JPH11339703A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
- Publication number
- JPH11339703A JPH11339703A JP14480398A JP14480398A JPH11339703A JP H11339703 A JPH11339703 A JP H11339703A JP 14480398 A JP14480398 A JP 14480398A JP 14480398 A JP14480398 A JP 14480398A JP H11339703 A JPH11339703 A JP H11339703A
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- JP
- Japan
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- target
- electron gun
- ray generator
- main body
- thermoelectrons
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ターゲットを交換することなく異なった特性
のＸ線を選択的に発生できるようにする。 【解決手段】 気密空間を形成する装置本体１の内部に
熱電子放出用の電子銃３と、回転ターゲット２を配設す
る。回転ターゲット２の外周面は、複数の異なるターゲ
ット材料２ａ，２ｂで形成する。また、電子銃３を回転
自在としてターゲット表面の各ターゲット材料２ａまた
は２ｂに選択的に熱電子ａを照射できるように構成す
る。
のＸ線を選択的に発生できるようにする。 【解決手段】 気密空間を形成する装置本体１の内部に
熱電子放出用の電子銃３と、回転ターゲット２を配設す
る。回転ターゲット２の外周面は、複数の異なるターゲ
ット材料２ａ，２ｂで形成する。また、電子銃３を回転
自在としてターゲット表面の各ターゲット材料２ａまた
は２ｂに選択的に熱電子ａを照射できるように構成す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、電子銃から放出
された熱電子をターゲットの表面に衝突させることによ
り、ターゲットの表面からＸ線を発生させるＸ線発生装
置に関する。
された熱電子をターゲットの表面に衝突させることによ
り、ターゲットの表面からＸ線を発生させるＸ線発生装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】この種のＸ線発生装置において、ターゲ
ット表面を形成するターゲット材料には、銅（Ｃｕ），
モリブデン（Ｍｏ），タングステン（Ｗ）等、各種の金
属材料が用いられている。これらのターゲット材料は、
種類に応じて発生するＸ線の特性（例えば、波長）が異
なる。
ット表面を形成するターゲット材料には、銅（Ｃｕ），
モリブデン（Ｍｏ），タングステン（Ｗ）等、各種の金
属材料が用いられている。これらのターゲット材料は、
種類に応じて発生するＸ線の特性（例えば、波長）が異
なる。
【０００３】したがって、Ｘ線発生装置を分析装置等の
Ｘ線源として利用する場合は、目的とする特性Ｘ線が得
られるターゲットを選択して装着する必要がある。この
ため、従来のＸ線発生装置（特に、開放型Ｘ線発生装
置）は、装置本体を開いて適宜ターゲットが交換可能な
構造となっていた。
Ｘ線源として利用する場合は、目的とする特性Ｘ線が得
られるターゲットを選択して装着する必要がある。この
ため、従来のＸ線発生装置（特に、開放型Ｘ線発生装
置）は、装置本体を開いて適宜ターゲットが交換可能な
構造となっていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この種
のＸ線発生装置は、稼働時に電子銃から放出される熱電
子の直進性を確保するとともに、装置内での放電を防止
するために、装置本体内を真空吸引する必要がある。
のＸ線発生装置は、稼働時に電子銃から放出される熱電
子の直進性を確保するとともに、装置内での放電を防止
するために、装置本体内を真空吸引する必要がある。
【０００５】ゆえに、複数の異なった波長のＸ線を切り
替えて用いるＸ線吸収微細構造分析（EXAFS）等のＸ線
分析においては、その切り替え毎に装置本体を開放し、
ターゲットを交換した後、再び装置本体内を真空吸引し
なければならず、作業が煩雑でしかも測定時間が長くな
る問題があった。特に、回転ターゲットの直径が大形の
Ｘ線発生装置においては、回転ターゲットの交換作業も
容易でなく長時間を必要とする。
替えて用いるＸ線吸収微細構造分析（EXAFS）等のＸ線
分析においては、その切り替え毎に装置本体を開放し、
ターゲットを交換した後、再び装置本体内を真空吸引し
なければならず、作業が煩雑でしかも測定時間が長くな
る問題があった。特に、回転ターゲットの直径が大形の
Ｘ線発生装置においては、回転ターゲットの交換作業も
容易でなく長時間を必要とする。
【０００６】この発明は、このような事情に鑑みてなさ
れたもので、ターゲットを交換することなく異なった特
性のＸ線を選択的に発生させることができるＸ線発生装
置の提供を目的とする。
れたもので、ターゲットを交換することなく異なった特
