JPH11337726A - Color filter and its production - Google Patents

Color filter and its production

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JPH11337726A
JPH11337726A JP18337098A JP18337098A JPH11337726A JP H11337726 A JPH11337726 A JP H11337726A JP 18337098 A JP18337098 A JP 18337098A JP 18337098 A JP18337098 A JP 18337098A JP H11337726 A JPH11337726 A JP H11337726A
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photocatalyst
light
transparent substrate
color filter
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弘典 小林
Manabu Yamamoto
学 山本
Hironori Kamiyama
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide color filters which have high fineness and are free from defects, such as drop-outs, and a process for producing the color filters which is excellent in using efficiency of the material, does not include developing stage and washing stage and is simple in the stages. SOLUTION: The color filters 1 have a transparent substrate 2, colored layers which are formed in prescribed patterns on the transparent substrate 2 and consist of plural colors and light shielding layers which exist at the boundary parts of the respective colored layers 5. At least one layers of the colored layers 5 and the light shielding layers are formed on the transparent substrate 2 via specific wettable sections of wettability changing component layers. Such color filters 1 are produced by forming the specific wettable sections in the prescribed patterns on the transparent substrate 2 and forming the light shielding layers by adhering a coating material for the light shielding layers on these wettable sections as the first stage, then forming the specific wettable sections in the prescribed patterns on the transparent substrate 2 and forming the colored layers by adhering a coating material for the colored layers on the wettable sections as the second stage.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はカラーフィルタおよ
びその製造方法に係り、特に表示品質に優れたカラー液
晶表示装置の製造が可能なカラーフィルタとその製造方
法に関する。
The present invention relates to a color filter and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a color filter capable of manufacturing a color liquid crystal display device having excellent display quality and a method of manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示装置(LCD)においては、近
年のカラー化の要請に対応するために、アクティブマト
リックス方式および単純マトリックス方式のいずれの方
式においてもカラーフィルタが用いられている。例え
ば、薄膜トランジスタ(TFT)を用いたアクティブマ
トリックス方式の液晶ディスプレイでは、カラーフィル
タは赤(R)、緑(G)、青(B)の3原色の着色パタ
ーンを備え、R,G,Bのそれぞれの画素に対応する電
極をON、OFFさせることで液晶がシャッタとして作
動し、R,G,Bのそれぞれの画素を光が透過してカラ
ー表示が行われる。そして、色混合は2色以上の画素に
対応する液晶シャッタを開いて混色し別の色に見せる加
色混合の原理により網膜上で視覚的に行われる。
2. Description of the Related Art In a liquid crystal display (LCD), a color filter is used in both an active matrix system and a simple matrix system in order to respond to recent demands for colorization. For example, in an active matrix type liquid crystal display using a thin film transistor (TFT), the color filter has three primary color patterns of red (R), green (G), and blue (B). The liquid crystal operates as a shutter by turning ON / OFF the electrode corresponding to the pixel of the color, and light is transmitted through each of the R, G, and B pixels to perform color display. Color mixing is visually performed on the retina by the principle of additive color mixing in which liquid crystal shutters corresponding to pixels of two or more colors are opened to mix colors and make the colors look different.

【0003】従来のカラーフィルタは、染色基材を透明
基板上に塗布し、フォトマスクを介して露光・現像し形
成したパターンを染色して着色層とする染色法、透明基
板上に形成した感光性レジスト層内に予め着色顔料を分
散させておき、フォトマスクを介して露光・現像して着
色層とする顔料分散法、透明基板に印刷インキで各色の
着色層を印刷する印刷法、透明基板上に透明電極パター
ンを形成し、所定色の電極液中で透明電極パターンに通
電して電着する操作をR,G,Bの3回行って各色の着
色パターンを形成する電着法等により製造されている。
A conventional color filter is formed by applying a dyeing base material on a transparent substrate, exposing and developing through a photomask to dye a formed pattern to form a colored layer, and a photosensitive method formed on the transparent substrate. A pigment dispersion method in which a coloring pigment is dispersed in a conductive resist layer in advance and then exposed and developed through a photomask to form a coloring layer; a printing method of printing a coloring layer of each color with a printing ink on a transparent substrate; a transparent substrate A transparent electrode pattern is formed on the transparent electrode pattern, and an operation of applying electricity to the transparent electrode pattern in an electrode solution of a predetermined color to perform electrodeposition three times, R, G, and B, to form a colored pattern of each color by an electrodeposition method or the like. Being manufactured.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
染色法、顔料分散法では、スピンコート等による透明基
板への塗布工程における材料ロスが避けられず、また、
各色の着色パターン形成ごとに現像工程と洗浄工程が必
要であり、材料使用効率の向上や工程の簡略化が困難で
製造コスト低減に支障を来していた。また、印刷法で
は、高精細なパターン形成が困難であり、電着法では形
成可能なパターン形状が限定されるという問題があっ
た。
However, in the conventional dyeing method and the pigment dispersion method, a material loss in a coating process on a transparent substrate by spin coating or the like is unavoidable.
A developing step and a washing step are required for each colored pattern formation, and it is difficult to improve material use efficiency and simplify the steps, which hinders reduction in manufacturing cost. Further, in the printing method, it is difficult to form a high-definition pattern, and there is a problem that the pattern shape that can be formed in the electrodeposition method is limited.

【0005】このような問題を解消するために、インク
ジェット方式を用いたカラーフィルタの製造方法が開発
されているが、未だ不十分なものであった。
In order to solve such a problem, a method of manufacturing a color filter using an ink jet method has been developed, but it has been insufficient.

【0006】本発明は、上記のような事情に鑑みてなさ
れたものであり、高精細で白抜け等の欠陥のないカラー
フィルタと、材料の使用効率に優れ、かつ、現像工程お
よび洗浄工程を含まず工程が簡便なカラーフィルタの製
造方法を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and a color filter which is high-definition and free from defects such as white spots, has excellent material use efficiency, and has a developing step and a cleaning step. An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a color filter which does not include a simple process.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明のカラーフィルタは、透明基板と、該
透明基板上に所定のパターンで形成された複数色からな
る着色層と、各着色層の境界部に位置する遮光層とを有
し、前記着色層と前記遮光層の少なくとも1層が、濡れ
性変化成分層の特定の濡れ性部位を介して前記透明基板
上に形成されたものであるような構成とした。
In order to achieve the above object, a color filter according to the present invention comprises a transparent substrate, a colored layer having a plurality of colors formed in a predetermined pattern on the transparent substrate, and A light-shielding layer positioned at a boundary of each colored layer, wherein at least one of the colored layer and the light-shielding layer is formed on the transparent substrate via a specific wettability portion of the wettability changing component layer. The configuration was such that

【0008】また、本発明のカラーフィルタは、透明基
板と、該透明基板上に設けられた濡れ性変化成分層と、
該濡れ性変化成分層の特定の濡れ性部位上に所定のパタ
ーンで形成された複数色からなる着色層および各着色層
の境界部に位置する遮光層とを有するような構成とし
た。
[0008] Further, the color filter of the present invention comprises a transparent substrate, a wettability changing component layer provided on the transparent substrate,
A configuration was adopted in which a colored layer of a plurality of colors formed in a predetermined pattern on a specific wettable portion of the wettability changing component layer and a light-shielding layer positioned at a boundary between the colored layers.

【0009】また、本発明のカラーフィルタは、所定の
パターンで遮光層を備えた透明基板と、該遮光層を覆う
ように前記透明基板上に設けられた濡れ性変化成分層
と、該濡れ性変化成分層の特定の濡れ性部位上に所定の
パターンで形成された複数色からなる着色層とを備え、
各着色層の境界部に前記遮光層が位置するような構成と
した。
Further, the color filter of the present invention comprises a transparent substrate having a light shielding layer in a predetermined pattern, a wettability changing component layer provided on the transparent substrate so as to cover the light shielding layer, With a colored layer of a plurality of colors formed in a predetermined pattern on a specific wettability site of the variable component layer,
The configuration was such that the light-shielding layer was located at the boundary between the colored layers.

【0010】また、本発明のカラーフィルタは、所定の
パターンで遮光層を備えた透明基板と、該遮光層を覆う
ように前記透明基板上に、濡れ性変化成分層と該濡れ性
変化成分層の特定の濡れ性部位上に所定のパターンで形
成された着色層との積層体を所望の色数分積層して備
え、各着色層の境界部に前記遮光層が位置するような構
成とした。
The color filter of the present invention comprises a transparent substrate having a light shielding layer in a predetermined pattern, a wettability changing component layer and the wettability changing component layer on the transparent substrate so as to cover the light shielding layer. A laminate with a colored layer formed in a predetermined pattern on a specific wettability portion is laminated in a desired number of colors, and the light-shielding layer is positioned at a boundary between the colored layers. .

【0011】さらに、本発明のカラーフィルタは、透明
基板と、該透明基板上に設けられた濡れ性変化成分層
と、該濡れ性変化成分層の特定の濡れ性部位上に所定の
パターンで形成された遮光層と、該遮光層を覆うように
前記濡れ性変化成分層上に、濡れ性変化成分層と該濡れ
性変化成分層の特定の濡れ性部位上に所定のパターンで
形成された着色層との積層体を所望の色数分積層して備
え、各着色層の境界部に前記遮光層が位置するような構
成とした。
Further, the color filter of the present invention comprises a transparent substrate, a wettability changing component layer provided on the transparent substrate, and a predetermined pattern formed on a specific wettability portion of the wettability changing component layer. Colored layer formed on the wettability changing component layer and a specific pattern on the specific wettability site of the wettability changing component layer so as to cover the light shielding layer. A layered body with the desired number of colors was provided in a stacked manner, and the light-shielding layer was positioned at the boundary between the colored layers.

【0012】そして、本発明のカラーフィルタは、特定
の濡れ性部位が高親水性部位であるような構成とした。
[0012] The color filter of the present invention is configured so that the specific wettability site is a highly hydrophilic site.

【0013】また、本発明のカラーフィルタは、前記濡
れ性変化成分層が少なくともバインダーと光触媒からな
る光触媒含有層であるような構成とし、前記バインダー
がクロロまたはアルコキシシランを含む組成物から得ら
れるオルガノポリシロキサンを含有するような構成、ま
たは、前記バインダーが反応性シリコーンを含む組成物
から得られるオルガノポリシロキサンを含有するような
構成とした。
Further, the color filter of the present invention is configured such that the wettability changing component layer is a photocatalyst containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst, and the binder is obtained from a composition containing chloro or alkoxysilane. The composition was such that it contained a polysiloxane, or such that the binder contained an organopolysiloxane obtained from a composition containing a reactive silicone.

【0014】さらに、本発明のカラーフィルタは、前記
濡れ性変化成分層が有機高分子樹脂層であるような構成
とした。
Further, the color filter of the present invention is configured such that the wettability changing component layer is an organic polymer resin layer.

【0015】本発明のカラーフィルタの製造方法は、透
明基板上に所定のパターンで特定の濡れ性部位を形成
し、該濡れ性部位上に遮光層用塗料を付着させて遮光層
を形成する第1の工程、透明基板上に所定のパターンで
特定の濡れ性部位を形成し、該濡れ性部位上に着色層用
塗料を付着させて着色層を形成する第2の工程、とを有
するような構成とした。
According to the method of manufacturing a color filter of the present invention, a specific wettable portion is formed in a predetermined pattern on a transparent substrate, and a light-shielding layer paint is adhered to the wettable portion to form a light-shielding layer. A step of forming a specific wettable portion on a transparent substrate in a predetermined pattern on a transparent substrate, and applying a coating material for a colored layer on the wettable portion to form a colored layer. The configuration was adopted.

【0016】そして、前記第1の工程において、透明基
板上に少なくともバインダーと光触媒からなる光触媒含
有層を形成し、該光触媒含有層に光照射を行い、光照射
部位を光触媒の作用により高親水性とすることにより特
定の濡れ性部位を形成し、前記第2の工程において、前
記光触媒含有層に光照射を行い、光照射部位を光触媒の
作用により高親水性とすることにより特定の濡れ性部位
を形成するような構成とした。
[0016] In the first step, a photocatalyst-containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst is formed on the transparent substrate, and the photocatalyst-containing layer is irradiated with light. By forming a specific wettability site by the above, in the second step, the photocatalyst containing layer is irradiated with light, and the photoirradiation site is made highly hydrophilic by the action of the photocatalyst, thereby forming the specific wettability site Is formed.

【0017】また、本発明のカラーフィルタの製造方法
は、所定のパターンで遮光層を備えた透明基板上に所定
のパターンで特定の濡れ性部位を形成する第1の工程、
前記濡れ性部位上に着色層用塗料を付着させて着色層を
形成する第2の工程、とを有するような構成とした。
The method of manufacturing a color filter according to the present invention includes a first step of forming a specific wettable portion in a predetermined pattern on a transparent substrate provided with a light-shielding layer in a predetermined pattern;
A second step of forming a colored layer by adhering a coating material for a colored layer on the wettable portion.

【0018】そして、前記第1の工程において、所定の
パターンで遮光層を備えた透明基板上に遮光層を覆うよ
うに少なくともバインダーと光触媒からなる光触媒含有
層を形成し、該光触媒含有層に光照射を行い、光照射部
位を光触媒の作用により高親水性とすることにより特定
の濡れ性部位を形成するような構成とした。
In the first step, a photocatalyst-containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst is formed on a transparent substrate having the light-shielding layer in a predetermined pattern so as to cover the light-shielding layer. Irradiation was performed to make the irradiated portion highly hydrophilic by the action of a photocatalyst to form a specific wettable portion.

【0019】また、本発明のカラーフィルタの製造方法
は、所定のパターンで遮光層を備えた透明基板上に所定
のパターンで特定の濡れ性部位を形成し、該濡れ性部位
上に着色層用塗料を付着させて着色層を形成する操作
を、必要色数分繰り返して複数色からなる着色層を形成
するような構成とした。
Further, the method for manufacturing a color filter of the present invention comprises forming a specific wettable portion in a predetermined pattern on a transparent substrate provided with a light-shielding layer in a predetermined pattern, and forming a colored layer on the wettable portion. The operation of forming a colored layer by applying a paint is repeated for the required number of colors to form a colored layer of a plurality of colors.

【0020】そして、所定のパターンで遮光層を備えた
透明基板上に遮光層を覆うように少なくともバインダー
と光触媒からなる光触媒含有層を形成し、該光触媒含有
層に光照射を行い、光照射部位を光触媒の作用により高
親水性とすることにより特定の濡れ性部位を形成するよ
うな構成とした。
Then, a photocatalyst-containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst is formed on a transparent substrate provided with the light-shielding layer in a predetermined pattern so as to cover the light-shielding layer, and the photocatalyst-containing layer is irradiated with light. Was made highly hydrophilic by the action of a photocatalyst to form a specific wettability site.

【0021】更に、本発明のカラーフィルタの製造方法
は、透明基板上に所定のパターンで特定の濡れ性部位を
形成し、該濡れ性部位上に遮光層用塗料を付着させて遮
光層を形成する第1の工程、透明基板上に所定のパター
ンで特定の濡れ性部位を形成し、該濡れ性部位上に着色
層用塗料を付着させて着色層を形成する操作を、必要色
数分繰り返して複数色からなる着色層を形成する第2の
工程、とを有するような構成とした。
Further, according to the method for producing a color filter of the present invention, a specific wettable portion is formed in a predetermined pattern on a transparent substrate, and a light-shielding layer paint is applied to the wettable portion to form a light-shielding layer. A first step of forming a specific wettable portion on a transparent substrate in a predetermined pattern on a transparent substrate, and applying a coating material for a colored layer on the wettable portion to form a colored layer; And a second step of forming a colored layer having a plurality of colors.

【0022】そして、前記第1の工程において、透明基
板上に少なくともバインダーと光触媒からなる光触媒含
有層を形成し、該光触媒含有層に光照射を行い、光照射
部位を光触媒の作用により高親水性とすることにより特
定の濡れ性部位を形成し、前記第2の工程において、遮
光層を覆うように少なくともバインダーと光触媒からな
る光触媒含有層を形成し、該光触媒含有層に光照射を行
い、光照射部位を光触媒の作用により高親水性とするこ
とにより特定の濡れ性部位を形成するような構成とし
た。
In the first step, a photocatalyst-containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst is formed on a transparent substrate, and the photocatalyst-containing layer is irradiated with light. To form a specific wettability site, and in the second step, a photocatalyst containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst is formed so as to cover the light shielding layer, and the photocatalyst containing layer is irradiated with light, The irradiation site was made highly hydrophilic by the action of a photocatalyst to form a specific wettability site.

