電性ペーストの導電
性物質の含有量は85〜95重量%程度が適当である。
この工程は、予めプリプレグ表面にポリエステルなどの
離形性フィルムを張り付けておき、このフィルムを備え
たプリプレグの所定の箇所にレーザー加工法などによっ
て貫通孔を形成し、プリプレグ表面に残存するフィルム
をマスクとして導電性ペーストを印刷した後、フィルム
を剥離する方法によって実施することができる。
A through-hole is formed in the prepared prepreg, and the through-hole is filled with a conductive paste. As the conductive paste, a paste obtained by kneading a powder of a conductive substance such as copper, silver, gold, or silver palladium and a thermosetting resin such as an epoxy resin can be used. The content of the conductive substance in the conductive paste is suitably about 85 to 95% by weight.
In this step, a release film such as polyester is pasted on the surface of the prepreg in advance, a through hole is formed at a predetermined position of the prepreg provided with this film by a laser processing method, and the film remaining on the prepreg surface is masked. After printing the conductive paste, the method can be performed by a method of peeling the film.

【0025】導電性ペーストを充填した後、導電層とな
る金属箔をプリプレグ表面に張り付け、熱圧着すること
によって積層する。金属箔としては、銅箔、銀箔、ニッ
ケル箔およびこれらの合金の箔体などが使用でき、金属
箔の厚さは9〜40μm程度が適当である。また、熱圧
着の条件は、温度180〜230℃、圧力45〜60k
g/cm2が適当である。熱圧着後、プリプレグ表面に
積層された金属箔をエッチングし、回路パターンを形成
する。
After filling the conductive paste, a metal foil to be a conductive layer is attached to the surface of the prepreg and laminated by thermocompression bonding. As the metal foil, a copper foil, a silver foil, a nickel foil, a foil body of an alloy thereof or the like can be used, and the thickness of the metal foil is suitably about 9 to 40 μm. The conditions for thermocompression bonding are a temperature of 180 to 230 ° C. and a pressure of 45 to 60 k.
g / cm 2 is appropriate. After the thermocompression bonding, the metal foil laminated on the prepreg surface is etched to form a circuit pattern.

【0026】上記の製造方法において導電層をプリプレ
グの両面に形成すれば、2層配線板を作製することがで
きる。また、更に多層の配線基板を作製する場合は、上
記方法と同様にして作製したプリプレグに貫通孔を形成
し、この貫通孔に導電性ペーストを充填した後、コアと
なる2層配線板または多層配線板にこのプリプレグを積
層し、その表面に金属箔を熱圧着しパターニングして導
電層を形成すればよい。このときコアとなる2層配線板
または多層配線板は特に限定するものではなく、従来の
製造方法で製造されたものを使用することもできるが、
本発明の製造方法で製造されたものであることが好まし
い。
If a conductive layer is formed on both surfaces of the prepreg in the above-described manufacturing method, a two-layer wiring board can be manufactured. When a multilayer wiring board is further manufactured, a through-hole is formed in a prepreg manufactured in the same manner as described above, and after filling the through-hole with a conductive paste, a two-layer wiring board or a multilayer serving as a core is formed. The prepreg may be laminated on a wiring board, and a metal foil may be thermocompression-bonded and patterned on the surface to form a conductive layer. At this time, the two-layer wiring board or the multilayer wiring board serving as the core is not particularly limited, and a core manufactured by a conventional manufacturing method can be used.
It is preferably produced by the production method of the present invention.

【0027】上記方法で製造され得る本発明のプリント
配線基板は、前述したように、2以上の導電層が基材と
絶縁性樹脂との複合材料で構成される絶縁層を介して積
層しており、絶縁層中の基材と絶縁性樹脂とが接触する
界面にリン化合物が介在している。よって、基材を構成
する繊維と絶縁性樹脂との間の接着強度が向上するた
め、絶縁層内部での破壊を抑制し、プリント配線基板の
導電層の剥離を抑制することができる。また、リン化合
物は難燃化剤としての性質を有するため、リン化合物を
基材に導入することにより、プリント配線基板に難燃性
を付与することもできる。
As described above, the printed wiring board of the present invention which can be manufactured by the above method is obtained by laminating two or more conductive layers via an insulating layer composed of a composite material of a base material and an insulating resin. In addition, the phosphorus compound is interposed at the interface between the base material and the insulating resin in the insulating layer. Therefore, the adhesive strength between the fiber constituting the base material and the insulating resin is improved, so that the destruction inside the insulating layer can be suppressed, and the peeling of the conductive layer of the printed wiring board can be suppressed. Further, since the phosphorus compound has a property as a flame retardant, it is possible to impart flame retardancy to the printed wiring board by introducing the phosphorus compound into the base material.

【0028】なお、本実施形態ではIVH構造を例に挙
げて説明しているが、本発明はこの構造に限定されるも
のではなく、例えば、スルーホール構造のプリント配線
基板に適用することもできる。
Although the present embodiment has been described by taking an IVH structure as an example, the present invention is not limited to this structure. For example, the present invention can be applied to a printed wiring board having a through-hole structure. .