性のＸ線を選択的に発生させることができるＸ線発生装
置の提供を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
にこの発明は、内部に気密空間を形成する装置本体と、
該装置本体内に設けられた熱電子放出用の電子銃と、該
電子銃に対向して装置本体内に設けられ熱電子の衝突に
よりＸ線を発生するターゲットとを備えたＸ線発生装置
において、ターゲットの表面を複数の異なるターゲット
材料で形成するとともに、電子銃を回転自在として、タ
ーゲット表面の各ターゲット材料に選択的に熱電子を照
射するようにしたことを特徴とする。
にこの発明は、内部に気密空間を形成する装置本体と、
該装置本体内に設けられた熱電子放出用の電子銃と、該
電子銃に対向して装置本体内に設けられ熱電子の衝突に
よりＸ線を発生するターゲットとを備えたＸ線発生装置
において、ターゲットの表面を複数の異なるターゲット
材料で形成するとともに、電子銃を回転自在として、タ
ーゲット表面の各ターゲット材料に選択的に熱電子を照
射するようにしたことを特徴とする。
【０００８】ターゲットの表面を形成する各ターゲット
材料に、選択的に熱電子を照射することにより、各ター
ゲット材料に特有のＸ線が該ターゲットの表面から発生
する。したがって、ターゲットを交換することなく複数
の所望とする特性Ｘ線を取り出すことができ、作業性の
向上と測定時間の大幅な短縮を実現することができる。
材料に、選択的に熱電子を照射することにより、各ター
ゲット材料に特有のＸ線が該ターゲットの表面から発生
する。したがって、ターゲットを交換することなく複数
の所望とする特性Ｘ線を取り出すことができ、作業性の
向上と測定時間の大幅な短縮を実現することができる。
【０００９】ここで、円筒状の回転ターゲットを用いる
場合には、該ターゲットの表面を幅方向に複数の領域に
分割するとともに、それら各領域を異なるターゲット材
料で形成すればよい。電子銃は、回転により、回転ター
ゲットの表面に対し幅方向に熱電子の照射方向を変更可
能とすれば、電子銃の回転操作により、発生するＸ線の
種類を容易に切り替えることができる。
場合には、該ターゲットの表面を幅方向に複数の領域に
分割するとともに、それら各領域を異なるターゲット材
料で形成すればよい。電子銃は、回転により、回転ター
ゲットの表面に対し幅方向に熱電子の照射方向を変更可
能とすれば、電子銃の回転操作により、発生するＸ線の
種類を容易に切り替えることができる。
【００１０】また、装置本体に電子銃の回転軸を貫通し
て設けることにより、装置本体の外部から電子銃を容易
に回転操作することが可能となる。なお、該回転軸の貫
通部には気密シールを施し、装置本体内部の気密状態を
保持できるようにする。
て設けることにより、装置本体の外部から電子銃を容易
に回転操作することが可能となる。なお、該回転軸の貫
通部には気密シールを施し、装置本体内部の気密状態を
保持できるようにする。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて図面を参照して詳細に説明する。図１はこの発明の
実施形態に係るＸ線発生装置の内部構造を示す正面断面
図、図２は図１の矢視Ａ−Ａ方向からみた断面図であ
る。
いて図面を参照して詳細に説明する。図１はこの発明の
実施形態に係るＸ線発生装置の内部構造を示す正面断面
図、図２は図１の矢視Ａ−Ａ方向からみた断面図であ
る。
【００１２】装置本体１は、内部に気密空間を形成して
おり、その内部は図示しない真空ポンプにより真空吸引
されて真空雰囲気下におかれる。この装置本体１の内部
には、回転ターゲット２と電子銃３が配設してある。
おり、その内部は図示しない真空ポンプにより真空吸引
されて真空雰囲気下におかれる。この装置本体１の内部
には、回転ターゲット２と電子銃３が配設してある。
【００１３】回転ターゲット２は、図３に示すように円
筒状に形成してあり、軸中心に回転自在に支持され、図
示しない駆動モータにより回転駆動される。回転ターゲ
ット２の外周面は幅方向に二分割してあり、各領域をそ
れぞれ異なったターゲット材料２ａ，２ｂで形成してあ
る。
筒状に形成してあり、軸中心に回転自在に支持され、図
示しない駆動モータにより回転駆動される。回転ターゲ
ット２の外周面は幅方向に二分割してあり、各領域をそ
れぞれ異なったターゲット材料２ａ，２ｂで形成してあ
る。
【００１４】ターゲット材料２ａ，２ｂとしては、銅
（Ｃｕ），モリブデン（Ｍｏ），タングステン（Ｗ），
鉄（Ｆｅ），クロム（Ｃｒ）等、熱電子の衝突により表
面からＸ線を放出する各種材料が用いられ、これらター
ゲット材料を任意に組み合わせて回転ターゲット２を形
成することができる。
（Ｃｕ），モリブデン（Ｍｏ），タングステン（Ｗ），
鉄（Ｆｅ），クロム（Ｃｒ）等、熱電子の衝突により表
面からＸ線を放出する各種材料が用いられ、これらター
ゲット材料を任意に組み合わせて回転ターゲット２を形
成することができる。
【００１５】電子銃３は、熱電子ａを放出するフィラメ
ント３ａを内蔵するとともに、該フィラメント３ａの前
方周囲にウェネルト３ｂを備えている。この電子銃３
は、フィラメント３ａが回転ターゲット２の外周面と対
向するように配設してある。
ント３ａを内蔵するとともに、該フィラメント３ａの前