【0023】また、本発明のカラーフィルタの製造方法
は、前記光触媒含有層に対する光照射は、マスクを介し
たパターン露光、および、光描画照射のいずれかにより
行うような構成とした。
In the method of manufacturing a color filter according to the present invention, the light irradiation on the photocatalyst-containing layer is performed by one of pattern exposure through a mask and light drawing irradiation.

【0024】また、本発明のカラーフィルタの製造方法
は、遮蔽層用塗料および/または着色層用塗料の付着
は、塗布方式、ノズル吐出方式および真空薄膜形成方式
のいずれかで行うような構成、前記真空薄膜形成方式に
おいて、薄膜形成後に、特定の濡れ性部位以外の部位に
付着した遮蔽層用塗料または着色層用塗料からなる薄膜
を除去する工程を有するような構成とした。
The method for producing a color filter according to the present invention may be arranged such that the coating for the shielding layer and / or the coating for the colored layer is performed by any one of a coating method, a nozzle discharge method, and a vacuum thin film forming method. In the vacuum thin film forming method, after the thin film is formed, a step of removing a thin film made of a coating material for a shielding layer or a coating material for a coloring layer attached to a portion other than a specific wettable portion is adopted.

【0025】このような本発明では、特定の濡れ性部位
において、遮光層用塗料や着色層用塗料に対する濡れ性
が高く、遮光層用塗料や着色層用塗料は特定の濡れ性部
位のみに選択的に付着して、高い精度で遮光層や着色層
が形成され、光触媒含有層は、光照射部位の光触媒の作
用により臨界表面張力が高くなって高親水性となり、上
記の特定の濡れ性部位が形成される。
According to the present invention, the specific wettability site has high wettability with respect to the light-shielding layer paint and the coloring layer paint, and the light-shielding layer paint and the color layer paint are selected only for the specific wettability site. The light-shielding layer and the colored layer are formed with high precision, and the photocatalyst-containing layer becomes highly hydrophilic due to the action of the photocatalyst at the light-irradiated portion, and becomes highly hydrophilic, and the above-mentioned specific wettability portion Is formed.

【0026】[0026]

【発明の実施の形態】以下、本発明の最良の実施形態に
ついて図面を参照して説明する。本発明のカラーフィルタ 図1は本発明のカラーフィルタの実施形態の一例を示す
概略縦断面図である。図1において、本発明のカラーフ
ィルタ1は、透明基板2、この透明基板2上に形成され
た濡れ性変化成分層としての光触媒含有層3、この光触
媒含有層3の特定の濡れ性部位(高親水性部位)上に形
成されたブラックマトリックス(遮光層)4と複数色か
らなる着色層5、これらのブラックマトリックス4およ
び着色層5を覆うように形成された保護層6を備えてい
る。このカラーフィルタ1では、ブラックマトリックス
4は着色層5の境界部に位置している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Color Filter Figure 1 of the present invention is a schematic longitudinal sectional view showing an example of an embodiment of a color filter of the present invention. In FIG. 1, a color filter 1 of the present invention includes a transparent substrate 2, a photocatalyst containing layer 3 as a wettability changing component layer formed on the transparent substrate 2, and a specific wettability portion (high A black matrix (light-shielding layer) 4 formed on the (hydrophilic portion) and a colored layer 5 of a plurality of colors; and a protective layer 6 formed to cover the black matrix 4 and the colored layer 5. In this color filter 1, the black matrix 4 is located at the boundary of the colored layer 5.

【0027】図2は本発明のカラーフィルタの実施形態
の他の例を示す概略縦断面図である。図2において、本
発明のカラーフィルタ11は、透明基板12、この透明
基板12上に形成されたブラックマトリックス(遮光
層)14、このブラックマトリックス14を覆うように
透明基板12上に形成された濡れ性変化成分層としての
光触媒含有層13、この光触媒含有層13の特定の濡れ
性部位(高親水性部位)上に形成された複数色からなる
着色層15、および、この着色層15を覆うように形成
された保護層16を備えている。そして、このカラーフ
ィルタ11では、ブラックマトリックス14は着色層1
5の境界部に位置している。
FIG. 2 is a schematic longitudinal sectional view showing another example of the embodiment of the color filter of the present invention. 2, a color filter 11 of the present invention includes a transparent substrate 12, a black matrix (light shielding layer) 14 formed on the transparent substrate 12, and a wet matrix formed on the transparent substrate 12 so as to cover the black matrix 14. The photocatalyst-containing layer 13 as a sex-change component layer, a colored layer 15 of a plurality of colors formed on a specific wettability portion (highly hydrophilic portion) of the photocatalyst-containing layer 13, and a layer covering the colored layer 15. Is provided. In the color filter 11, the black matrix 14 is
5 is located at the boundary.

【0028】また、図3は本発明のカラーフィルタの実
施形態の他の例を示す概略縦断面図である。図3におい
て、本発明のカラーフィルタ21は、透明基板22、こ
の透明基板22上に形成されたブラックマトリックス
(遮光層)24、このブラックマトリックス24を覆う
ように透明基板22上に順次形成された、第1の濡れ性
変化成分層としての光触媒含有層23aとこの光触媒含
有層23aの特定の濡れ性部位(高親水性部位)上に形
成された赤色の着色層25Rからなる積層体、第2の濡
れ性変化成分層としての光触媒含有層23bとこの光触
媒含有層23bの特定の濡れ性部位(高親水性部位)上
に形成された緑色の着色層25Gからなる積層体、第3
の濡れ性変化成分層としての光触媒含有層23cとこの
光触媒含有層23cの特定の濡れ性部位(高親水性部
位)上に形成された青色の着色層25Bからなる積層
体、および、着色層25を覆うように形成された保護層
26を備えている。このカラーフィルタ21では、ブラ
ックマトリックス24は着色層25の境界部に位置して
いる。
FIG. 3 is a schematic longitudinal sectional view showing another example of the embodiment of the color filter of the present invention. 3, a color filter 21 of the present invention is formed on a transparent substrate 22, a black matrix (light shielding layer) 24 formed on the transparent substrate 22, and on the transparent substrate 22 so as to cover the black matrix 24. A laminate comprising a photocatalyst-containing layer 23a as a first wettability changing component layer and a red colored layer 25R formed on a specific wettability portion (highly hydrophilic portion) of the photocatalyst-containing layer 23a; A laminate comprising a photocatalyst-containing layer 23b as a wettability changing component layer and a green colored layer 25G formed on a specific wettability portion (highly hydrophilic portion) of the photocatalyst-containing layer 23b;
A laminate comprising a photocatalyst-containing layer 23c as a wettability changing component layer and a blue colored layer 25B formed on a specific wettability portion (highly hydrophilic portion) of the photocatalyst-containing layer 23c; And a protective layer 26 formed so as to cover. In the color filter 21, the black matrix 24 is located at the boundary of the colored layer 25.

【0029】さらに、図4は本発明のカラーフィルタの
実施形態の他の例を示す概略縦断面図である。図4にお
いて、本発明のカラーフィルタ31は、透明基板32、
この透明基板32上に形成された第1の濡れ性変化成分
層としての光触媒含有層33a、この光触媒含有層33
aの特定の濡れ性部位(高親水性部位)上に形成された
ブラックマトリックス(遮光層)34、ブラックマトリ
ックス34を覆うように第1の光触媒含有層33a上に
順次形成された、第2の濡れ性変化成分層としての光触
媒含有層33bとこの光触媒含有層33bの特定の濡れ
性部位(高親水性部位)上に形成された赤色の着色層3
5Rからなる積層体、第3の濡れ性変化成分層としての
光触媒含有層33cとこの光触媒含有層33cの特定の
濡れ性部位(高親水性部位)上に形成された緑色の着色
層35Gからなる積層体、第4の濡れ性変化成分層とし
ての光触媒含有層33dとこの光触媒含有層33dの特
定の濡れ性部位(高親水性部位)上に形成された青色の
着色層35Bからなる積層体、および、着色層35を覆
うように形成された保護層36を備えている。そして、
このカラーフィルタ31では、ブラックマトリックス3
4は着色層35の境界部に位置している。
FIG. 4 is a schematic vertical sectional view showing another example of the embodiment of the color filter of the present invention. In FIG. 4, a color filter 31 of the present invention includes a transparent substrate 32,
A photocatalyst containing layer 33a as a first wettability changing component layer formed on the transparent substrate 32;
a, a black matrix (light-shielding layer) 34 formed on the specific wettability site (highly hydrophilic site), and a second matrix sequentially formed on the first photocatalyst containing layer 33 a so as to cover the black matrix 34. Photocatalyst-containing layer 33b as wettability changing component layer and red colored layer 3 formed on a specific wettability site (highly hydrophilic site) of photocatalyst-containing layer 33b
5R, a photocatalyst containing layer 33c as a third wettability changing component layer, and a green colored layer 35G formed on a specific wettability portion (highly hydrophilic portion) of the photocatalyst containing layer 33c. A laminate including a photocatalyst-containing layer 33d as a fourth wettability changing component layer and a blue colored layer 35B formed on a specific wettability portion (highly hydrophilic portion) of the photocatalyst-containing layer 33d; Further, a protective layer 36 formed so as to cover the coloring layer 35 is provided. And
In this color filter 31, the black matrix 3
4 is located at the boundary of the colored layer 35.

【0030】次に、上述の本発明のカラーフィルタの構
成を説明する。 (透明基板)上記のカラーフィルタ1,11,21,3
1を構成する透明基板2,12,22,32としては、
石英ガラス、パイレックスガラス、合成石英板等の可撓
性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィル
ム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブ
ル材を用いることができる。この中で特にコーニング社
製7059ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法
安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、ま
た、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラ
スであるため、アクティブマトリックス方式によるカラ
ー液晶表示装置用のカラーフィルタに適している。 (濡れ性変化成分層)また、カラーフィルタ1,11,
21,31を構成する濡れ性変化成分層としての光触媒
含有層3,13,23,33は、少なくともバインダー
と光触媒からなり、光照射によって光触媒の作用で臨界
表面張力が高くなり高親水性となる層である。
Next, the structure of the color filter of the present invention will be described. (Transparent substrate) The above color filters 1, 11, 21, 3
As the transparent substrates 2, 12, 22, 32 constituting 1
A transparent rigid material having no flexibility such as quartz glass, Pyrex glass, or a synthetic quartz plate, or a transparent flexible material having flexibility such as a transparent resin film or an optical resin plate can be used. Of these, Corning 7059 glass is a material having a low coefficient of thermal expansion, excellent dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment, and is an alkali-free glass containing no alkali component in the glass. It is suitable for a color filter for a color liquid crystal display device according to the method. (Wettability changing component layer) Also, the color filters 1, 11,
The photocatalyst-containing layers 3, 13, 23, and 33 as the wettability changing component layers constituting the layers 21 and 31 are composed of at least a binder and a photocatalyst. Layer.

【0031】本発明の特徴である光触媒含有層における
下記のような酸化チタンに代表される光触媒の作用機構
は、必ずしも明確なものではないが、光の照射によって
生成したキャリアが、近傍の化合物との直接反応、ある
いは、酸素、水の存在下で生じた活性酸素種によって、
有機物の化学構造に変化を及ぼすものと考えられる。
The mechanism of action of the photocatalyst represented by titanium oxide in the photocatalyst-containing layer, which is a feature of the present invention, is not necessarily clear, but the carrier generated by light irradiation is not affected by nearby compounds. By the direct reaction of
It is thought that it changes the chemical structure of organic matter.

【0032】このような光触媒の作用を用いて、油性汚
れを光照射によって分解し親水化して水により洗浄可能
なものとしたり、ガラス等の表面に親水性膜を形成して
防曇性を付与したり、あるいは、タイル等の表面に光触
媒の含有層を形成して空気中の浮遊菌の数を減少させる
いわゆる抗菌タイル等が提案されている。
By using the action of such a photocatalyst, oily dirt is decomposed by light irradiation and made hydrophilic so that it can be washed with water. So-called antibacterial tiles have been proposed that reduce the number of airborne bacteria in the air by forming a layer containing a photocatalyst on the surface of the tile or the like.

【0033】本発明において濡れ性変化成分層として光
触媒含有層を用いた場合、光触媒により、バインダーの
一部である有機基や添加剤の酸化、分解等の作用を用い
て、光照射部の濡れ性を変化させて高親水性とし、非光
照射部との濡れ性に大きな差を生じさせ、遮光層用塗料
や着色層用塗料との受容性および反撥性を高めることに
よってカラーフィルタを得るものである。
In the present invention, when a photocatalyst-containing layer is used as the wettability changing component layer, the photocatalyst is used to oxidize or decompose an organic group or an additive that is a part of the binder, and to wet the light-irradiated portion. To obtain a color filter by changing the properties to make it highly hydrophilic, causing a large difference in wettability with non-light-irradiated parts, and enhancing the receptivity and repulsion with paint for light-shielding layers and paint for colored layers. It is.

【0034】ここで、高親水性とは、水との接触角が2
0°以下となることを意味し、本発明ではマイクロシリ
ンジから水滴を滴下して30秒後に接触角測定器(協和
界面科学(株)製CA−Z型)を用いて測定する。
Here, the high hydrophilicity means that the contact angle with water is 2
In the present invention, it is measured by using a contact angle measuring device (CA-Z type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) 30 seconds after a water droplet is dropped from the micro syringe.

【0035】本発明で使用する光触媒としては、光半導
体として知られる酸化チタン(TiO2)、酸化亜鉛(Z
nO)、酸化スズ(SnO2)、チタン酸ストロンチウム
(SrTiO3)、酸化タングステン(WO3)、酸化ビス
マス(Bi23)、酸化鉄(Fe23)のような金属酸
化物を挙げることができ、特に酸化チタンは、バンドギ
ャップエネルギーが高く、化学的に安定で毒性もなく、
入手も容易であることから好適に使用される。
The photocatalyst used in the present invention includes titanium oxide (TiO 2 ) and zinc oxide (Z
metal oxides such as nO), tin oxide (SnO 2 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), tungsten oxide (WO 3 ), bismuth oxide (Bi 2 O 3 ), and iron oxide (Fe 2 O 3 ). In particular, titanium oxide has a high band gap energy, is chemically stable and non-toxic,
It is preferably used because it is easily available.

【0036】酸化チタンとしては、アナターゼ型とルチ
ル型のいずれも使用することができるが、アナターゼ型
の酸化チタンが好ましい。アナターゼ型酸化チタンは励
起波長が380nm以下にあり、このようなアナターゼ
型酸化チタンとしては、例えば、塩酸解膠型のアナター
ゼ型チタニアゾル(石原産業(株)製STS−02(平
均粒径7nm)、石原産業(株)製ST−K01)、硝
酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル(日産化学(株)
製TA−15(平均粒径12nm))等を挙げることが
できる。
As titanium oxide, both anatase type and rutile type can be used, but anatase type titanium oxide is preferable. Anatase-type titanium oxide has an excitation wavelength of 380 nm or less. Examples of such anatase-type titanium oxide include hydrolytic peptized anatase-type titania sol (STS-02 (average particle size: 7 nm) manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) ST-K01 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.), anatase-type titania sol of nitrate-peptizing type (Nissan Chemical Co., Ltd.)
TA-15 (average particle size: 12 nm)).

【0037】光触媒の粒径は小さいほど光触媒反応が効
果的に起こるので好ましく、平均粒径が50nm以下、
好ましくは20nm以下の光触媒を使用するのが好まし
い。また、光触媒の粒径が小さいほど、形成された光触
媒含有層の表面粗さが小さくなるので好ましく、光触媒
含有層の表面粗さが10nmを超えると、光触媒含有層
の非光照射部の撥水性低下、光照射部の親水性発現が不
十分となり好ましくない。
The smaller the particle size of the photocatalyst is, the more effective the photocatalytic reaction takes place.
Preferably, a photocatalyst of 20 nm or less is used. In addition, the smaller the particle size of the photocatalyst is, the smaller the surface roughness of the formed photocatalyst-containing layer is. It is preferable that the surface roughness of the photocatalyst-containing layer exceeds 10 nm. It is not preferable because the expression of the hydrophilic property in the light-irradiated portion is insufficient.