【0029】(第2の実施形態)本発明の第2の実施形
態は、2以上の導電層が基材と絶縁性樹脂との複合材料
である絶縁層を介して積層し、導電層と絶縁層との間に
リン化合物層が介在したプリント配線基板である。以下
に、このプリント配線基板の製造方法の一例を説明す
る。
(Second Embodiment) In a second embodiment of the present invention, two or more conductive layers are laminated via an insulating layer which is a composite material of a base material and an insulating resin, and the conductive layer is insulated. The printed wiring board has a phosphorus compound layer interposed between the layers. Hereinafter, an example of a method for manufacturing the printed wiring board will be described.

【0030】まず、基材に絶縁性樹脂を含浸してプリプ
レグを作製する。基材としては、全芳香族ポリアミドま
たは全芳香族ポリエステルの不織布など、第1の実施形
態で例示した材料を使用することができる。また、第1
の実施形態と同様にしてリン化合物を導入した基材を使
用することが好ましい。絶縁性樹脂についても、エポキ
シ樹脂、ビスマレイミドトリアジン樹脂、ポリエステル
樹脂、ポリイミド樹脂など、第1の実施形態と同様の材
料を使用することができる。絶縁性樹脂の含浸量は、プ
リプレグ全体の45〜60重量%程度とするのが適当で
ある。
First, a prepreg is prepared by impregnating a base material with an insulating resin. As the substrate, the materials exemplified in the first embodiment, such as a wholly aromatic polyamide or a wholly aromatic polyester nonwoven fabric, can be used. Also, the first
It is preferable to use a substrate into which a phosphorus compound has been introduced in the same manner as in the embodiment. As the insulating resin, the same materials as those in the first embodiment, such as an epoxy resin, a bismaleimide triazine resin, a polyester resin, and a polyimide resin, can be used. The amount of the insulating resin impregnated is suitably about 45 to 60% by weight of the entire prepreg.

【0031】作製したプリプレグ表面にリン化合物層を
形成する。リン化合物としては、第1の実施形態で例示
したものと同様のリン酸エステルまたは亜リン酸エステ
ルを使用することができる。リン化合物層の形成方法は
特に限定するものではないが、例えば、リン化合物を適
当な溶媒に溶解した溶液をプリプレグ表面にスプレーす
る方法、または、リン化合物溶液にプリプレグを浸漬す
る方法などが採用できる。溶媒としては、揮発性の溶媒
が好ましく、例えば、エタノール、ジエチルエーテルな
どが使用できる。また、溶液の濃度は、特に限定するも
のではないが0.05〜10重量%程度が適当である。
なお、リン化合物層の厚さは、1〜10μm程度とする
のが適当である。
A phosphorus compound layer is formed on the surface of the prepared prepreg. As the phosphorus compound, the same phosphoric acid ester or phosphite as exemplified in the first embodiment can be used. The method for forming the phosphorus compound layer is not particularly limited. For example, a method in which a solution in which a phosphorus compound is dissolved in an appropriate solvent is sprayed on the prepreg surface, or a method in which the prepreg is immersed in the phosphorus compound solution can be adopted. . As the solvent, a volatile solvent is preferable, and for example, ethanol, diethyl ether and the like can be used. The concentration of the solution is not particularly limited, but is suitably about 0.05 to 10% by weight.
Note that the thickness of the phosphorus compound layer is suitably about 1 to 10 μm.

【0032】次に、プリプレグの所定の箇所にレーザー
加工法などによって貫通孔を形成し、この貫通孔に導電
性ペーストを充填する。この工程は第1の実施形態と同
様にして行うことができる。更に、リン化合物層を形成
したプリプレグ表面に金属箔を張り付け、熱圧着するこ
とによって積層する。熱圧着は、温度180〜230
℃、圧力45〜60kg/cm2の条件で行うのが適当
である。熱圧着後、プリプレグ表面に積層された金属箔
をエッチングして回路パターンを形成する。
Next, through holes are formed in predetermined portions of the prepreg by a laser processing method or the like, and the through holes are filled with a conductive paste. This step can be performed in the same manner as in the first embodiment. Further, a metal foil is attached to the surface of the prepreg on which the phosphorus compound layer is formed, and laminated by thermocompression bonding. Thermocompression bonding temperature 180-230
It is appropriate to carry out the reaction at a temperature of 45 ° C. and a pressure of 45 to 60 kg / cm 2 . After thermocompression bonding, the metal foil laminated on the prepreg surface is etched to form a circuit pattern.