方周囲にウェネルト３ｂを備えている。この電子銃３
は、フィラメント３ａが回転ターゲット２の外周面と対
向するように配設してある。
【００１６】一般に、フィラメント３ａとウェネルト３
ｂには負の電圧が印可され、回転ターゲット２はアース
電位に設定される。そして、電圧の印加により加熱され
たフィラメント３ａから熱電子ａが放出されると、該熱
電子ａがウェネルト３ｂの作用で収束されて回転ターゲ
ット２の外周面に照射される。回転ターゲット２の外周
面に熱電子ａが衝突すると、ターゲット材料（２ａまた
は２ｂ）に応じた特性のＸ線がそこから放出される。
ｂには負の電圧が印可され、回転ターゲット２はアース
電位に設定される。そして、電圧の印加により加熱され
たフィラメント３ａから熱電子ａが放出されると、該熱
電子ａがウェネルト３ｂの作用で収束されて回転ターゲ
ット２の外周面に照射される。回転ターゲット２の外周
面に熱電子ａが衝突すると、ターゲット材料（２ａまた
は２ｂ）に応じた特性のＸ線がそこから放出される。
【００１７】電子銃３は、図１に示すように回転軸４と
一体の支持部材５に固定してある。回転軸４は、装置本
体１の周壁を貫通して設けてあり、外部から回転操作で
きる構造となっている。電子銃３は、回転軸４を中心と
した回転により、回転ターゲット２の外周面に対し幅方
向に熱電子ａの照射方向を変更することができる（図２
参照）。
一体の支持部材５に固定してある。回転軸４は、装置本
体１の周壁を貫通して設けてあり、外部から回転操作で
きる構造となっている。電子銃３は、回転軸４を中心と
した回転により、回転ターゲット２の外周面に対し幅方
向に熱電子ａの照射方向を変更することができる（図２
参照）。
【００１８】電子銃３を回転するための手段は、手動に
より回転軸４を回転操作する簡易な構成の他、電動モー
タやソレノイド等の駆動機構をもって回転軸４を駆動す
る構成とすることができる。また、フィラメント３ａが
各ターゲット材料２ａまたは２ｂと対向する二カ所に電
子銃３の回転位置を位置決めするために、回転軸４また
は駆動機構にストッパを設けてもよい。
より回転軸４を回転操作する簡易な構成の他、電動モー
タやソレノイド等の駆動機構をもって回転軸４を駆動す
る構成とすることができる。また、フィラメント３ａが
各ターゲット材料２ａまたは２ｂと対向する二カ所に電
子銃３の回転位置を位置決めするために、回転軸４また
は駆動機構にストッパを設けてもよい。
【００１９】回転軸４の貫通部には、装置本体１内の気
密性を保持するために、気密シール６が施してある。こ
の気密シール６は、回転軸４を回転自在に支持するとと
もに、装置本体１内への外気の流入を阻止することがで
きる、Ｏリング，磁気シール，ベローズ等のシール部材
により構成してある。
密性を保持するために、気密シール６が施してある。こ
の気密シール６は、回転軸４を回転自在に支持するとと
もに、装置本体１内への外気の流入を阻止することがで
きる、Ｏリング，磁気シール，ベローズ等のシール部材
により構成してある。
【００２０】上述した構成のＸ線発生装置は、電子銃３
を回転操作して、フィラメント３ａから放出された熱電
子ａが収束する回転ターゲット２の領域を切り替えるだ
けで、ターゲット材料２ａまたは２ｂに応じた所望の特
性（例えば、波長）を有するＸ線ｂを発生させることが
できる。装置本体１には、Ｘ線ｂの放出方向（本実施形
態では二方向）にそれぞれＸ線透過窓７，７が設けてあ
り、回転ターゲット２から放出されたＸ線ｂは、これら
いずれかのＸ線透過窓７，７を介して外部に取り出され
る（図２参照）。
を回転操作して、フィラメント３ａから放出された熱電
子ａが収束する回転ターゲット２の領域を切り替えるだ
けで、ターゲット材料２ａまたは２ｂに応じた所望の特
性（例えば、波長）を有するＸ線ｂを発生させることが
できる。装置本体１には、Ｘ線ｂの放出方向（本実施形
態では二方向）にそれぞれＸ線透過窓７，７が設けてあ
り、回転ターゲット２から放出されたＸ線ｂは、これら
いずれかのＸ線透過窓７，７を介して外部に取り出され
る（図２参照）。
【００２１】なお、上述した実施形態では、回転ターゲ
ット２の外周面を二種類のターゲット材料２ａ，２ｂで
形成したが、これに限らず回転ターゲットの外周面を三
種類以上のターゲット材料で形成することもできる。
ット２の外周面を二種類のターゲット材料２ａ，２ｂで
形成したが、これに限らず回転ターゲットの外周面を三
種類以上のターゲット材料で形成することもできる。
【００２２】また、回転ターゲットに限らず、固定ター
ゲットを備えるＸ線発生装置にも本発明は適用すること
ができる。さらに、本発明を比較的大形のＸ線発生装置
に適用する場合は、装置本体内に電子銃の回転駆動機構
を内蔵することもできる。この場合は、電子銃の回転軸
が装置本体を貫通しないため、気密シールが必要なくな
る。
ゲットを備えるＸ線発生装置にも本発明は適用すること
ができる。さらに、本発明を比較的大形のＸ線発生装置
に適用する場合は、装置本体内に電子銃の回転駆動機構
を内蔵することもできる。この場合は、電子銃の回転軸
が装置本体を貫通しないため、気密シールが必要なくな
る。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、この発明のＸ線発