【0038】本発明において光触媒含有層に使用するバ
インダーは、主骨格が上記の光触媒の光励起により分解
されないような高い結合エネルギーを有するものが好ま
しく、例えば、(1)ゾルゲル反応等によりクロロまた
はアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強
度を発揮するオルガノポリシロキサン、(2)撥水性や
撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポ
リシロキサン等を挙げることができる。
In the present invention, the binder used in the photocatalyst-containing layer preferably has a high binding energy such that the main skeleton is not decomposed by the photoexcitation of the photocatalyst. For example, (1) chloro or alkoxysilane by sol-gel reaction And (2) an organopolysiloxane obtained by crosslinking a reactive silicone having excellent water repellency and oil repellency, and the like.

【0039】上記の(1)の場合、一般式Yn SiX
4-n (n=1〜3)で表される珪素化合物の1種または
2種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が主体と
なる。上記一般式でYはアルキル基、フルオロアルキル
基、ビニル基、アミノ基、または、エポキシ基を挙げる
ことができ、Xはハロゲン、メトキシル基、エトキシル
基、または、アセチル基を挙げることができる。
In the case of the above (1), the general formula Y n SiX
One or more hydrolyzed condensates and co-hydrolyzed condensates of the silicon compound represented by 4-n (n = 1 to 3) are mainly used. In the above general formula, Y can be an alkyl group, a fluoroalkyl group, a vinyl group, an amino group, or an epoxy group, and X can be a halogen, a methoxyl group, an ethoxyl group, or an acetyl group.

【0040】具体的には、メチルトリクロルシラン、メ
チルトリブロムシラン、メチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシ
ラン、メチルトリt−ブトキシシラン;エチルトリクロ
ルシラン、エチルトリブロムシラン、エチルトリメトキ
シシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソ
プロポキシシラン、エチルトリt−ブトキシシラン;n
−プロピルトリクロルシラン、n−プロピルトリブロム
シラン、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピ
ルトリエトキシシラン、n−プロピルトリイソプロポキ
シシラン、n−プロピルトリt−ブトキシシラン;n−
ヘキシルトリクロルシラン、n−ヘキシルトリブロムシ
ラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−ヘキシル
トリエトキシシラン、n−ヘキシルトリイソプロポキシ
シラン、n−ヘキシルトリt−ブトキシシラン;n−デ
シルトリクロルシラン、n−デシルトリブロムシラン、
n−デシルトリメトキシシラン、n−デシルトリエトキ
シシラン、n−デシルトリイソプロポキシシラン、n−
デシルトリt−ブトキシシラン;n−オクタデシルトリ
クロルシラン、n−オクタデシルトリブロムシラン、n
−オクタデシルトリメトキシシラン、n−オクタデシル
トリエトキシシラン、n−オクタデシルトリイソプロポ
キシシラン、n−オクタデシルトリt−ブトキシシラ
ン;フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシ
ラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエト
キシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェ
ニルトリt−ブトキシシラン;テトラクロルシラン、テ
トラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジエト
キシシラン;ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロ
ムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエト
キシシラン;ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジ
ブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニ
ルジエトキシシラン;フェニルメチルジクロルシラン、
フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメト
キシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン;トリク
ロルヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメト
キシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリイ
ソプロポキシヒドロシラン、トリt−ブトキシヒドロシ
ラン;ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリt
−ブトキシシラン;トリフルオロプロピルトリクロルシ
ラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラン、トリフ
ルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロ
ピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリイ
ソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリt−ブ
トキシシラン;γ−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリt−ブトキシシラン;γ−
メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−
メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリt−ブトキシシラ
ン;γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリt−ブトキシシラン;
γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
t−ブトキシシラン;β−(3,4−エポキシシクロヘ
キシル)エチルトリメトキシシラン、β−(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン;お
よび、それらの部分加水分解物;および、それらの混合
物を使用することができる。
Specifically, methyltrichlorosilane, methyltribromosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltriisopropoxysilane, methyltri-t-butoxysilane; ethyltrichlorosilane, ethyltribromosilane, ethyltrichlorosilane Methoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltriisopropoxysilane, ethyltri-t-butoxysilane; n
-Propyltrichlorosilane, n-propyltribromosilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, n-propyltriisopropoxysilane, n-propyltri-t-butoxysilane; n-
Hexyltrichlorosilane, n-hexyltribromosilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-hexyltriethoxysilane, n-hexyltriisopropoxysilane, n-hexyltri-t-butoxysilane; n-decyltrichlorosilane, n-decyl Tribromosilane,
n-decyltrimethoxysilane, n-decyltriethoxysilane, n-decyltriisopropoxysilane, n-
Decyltri-t-butoxysilane; n-octadecyltrichlorosilane, n-octadecyltribromosilane, n
-Octadecyltrimethoxysilane, n-octadecyltriethoxysilane, n-octadecyltriisopropoxysilane, n-octadecyltri-t-butoxysilane; phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyl Triisopropoxysilane, phenyltri-t-butoxysilane; tetrachlorosilane, tetrabromosilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, dimethoxydiethoxysilane; dimethyldichlorosilane, dimethyldibromosilane, dimethyldimethoxysilane , Dimethyldiethoxysilane; diphenyldichlorosilane, diphenyldibromosilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane Phenyl methyldichlorosilane,
Phenylmethyldibromosilane, phenylmethyldimethoxysilane, phenylmethyldiethoxysilane; trichlorohydrosilane, tribromohydrosilane, trimethoxyhydrosilane, triethoxyhydrosilane, triisopropoxyhydrosilane, tri-t-butoxyhydrosilane; vinyltrichlorosilane, vinyltribromo Silane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriisopropoxysilane, vinyltrit
-Butoxysilane; trifluoropropyltrichlorosilane, trifluoropropyltribromosilane, trifluoropropyltrimethoxysilane, trifluoropropyltriethoxysilane, trifluoropropyltriisopropoxysilane, trifluoropropyltri-t-butoxysilane; γ- Glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ
Glycidoxypropyltriisopropoxysilane, γ
-Glycidoxypropyltri-t-butoxysilane; γ-
Methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ
-Methacryloxypropylmethyldiethoxysilane,
γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ
-Methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-
Methacryloxypropyltriisopropoxysilane,
γ-methacryloxypropyltri-t-butoxysilane; γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-
Aminopropylmethyldiethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltriisopropoxysilane, γ-aminopropyltri-t-butoxysilane;
γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, γ-
Mercaptopropylmethyldiethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltriisopropoxysilane, γ-mercaptopropyltri-t-butoxysilane; β- (3,4-epoxy Cyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane; and their partial hydrolysates; and mixtures thereof, can be used.

【0041】また、バインダーとして、特にフルオロア
ルキル基を含有するポリシロキサンが好ましく用いるこ
とができ、具体的には、下記のフルオロアルキルシラン
の1種または2種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮
合物が挙げられ、一般にフッ素系シランカップリング剤
として知られたものを使用することができる。
As the binder, particularly, a polysiloxane containing a fluoroalkyl group can be preferably used. Specifically, one or more hydrocondensation products of the following fluoroalkylsilanes, and co-hydrolysis Examples thereof include condensates, and those generally known as a fluorine-based silane coupling agent can be used.

【0042】CF3(CF2)3 CH2 CH2 Si(OCH
3)3 CF3(CF2)5 CH2 CH2 Si(OCH3)3 CF3(CF2)7 CH2 CH2 Si(OCH3)3 CF3(CF2)9 CH2 CH2 Si(OCH3)3 (CF3)2 CF(CF2)4 CH2 CH2 Si(OCH3)
3 (CF3)2 CF(CF2)6 CH2 CH2 Si(OCH3)
3 (CF3)2 CF(CF2)8 CH2 CH2 Si(OCH3)
3 CF3(C64 ) C24 Si(OCH3)3 CF3(CF2)3 ( C64 ) C24 Si(OCH3)3 CF3(CF2)5 ( C64 ) C24 Si(OCH3)3 CF3(CF2)7 ( C64 ) C24 Si(OCH3)3 CF3(CF2)3 CH2 CH2 SiCH3 (OCH3)2 CF3(CF2)5 CH2 CH2 SiCH3 (OCH3)2 CF3(CF2)7 CH2 CH2 SiCH3 (OCH3)2 CF3(CF2)9 CH2 CH2 SiCH3 (OCH3)2 (CF3)2 CF(CF2)4 CH2 CH2 SiCH3 (O
CH3)2 (CF3)2 CF(CF2)6 CH2 CH2 SiCH3 (O
CH3)2 (CF3)2 CF(CF2)8 CH2 CH2 SiCH3 (O
CH3)2 CF3(C64 ) C24 SiCH3 (OCH3)2 CF3(CF2)3 ( C64 ) C24 SiCH3 (OC
3)2 CF3(CF2)5 ( C64 ) C24 SiCH3 (OC
3)2 CF3(CF2)7 ( C64 ) C24 SiCH3 (OC
3)2 CF3(CF2)3 CH2 CH2 Si(OCH2 CH3)3 CF3(CF2)5 CH2 CH2 Si(OCH2 CH3)3 CF3(CF2)7 CH2 CH2 Si(OCH2 CH3)3 CF3(CF2)9 CH2 CH2 Si(OCH2 CH3)3 CF3(CF2)7 SO2 N(C25 ) C24 CH2
i(OCH3)3 上記のようなフルオロアルキル基を含有するポリシロキ
サンをバインダーとして用いることにより、光触媒含有
層の非光照射部の撥水性が大きく向上し、ブラックマト
リックス用塗料や着色層用塗料の付着を妨げる機能を発
現する。
CF 3 (CF 2 ) 3 CH 2 CH 2 Si (OCH
3) 3 CF 3 (CF 2 ) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 CF 3 (CF 2) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3 CF 3 (CF 2) 9 CH 2 CH 2 Si ( OCH 3 ) 3 (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 4 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 )
3 (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 6 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 )
3 (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 )
3 CF 3 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3 CF 3 (CF 2) 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3 CF 3 (CF 2) 5 ( C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3 CF 3 (CF 2) 7 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3 CF 3 (CF 2) 3 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2 CF 3 (CF 2) 5 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2 CF 3 (CF 2) 7 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2 CF 3 (CF 2) 9 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3 ) 2 (CF 3) 2 CF (CF 2) 4 CH 2 CH 2 SiCH 3 (O
CH 3 ) 2 (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 6 CH 2 CH 2 SiCH 3 (O
CH 3 ) 2 (CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 8 CH 2 CH 2 SiCH 3 (O
CH 3) 2 CF 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2 CF 3 (CF 2) 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OC
H 3 ) 2 CF 3 (CF 2 ) 5 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 SiCH 3 (OC
H 3 ) 2 CF 3 (CF 2 ) 7 (C 6 H 4 ) C 2 H 4 SiCH 3 (OC
H 3) 2 CF 3 (CF 2) 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3 CF 3 (CF 2) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3 CF 3 (CF 2) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3 CF 3 (CF 2) 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3 CF 3 (CF 2) 7 SO 2 N (C 2 H 5) C 2 H 4 CH 2 S
i (OCH 3 ) 3 By using a polysiloxane containing a fluoroalkyl group as described above as a binder, the water repellency of the non-light-irradiated portion of the photocatalyst-containing layer is greatly improved, and a coating for a black matrix or a coating for a colored layer is provided. It exhibits the function of preventing adhesion of

【0043】また、上記の(2)の反応性シリコーンと
しては、下記一般式1で表される骨格をもつ化合物を挙
げることができる。
The reactive silicone of the above (2) includes a compound having a skeleton represented by the following general formula 1.

【0044】[0044]

【化1】 ただし、nは2以上の整数である。R1 ,R2 はそれぞ
れ炭素数1〜10の置換もしくは非置換のアルキル、ア
ルケニル、アリールあるいはシアノアルキル基である。
モル比で全体の40%以下がビニル、フェニル、ハロゲ
ン化フェニルである。また、R1 ,R2 がメチル基のも
のが表面エネルギーが最も小さくなるので好ましく、モ
ル比でメチル基が60%以上であることが好ましい。ま
た、鎖末端もしくは側鎖には、分子鎖中に少なくとも1
個以上の水酸基等の反応性基を有する。
Embedded image Here, n is an integer of 2 or more. R 1 and R 2 are each a substituted or unsubstituted alkyl, alkenyl, aryl or cyanoalkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
Less than 40% of the total is vinyl, phenyl and halogenated phenyl in a molar ratio. Further, those in which R 1 and R 2 are methyl groups are preferred since the surface energy is minimized, and it is preferred that the methyl groups be at least 60% in molar ratio. In addition, at least one chain end or side chain
It has at least two reactive groups such as hydroxyl groups.

【0045】また、上記のオルガノポリシロキサンとと
もに、ジメチルポリシロキサンのような架橋反応をしな
い安定なオルガノシリコン化合物をバインダーに混合し
てもよい。
A stable organosilicon compound which does not undergo a cross-linking reaction, such as dimethylpolysiloxane, may be mixed with the above-mentioned organopolysiloxane in a binder.

【0046】本発明において光触媒含有層には上記の光
触媒、バインダーの他に、界面活性剤を含有させること
ができる。具体的には、日光ケミカルズ(株)製NIK
KOL BL、BC、BO、BBの各シリーズ等の炭化
水素系、デュポン社製ZONYL FSN、FSO、旭
硝子(株)製サーフロンS−141、145、大日本イ
ンキ化学工業(株)製メガファックF−141、14
4、ネオス(株)製フタージェント F−200、F2
51、ダイキン工業(株)製ユニダインDS−401、
402、スリーエム(株)製フロラードFC−170、
176等のフッ素系あるいはシリコーン系の非イオン界
面活性剤を挙げることができ、また、カチオン系界面活
性剤、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤を用いる
こともできる。
In the present invention, the photocatalyst-containing layer may contain a surfactant in addition to the above-mentioned photocatalyst and binder. Specifically, NIK manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd.
Hydrocarbons such as KOL BL, BC, BO and BB series, ZONYL FSN and FSO manufactured by DuPont, Surflon S-141 and 145 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., Megafax F- manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. 141, 14
4. Neogent F-200, F2
51, Unidyne DS-401 manufactured by Daikin Industries, Ltd.
402, 3M Co., Ltd. Florado FC-170,
176 or other nonionic surfactants of fluorine or silicone type, and cationic surfactants, anionic surfactants and amphoteric surfactants can also be used.

【0047】また、光触媒含有層には上記の界面活性剤
の他にも、ポリビニルアルコール、不飽和ポリエステ
ル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジアリルフタレー
ト、エチレンプロピレンジエンモノマー、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、ポ
リカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイ
ミド、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポ
リプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢酸
ビニル、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリベンズイ
ミダゾール、ポリアクリルニトリル、エピクロルヒドリ
ン、ポリサルファイド、ポリイソプレン等のオリゴマ
ー、ポリマー等を含有させることができる。
In the photocatalyst-containing layer, in addition to the above-mentioned surfactants, polyvinyl alcohol, unsaturated polyester, acrylic resin, polyethylene, diallyl phthalate, ethylene propylene diene monomer, epoxy resin, phenol resin, polyurethane, melamine resin Oligomers such as polycarbonate, polyvinyl chloride, polyamide, polyimide, styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, polypropylene, polybutylene, polystyrene, polyvinyl acetate, polyester, polybutadiene, polybenzimidazole, polyacrylonitrile, epichlorohydrin, polysulfide, polyisoprene, A polymer or the like can be contained.