【0033】上記方法において導電層をプリプレグの両
面に形成すれば、2層配線板を作製することができる。
また、更に多層の配線基板を作製する場合は、コアとな
る2層配線板または多層配線板に、上記方法と同様にし
てリン化合物層を形成したプリプレグを積層し、その表
面に金属箔を積層すればよい。このときコアとなる2層
配線板または多層配線板は特に限定するものではない
が、本発明の製造方法で製造されたものであることが好
ましい。
If a conductive layer is formed on both surfaces of the prepreg in the above method, a two-layer wiring board can be manufactured.
When a multi-layer wiring board is to be produced, a prepreg on which a phosphorus compound layer is formed is laminated on a two-layer wiring board or a multilayer wiring board as a core in the same manner as described above, and a metal foil is laminated on the surface. do it. At this time, the two-layer wiring board or the multilayer wiring board serving as the core is not particularly limited, but is preferably manufactured by the manufacturing method of the present invention.

【0034】上記方法で製造され得る本発明のプリント
配線基板は、前述したように、導電層と絶縁層との間に
リン化合物が介在している。よって、絶縁層と導電層と
の間の接着強度が向上するため、プリント配線基板の導
電層間で生じる剥離を抑制することができる。また、リ
ン化合物は難燃化剤および防錆剤としての性質を有する
ため、プリント配線基板の難燃性および回路パターンに
おける絶縁信頼性を向上させることができる。
As described above, the printed wiring board of the present invention which can be manufactured by the above method has a phosphorus compound interposed between the conductive layer and the insulating layer. Accordingly, since the adhesive strength between the insulating layer and the conductive layer is improved, peeling between the conductive layers of the printed wiring board can be suppressed. Further, since the phosphorus compound has properties as a flame retardant and a rust preventive, the flame retardancy of the printed wiring board and the insulation reliability in the circuit pattern can be improved.

【0035】なお、本実施形態ではIVH構造を例に挙
げて説明しているが、本発明はこの構造に限定されるも
のではなく、例えば、スルーホール構造のプリント配線
基板に適用することもできる。
In this embodiment, the IVH structure is described as an example. However, the present invention is not limited to this structure, and can be applied to, for example, a printed wiring board having a through-hole structure. .

【0036】(第3の実施形態)本発明の第3の実施形
態は、第2の実施形態と同様に、2以上の導電層が絶縁
層を介して積層しており、この導電層と絶縁層との間に
リン化合物層が介在するものである。第3の実施形態
は、絶縁層に形成された貫通孔に充填された導電性ペー
ストによって導電層間の電気的接続を確保したIVH構
造のプリント配線基板に関するものであり、この導電性
ペーストと導電層とが接触する界面にもリン化合物層が
形成されている。以下に、このプリント配線基板の製造
方法の一例を説明する。
(Third Embodiment) In a third embodiment of the present invention, as in the second embodiment, two or more conductive layers are laminated via an insulating layer. A phosphorus compound layer is interposed between the layers. The third embodiment relates to a printed wiring board having an IVH structure in which electrical connection between conductive layers is ensured by a conductive paste filled in a through hole formed in an insulating layer. A phosphorus compound layer is also formed at the interface where the phosphorous compound contacts. Hereinafter, an example of a method for manufacturing the printed wiring board will be described.

【0037】基材に絶縁性樹脂を含浸して形成したプリ
プレグに、レーザー加工法などによって貫通孔を形成
し、この貫通孔に導電性ペーストを充填する。以上の工
程は、プリプレグ表面にリン化合物層を形成しないこと
以外は、第2の実施形態と同様に行うことができる。
A through-hole is formed in a prepreg formed by impregnating a base material with an insulating resin by a laser processing method or the like, and the through-hole is filled with a conductive paste. The above steps can be performed in the same manner as in the second embodiment except that the phosphorus compound layer is not formed on the prepreg surface.

【0038】その一方で、導電層となる金属箔表面にリ
ン化合物層を形成する。金属箔およびリン化合物は、第
1の実施形態で例示したものと同様の材料を使用するこ
とができる。リン化合物層の厚さは、1〜5μm程度と
するのが適当である。リン化合物層の形成方法は特に限
定するものではないが、例えば、スピンコーターなどに
よってリン化合物溶液を金属箔表面に塗布する方法が挙
げられる。溶媒としては揮発性のものが好ましく、例え
ば、エタノール、ジエチルエーテルなどが使用できる。
また、溶液の濃度は、特に限定するものではないが、
1.0〜20重量%程度が適当である。
On the other hand, a phosphorus compound layer is formed on the surface of the metal foil to be the conductive layer. As the metal foil and the phosphorus compound, the same materials as those exemplified in the first embodiment can be used. The thickness of the phosphorus compound layer is suitably about 1 to 5 μm. The method of forming the phosphorus compound layer is not particularly limited, and examples thereof include a method of applying a phosphorus compound solution to the surface of the metal foil using a spin coater or the like. As the solvent, a volatile solvent is preferable, and for example, ethanol, diethyl ether and the like can be used.
Further, the concentration of the solution is not particularly limited,
About 1.0 to 20% by weight is appropriate.