生装置によれば、ターゲットを交換することなく異なっ
た特性のＸ線を選択的に発生でき、Ｘ線分析測定の作業
能率を格段に向上させることが可能となる。
生装置によれば、ターゲットを交換することなく異なっ
た特性のＸ線を選択的に発生でき、Ｘ線分析測定の作業
能率を格段に向上させることが可能となる。
【図１】この発明の実施形態に係るＸ線発生装置の内部
構造を示す正面断面図である。
構造を示す正面断面図である。
【図２】図１の矢視Ａ−Ａ方向からみた断面図である。
【図３】この発明の実施形態に用いられる回転ターゲッ
トの側面図である。
トの側面図である。
１：装置本体 ２：回転ターゲット ２ａ，２ｂ：ターゲット材料 ３：電子銃 ３ａ：フィラメント ３ｂ：ウェネルト ４：回転軸 ６：気密シール ７：Ｘ線透過窓
Claims (3)
- 【請求項１】 内部に気密空間を形成する装置本体と、
該装置本体内に設けられた熱電子放出用の電子銃と、該
電子銃に対向して前記装置本体内に設けられ熱電子の衝
突によりＸ線を発生するターゲットとを備えたＸ線発生
装置において、 前記ターゲットの表面を複数の異なるターゲット材料で
形成するとともに、 前記電子銃を回転自在として、前記ターゲット表面の各
ターゲット材料に選択的に熱電子を照射するようにした
ことを特徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項２】 請求項１記載のＸ線発生装置において、 前記ターゲットは、円筒状の回転ターゲットであり、表
面を幅方向に複数の領域に分割するとともに、それら各
領域を異なるターゲット材料で形成してなり、 前記電子銃は、回転により、前記回転ターゲットの表面
に対し幅方向に熱電子の照射方向を変更可能であること
を特徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項３】 請求項１または２記載のＸ線発生装置に
おいて、 前記装置本体に前記電子銃の回転軸を貫通して設けると
ともに、該回転軸の貫通部を気密シールしたことを特徴
とするＸ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14480398A JPH11339703A (ja) | 1998-05-26 | 1998-05-26 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14480398A JPH11339703A (ja) | 1998-05-26 | 1998-05-26 | Ｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11339703A true JPH11339703A (ja) | 1999-12-10 |
Family
ID=15370837
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14480398A Pending JPH11339703A (ja) | 1998-05-26 | 1998-05-26 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11339703A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102011078357A1 (de) | 2010-06-29 | 2011-12-29 | Rigaku Corp. | Vorrichtung für eine Röntgenstrahlanalyse mit klassifizierten Wellenlängen |
| CN103971780A (zh) * | 2013-12-24 | 2014-08-06 | 中国科学院上海应用物理研究所 | 用于辐照加速器x射线转换靶的支承装置 |
-
1998
- 1998-05-26 JP JP14480398A patent/JPH11339703A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102011078357A1 (de) | 2010-06-29 | 2011-12-29 | Rigaku Corp. | Vorrichtung für eine Röntgenstrahlanalyse mit klassifizierten Wellenlängen |
| US8300767B1 (en) | 2010-06-29 | 2012-10-30 | Rigaku Corporation | Wavelength-classifying type X-ray diffraction device |
| US8699665B2 (en) | 2010-06-29 | 2014-04-15 | Rigaku Corporation | Wavelength-classifying type X-ray diffraction device |
| CN103971780A (zh) * | 2013-12-24 | 2014-08-06 | 中国科学院上海应用物理研究所 | 用于辐照加速器x射线转换靶的支承装置 |
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