【0048】カラーフィルタ1,11,21,31を構
成する光触媒含有層3,13,23,33の形成は、光
触媒とバインダーを必要に応じて他の添加剤とともに溶
剤中に分散して塗布液を調製し、この塗布液を塗布する
ことにより形成することができる。使用する溶剤として
は、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系の
有機溶剤が好ましい。塗布はスピンコート、スプレーコ
ート、ディップコート、ロールコート、ビードコート等
の公知の塗布方法により行うことができ、バインダーと
して紫外線硬化型の成分を含有している場合、紫外線を
照射して硬化処理を行うことにより光触媒含有層を形成
することができる。
The formation of the photocatalyst containing layers 3, 13, 23, 33 constituting the color filters 1, 11, 21, 31 is performed by dispersing a photocatalyst and a binder together with other additives as necessary in a solvent. Is prepared, and this coating liquid is applied to form a coating liquid. As the solvent to be used, alcohol-based organic solvents such as ethanol and isopropanol are preferable. The coating can be performed by a known coating method such as spin coating, spray coating, dip coating, roll coating, or bead coating.If the coating contains an ultraviolet-curable component as a binder, the coating is cured by irradiation with ultraviolet light. By doing so, a photocatalyst-containing layer can be formed.

【0049】光触媒含有層中の光触媒の含有量は、5〜
60重量%、好ましくは20〜40重量%の範囲で設定
することができる。また、光触媒含有層の厚みは、0.
05〜10μmの範囲内が好ましい。
The content of the photocatalyst in the photocatalyst containing layer is 5 to 5.
It can be set in the range of 60% by weight, preferably 20 to 40% by weight. Further, the thickness of the photocatalyst-containing layer is 0.1 mm.
It is preferably in the range of 05 to 10 μm.

【0050】本発明では、カラーフィルタ1,11,2
1,31を構成する濡れ性変化成分層として、上記のよ
うな光触媒含有層の他に、有機高分子樹脂層を用いるこ
とができる。ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリアミド、ポリスチレン等の
有機高分子は、紫外線、特に250nm以下の低波長成
分を多く含む紫外線を照射することにより、高分子鎖が
切断されて低分子化し、その結果、表面粗化が生じて濡
れ性を変化させて高親水性となる。これを利用し、光照
射部と非光照射部との濡れ性に大きな差を生じさせ、遮
光層用塗料や着色層用塗料との受容性および反撥性を高
めることによってカラーフィルタを得ることができる。
尚、高親水性とは、上述のように水との接触角が20°
以下となることを意味する。 (ブラックマトリックス)カラーフィルタ1,31を構
成するブラックマトリックス4,34は、それぞれ光触
媒含有層3、第1の光触媒含有層33aの高親水性部位
に形成され、着色層5、35の表示画素部の境界部およ
び着色層の形成領域の外側に位置している。このような
ブラックマトリックス4,34は、樹脂バインダー中に
カーボン微粒子、金属酸化物、無機顔料、有機顔料等を
含有した層であり、厚みは0.5〜10μmの範囲内で
設定することができる。樹脂バインダーとしては、ポリ
アクリルアミド、ポリビニルアルコール、ゼラチン、カ
ゼイン、セルロース等の水性樹脂の1種または2種以上
の混合物を用いることができる。また、樹脂バインダー
として、o/wエマルジョン型の樹脂組成物、例えば、
反応性シリコーンをエマルジョン化したもの等も用いる
ことができる。
In the present invention, the color filters 1, 11, 12
As the wettability changing component layer constituting 1, 31, an organic polymer resin layer can be used in addition to the photocatalyst containing layer as described above. Organic polymers such as polycarbonate, polyethylene, polyethylene terephthalate, polyamide, and polystyrene are irradiated with ultraviolet rays, particularly ultraviolet rays containing a large amount of low-wavelength components of 250 nm or less, whereby the polymer chains are cut to reduce the molecular weight. The surface is roughened to change the wettability and become highly hydrophilic. Utilizing this, it is possible to obtain a large difference in wettability between the light-irradiated portion and the non-light-irradiated portion, and obtain a color filter by increasing the receptivity and repulsion of the light-shielding layer paint and the coloring layer paint. it can.
The high hydrophilicity means that the contact angle with water is 20 ° as described above.
It means that (Black Matrix) The black matrices 4 and 34 constituting the color filters 1 and 31 are formed in the highly hydrophilic portions of the photocatalyst containing layer 3 and the first photocatalyst containing layer 33a, respectively. Are located outside the boundary portion and the formation region of the colored layer. Such black matrices 4 and 34 are layers containing carbon fine particles, metal oxides, inorganic pigments, organic pigments and the like in a resin binder, and the thickness can be set in a range of 0.5 to 10 μm. . As the resin binder, one or a mixture of two or more aqueous resins such as polyacrylamide, polyvinyl alcohol, gelatin, casein, and cellulose can be used. Further, as a resin binder, an o / w emulsion type resin composition, for example,
Emulsified reactive silicones can also be used.

【0051】また、カラーフィルタ11,21を構成す
るブラックマトリックス14,24は、着色層15、2
5の表示画素部の境界部および着色層の形成領域の外側
に設けられている。このようなブラックマトリックス1
4,24は、スパッタリング法、真空蒸着法等により厚
み1000〜2000Å程度のクロム等の金属薄膜を形
成し、この薄膜をパターニングして形成したもの、カー
ボン微粒子等の遮光性粒子を含有させたポリイミド樹
脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂層を形成し、
この樹脂層をパターニングして形成したもの、カーボン
微粒子、金属酸化物等の遮光性粒子を含有させた感光性
樹脂層を形成し、この感光性樹脂層をパターニングして
形成したもの等、いずれであってもよい。 (着色層)着色層5,15,25,35は、光触媒含有
層の高親水性部位に形成されたものであり、赤色パター
ン、緑色パターンおよび青色パターンが所望のパターン
形状で配列されており、無機顔料、有機顔料、染料等の
着色剤からなる層、または、これらの着色剤を樹脂バイ
ンダー中に含有した層である。樹脂バインダーとして
は、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ゼラ
チン、カゼイン、セルロース等の水性樹脂の1種または
2種以上の混合物を用いることができる。また、樹脂バ
インダーとして、o/wエマルジョン型の樹脂組成物、
例えば、反応性シリコーンをエマルジョン化したもの等
も用いることができる。
The black matrices 14 and 24 constituting the color filters 11 and 21 are provided with colored layers 15 and 2.
5 is provided outside the boundary between the display pixel portions and the region where the colored layer is formed. Such a black matrix 1
Nos. 4, 24 are formed by forming a metal thin film of chromium or the like having a thickness of about 1000 to 2000 ° by a sputtering method, a vacuum evaporation method or the like, and patterning the thin film, and a polyimide containing light-shielding particles such as carbon fine particles. Form a resin layer of resin, acrylic resin, epoxy resin, etc.,
This resin layer is formed by patterning, a carbon fine particle, a photosensitive resin layer containing light-shielding particles such as metal oxide is formed, and the photosensitive resin layer is formed by patterning. There may be. (Coloring layer) The coloring layers 5, 15, 25, and 35 are formed on the highly hydrophilic portion of the photocatalyst-containing layer, and a red pattern, a green pattern, and a blue pattern are arranged in a desired pattern shape. A layer made of a coloring agent such as an inorganic pigment, an organic pigment, or a dye, or a layer containing these coloring agents in a resin binder. As the resin binder, one or a mixture of two or more aqueous resins such as polyacrylamide, polyvinyl alcohol, gelatin, casein, and cellulose can be used. Further, as a resin binder, o / w emulsion type resin composition,
For example, an emulsion of a reactive silicone can be used.

【0052】着色層を構成する赤色パターン、緑色パタ
ーンおよび青色パターンのパターン形状は、ストライプ
型、モザイク型、トライアングル型、4画素配置型等の
公知のいずれの配列とすることもできる。 (保護層)保護層6,16,26,36は、カラーフィ
ルタの表面を平坦化するとともに、着色層、あるいは、
着色層と光触媒含有に含有される成分の液晶層への溶出
を防止するために設けられるものである。この保護層の
厚みは、使用される材料の光透過率、カラーフィルタの
表面状態等考慮して設定することができ、例えば、0.
1〜2.0μmの範囲で設定することができる。保護層
は、例えば、公知の透明感光性樹脂、二液硬化型透明樹
脂等のなかから、透明保護層として要求される光透過率
等を有するものを用いて形成することができる。本発明のカラーフィルタ製造方法 第1の実施形態 次に、本発明のカラーフィルタ製造方法の実施形態につ
いて、図1に示されたカラーフィルタ1を例に図5を参
照しながら説明する。 (第1の工程)まず、第1の工程として、透明基板2上
に濡れ性変化成分層としての光触媒含有層3を形成する
(図5(A))。この光触媒含有層3の形成は、上述の
ような光触媒とバインダーを必要に応じて他の添加剤と
ともに溶剤中に分散して塗布液を調製し、この塗布液を
塗布した後、加水分解、重縮合反応を進行させてバイン
ダー中に光触媒を強固に工程することにより形成でき
る。使用する溶剤としては、エタノール、イソプロパノ
ール等のアルコール系の有機溶剤が好ましく、塗布はス
ピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロール
コート、ビードコート等の公知の塗布方法により行うこ
とができる。
The pattern shape of the red, green and blue patterns constituting the colored layer can be any known arrangement such as a stripe type, a mosaic type, a triangle type and a four pixel arrangement type. (Protective Layer) The protective layers 6, 16, 26, and 36 flatten the surface of the color filter and form a colored layer or
It is provided to prevent the components contained in the colored layer and the photocatalyst from being eluted into the liquid crystal layer. The thickness of the protective layer can be set in consideration of the light transmittance of the material used, the surface condition of the color filter, and the like.
It can be set in the range of 1 to 2.0 μm. The protective layer can be formed by using, for example, a known transparent photosensitive resin, a two-component curable transparent resin, or the like having a light transmittance required for the transparent protective layer. Color filter manufacturing method first embodiment of the present invention Next, embodiments of a color filter manufacturing method of the present invention, the color filter 1 shown in FIG. 1 will be described with reference to FIG. 5 as an example. (First Step) First, as a first step, a photocatalyst containing layer 3 as a wettability changing component layer is formed on a transparent substrate 2 (FIG. 5A). The photocatalyst-containing layer 3 is formed by dispersing the above-described photocatalyst and binder together with other additives as necessary in a solvent to prepare a coating solution, applying the coating solution, and then subjecting the coating solution to hydrolysis, A photocatalyst can be formed in a binder by advancing a condensation reaction to a strong step. The solvent used is preferably an alcoholic organic solvent such as ethanol or isopropanol, and the coating can be performed by a known coating method such as spin coating, spray coating, dip coating, roll coating, or bead coating.

【0053】次に、光触媒含有層3のブラックマトリッ
クス形成部位に光照射を行い、光照射部位3´を光触媒
の作用により高親水性とすることにより、特定の濡れ性
部位を形成する(図5(B))。この光照射は、ブラッ
クマトリックス用のフォトマスクを介した水銀ランプ、
メタルハライドランプ、キセノンランプ等によるパター
ン照射でもよく、また、エキシマ、YAG等のレーザー
を用いてブラックマトリックスのパターン形状に描画照
射してもよい。この光照射に用いる光の波長は400n
m以下の範囲、好ましくは380nm以下の範囲から設
定することができ、また、光照射における照射量は、光
照射部位3´が光触媒の作用により高親水性(水との接
触角が10°以下)を発現するのに必要な照射量とす
る。
Next, light is irradiated to the black matrix forming portion of the photocatalyst containing layer 3 to make the light irradiated portion 3 'highly hydrophilic by the action of the photocatalyst, thereby forming a specific wettable portion (FIG. 5). (B)). This light irradiation is performed by a mercury lamp through a photomask for black matrix,
Pattern irradiation using a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like may be performed, or drawing irradiation may be performed in a black matrix pattern shape using a laser such as excimer or YAG. The wavelength of light used for this light irradiation is 400 n
m, preferably 380 nm or less, and the irradiation amount in light irradiation is such that the light irradiation site 3 ′ is highly hydrophilic (the contact angle with water is 10 ° or less due to the action of a photocatalyst). ) Is the irradiation dose necessary to develop

【0054】次に、ブラックマトリックス用の塗料を光
照射部位3´上に付着させ硬化してブラックマトリック
ス4を形成する(図5(C))。光照射部位3´上への
ブラックマトリックス用塗料の付着は、塗料をスプレー
コート、ディップコート、ロールコート、ビードコート
等の公知の塗布方法により光触媒含有層3上に塗布する
ことにより行うことができる。この場合、塗布された塗
料は、高い撥水性を示す非光照射部位ではじかれて除去
され、高親水性を示す光照射部位(特定の濡れ性部位)
3´のみに選択的に付着する。また、光照射部位3´上
へのブラックマトリックス用塗料の付着は、インクジェ
ット等のノズル吐出方式により行ってもよい。この場
合、ノズル吐出により光照射部位3´内に供給されたブ
ラックマトリックス用塗料は、高親水性を示す光照射部
位3´に均一に拡散して付着するとともに、高い撥水性
を示す非光照射部位には拡散することがない。また、仮
にノズル吐出により供給された塗料が光照射部位3´か
らはみだしても、高い撥水性を示す非光照射部ではじか
れて光照射部位3´内に付着する。
Next, a coating material for a black matrix is adhered onto the light irradiation site 3 'and cured to form a black matrix 4 (FIG. 5C). The adhesion of the black matrix paint onto the light irradiation site 3 'can be performed by applying the paint onto the photocatalyst containing layer 3 by a known coating method such as spray coating, dip coating, roll coating, or bead coating. . In this case, the applied paint is repelled and removed at the non-light-irradiated portion showing high water repellency, and the light-irradiated portion showing high hydrophilicity (specific wettability portion)
It selectively adheres only to 3 '. Further, the adhesion of the black matrix paint on the light irradiation site 3 'may be performed by a nozzle discharge method such as an inkjet method. In this case, the coating material for the black matrix supplied into the light-irradiated portion 3 'by nozzle discharge is uniformly diffused and attached to the light-irradiated portion 3' showing high hydrophilicity, and is also non-light-irradiated showing high water repellency. It does not spread to the site. Further, even if the paint supplied by the nozzle discharge protrudes from the light irradiation part 3 ', it is repelled by the non-light irradiation part showing high water repellency and adheres to the inside of the light irradiation part 3'.

【0055】さらに、ブラックマトリックス4の形成を
真空薄膜形成方式により行ってもよい。すなわち、光照
射後の光触媒含有層3上に蒸着法等により金属薄膜を形
成し、非光照射部と光照射部位3´の接着力の差を利用
して、粘着テープを用いた剥離、溶剤処理等によりパタ
ーン化してブラックマトリックス4を形成することがで
きる。 (第2の工程)次に、光触媒含有層3上の赤色パターン
5Rの形成部位に光照射を行い、光照射部位3´を光触
媒の作用により高親水性とすることにより、特定の濡れ
性部位を形成する(図5(D))。この光照射は、上記
のブラックマトリックスの形成工程(第1の工程)と同
様に、パターン照射、光描画照射のいずれでもよい。次
いで、赤色パターン用の塗料を光触媒含有層3に供給す
る。この塗料の供給は、上記のブラックマトリックスの
形成工程(第2の工程)と同様に、塗布方式、インクジ
ェット等のノズル吐出方式、真空薄膜形成方式等のいず
れであってもよい。供給された塗料は、ブラックマトリ
ックス4および高い撥水性を示す非光照射部位ではじか
れて除去され、高親水性を示す光照射部位3´のみに選
択的に付着する。そして、光照射部位3´上に付着した
赤色パターン用の塗料を硬化して赤色パターン5Rを形
成する(図5(E))。尚、赤色パターン5Rの形成を
真空薄膜形成方式により行う場合、光照射後の光触媒含
有層3上に蒸着法等により赤色パターン用の塗料薄膜を
形成し、非光照射部と光照射部位3´の接着力の差を利
用して、粘着テープを用いた剥離、溶剤処理等によりパ
ターン化して赤色パターン5Rを形成する。
Further, the black matrix 4 may be formed by a vacuum thin film forming method. That is, a metal thin film is formed on the photocatalyst-containing layer 3 after light irradiation by an evaporation method or the like, and peeling using an adhesive tape is performed by using a difference in adhesive strength between the non-light irradiated portion and the light irradiated portion 3 ′. The black matrix 4 can be formed by patterning by processing or the like. (Second Step) Next, the portion where the red pattern 5R is formed on the photocatalyst-containing layer 3 is irradiated with light, and the light-irradiated portion 3 'is made highly hydrophilic by the action of the photocatalyst, so that a specific wettability portion is formed. Is formed (FIG. 5D). This light irradiation may be any of pattern irradiation and optical drawing irradiation, as in the above-described black matrix forming step (first step). Next, a paint for a red pattern is supplied to the photocatalyst containing layer 3. The supply of the paint may be any of a coating method, a nozzle discharge method such as an inkjet method, a vacuum thin film forming method, and the like, similarly to the above-described black matrix forming step (second step). The supplied paint is repelled and removed at the black matrix 4 and at the non-light-irradiated portion exhibiting high water repellency, and selectively adheres only to the light-irradiated portion 3 'exhibiting high hydrophilicity. Then, the red pattern paint adhered on the light irradiation site 3 'is cured to form a red pattern 5R (FIG. 5E). When the red pattern 5R is formed by a vacuum thin film forming method, a paint thin film for the red pattern is formed on the photocatalyst-containing layer 3 after light irradiation by a vapor deposition method or the like, and the non-light-irradiated portion and the light-irradiated portion 3 ′ are formed. The red pattern 5R is formed by patterning by peeling using an adhesive tape, solvent treatment, or the like, utilizing the difference in the adhesive force of the above.