【0039】導電性ペーストを充填したプリプレグに、
リン化合物層を形成した金属箔を張り付け、熱圧着する
ことによって積層する。熱圧着は第2の実施形態と同様
の条件で行うことができる。熱圧着後、プリプレグ表面
に積層された金属箔をエッチングして回路パターンを形
成する。
In the prepreg filled with the conductive paste,
The metal foil on which the phosphorus compound layer is formed is attached and laminated by thermocompression bonding. Thermocompression bonding can be performed under the same conditions as in the second embodiment. After thermocompression bonding, the metal foil laminated on the prepreg surface is etched to form a circuit pattern.

【0040】上記方法において導電層をプリプレグの両
面に形成すれば、2層配線板を作製することができる。
また、更に多層の配線基板を作製する場合は、コアとな
る2層配線板または多層配線板にプリプレグを積層し、
その表面に、上記方法と同様にしてリン化合物層を形成
した金属箔を積層すればよい。このときコアとなる2層
配線板または多層配線板は特に限定するものではない
が、本発明の製造方法で製造されたものであることが好
ましい。
If a conductive layer is formed on both sides of the prepreg in the above method, a two-layer wiring board can be manufactured.
Further, in the case of producing a multilayer wiring board, a prepreg is laminated on a two-layer wiring board or a multilayer wiring board serving as a core,
A metal foil having a phosphorus compound layer formed thereon may be laminated on the surface in the same manner as described above. At this time, the two-layer wiring board or the multilayer wiring board serving as the core is not particularly limited, but is preferably manufactured by the manufacturing method of the present invention.

【0041】上記のような方法によれば、プリント配線
基板の導電層の剥離を抑制することはもちろん、金属箔
と導電性ペーストとの間にリン化合物層が形成されてい
るため、導電層である金属箔と導電性ペーストとの接着
強度を向上させることができ、導電層間接続の信頼性を
向上させることができる。また第2の実施形態と同様
に、プリント配線基板の難燃性の向上および回路パター
ンの防錆化を図ることもできる。
According to the above-described method, not only is the peeling of the conductive layer of the printed wiring board suppressed, but also the phosphorus compound layer is formed between the metal foil and the conductive paste. The adhesive strength between a certain metal foil and a conductive paste can be improved, and the reliability of connection between conductive layers can be improved. Further, similarly to the second embodiment, the flame retardancy of the printed wiring board can be improved and the rust prevention of the circuit pattern can be achieved.

【0042】[0042]

【実施例】以下、本発明を実施例および比較例によって
詳細に説明する。
The present invention will be described below in detail with reference to examples and comparative examples.

【0043】(比較例1)臭素化ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂30重量部、3官能エポキシ樹脂35重量
部、ノボラック型フェノール樹脂30重量部、カルボニ
ルジイミダゾール0.1重量部およびメチルエチルケト
ン67重量部を溶解混合して樹脂ワニスを調製した。こ
の樹脂ワニスをアラミド不織布(帝人社製「テクノーラ
(商品名)」)に含浸した後乾燥し、プリプレグとし
た。含浸はプリプレグ中の合計樹脂量が50±1重量%
になるように行い、乾燥条件は140℃で3分間とし
た。このプリプレグの両面に銅箔を積層し、200℃、
50kg/cm2で1時間の条件で真空熱プレスにて熱
圧着し、銅張積層板を得た(試料No.1)。
Comparative Example 1 30 parts by weight of a brominated bisphenol A type epoxy resin, 35 parts by weight of a trifunctional epoxy resin, 30 parts by weight of a novolak type phenol resin, 0.1 parts by weight of carbonyldiimidazole and 67 parts by weight of methyl ethyl ketone were dissolved. By mixing, a resin varnish was prepared. This resin varnish was impregnated into an aramid nonwoven fabric ("Technola (trade name)" manufactured by Teijin Limited) and then dried to obtain a prepreg. For impregnation, the total amount of resin in the prepreg is 50 ± 1% by weight.
The drying condition was 140 ° C. for 3 minutes. Laminate copper foil on both sides of this prepreg, 200 ° C,
Thermocompression bonding was performed with a vacuum hot press at 50 kg / cm 2 for 1 hour to obtain a copper-clad laminate (Sample No. 1).

【0044】(実施例1)リン化合物の1重量%エタノ
ール溶液を調製し、この溶液にアラミド不織布を浸漬し
た後乾燥させた。このような処理を施したアラミド不織
布を用いてプリプレグを作製したこと以外は、比較例1
と同様にして銅張積層板を作製した。リン化合物とし
て、ブチルアシッドホスフェート、ブトキシエチルアシ
ッドホスフェート、2−エチルヘキシルアシッドホスフ
ェート、トリフェニルホスファイト、テトラフェニルジ
プロピレングリコールジホスファイトを各々使用して5
種類の試料を作製した(試料No.2〜6)。
Example 1 A 1% by weight ethanol solution of a phosphorus compound was prepared, and an aramid nonwoven fabric was immersed in the solution and dried. Comparative Example 1 except that a prepreg was prepared using the aramid nonwoven fabric treated as described above.
A copper-clad laminate was produced in the same manner as described above. As the phosphorus compound, butyl acid phosphate, butoxyethyl acid phosphate, 2-ethylhexyl acid phosphate, triphenyl phosphite, and tetraphenyldipropylene glycol diphosphite were used.
Various types of samples were prepared (Sample Nos. 2 to 6).

【0045】(実施例2)プリプレグ表面にリン化合物
層を形成したこと以外は、比較例1と同様にして銅張積
層板を作製した。リン化合物層は、リン化合物のエタノ
ール溶液をスプレーによってプリプレグ表面に塗布する
ことによって形成し、層厚は3μmに調整した。リン化
合物として、実施例1で使用したものと同様の5種の化
合物を各々使用し、5種類の試料を作製した(試料N
o.7〜11)。
Example 2 A copper-clad laminate was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that a phosphorus compound layer was formed on the prepreg surface. The phosphorus compound layer was formed by applying an ethanol solution of the phosphorus compound to the surface of the prepreg by spraying, and the layer thickness was adjusted to 3 μm. Five kinds of samples were prepared using the same five kinds of compounds as those used in Example 1 as the phosphorus compounds (sample N).
o. 7-11).

【0046】(実施例3)銅箔表面にリン化合物層を形
成したこと以外は、比較例1と同様にして銅張積層板を
作製した。リン化合物層は、リン化合物のエタノール溶
液をスピンコーターによって銅箔表面に塗布することに
よって形成し、層厚は3μmに調整した。リン化合物と
して、実施例1で使用したものと同様の5種の化合物を
各々使用し、5種類の試料を作製した(試料No.12
〜16)。
Example 3 A copper-clad laminate was produced in the same manner as in Comparative Example 1, except that a phosphorus compound layer was formed on a copper foil surface. The phosphorus compound layer was formed by applying an ethanol solution of the phosphorus compound to the surface of the copper foil using a spin coater, and the layer thickness was adjusted to 3 μm. Five kinds of samples were prepared using the same five kinds of compounds as those used in Example 1 as the phosphorus compounds (Sample No. 12).
~ 16).

【0047】(実施例4)プリプレグ表面にリン化合物
層を形成したこと以外は、実施例1と同様の操作によっ
て銅張積層板を作製した。リン化合物層は、リン化合物
のエタノール溶液をスプレーによってプリプレグ表面に
塗布することによって形成し、層厚は3μmに調整し
た。リン化合物として、ブチルアシッドホスフェート、
トリフェニルホスファイトを各々使用して2種類の試料
を作製した(試料No.17およびNo.18)。
Example 4 A copper-clad laminate was produced in the same manner as in Example 1 except that a phosphorus compound layer was formed on the prepreg surface. The phosphorus compound layer was formed by applying an ethanol solution of the phosphorus compound to the surface of the prepreg by spraying, and the layer thickness was adjusted to 3 μm. As a phosphorus compound, butyl acid phosphate,
Two types of samples were prepared using each of triphenyl phosphites (Sample Nos. 17 and 18).

【0048】(実施例5)銅箔表面にリン化合物層を形
成したこと以外は、実施例1と同様の操作によって銅張
積層板を作製した。リン化合物層は、リン化合物のエタ
ノール溶液をスピンコーターによって銅箔表面に塗布す
ることによって形成し、層厚は3μmに調整した。リン
化合物として、実施例4で使用したものと同様の2種の
化合物を各々使用し、2種類の試料を作製した(試料N
o.19およびNo.20)。
Example 5 A copper-clad laminate was produced in the same manner as in Example 1, except that a phosphorus compound layer was formed on the surface of the copper foil. The phosphorus compound layer was formed by applying an ethanol solution of the phosphorus compound to the surface of the copper foil using a spin coater, and the layer thickness was adjusted to 3 μm. As the phosphorus compound, two kinds of compounds similar to those used in Example 4 were used, and two kinds of samples were prepared (sample N).
o. 19 and no. 20).

【0049】実施例1〜5および比較例1で作製した試
料について、導電層間の接着強度を測定した。
For the samples prepared in Examples 1 to 5 and Comparative Example 1, the adhesive strength between the conductive layers was measured.

【0050】接着強度の測定手順は、まず、作製した試
料から1cm幅の試験片を切り出し、その導電層(金属
箔層)間を試験片の端部から適当な長さだけ引き裂い
た。引張試験機の2つのチャック部に引き裂かれた両端
を各々挟み、一端を固定した状態で他端に引張応力を掛
けて引張強度を測定し、これを接着強度とした。なお、
引張方向は、試験片の引き裂かれていない部分の長さ方
向と引張方向とが成す角度が180゜になるように調整
した。結果を、使用したリン化合物および処理部位と共
に表1に示す。なお、処理部位は、リン化合物による処
理を施した部材の欄に(○)を、処理を施していない部
材の欄に(−)を付すことによって示している。
The procedure for measuring the adhesive strength was as follows. First, a test piece having a width of 1 cm was cut out from the prepared sample, and the conductive layer (metal foil layer) was torn from the end of the test piece by an appropriate length. The torn ends were sandwiched between two chuck portions of a tensile tester, and a tensile stress was applied to the other end while one end was fixed, and the tensile strength was measured. In addition,
The tensile direction was adjusted so that the angle formed between the length direction of the part of the test piece that was not torn and the tensile direction was 180 °. The results are shown in Table 1 together with the phosphorus compound used and the treatment site. The treated sites are indicated by (○) in the column of the members that have been treated with the phosphorus compound, and (-) in the column of the members that have not been treated.