【0056】上記の赤色パターン形成と同様の操作を繰
り返して、緑色パターン5G、青色パターン5Bを形成
し、赤色パターン、緑色パターン、青色パターンからな
る着色層5を形成し、この着色層5上に保護層6を形成
することにより、図1に示されたカラーフィルタ1が得
られる(図5(F))。
By repeating the same operation as that for forming the red pattern, a green pattern 5G and a blue pattern 5B are formed. By forming the protective layer 6, the color filter 1 shown in FIG. 1 is obtained (FIG. 5F).

【0057】尚、第2の工程においてノズル吐出方式を
用いる場合であって各色のパターン(画素)がブラック
マトリックス4により囲まれている場合、第1の工程で
ブラックマトリックス4が形成された光触媒含有層3の
全面に対して光照射を行い光触媒の作用により高親水性
とし、その後、ノズルから各色のパターン形成部位ごと
に着色パターン用塗料を供給して均一に拡散付着させ、
その後、硬化処理を施して着色層を形成してもよい。
When the nozzle discharge method is used in the second step and the pattern (pixel) of each color is surrounded by the black matrix 4, the photocatalyst containing the black matrix 4 formed in the first step is used. The entire surface of the layer 3 is irradiated with light to make it highly hydrophilic by the action of a photocatalyst. Thereafter, a coating material for a colored pattern is supplied from a nozzle to each pattern forming portion of each color to uniformly diffuse and adhere.
Thereafter, a hardening treatment may be performed to form a colored layer.

【0058】また、濡れ性変化成分層として有機高分子
樹脂層を使用する場合、250nm以下の低波長成分を
多く含む紫外線を用いて光照射を行う。第2の実施形態 次に、本発明のカラーフィルタ製造方法の第2の実施形
態について、図2に示されたカラーフィルタ11を例に
図6を参照しながら説明する。 (第1の工程)まず、第1の工程として、予めブラック
マトリックス14が形成された透明基板12上に光触媒
含有層13を形成する(図6(A))。この光触媒含有
層13の形成は、上述の第1の実施形態における光触媒
含有層の形成と同様に行うことができる。
When an organic polymer resin layer is used as the wettability changing component layer, light irradiation is performed using ultraviolet rays containing a large amount of low wavelength components of 250 nm or less. Second Embodiment Next, a second embodiment of the color filter manufacturing method of the present invention will be described with reference to FIG. 6 taking the color filter 11 shown in FIG. 2 as an example. (First Step) First, as a first step, a photocatalyst containing layer 13 is formed on a transparent substrate 12 on which a black matrix 14 has been formed in advance (FIG. 6A). The formation of the photocatalyst containing layer 13 can be performed in the same manner as the formation of the photocatalyst containing layer in the first embodiment described above.

【0059】次いで、光触媒含有層13上の赤色パター
ンの形成部位に光照射を行い、光照射部位13´を光触
媒の作用により高親水性とすることにより、特定の濡れ
性部位を形成する(図6(B))。この光照射は、上述
の第1の実施形態におけるブラックマトリックスの形成
工程(第1の工程)と同様に、パターン照射、光描画照
射のいずれでもよい。 (第2の工程)次に、赤色パターン用の塗料を光触媒含
有層13に供給する。この塗料の供給は、上述の第1の
実施形態におけるブラックマトリックスの形成工程(第
2の工程)と同様に、塗布方式、インクジェット等のノ
ズル吐出方式、真空薄膜形成方式等のいずれであっても
よい。供給された塗料は、高い撥水性を示す非光照射部
位ではじかれて除去され、高親水性を示す光照射部位1
3´のみに選択的に付着する。そして、光照射部位13
´上に付着した赤色パターン用の塗料を硬化して赤色パ
ターン15Rを形成する(図6(C))。
Next, a portion where the red pattern is to be formed on the photocatalyst containing layer 13 is irradiated with light, and the photoirradiated portion 13 'is made highly hydrophilic by the action of the photocatalyst to form a specific wettable portion (FIG. 9). 6 (B)). This light irradiation may be any of pattern irradiation and optical drawing irradiation, as in the black matrix forming step (first step) in the first embodiment described above. (Second Step) Next, a paint for a red pattern is supplied to the photocatalyst containing layer 13. The supply of the paint may be performed by any of a coating method, a nozzle discharge method such as an inkjet method, a vacuum thin film forming method, and the like, similarly to the black matrix forming step (second step) in the first embodiment described above. Good. The supplied paint is repelled and removed at the non-light-irradiated portion showing high water repellency, and the light-irradiated portion 1 showing high hydrophilicity is removed.
It selectively adheres only to 3 '. And the light irradiation part 13
The red pattern paint applied on the 'is cured to form a red pattern 15R (FIG. 6C).

【0060】上記の赤色パターン形成と同様の操作を繰
り返して、緑色パターン15G、青色パターン15Bを
形成し、赤色パターン、緑色パターン、青色パターンか
らなる着色層15を形成し、この着色層15上に保護層
16を形成することにより、図2に示されたカラーフィ
ルタ11が得られる(図6(D))。
By repeating the same operation as the above-described formation of the red pattern, a green pattern 15G and a blue pattern 15B are formed. By forming the protective layer 16, the color filter 11 shown in FIG. 2 is obtained (FIG. 6D).

【0061】尚、第2の工程においてノズル吐出方式を
用いる場合であって各色のパターン(画素)を囲むよう
にブラックマトリックス14がパターン形成されている
場合、第1の工程でブラックマトリックス14を覆うよ
うに透明基板12上に形成された光触媒含有層13の全
面を、図7に示されるようにブラックマトリックス14
の線幅(W)よりも狭い線幅(w)の遮光パターン(図
7に斜線で示)を有するマスクMを介して光照射して光
触媒の作用により高親水性とし、その後、ノズルから各
色のパターン形成部位ごとに着色パターン用塗料を供給
して均一に拡散付着させ、その後、硬化処理を施して着
色層を形成してもよい。
In the case where the nozzle discharge method is used in the second step and the black matrix 14 is formed so as to surround the pattern (pixel) of each color, the black matrix 14 is covered in the first step. The entire surface of the photocatalyst containing layer 13 formed on the transparent substrate 12 as shown in FIG.
Light is radiated through a mask M having a light-shielding pattern (shown by oblique lines in FIG. 7) having a line width (w) smaller than the line width (W) to make the surface highly hydrophilic by the action of a photocatalyst. The colored pattern paint may be supplied to each of the pattern forming portions to diffuse and adhere uniformly, and then a curing process may be performed to form a colored layer.

【0062】また、濡れ性変化成分層として有機高分子
樹脂層を用いる場合、250nm以下の低波長成分を多
く含む紫外線を用いて光照射を行う。第3の実施形態 次に、本発明のカラーフィルタ製造方法の第3の実施形
態について、図3に示されたカラーフィルタ21を例に
図8を参照しながら説明する。
When an organic polymer resin layer is used as the wettability changing component layer, light irradiation is performed using ultraviolet rays containing a large amount of low wavelength components of 250 nm or less. Third Embodiment Next, a third embodiment of the color filter manufacturing method of the present invention will be described with reference to FIG. 8 taking the color filter 21 shown in FIG. 3 as an example.

【0063】まず、予めブラックマトリックス24が形
成された透明基板22上に第1の光触媒含有層23aを
形成し、この光触媒含有層23a上の赤色パターンの形
成部位に光照射を行い、光照射部位23´aを光触媒の
作用により高親水性とすることにより、特定の濡れ性部
位を形成する(図8(A))。第1の光触媒含有層23
aの形成は、上述の第1の実施形態における光触媒含有
層3の形成と同様に行うことができる。また、第1の光
触媒含有層23aに対する光照射は、上述の第1の実施
形態におけるブラックマトリックスの形成工程(第1の
工程)と同様に、パターン照射、光描画照射のいずれで
もよい。次いで、赤色パターン用の塗料を第1の光触媒
含有層23aに供給する。この塗料の供給は、上述の第
1の実施形態におけるブラックマトリックスの形成工程
(第1の工程)と同様に、塗布方式、インクジェット等
のノズル吐出方式、真空薄膜形成方式等のいずれであっ
てもよい。供給された塗料は、高い撥水性を示す非光照
射部位ではじかれて除去され、高親水性を示す光照射部
位23´aのみに選択的に付着する。そして、光照射部
位23´a上に付着した赤色パターン用の塗料を硬化し
て赤色パターン25Rを形成する(図8(B))。これ
により、第1の光触媒含有層23aと、この光触媒含有
層23aの光照射部位(高親水性部位)23´aに形成
された赤色パターン25Rとの積層体が、透明基板22
上に形成される。
First, a first photocatalyst containing layer 23a is formed on a transparent substrate 22 on which a black matrix 24 has been formed in advance, and light is irradiated to a portion where a red pattern is formed on the photocatalyst containing layer 23a. A specific wettability site is formed by making 23′a highly hydrophilic by the action of a photocatalyst (FIG. 8A). First photocatalyst containing layer 23
The formation of a can be performed in the same manner as the formation of the photocatalyst containing layer 3 in the first embodiment described above. The light irradiation on the first photocatalyst containing layer 23a may be any of pattern irradiation and light drawing irradiation as in the black matrix forming step (first step) in the above-described first embodiment. Next, a paint for a red pattern is supplied to the first photocatalyst containing layer 23a. The supply of the paint may be performed by any of a coating method, a nozzle discharge method such as an inkjet method, a vacuum thin film forming method, and the like, similarly to the black matrix forming step (first step) in the first embodiment. Good. The supplied paint is repelled and removed at the non-light-irradiated portion exhibiting high water repellency, and selectively adheres only to the light-irradiated portion 23'a exhibiting high hydrophilicity. Then, the red pattern paint adhered on the light irradiation site 23'a is cured to form a red pattern 25R (FIG. 8B). As a result, a laminate of the first photocatalyst-containing layer 23a and the red pattern 25R formed on the light-irradiated portion (highly hydrophilic portion) 23'a of the photocatalyst-containing layer 23a is formed on the transparent substrate 22.
Formed on top.

【0064】上記の赤色パターン形成と同様に、第2の
光触媒含有層23bを形成し、この光触媒含有層23b
上の緑色パターン25Gの形成部位に光照射を行い、光
照射部位23´bを光触媒の作用により高親水性とする
ことにより、特定の濡れ性部位を形成とし(図8
(C))、緑色パターン用の塗料を光照射部位23´b
上に付着させ硬化して緑色パターン25Gを形成する
(図8(D))。これにより、第2の光触媒含有層23
bと、この光触媒含有層23bの光照射部位(高親水性
部位)23´bに形成された緑色パターン25Gとの積
層体が、透明基板22上に形成される。
In the same manner as in the formation of the red pattern, a second photocatalyst containing layer 23b is formed.
Light is irradiated to the formation portion of the upper green pattern 25G to make the light irradiation portion 23′b highly hydrophilic by the action of a photocatalyst, thereby forming a specific wettability portion (FIG. 8).
(C)), a paint for a green pattern is applied to the light irradiated portion 23'b.
The green pattern 25G is formed by being adhered on the upper surface and cured (FIG. 8D). Thereby, the second photocatalyst containing layer 23
A laminate of b and the green pattern 25G formed on the light irradiation site (highly hydrophilic site) 23′b of the photocatalyst containing layer 23b is formed on the transparent substrate 22.

【0065】同様の操作を繰り返して、第3の光触媒含
有層23cと、この光触媒含有層23cの光照射部位
(高親水性部位)23´cに形成された青色パターン2
5Gとの積層体を、透明基板22上に形成する。これに
より、赤色パターン、緑色パターン、青色パターンから
なる着色層25を形成し、この着色層25上に保護層2
6を形成することにより、図3に示されたカラーフィル
タ21が得られる(図8(E))。
By repeating the same operation, the third photocatalyst-containing layer 23c and the blue pattern 2 formed on the light-irradiated portion (highly hydrophilic portion) 23'c of this photocatalyst-containing layer 23c are formed.
A laminate with 5G is formed on the transparent substrate 22. Thus, a colored layer 25 composed of a red pattern, a green pattern, and a blue pattern is formed, and the protective layer 2 is formed on the colored layer 25.
By forming 6, the color filter 21 shown in FIG. 3 is obtained (FIG. 8E).

【0066】尚、濡れ性変化成分層として有機高分子樹
脂層を用いる場合、250nm以下の低波長成分を多く
含む紫外線を用いて光照射を行う。第4の実施形態 次に、本発明のカラーフィルタ製造方法の第4の実施形
態について、図4に示されたカラーフィルタ31を例に
図9を参照しながら説明する。 (第1の工程)まず、第1の工程として、透明基板32
上に第1の光触媒含有層33aを形成し、この光触媒含
有層33a上のブラックマトリックスの形成部位に光照
射を行い、光照射部位33´aを光触媒の作用により高
親水性とすることにより、特定の濡れ性部位を形成する
(図9(A))。この第1の光触媒含有層33aの形成
は、上述の第1の実施形態における光触媒含有層3の形
成と同様に行うことができる。また、第1の光触媒含有
層33aに対する光照射は、上述の第1の実施形態にお
けるブラックマトリックスの形成工程(第2の工程)と
同様に、パターン照射、光描画照射のいずれでもよい。
When an organic polymer resin layer is used as the wettability changing component layer, light irradiation is performed using ultraviolet rays containing a large amount of low wavelength components of 250 nm or less. Fourth Embodiment Next, a fourth embodiment of the color filter manufacturing method of the present invention will be described with reference to FIG. 9 taking the color filter 31 shown in FIG. 4 as an example. (First Step) First, as a first step, the transparent substrate 32
A first photocatalyst-containing layer 33a is formed thereon, and a light is irradiated to a portion where a black matrix is formed on the photocatalyst-containing layer 33a. A specific wettability site is formed (FIG. 9A). The formation of the first photocatalyst containing layer 33a can be performed in the same manner as the formation of the photocatalyst containing layer 3 in the above-described first embodiment. The light irradiation on the first photocatalyst containing layer 33a may be any of pattern irradiation and light drawing irradiation as in the black matrix forming step (second step) in the first embodiment.