【0051】[0051]

【表1】 [Table 1]

【0052】表1より、比較例1で作製した試料(試料
No.1)と比較して、実施例1〜5で作製した試料
(試料No.2〜20)はいずれも導電層間の接着強度
が向上していることが確認できた。特に、不織布とプリ
プレグまたは金属箔との両方にリン化合物による処理を
施した実施例4および5の試料(試料No.17〜2
0)において、優れた接着強度が得られた。
As shown in Table 1, the adhesive strength between the conductive layers of all of the samples (Samples Nos. 2 to 20) manufactured in Examples 1 to 5 was compared with the sample (Sample No. 1) manufactured in Comparative Example 1. Has been confirmed to have improved. In particular, the samples of Examples 4 and 5 in which both the nonwoven fabric and the prepreg or the metal foil were treated with the phosphorus compound (Sample Nos. 17 to 2)
In 0), excellent adhesive strength was obtained.

【0053】次に、本発明の第3の実施形態であるリン
化合物層が導電層と導電ペーストとの界面に存在するI
VH構造のプリント配線基板において、リン化合物が導
電層と導電ペーストとの界面の特性に及ぼす影響を調べ
るため、以下の試験を行った。
Next, according to the third embodiment of the present invention, the phosphorus compound layer existing at the interface between the conductive layer and the conductive paste
The following test was performed to investigate the effect of a phosphorus compound on the characteristics of the interface between a conductive layer and a conductive paste in a printed wiring board having a VH structure.

【0054】(試験例1)平均粒径が2μmである銅粉
と無溶剤型のエポキシ樹脂とを3本ロールで混練して導
電性ペーストを作製した。なお、この導電性ペーストの
銅粉含有量は90重量%とした。次に、銅箔表面に、1
×10cmの開口を形成したクッション材を置き、その
開口部に前記導電性ペーストを充填した。このクッショ
ン材の上に更に別の銅箔を積層し、200℃、50kg
/cm2で1時間の条件で真空熱プレスにて熱圧着し、
試料を作製した(試料No.21)。
Test Example 1 A conductive paste was prepared by kneading a copper powder having an average particle diameter of 2 μm and a solventless epoxy resin with three rolls. In addition, the copper powder content of this conductive paste was 90% by weight. Next, 1
A cushion material having an opening of 10 cm was placed, and the opening was filled with the conductive paste. Another copper foil is further laminated on this cushion material, and 200 ° C., 50 kg
Thermocompression bonding with a vacuum hot press under the condition of / cm 2 for 1 hour,
A sample was prepared (Sample No. 21).

【0055】(試験例2)銅箔表面に、リン化合物のエ
タノール溶液をスピンコーターによって塗布して層厚3
μmのリン化合物層を形成した。このような処理を施し
た銅箔を使用したこと以外は試験例1と同様にして試料
を作製した。リン化合物として実施例1と同様の5種の
化合物を各々使用し、5種類の試料を得た(試料No.
22〜26)。
(Test Example 2) An ethanol solution of a phosphorus compound was applied to the surface of a copper foil by a spin coater to obtain a layer thickness of 3
A phosphorus compound layer having a thickness of μm was formed. A sample was prepared in the same manner as in Test Example 1 except that a copper foil subjected to such treatment was used. The same five compounds as in Example 1 were used as the phosphorus compounds, and five types of samples were obtained (Sample No.
22-26).

【0056】試験例1および2で作製した試料につい
て、導電性ペーストが存在する部分を1cm幅に切り出
して試験片とし、接着強度を測定した。測定方法は、前
述した方法と同様である。結果を表2に示す。
With respect to the samples prepared in Test Examples 1 and 2, the portion where the conductive paste was present was cut out to a width of 1 cm to form a test piece, and the adhesive strength was measured. The measuring method is the same as the method described above. Table 2 shows the results.

【0057】[0057]

【表2】 [Table 2]

【0058】表2より、試験例1で作製した試料(試料
No.21)に比べて、試験例2で作製した試料(試料
No.22〜26)は導電層と導電ペーストとの間の接
着強度が高いことが確認できた。この結果から、本発明
の第3の実施形態によれば、導電層と導電ペーストとの
接着強度を向上させることができることが確認できた。
As shown in Table 2, the adhesion between the conductive layer and the conductive paste was higher in the samples (Samples Nos. 22 to 26) manufactured in Test Example 2 than in the samples (Sample No. 21) manufactured in Test Example 1. It was confirmed that the strength was high. From this result, it was confirmed that according to the third embodiment of the present invention, the adhesive strength between the conductive layer and the conductive paste can be improved.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の第1のプ
リント配線基板によれば、金属箔体によって形成された
2以上の導電層が、基材に絶縁性樹脂を含浸して形成さ
れた絶縁層を介して積層しており、前記基材を構成する
繊維の表面にリン化合物が付着していることにより、絶
縁層内部の繊維と絶縁性樹脂との間で生じる界面破壊を
抑制して、導電層間の接着強度を向上させることができ
る。
As described above, according to the first printed wiring board of the present invention, two or more conductive layers formed of a metal foil are formed by impregnating a base material with an insulating resin. Are laminated via an insulating layer, and the phosphorus compound is attached to the surface of the fiber constituting the base material, thereby suppressing interface destruction occurring between the fiber inside the insulating layer and the insulating resin. Thus, the adhesive strength between the conductive layers can be improved.

【0060】また、本発明の第2のプリント配線基板に
よれば、金属箔体によって形成された2以上の導電層
が、基材に絶縁性樹脂を含浸して形成された絶縁層を介
して積層しており、前記導電層と前記絶縁層との間にリ
ン化合物層が介在していることにより、導電層と絶縁層
との間で生じる界面破壊を抑制して、導電層間の接着強
度を向上させることができる。
Further, according to the second printed wiring board of the present invention, two or more conductive layers formed of a metal foil are interposed via an insulating layer formed by impregnating a base material with an insulating resin. Laminated, the interposition of the phosphorus compound layer between the conductive layer and the insulating layer, suppresses the interface breakdown between the conductive layer and the insulating layer, the adhesive strength between the conductive layers Can be improved.

【0061】また、本発明の第1のプリント配線基板の
製造方法によれば、基材に絶縁性樹脂を含浸してプリプ
レグを作製する工程と、前記プリプレグに金属箔体を積
層する工程と、前記金属箔体をパターニングして回路を
形成する工程とを含み、前記プリプレグを作製する工程
の前に、前記基材を構成する繊維の表面にリン化合物を
付着させる工程を実施することにより、絶縁層内部の繊
維と絶縁性樹脂との間で生じる界面破壊を抑制して、導
電層間の接着強度が高いプリント配線基板とすることが
できる。
Further, according to the first method of manufacturing a printed wiring board of the present invention, a step of producing a prepreg by impregnating a base material with an insulating resin, and a step of laminating a metal foil body on the prepreg; Forming a circuit by patterning the metal foil body, prior to the step of preparing the prepreg, by performing a step of attaching a phosphorus compound to the surface of the fiber constituting the substrate, insulation It is possible to provide a printed wiring board having high adhesive strength between conductive layers by suppressing interfacial destruction occurring between fibers in the layer and the insulating resin.

【0062】また、本発明の第2のプリント配線基板の
製造方法によれば、基材に絶縁性樹脂を含浸してプリプ
レグを作製する工程と、前記プリプレグに金属箔体を積
層する工程と、前記金属箔体をパターニングして回路を
形成する工程とを含み、前記プリプレグに金属箔体を積
層する工程において、前記プリプレグと前記金属箔体と
の間にリン化合物層を介在させることにより、導電層と
絶縁層との間で生じる界面破壊を抑制して、導電層間の
接着強度が高いプリント配線基板とすることができる。
Further, according to the second method of manufacturing a printed wiring board of the present invention, a step of producing a prepreg by impregnating a base material with an insulating resin, and a step of laminating a metal foil on the prepreg; Patterning the metal foil body to form a circuit, in the step of laminating the metal foil body on the prepreg, by interposing a phosphorus compound layer between the prepreg and the metal foil body, conductive The printed circuit board having a high adhesive strength between the conductive layers can be suppressed by suppressing the interface destruction generated between the layers and the insulating layer.