【0067】次いで、ブラックマトリックス用の塗料を
光照射部位33´a上に付着させ硬化してブラックマト
リックス34を形成する(図9(B))。光照射部位3
3´a上へのブラックマトリックス用塗料の付着は、上
述の第1の実施形態におけるブラックマトリックスの形
成工程(第1の工程)と同様に、塗布方式、インクジェ
ット等のノズル吐出方式、真空薄膜形成方式等のいずれ
であってもよい。 (第2の工程)第1の工程で形成されたブラックマトリ
ックス34を覆うように第1の光触媒含有層33aに第
2の光触媒含有層33bを形成し、この光触媒含有層3
3b上の赤色パターンの形成部位に光照射を行い、光照
射部位33´bを光触媒の作用により高親水性とするこ
とにより、特定の濡れ性部位を形成する(図9
(C))。第2の光触媒含有層33aの形成は、上述の
第1の光触媒含有層33aの形成と同様に行うことがで
きる。また、第2の光触媒含有層33bに対する光照射
は、上述の第1の光触媒含有層33aに対する光照射と
同様に、パターン照射、光描画照射のいずれでもよい。
次いで、赤色パターン用の塗料を第2の光触媒含有層3
3bに供給する。この塗料の供給は、上述の第1の実施
形態におけるブラックマトリックスの形成工程(第2の
工程)と同様に、塗布方式、インクジェット等のノズル
吐出方式、真空薄膜形成方式等のいずれであってもよ
い。供給された塗料は、ブラックマトリックス34およ
び高い撥水性を示す非光照射部位ではじかれて除去さ
れ、高親水性を示す光照射部位33´bのみに選択的に
付着する。そして、光照射部位33´b上に付着した赤
色パターン用の塗料を硬化して赤色パターン35Rを形
成する(図9(D))。これにより、第2の光触媒含有
層33bと、この光触媒含有層33bの光照射部位(高
親水性部位)33´bに形成された赤色パターン35R
との積層体が、第1の光触媒含有層33aに形成され
る。
Next, a black matrix paint is applied onto the light-irradiated portion 33'a and cured to form a black matrix 34 (FIG. 9B). Light irradiation part 3
The adhesion of the black matrix paint on 3'a is performed in the same manner as the black matrix forming step (first step) in the first embodiment described above, such as a coating method, a nozzle discharge method such as ink jet, and a vacuum thin film formation. Any method may be used. (Second Step) A second photocatalyst containing layer 33b is formed on the first photocatalyst containing layer 33a so as to cover the black matrix 34 formed in the first step.
A specific wettability portion is formed by irradiating light to the formation portion of the red pattern on 3b and making the light irradiation portion 33'b highly hydrophilic by the action of a photocatalyst (FIG. 9).
(C)). The formation of the second photocatalyst containing layer 33a can be performed in the same manner as the formation of the first photocatalyst containing layer 33a described above. The light irradiation on the second photocatalyst containing layer 33b may be any of pattern irradiation and light drawing irradiation similarly to the light irradiation on the first photocatalyst containing layer 33a.
Next, the red pattern paint is applied to the second photocatalyst containing layer 3.
3b. The supply of the paint may be performed by any of a coating method, a nozzle discharge method such as an inkjet method, a vacuum thin film forming method, and the like, similarly to the black matrix forming step (second step) in the first embodiment described above. Good. The supplied paint is repelled and removed at the black matrix 34 and at the non-light-irradiated portion showing high water repellency, and selectively adheres only to the light-irradiated portion 33'b showing high hydrophilicity. Then, the red pattern paint adhered on the light irradiation part 33'b is cured to form a red pattern 35R (FIG. 9D). Thereby, the second photocatalyst containing layer 33b and the red pattern 35R formed on the light irradiation portion (highly hydrophilic portion) 33'b of the photocatalyst containing layer 33b.
Is formed on the first photocatalyst containing layer 33a.

【0068】同様の操作を繰り返すことにより、第3の
光触媒含有層33cと、この光触媒含有層33cの光照
射部位(高親水性部位)33´cに形成された緑色パタ
ーン35Gとの積層体を第1の光触媒含有層33a上に
形成し、さらに、第4の光触媒含有層33dと、この光
触媒含有層33dの光照射部位(高親水性部位)33´
dに形成された青色パターン35Bとの積層体を第1の
光触媒含有層33a上に形成する。これにより、赤色パ
ターン、緑色パターン、青色パターンからなる着色層3
5を形成し、この着色層35上に保護層36を形成する
ことにより、図4に示されたカラーフィルタ31が得ら
れる(図9(E))。
By repeating the same operation, a laminate of the third photocatalyst-containing layer 33c and the green pattern 35G formed on the light-irradiated portion (highly hydrophilic portion) 33'c of the photocatalyst-containing layer 33c is formed. The fourth photocatalyst-containing layer 33d is formed on the first photocatalyst-containing layer 33a, and a light-irradiated portion (highly hydrophilic portion) 33 'of the photocatalyst-containing layer 33d.
A laminate with the blue pattern 35B formed in d is formed on the first photocatalyst containing layer 33a. Thereby, the colored layer 3 composed of the red pattern, the green pattern, and the blue pattern
By forming the protective layer 36 on the colored layer 35, the color filter 31 shown in FIG. 4 is obtained (FIG. 9E).

【0069】上述のように、本発明では、ブラックマト
リックス用塗料や着色層用塗料をブラックマトリックス
や着色層を形成する箇所のみに選択的に付着させること
ができるので、塗料の使用効率が極めて高いものとな
る。
As described above, in the present invention, the paint for the black matrix or the paint for the colored layer can be selectively adhered only to the portion where the black matrix or the colored layer is formed, so that the use efficiency of the paint is extremely high. It will be.

【0070】尚、濡れ性変化成分層として有機高分子樹
脂層を用いる場合、250nm以下の低波長成分を多く
含む紫外線を用いて光照射を行う。
When an organic polymer resin layer is used as the wettability changing component layer, light irradiation is performed using ultraviolet rays containing a large amount of low wavelength components of 250 nm or less.

【0071】上述のカラーフィルタおよびカラーフィル
タの製造方法の実施形態として示した着色層の色数、形
成位置等は例示であり、これに限定されるものではな
い。
The number of colors, the formation positions, and the like of the color layers described as the embodiments of the above-described color filter and the method of manufacturing the color filter are examples, and the present invention is not limited thereto.

【0072】[0072]

【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

【0073】まず、濡れ性変化成分層として光触媒含有
層を用いる実施例を説明する。 (実施例1)光触媒含有層用塗布液の調製 まず、下記組成の光触媒含有層用の塗布液を調製した。
First, an example in which a photocatalyst containing layer is used as the wettability changing component layer will be described. Example 1 Preparation of Coating Solution for Photocatalyst-Containing Layer First, a coating solution for a photocatalyst-containing layer having the following composition was prepared.

【0074】 (光触媒含有層用塗布液の組成) ・光触媒含有組成物(石原産業(株)製ST−K01)… 2重量部 ・オルガノアルコキシシラン … 0.4重量部 (東芝シリコーン(株)製TSL8113) ・フルオロアルコキシシラン … 0.3重量部 (トーケムプロダクツ(株)製MF−160E) ・イソプロピルアルコール … 3重量部 上記の光触媒含有層用塗布液をスピンコーターによりソ
ーダガラス製の透明基板上に塗布し、150℃、10分
間の乾燥処理後、加水分解、重縮合反応を進行させて、
光触媒がオルガノポリシロキサン中に強固に固定された
透明な光触媒含有層(厚み0.5μm)を形成した。こ
の光触媒含有層にマスクを介して水銀灯(波長365n
m)により70mW/cm2 の照度で50秒間パターン
照射を行い、照射部位と非照射部位との水に対する接触
角を接触角測定器(協和界面科学(株)製CA−Z型)
を用いて測定(マイクロシリンジから水滴を滴下して3
0秒後)した結果、非照射部位における水の接触角は1
42°であるのに対し、照射部位における水の接触角は
10°以下であり、照射部位が高親水性部位となり、照
射部位と非照射部位との濡れ性の相違によるパターン形
成が可能なことが確認された。ブラックマトリックスの形成 次に、上記と同様にして透明基板上に光触媒含有層を形
成した。(図5(A)に相当) この光触媒含有層を、マトリックス状の開口パターン
(開口線幅30μm)を設けたブラックマトリックス用
のマスクを介して水銀灯(波長365nm)により照射
(70mW/cm2 の照度で50秒間)して、照射部位
を高親水性(水の接触角に換算して10°以下)とし
た。(図5(B)に相当) 一方、下記組成の混合物を90℃に加熱して溶解し、1
2000r.p.m.で遠心分離を行い、その後、1μmのグ
ラスフィルターでろ過した。得られた水性着色樹脂溶液
に、架橋剤として重クロム酸アンモニウムを1重量%添
加して、ブラックマトリックス用の塗布液を調製した。
(Composition of Photocatalyst-Containing Layer Coating Solution) Photocatalyst-containing composition (ST-K01 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.): 2 parts by weight Organoalkoxysilane: 0.4 part by weight (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) TSL8113)-Fluoroalkoxysilane ... 0.3 parts by weight (MF-160E manufactured by Tochem Products Co., Ltd.)-Isopropyl alcohol ... 3 parts by weight The above coating solution for the photocatalyst-containing layer is coated on a soda glass transparent substrate by a spin coater. After drying at 150 ° C. for 10 minutes, hydrolysis and polycondensation are allowed to proceed.
A transparent photocatalyst-containing layer (thickness: 0.5 μm) in which the photocatalyst was firmly fixed in the organopolysiloxane was formed. A mercury lamp (wavelength 365 n) is applied to this photocatalyst-containing layer via a mask.
m), pattern irradiation is performed for 50 seconds at an illuminance of 70 mW / cm 2 , and the contact angle of water between the irradiated portion and the non-irradiated portion is measured with a contact angle measuring device (CA-Z type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.)
(Use water drops from a microsyringe to measure 3
(After 0 seconds), the contact angle of water at the non-irradiated part was 1
While the contact angle of water at the irradiated site is 42 ° or less, the irradiated site becomes a highly hydrophilic site, and the pattern can be formed due to the difference in wettability between the irradiated site and the non-irradiated site. Was confirmed. Formation of Black Matrix Next, a photocatalyst containing layer was formed on the transparent substrate in the same manner as described above. (Corresponding to FIG. 5A) This photocatalyst-containing layer was irradiated with a mercury lamp (wavelength 365 nm) (70 mW / cm 2 ) through a black matrix mask provided with a matrix-shaped opening pattern (opening line width 30 μm). Irradiation was performed for 50 seconds) to make the irradiated portion highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle). On the other hand, a mixture having the following composition was heated to 90 ° C. to dissolve
Centrifugation was performed at 2000 rpm, followed by filtration through a 1 μm glass filter. 1% by weight of ammonium bichromate was added as a crosslinking agent to the obtained aqueous colored resin solution to prepare a coating liquid for a black matrix.

【0075】 (ブラックマトリックス塗布液の組成) ・カーボンブラック(三菱化学(株)製#950) … 4重量部 ・ポリビニルアルコール … 0.7重量部 (日本合成化学(株)製ゴーセノールAH−26) ・イオン交換水 …95.3重量部 次に、上記のブラックマトリックス用塗布液をブレード
コーターにより光触媒含有層上に全面塗布した。このよ
うに塗布されたブラックマトリックス用塗布液は、光触
媒含有層の非照射部ではじかれ、照射部位のみに選択的
に付着した。その後、60℃、3分間の乾燥を行い、水
銀ランプで露光することにより、ブラックマトリックス
用塗布液を硬化させ、さらに、150℃、30分間の加
熱処理を施してブラックマトリックスを形成した。(図
5(C)に相当)着色層の形成 まず、下記の各組成の混合物を3本ロールで練肉分散し
た後、12000r.p.m.で遠心分離を行い、その後、1
μmのグラスフィルターでろ過した。得られた水性着色
樹脂溶液に、架橋剤として重クロム酸アンモニウムを1
重量%添加して、赤色パターン用の塗布液、緑色パター
ン用の塗布液および青色パターン用の塗布液を調製し
た。
(Composition of Black Matrix Coating Solution) Carbon black (# 950 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 4 parts by weight Polyvinyl alcohol 0.7 parts by weight (Gohsenol AH-26 manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.) Ion-exchanged water: 95.3 parts by weight Next, the above coating solution for black matrix was applied over the entire surface of the photocatalyst-containing layer by a blade coater. The coating liquid for a black matrix applied in this manner was repelled in the non-irradiated portion of the photocatalyst-containing layer, and selectively adhered only to the irradiated portion. Thereafter, drying was performed at 60 ° C. for 3 minutes, and the coating liquid for a black matrix was cured by exposing with a mercury lamp, and further subjected to a heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes to form a black matrix. (Corresponding to FIG. 5 (C)) Formation of Colored Layer First, a mixture of the following compositions was ground with a three-roll mill, and then centrifuged at 12,000 rpm.
The mixture was filtered through a μm glass filter. To the obtained aqueous colored resin solution, 1 part of ammonium bichromate was used as a crosslinking agent.
The coating liquid for a red pattern, the coating liquid for a green pattern, and the coating liquid for a blue pattern were prepared by adding wt%.

【0076】 (赤色パターン用塗布液の組成) ・C.I.ピグメントレッド168 … 1重量部 ・ポリビニルアルコール5重量%水溶液 … 10重量部 (ポリビニルアルコールの平均重合度1750、ケン化度88モル%) (緑色パターン用塗布液の組成) ・C.I.ピグメントグリーン36 … 1重量部 ・ポリビニルアルコール5重量%水溶液 … 10重量部 (ポリビニルアルコールの平均重合度1750、ケン化度88モル%) (青色パターン用塗布液の組成) ・C.I.ピグメントブルー60 … 1重量部 ・ポリビニルアルコール5重量%水溶液 … 10重量部 (ポリビニルアルコールの平均重合度1750、ケン化度88モル%) 次に、上記のようにブラックマトリックスが形成された
光触媒含有層の赤色パターン形成領域に、150μm×
300μmの着色層形成用の開口パターンを設けたマス
クを介して水銀灯(波長365nm)により照射(70
mW/cm2 の照度で50秒間)して、照射部位を高親
水性(水の接触角に換算して10°以下)とした。(図
5(D)に相当) 次いで、上記の赤色パターン用塗布液をブレードコータ
ーにより光触媒含有層上に全面塗布した。このように塗
布された赤色パターン用塗布液は、光触媒含有層の非照
射部ではじかれ、照射部位のみに選択的に付着した。そ
の後、60℃、3分間の乾燥を行い、水銀ランプで露光
することにより、赤色パターン用塗布液を硬化させ、さ
らに、150℃、30分間の加熱処理を施して赤色パタ
ーンを形成した。(図5(E)に相当) 同様にして、光触媒含有層の緑色パターン形成領域に光
照射を行い、緑色パターン用塗布液を塗布して照射部位
のみに選択的に付着させた後、硬化処理、加熱処理を施
して緑色パターンを形成し、さらに、光触媒含有層の青
色パターン形成領域に光照射を行い、青色パターン用塗
布液を塗布して照射部位のみに選択的に付着させた後、
硬化処理、加熱処理を施して青色パターンを形成した。
(Composition of coating liquid for red pattern) I. Pigment Red 168: 1 part by weight-5% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol: 10 parts by weight (average degree of polymerization of polyvinyl alcohol: 1750, degree of saponification: 88 mol%) (Composition of coating liquid for green pattern) I. Pigment Green 36 1 part by weight ・ 5% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol 10 parts by weight (average degree of polymerization of polyvinyl alcohol 1750, saponification degree 88 mol%) (Composition of coating solution for blue pattern) I. Pigment Blue 60 1 part by weight ・ Aqueous solution of polyvinyl alcohol 5% by weight 10 parts by weight (average degree of polymerization of polyvinyl alcohol 1750, saponification degree 88 mol%) Next, the photocatalyst-containing layer on which the black matrix is formed as described above. 150 μm ×
Irradiation (70 nm) with a mercury lamp (wavelength 365 nm) through a mask provided with an opening pattern for forming a colored layer of 300 μm.
Irradiation at mW / cm 2 for 50 seconds) to make the irradiated area highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle). (Corresponding to FIG. 5 (D)) Next, the above-mentioned coating liquid for a red pattern was applied over the entire surface of the photocatalyst-containing layer by a blade coater. The coating liquid for red pattern applied in this manner was repelled in the non-irradiated portion of the photocatalyst-containing layer, and selectively adhered only to the irradiated portion. Thereafter, drying was performed at 60 ° C. for 3 minutes, and the coating liquid for red pattern was cured by exposing with a mercury lamp, and further subjected to heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes to form a red pattern. (Equivalent to FIG. 5E) Similarly, the green pattern forming region of the photocatalyst containing layer is irradiated with light, and a green pattern coating solution is applied and selectively adhered only to the irradiated area, and then cured. After performing a heat treatment to form a green pattern, and further irradiating light to the blue pattern forming region of the photocatalyst containing layer, after applying a blue pattern coating solution and selectively attaching only to the irradiated portion,
A hardening treatment and a heat treatment were performed to form a blue pattern.

【0077】次いで、保護層として二液混合型熱硬化剤
(日本合成ゴム(株)製SS7265)をスピンコータ
ーにて着色層上に塗布し、200℃、30分間の硬化処
理を施して保護層を形成し、図1に示されるような構成
の本発明のカラーフィルタを製造した。(図5(F)に
相当) (実施例2)光触媒含有層用塗布液の調製 まず、下記組成の光触媒含有層用の塗布液を調製した。
Next, a two-component mixed type thermosetting agent (SS7265 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) was applied as a protective layer on the colored layer by a spin coater, and cured at 200 ° C. for 30 minutes. Was formed, and a color filter of the present invention having a configuration as shown in FIG. 1 was manufactured. (Corresponding to FIG. 5 (F)) (Example 2) Preparation of coating solution for photocatalyst containing layer First, a coating solution for the photocatalyst containing layer having the following composition was prepared.

【0078】 (光触媒含有層用塗布液の組成) ・光触媒含有組成物(石原産業(株)製STS−01)… 1重量部 ・反応性シリコーン …0.76重量部 (信越化学工業(株)製KM−768) ・触媒 …0.02重量部 (信越化学工業(株)製 CAT-PM6A・CAT-PM6B=4:6 ) ・水 …1.34重量部 上記の光触媒含有層用塗布液をスピンコーターによりソ
ーダライムガラス製の透明基板上に塗布し、160℃で
1分間加熱処理し、光触媒がオルガノポリシロキサン中
に強固に固定された透明な光触媒含有層(厚み0.5μ
m)を形成した。この光触媒含有層にマスクを介して水
銀灯(波長365nm)により70mW/cm2 の照度
で100秒間パターン照射を行い、照射部位と非照射部
位との水に対する接触角を実施例1と同様に測定した結
果、非照射部位における水の接触角は115°であるの
に対し、照射部位における水の接触角は10°以下であ
り、照射部位が高親水性部位となり、照射部位と非照射
部位との濡れ性の相違によるパターン形成が可能なこと
が確認された。ブラックマトリックスの形成 次に、上記と同様にして光触媒含有層を形成し、この光
触媒含有層のブラックマトリックス形成領域に光照射
(水銀灯(波長365nm)により70mW/cm2
照度で100秒間照射)を行い、ブラックマトリックス
用塗布液を塗布して照射部位のみに選択的に付着させた
後、加熱処理を施してブラックマトリックスを形成し
た。(図5(A)〜(C)に相当)着色層の形成 次に、各色の顔料としてピグメントレッド168、ピグ
メントグリーン36、ピグメントブルー60を準備し、
下記の組成の各着色パターン用の塗布液を調製した。
(Composition of Photocatalyst-Containing Layer Coating Solution) Photocatalyst-containing composition (STS-01 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.): 1 part by weight Reactive silicone: 0.76 parts by weight (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)・ Catalyst ・ ・ ・ 0.02 parts by weight (CAT-PM6A ・ CAT-PM6B = 4: 6 made by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ・ water ・ ・ ・ 1.34 parts by weight It is applied on a transparent substrate made of soda lime glass by a spin coater, and heat-treated at 160 ° C. for 1 minute to form a transparent photocatalyst-containing layer in which the photocatalyst is firmly fixed in organopolysiloxane (thickness 0.5 μm).
m) was formed. This photocatalyst-containing layer was subjected to pattern irradiation with a mercury lamp (wavelength 365 nm) at an illuminance of 70 mW / cm 2 for 100 seconds through a mask through a mask, and the contact angle of water between the irradiated part and the non-irradiated part was measured in the same manner as in Example 1. As a result, the contact angle of water at the non-irradiated portion was 115 °, whereas the contact angle of water at the irradiated portion was 10 ° or less, the irradiated portion became a highly hydrophilic portion, and the It was confirmed that pattern formation was possible due to the difference in wettability. Formation of Black Matrix Next, a photocatalyst containing layer is formed in the same manner as described above, and the black matrix formation region of the photocatalyst containing layer is irradiated with light (irradiation with a mercury lamp (wavelength 365 nm) at an illuminance of 70 mW / cm 2 for 100 seconds). Then, a coating liquid for a black matrix was applied and selectively adhered only to an irradiated portion, and then subjected to a heat treatment to form a black matrix. (Corresponding to FIGS. 5A to 5C) Formation of Colored Layer Next, pigment red 168, pigment green 36, and pigment blue 60 are prepared as pigments of each color.
A coating solution for each colored pattern having the following composition was prepared.

【0079】 (着色パターン用塗布液の組成) ・顔料 … 3重量部 ・非イオン界面活性剤 …0.05重量部 (日光ケミカルズ(株)製NIKKOL BO−10TX) ・ポリビニルアルコール … 0.6重量部 (信越化学工業(株)製信越ポバールAT) ・水 … 97重量部 次いで、上述のようにブラックマトリックスが形成され
た光触媒含有層の全面に水銀灯(波長365nm)によ
り照射(70mW/cm2 の照度で100秒間)して、
照射部位を高親水性(水の接触角に換算して10°以
下)とした。
(Composition of Colored Pattern Coating Solution) Pigment: 3 parts by weight Nonionic surfactant: 0.05 parts by weight (NIKKOL BO-10TX manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd.) Polyvinyl alcohol: 0.6 parts by weight (Shin-Etsu Poval AT manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)-Water: 97 parts by weight Next, the entire surface of the photocatalyst-containing layer on which the black matrix was formed as described above was irradiated with a mercury lamp (wavelength 365 nm) (70 mW / cm 2 ). Light intensity for 100 seconds)
The irradiated portion was made highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle).

【0080】次に、上記の赤色パターン用塗布液をノズ
ルからブラックマトリックスに囲まれた各赤色パターン
形成領域の中心部にドット径120μmで滴下した。同
様に、緑色パターン用塗布液をノズルからブラックマト
リックスに囲まれた各緑色パターン形成領域の中心部に
ドット径120μmで滴下した。さらに、青色パターン
用塗布液をノズルからブラックマトリックスに囲まれた
各青色パターン形成領域の中心部にドット径120μm
で滴下した。このように滴下された各色パターン用塗布
液は、ブラックマトリックスでははじかれ、ブラックマ
トリックスに囲まれた高親水性部位である各色のパター
ン形成領域内で均一に拡散して選択的に付着した。その
後、100℃、45分間の加熱処理を施して赤色パター
ン、緑色パターン、青色パターンからなる着色層を形成
した。
Next, the above-mentioned red pattern coating solution was dropped at a dot diameter of 120 μm from a nozzle to the center of each red pattern forming region surrounded by a black matrix. Similarly, a coating liquid for a green pattern was dropped from a nozzle at a dot diameter of 120 μm to the center of each green pattern forming region surrounded by a black matrix. Furthermore, a dot diameter of 120 μm was applied to the center of each blue pattern forming region surrounded by the black matrix from the nozzle by applying the blue pattern coating solution.
Was dropped. The coating solution for each color pattern thus dropped was repelled by the black matrix, and was uniformly diffused and selectively adhered in the pattern forming region of each color, which was a highly hydrophilic portion surrounded by the black matrix. Thereafter, a heat treatment was performed at 100 ° C. for 45 minutes to form a colored layer including a red pattern, a green pattern, and a blue pattern.

【0081】次に、保護層として二液混合型熱硬化剤
(日本合成ゴム(株)製SS7265)をスピンコータ
ーにて着色層上に塗布し、200℃、30分間の硬化処
理を施して保護層を形成し、図1に示されるような構成
の本発明のカラーフィルタを製造した。 (実施例3)光触媒含有層の形成 開口部90μm×300μmで線幅30μmのクロム薄
膜パターンからなるブラックマトリックスを有するソー
ダガラス製の透明基板上に、実施例1と同様の光触媒含
有層用塗布液をスピンコーターにより塗布し、150
℃、10分間の乾燥処理後、加水分解、重縮合反応を進
行させて、光触媒がオルガノポリシロキサン中に強固に
固定された透明な光触媒含有層(厚み0.5μm)を形
成した。(図6(A)に相当)着色層の形成 次に、この光触媒含有層を、赤色パターン用のマスクを
介して水銀灯(波長365nm)により照射(70mW
/cm2 の照度で50秒間)して、照射部位を高親水性
(水の接触角に換算して10°以下)とした。(図6
(B)に相当)一方、1gのC.I.ピグメントレッド
168を、水系エマルジョンシリコーン(信越化学工業
(株)製K−768)を水で3倍に希釈した水溶液10
gに混合し、得られた混合物を3本ロールで練肉分散し
た後、12000r.p.m.で遠心分離を行い、その後、1
μmのグラスフィルターでろ過した。得られた水性着色
樹脂溶液に、硬化触媒として CatalystPM-6A:Catalyst
PM-6B =4:6(信越化学工業(株)製)を0.1g添
加して、赤色パターン用の塗布液(熱硬化性樹脂組成
物)を調製した。
Next, a two-component mixed type thermosetting agent (SS7265 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) was applied as a protective layer on the colored layer by a spin coater, and cured at 200 ° C. for 30 minutes for protection. Layers were formed to produce a color filter of the present invention having a structure as shown in FIG. Example 3 Photocatalyst-Containing Layer Forming A coating solution for a photocatalyst-containing layer similar to that of Example 1 on a transparent substrate made of soda glass having a black matrix composed of a chromium thin film pattern having an opening of 90 μm × 300 μm and a line width of 30 μm. Is applied by a spin coater, and 150
After drying at 10 ° C. for 10 minutes, hydrolysis and polycondensation were allowed to proceed to form a transparent photocatalyst-containing layer (thickness 0.5 μm) in which the photocatalyst was firmly fixed in the organopolysiloxane. (Corresponding to FIG. 6A) Formation of Colored Layer Next, this photocatalyst-containing layer was irradiated with a mercury lamp (wavelength 365 nm) (70 mW) through a red pattern mask.
/ Cm 2 for 50 seconds) to make the irradiated area highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle). (FIG. 6
On the other hand, 1 g of C.I. I. Pigment Red 168 is prepared by diluting an aqueous emulsion silicone (K-768, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) three times with water.
g of the resulting mixture, and the resulting mixture is ground and dispersed with three rolls, and then centrifuged at 12,000 rpm.
The mixture was filtered through a μm glass filter. CatalystPM-6A: Catalyst was added to the resulting aqueous colored resin solution as a curing catalyst.
0.1 g of PM-6B = 4: 6 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was added to prepare a coating liquid (thermosetting resin composition) for a red pattern.

【0082】次に、上記の赤色パターン用塗布液をバー
コーターにより光触媒含有層上に全面塗布した。塗布さ
れた赤色パターン用塗布液は、光触媒含有層の非照射部
ではじかれ、照射部位のみに選択的に付着した。その
後、160℃、30秒間の硬化処理を施して赤色パター
ンを形成した。(図6(C)に相当) 次に、上記のように赤色パターンが形成された光触媒含
有層を、青色パターン用のマスクを介して水銀灯(波長
365nm)により照射(70mW/cm2 の照度で5
0秒間)して、照射部位を高親水性(水の接触角に換算
して10°以下)とした。
Next, the above-mentioned coating solution for red pattern was applied on the entire surface of the photocatalyst-containing layer by a bar coater. The applied coating liquid for red pattern was repelled in the non-irradiated portion of the photocatalyst-containing layer, and selectively adhered only to the irradiated portion. Thereafter, a curing process was performed at 160 ° C. for 30 seconds to form a red pattern. Next, the photocatalyst-containing layer on which the red pattern was formed as described above was irradiated with a mercury lamp (wavelength 365 nm) through a mask for a blue pattern (at an illuminance of 70 mW / cm 2 ). 5
(0 seconds) to make the irradiated site highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle).

【0083】一方、1gのC.I.ピグメントブルー6
0を、水系エマルジョンシリコーン(信越化学工業
(株)製K−768)を水で3倍に希釈した水溶液10
gに混合し、上記の赤色パターン用の塗布液と同様にし
て、青色パターン用の塗布液(熱硬化性樹脂組成物)を
調製した。
On the other hand, 1 g of C.I. I. Pigment Blue 6
0 is an aqueous solution obtained by diluting an aqueous emulsion silicone (K-768, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) three times with water.
g, and a coating solution (thermosetting resin composition) for a blue pattern was prepared in the same manner as the coating solution for the red pattern.

【0084】次に、上記の青色パターン用塗布液をバー
コーターにより光触媒含有層上に全面塗布した。塗布さ
れた青色パターン用塗布液は、赤色パターン形成部およ
び光触媒含有層の非照射部ではじかれ、照射部位のみに
選択的に付着した。その後、160℃、30秒間の硬化
処理を施して青色パターンを形成した。
Next, the above-mentioned coating solution for blue pattern was applied on the entire surface of the photocatalyst containing layer by a bar coater. The applied blue pattern coating solution was repelled in the red pattern forming portion and the non-irradiated portion of the photocatalyst-containing layer, and selectively adhered only to the irradiated portion. Thereafter, a curing process was performed at 160 ° C. for 30 seconds to form a blue pattern.

【0085】さらに、上記のように赤色パターンおよび
青色パターンが形成された光触媒含有層を、緑色パター
ン用のマスクを介して水銀灯(波長365nm)により
照射(70mW/cm2 の照度で50秒間)して、照射
部位を高親水性(水の接触角に換算して10°以下)と
した。
Further, the photocatalyst-containing layer on which the red pattern and the blue pattern are formed as described above is irradiated with a mercury lamp (wavelength 365 nm) through a mask for a green pattern (at an illuminance of 70 mW / cm 2 for 50 seconds). The irradiated area was made highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle).

【0086】一方、1gのリオノールグリーン2Y−3
01(東洋インキ製造(株)製)を、ポリビニルアルコ
ール(平均重合度1750、ケン化度88モル%)の1
0重量%水溶液10gに混合し、得られた混合物を3本
ロールで練肉分散した後、12000r.p.m.で遠心分離
を行い、その後、1μmのグラスフィルターでろ過し
た。得られた水性着色樹脂溶液に、架橋剤として重クロ
ム酸アンモニウムを1重量%添加して、緑色パターン用
の塗布液(感光性樹脂組成物)を調製した。
On the other hand, 1 g of Lionol Green 2Y-3
01 (manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd.) in polyvinyl alcohol (average degree of polymerization 1750, saponification degree 88 mol%)
The resulting mixture was mixed with 10 g of a 0% by weight aqueous solution, and the resulting mixture was kneaded and dispersed with three rolls, centrifuged at 12,000 rpm, and then filtered through a 1 μm glass filter. To the obtained aqueous colored resin solution, 1% by weight of ammonium bichromate was added as a crosslinking agent to prepare a coating liquid (photosensitive resin composition) for a green pattern.

【0087】次に、上記の緑色パターン用塗布液をバー
コーターにより光触媒含有層上に全面塗布した。塗布さ
れた緑色パターン用塗布液は、赤色パターン形成部、青
色パターン形成部および光触媒含有層の非照射部ではじ
かれ、照射部位のみに選択的に付着した。その後、60
℃、3分間の乾燥を行い、水銀ランプで露光することに
より、緑色パターン用塗布液を硬化させるとともに、光
触媒含有層を高親水性にした。次いで、150℃、30
分間の加熱処理を施して緑色パターンを形成した。
Next, the above-mentioned coating solution for green pattern was applied on the entire surface of the photocatalyst-containing layer by a bar coater. The applied green pattern coating solution was repelled by the red pattern forming portion, the blue pattern forming portion, and the non-irradiated portion of the photocatalyst-containing layer, and selectively adhered only to the irradiated portion. Then 60
The coating solution for green pattern was cured by exposing to light at 3 ° C. for 3 minutes and exposing with a mercury lamp, and the photocatalyst-containing layer was made highly hydrophilic. Then, at 150 ° C., 30
A green pattern was formed by performing a heat treatment for 5 minutes.