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 金属箔体によって形成された2以上の導
電層が、基材に絶縁性樹脂を含浸して形成された絶縁層
を介して積層してなるプリント配線基板であって、前記
基材を構成する繊維の表面にリン化合物が付着している
ことを特徴とするプリント配線基板。
1. A printed wiring board comprising two or more conductive layers formed by a metal foil body laminated via an insulating layer formed by impregnating a base material with an insulating resin, A printed wiring board, wherein a phosphorus compound is attached to a surface of a fiber constituting the material.
【請求項2】 金属箔体によって形成された2以上の導
電層が、基材に絶縁性樹脂を含浸して形成された絶縁層
を介して積層してなるプリント配線基板であって、前記
導電層と前記絶縁層との間にリン化合物層が介在してい
ることを特徴とするプリント配線基板。
2. A printed wiring board comprising two or more conductive layers formed of a metal foil body laminated via an insulating layer formed by impregnating a base material with an insulating resin. A printed wiring board, wherein a phosphorus compound layer is interposed between a layer and the insulating layer.
【請求項3】 前記絶縁層が貫通孔を有し、前記貫通孔
に充填された導電性ペーストによって前記導電層間が電
気的に接続されている請求項1または2に記載のプリン
ト配線基板。
3. The printed wiring board according to claim 1, wherein the insulating layer has a through-hole, and the conductive layers are electrically connected by a conductive paste filled in the through-hole.
【請求項4】 前記リン化合物が、リン酸エステルおよ
び亜リン酸エステルからなる群より選ばれる少なくとも
1種のエステルである請求項1〜3のいずれかに記載の
プリント配線基板。
4. The printed wiring board according to claim 1, wherein the phosphorus compound is at least one ester selected from the group consisting of a phosphate ester and a phosphite ester.
【請求項5】 前記基材が、ガラス繊維または有機繊維
を主な構成材料とする請求項1〜4のいずれかに記載の
プリント配線基板。
5. The printed wiring board according to claim 1, wherein said base material mainly comprises glass fibers or organic fibers.
【請求項6】 前記基材が、全芳香族ポリアミドおよび
全芳香族ポリエステルからなる群より選ばれる少なくと
も1種の有機繊維を主な構成材料とする請求項5に記載
のプリント配線基板。
6. The printed wiring board according to claim 5, wherein the base material is mainly composed of at least one organic fiber selected from the group consisting of wholly aromatic polyamides and wholly aromatic polyesters.
【請求項7】 前記絶縁性樹脂が、エポキシ樹脂、ビス
マレイミドトリアジン樹脂、ポリエステル樹脂およびポ
リイミド樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種の
樹脂を含む請求項1〜6のいずれかに記載のプリント配
線基板。
7. The printed wiring according to claim 1, wherein the insulating resin includes at least one resin selected from the group consisting of an epoxy resin, a bismaleimide triazine resin, a polyester resin, and a polyimide resin. substrate.
【請求項8】 基材に絶縁性樹脂を含浸してプリプレグ
を作製する工程と、前記プリプレグに金属箔体を積層す
る工程と、前記金属箔体をパターニングして回路を形成
する工程とを含み、前記プリプレグを作製する工程の前
に、前記基材を構成する繊維の表面にリン化合物を付着
させる工程を実施することを特徴とするプリント配線基
板の製造方法。
8. A method for producing a prepreg by impregnating a base material with an insulating resin, laminating a metal foil body on the prepreg, and forming a circuit by patterning the metal foil body. And a step of adhering a phosphorus compound to the surface of the fiber constituting the base material before the step of producing the prepreg.
【請求項9】 基材に絶縁性樹脂を含浸してプリプレグ
を作製する工程と、前記プリプレグに金属箔体を積層す
る工程と、前記金属箔体をパターニングして回路を形成
する工程とを含み、前記プリプレグに金属箔体を積層す
る工程において、前記プリプレグと前記金属箔体との間
にリン化合物層を介在させることを特徴とするプリント
配線基板の製造方法。
9. A method for producing a prepreg by impregnating a base material with an insulating resin, laminating a metal foil on the prepreg, and forming a circuit by patterning the metal foil. And a step of laminating a metal foil on the prepreg, wherein a phosphorus compound layer is interposed between the prepreg and the metal foil.
【請求項10】 前記プリプレグを作製する工程の前
に、前記基材を構成する繊維の表面にリン化合物を付着
させる工程を実施する請求項9に記載のプリント配線基
板の製造方法。
10. The method for producing a printed wiring board according to claim 9, wherein a step of attaching a phosphorus compound to the surface of the fiber constituting the base material is performed before the step of producing the prepreg.
【請求項11】 前記リン化合物が、リン酸エステルお
よび亜リン酸エステルからなる群より選ばれる少なくと
も1種のエステルである請求項8〜10のいずれかに記
載のプリント配線基板の製造方法。
11. The method according to claim 8, wherein the phosphorus compound is at least one ester selected from the group consisting of a phosphoric ester and a phosphite.
【請求項12】 前記基材が、ガラス繊維または有機繊
維を主な構成材料とする請求項8〜11のいずれかに記
載のプリント配線基板。
12. The printed wiring board according to claim 8, wherein the base material mainly comprises glass fibers or organic fibers.
【請求項13】 前記基材が、全芳香族ポリアミドおよ
び全芳香族ポリエステルからなる群より選ばれる少なく
とも1種の有機繊維を主な構成材料とする請求項12に
記載のプリント配線基板の製造方法。
13. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 12, wherein the base material is mainly composed of at least one organic fiber selected from the group consisting of wholly aromatic polyamides and wholly aromatic polyesters. .
【請求項14】 前記絶縁性樹脂が、エポキシ樹脂、ビ
スマレイミドトリアジン樹脂、ポリエステル樹脂および
ポリイミド樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1種
の樹脂を含む請求項8〜13のいずれかに記載のプリン
ト配線基板の製造方法。
14. The printed wiring according to claim 8, wherein the insulating resin contains at least one resin selected from the group consisting of an epoxy resin, a bismaleimide triazine resin, a polyester resin, and a polyimide resin. Substrate manufacturing method.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7058252B2 (en) 2001-08-06 2006-06-06 Ocuity Limited Optical switching apparatus

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