【0088】次に、保護層として二液混合型熱硬化剤
(日本合成ゴム(株)製SS7265)をスピンコータ
ーにて着色層上に塗布し、200℃、30分間の硬化処
理を施して保護層を形成し、図2に示されるような構成
の本発明のカラーフィルタを製造した。 (実施例4)光触媒含有層の形成 開口部140μm×260μmで線幅30μmのクロム
薄膜パターンからなるブラックマトリックスを有するソ
ーダガラス製の透明基板上に、実施例1と同様の光触媒
含有層用塗布液をスピンコーターにより塗布し、150
℃、10分間の乾燥処理後、加水分解、重縮合反応を進
行させて、光触媒がオルガノポリシロキサン中に強固に
固定された透明な光触媒含有層(厚み0.5μm)を形
成した。(図6(A)に相当)着色層の形成 次に、ブラックマトリックスの線幅(30μm)よりも
狭い線幅(20μm)の遮光パターン(パターンピッチ
は155μm×275μm)を有するマスクをブラック
マトリックス上に位置合わせした後、このマスクを介し
て水銀灯(波長365nm)により光触媒含有層を照射
(70mW/cm2 の照度で50秒間)して、照射部位
を高親水性(水の接触角に換算して10°以下)とし
た。(図7参照) 上記の各照射部位(高親水性部位)は150μm×27
0μmの大きさであり、非照射部位はブラックマトリッ
クス上に20μmの幅で存在する。
Next, a two-component mixed type thermosetting agent (SS7265 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) was applied as a protective layer on the colored layer by a spin coater, and a curing treatment was performed at 200 ° C. for 30 minutes for protection. Layers were formed, and a color filter of the present invention having a configuration as shown in FIG. 2 was manufactured. Example 4 Photocatalyst-Containing Layer Forming Coating Solution for Photocatalyst-Containing Layer Same as in Example 1 on a transparent substrate made of soda glass having a black matrix composed of a chromium thin film pattern having an opening of 140 μm × 260 μm and a line width of 30 μm. Is applied by a spin coater, and 150
After drying at 10 ° C. for 10 minutes, hydrolysis and polycondensation were allowed to proceed to form a transparent photocatalyst-containing layer (thickness 0.5 μm) in which the photocatalyst was firmly fixed in the organopolysiloxane. (Equivalent to FIG. 6A) Formation of Colored Layer Next, a mask having a light-shielding pattern (pattern pitch: 155 μm × 275 μm) having a line width (20 μm) smaller than the line width (30 μm) of the black matrix is placed on the black matrix. After this, the photocatalyst-containing layer is irradiated with a mercury lamp (wavelength 365 nm) through this mask (at an illuminance of 70 mW / cm 2 for 50 seconds), and the irradiated portion is highly hydrophilic (converted to the contact angle of water). 10 ° or less). (See FIG. 7) Each irradiation site (highly hydrophilic site) is 150 μm × 27.
It has a size of 0 μm, and the non-irradiated portion exists on the black matrix with a width of 20 μm.

【0089】次に、各色の顔料としてピグメントレッド
168、ピグメントグリーン36、ピグメントブルー6
0を準備し、下記の組成の各着色パターン用の塗布液を
調製した。
Next, pigment red 168, pigment green 36, pigment blue 6
0 was prepared, and a coating solution for each colored pattern having the following composition was prepared.

【0090】 (着色パターン用塗布液の組成) ・顔料 … 3重量部 ・非イオン界面活性剤 …0.05重量部 (日光ケミカルズ(株)製NIKKOL BO−10TX) ・ポリビニルアルコール … 0.6重量部 (信越化学工業(株)製信越ポバールAT) ・水 … 97重量部 次に、上記の赤色パターン用塗布液をノズルからブラッ
クマトリックスに囲まれた各赤色パターン形成領域の中
心部にドット径120μmで滴下した。同様に、緑色パ
ターン用塗布液をノズルからブラックマトリックスに囲
まれた各緑色パターン形成領域の中心部にドット径12
0μmで滴下した。さらに、青色パターン用塗布液をノ
ズルからブラックマトリックスに囲まれた各青色パター
ン形成領域の中心部にドット径120μmで滴下した。
このように滴下された各着色パターン用塗布液は、ブラ
ックマトリックス上の非照射部位ではじかれ、ブラック
マトリックスに囲まれた高親水性部位である各色のパタ
ーン形成領域内で均一に拡散して選択的に付着した。そ
の後、100℃、45分間の加熱処理を施して赤色パタ
ーン、緑色パターン、青色パターンからなる着色層を形
成した。
(Composition of Colored Pattern Coating Solution) Pigment: 3 parts by weight Nonionic surfactant: 0.05 parts by weight (NIKKOL BO-10TX manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd.) Polyvinyl alcohol: 0.6 parts by weight Part (Shin-Etsu Poval AT manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) ・ Water: 97 parts by weight Next, the above-mentioned red pattern coating solution was applied from a nozzle to the center of each red pattern forming region surrounded by a black matrix by a dot diameter of 120 μm. Was dropped. Similarly, a green pattern coating liquid is applied from the nozzle to the center of each green pattern forming area surrounded by the black matrix by a dot diameter of 12.
It was dropped at 0 μm. Further, a blue pattern coating liquid was dropped at a dot diameter of 120 μm from a nozzle to the center of each blue pattern forming region surrounded by a black matrix.
The coating liquid for each colored pattern thus dropped is repelled at the non-irradiated portion on the black matrix, and is uniformly dispersed and selected in the pattern forming region of each color, which is a highly hydrophilic portion surrounded by the black matrix. Attached. Thereafter, a heat treatment was performed at 100 ° C. for 45 minutes to form a colored layer including a red pattern, a green pattern, and a blue pattern.

【0091】次に、保護層として二液混合型熱硬化剤
(日本合成ゴム(株)製SS7265)をスピンコータ
ーにて着色層上に塗布し、200℃、30分間の硬化処
理を施して保護層を形成し、図2に示されるような構成
の本発明のカラーフィルタを製造した。 (実施例5)光触媒含有層の形成 開口部90μm×300μmで線幅30μmのクロム薄
膜パターンからなるブラックマトリックスを有するソー
ダガラス製の透明基板上に、実施例1と同様の光触媒含
有層用塗布液をスピンコーターにより塗布し、150
℃、10分間の乾燥処理後、加水分解、重縮合反応を進
行させて、光触媒がオルガノポリシロキサン中に強固に
固定された透明な光触媒含有層(厚み0.5μm)を形
成した。着色層の形成 まず、各色の顔料としてピグメントレッド168、ピグ
メントグリーン36、ピグメントブルー60を準備し、
下記の各組成の混合物を3本ロールで練肉分散した後、
12000r.p.m.で遠心分離を行い、その後、1μmの
グラスフィルターでろ過した。得られた水性着色樹脂溶
液に、架橋剤として重クロム酸アンモニウムを1重量%
添加して、赤色パターン用の塗布液、緑色パターン用の
塗布液および青色パターン用の塗布液(感光性樹脂組成
物)を調製した。
Next, a two-component mixed type thermosetting agent (SS7265 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) was applied as a protective layer on the colored layer by a spin coater, and the coating was cured at 200 ° C. for 30 minutes for protection. Layers were formed, and a color filter of the present invention having a configuration as shown in FIG. 2 was manufactured. (Example 5) Photocatalyst-containing layer forming liquid A coating solution for a photocatalyst-containing layer similar to that of Example 1 on a transparent substrate made of soda glass having a black matrix composed of a chromium thin film pattern having an opening of 90 µm x 300 µm and a line width of 30 µm. Is applied by a spin coater, and 150
After drying at 10 ° C. for 10 minutes, hydrolysis and polycondensation were allowed to proceed to form a transparent photocatalyst-containing layer (thickness 0.5 μm) in which the photocatalyst was firmly fixed in the organopolysiloxane. Formation of the colored layer first, to prepare Pigment Red 168, Pigment Green 36, Pigment Blue 60 as the pigment of each color,
After mixing and dispersing the mixture of the following compositions with three rolls,
Centrifugation was performed at 12000 rpm, and then filtration was performed with a 1 μm glass filter. 1% by weight of ammonium bichromate as a crosslinking agent was added to the obtained aqueous colored resin solution.
In addition, a coating liquid for a red pattern, a coating liquid for a green pattern, and a coating liquid (photosensitive resin composition) for a blue pattern were prepared.

【0092】 (混合物の組成) ・顔料 … 1重量部 ・ポリビニルアルコール10重量%水溶液 … 10重量部 (ポリビニルアルコールの平均重合度1750、ケン化度88モル%) 次に、上記のようにブラックマトリックスが形成された
光触媒含有層上に、実施例1と同様にして光触媒含有層
を形成し、この光触媒含有層を赤色パターン用のマスク
を介して水銀灯(波長365nm)により照射(70m
W/cm2 の照度で50秒間)して、照射部位を高親水
性(水の接触角に換算して10°以下)とした。(図8
(A)に相当) 次に、上記の赤色パターン用塗布液をバーコーターによ
り光触媒含有層上に全面塗布した。塗布された赤色パタ
ーン用塗布液は、光触媒含有層の非照射部ではじかれ、
照射部位のみに選択的に付着した。その後、60℃、3
分間の乾燥を行い、水銀ランプで露光することにより、
赤色パターン用塗布液を硬化させ、さらに、150℃、
30分間の加熱処理を施して赤色パターンを形成した。
(図8(B)に相当) 同様にして、上記のように赤色パターンが形成された光
触媒含有層上に、実施例1と同様にして光触媒含有層を
形成し、この光触媒含有層の緑色パターン形成領域に光
照射を行い(図8(C)に相当)、緑色パターン用塗布
液を塗布して光照射部位のみに選択的に付着させた後、
硬化処理、加熱処理を施して緑色パターンを形成した。
(図8(D)に相当) さらに、緑色パターンが形成された光触媒含有層上に、
実施例1と同様にして光触媒含有層を形成し、この光触
媒含有層の青色パターン形成領域に光照射を行い、青色
パターン用塗布液を塗布して光照射部位のみに選択的に
付着させた後、硬化処理、加熱処理を施して青色パター
ンを形成した。
(Composition of mixture) Pigment: 1 part by weight Polyvinyl alcohol 10% by weight aqueous solution: 10 parts by weight (average degree of polymerization of polyvinyl alcohol: 1750, degree of saponification: 88 mol%) A photocatalyst-containing layer is formed on the photocatalyst-containing layer on which is formed in the same manner as in Example 1, and this photocatalyst-containing layer is irradiated with a mercury lamp (wavelength 365 nm) through a red pattern mask (70 m).
(W / cm 2 illuminance for 50 seconds) to make the irradiated area highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle). (FIG. 8
(Equivalent to (A)) Next, the above-mentioned coating solution for red pattern was applied on the entire surface of the photocatalyst-containing layer by a bar coater. The applied coating liquid for the red pattern is repelled in the non-irradiated portion of the photocatalyst containing layer,
It selectively adhered only to the irradiated site. Then, at 60 ° C, 3
By drying for a minute and exposing with a mercury lamp,
The coating liquid for red pattern is cured,
A heat treatment for 30 minutes was performed to form a red pattern.
Similarly, a photocatalyst-containing layer was formed on the photocatalyst-containing layer on which the red pattern was formed as described above in the same manner as in Example 1. After light irradiation is performed on the formation area (corresponding to FIG. 8C), a coating liquid for green pattern is applied and selectively adhered only to the light irradiation part.
Curing treatment and heat treatment were performed to form a green pattern.
(Corresponding to FIG. 8 (D)) Further, on the photocatalyst containing layer on which the green pattern was formed,
After forming a photocatalyst containing layer in the same manner as in Example 1, irradiating the blue pattern forming region of the photocatalyst containing layer with light, applying a blue pattern coating solution and selectively adhering only to the light irradiation site , A curing process and a heating process to form a blue pattern.

【0093】次いで、保護層として二液混合型熱硬化剤
(日本合成ゴム(株)製SS7265)をスピンコータ
ーにて着色層上に塗布し、200℃、30分間の硬化処
理を施して保護層を形成し、図3に示されるような構成
の本発明のカラーフィルタを製造した。(図8(E)に
相当) (実施例6)ブラックマトリックスの形成 まず、実施例1と同様にして光触媒含有層を形成し、こ
の光触媒含有層のブラックマトリックス形成領域に光照
射を行い、ブラックマトリックス用塗布液を塗布して照
射部位に選択的に付着させた後、加熱処理を施してブラ
ックマトリックスを形成した。(図9(A)、(B)に
相当)着色層の形成 まず、各色の顔料としてピグメントレッド168、ピグ
メントグリーン36、ピグメントブルー60を準備し、
下記の各組成の混合物を3本ロールで練肉分散した後、
12000r.p.m.で遠心分離を行い、その後、1μmの
グラスフィルターでろ過した。得られた水性着色樹脂溶
液に、架橋剤として重クロム酸アンモニウムを1重量%
添加して、赤色パターン用の塗布液、緑色パターン用の
塗布液および青色パターン用の塗布液(感光性樹脂組成
物)を調製した。
Next, a two-component mixed type thermosetting agent (SS7265 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) was applied as a protective layer on the colored layer by a spin coater, and cured at 200 ° C. for 30 minutes. Was formed, and a color filter of the present invention having a configuration as shown in FIG. 3 was manufactured. (Equivalent to FIG. 8 (E)) (Example 6) Formation of Black Matrix First, a photocatalyst-containing layer was formed in the same manner as in Example 1, and the black matrix formation region of the photocatalyst-containing layer was irradiated with light to obtain a black matrix. After a matrix coating solution was applied and selectively adhered to the irradiated site, a heat treatment was performed to form a black matrix. (Corresponding to FIGS. 9A and 9B) Formation of Colored Layer First, pigment red 168, pigment green 36, and pigment blue 60 are prepared as pigments of each color.
After mixing and dispersing the mixture of the following compositions with three rolls,
Centrifugation was performed at 12000 rpm, and then filtration was performed with a 1 μm glass filter. 1% by weight of ammonium bichromate as a crosslinking agent was added to the obtained aqueous colored resin solution.
In addition, a coating liquid for a red pattern, a coating liquid for a green pattern, and a coating liquid (photosensitive resin composition) for a blue pattern were prepared.

【0094】 (混合物の組成) ・顔料 … 1重量部 ・ポリビニルアルコール10重量%水溶液 … 10重量部 (ポリビニルアルコールの平均重合度1750、ケン化度88モル%) 次に、上記のようにブラックマトリックスが形成された
光触媒含有層上に、実施例1と同様にして光触媒含有層
を形成し、この光触媒含有層を赤色パターン用のマスク
を介して水銀灯(波長365nm)により照射(70m
W/cm2 の照度で50秒間)して、照射部位を高親水
性(水の接触角に換算して10°以下)とした。(図9
(C)に相当) 次に、上記の赤色パターン用塗布液をバーコーターによ
り光触媒含有層上に全面塗布した。塗布された赤色パタ
ーン用塗布液は、光触媒含有層の非照射部ではじかれ、
照射部位のみに選択的に付着した。その後、60℃、3
分間の乾燥を行い、水銀ランプで露光することにより、
赤色パターン用塗布液を硬化させ、さらに、150℃、
30分間の加熱処理を施して赤色パターンを形成した。
(図9(D)に相当) 同様にして、上記のように赤色パターンが形成された光
触媒含有層上に、実施例1と同様にして光触媒含有層を
形成し、この光触媒含有層の緑色パターン形成領域に光
照射を行い、緑色パターン用塗布液を塗布して光照射部
位のみに選択的に付着させた後、硬化処理、加熱処理を
施して緑色パターンを形成し、さらに、緑色パターンが
形成された光触媒含有層上に、実施例1と同様にして光
触媒含有層を形成し、この光触媒含有層の青色パターン
形成領域に光照射を行い、青色パターン用塗布液を塗布
して光照射部位のみに選択的に付着させた後、硬化処
理、加熱処理を施して青色パターンを形成した。
(Composition of the mixture) Pigment 1 part by weight 10% by weight aqueous solution of polyvinyl alcohol 10 parts by weight (average degree of polymerization of polyvinyl alcohol 1750, saponification degree 88 mol%) Next, as described above, the black matrix was used. A photocatalyst-containing layer is formed on the photocatalyst-containing layer on which is formed in the same manner as in Example 1, and this photocatalyst-containing layer is irradiated with a mercury lamp (wavelength 365 nm) through a red pattern mask (70 m).
(W / cm 2 illuminance for 50 seconds) to make the irradiated area highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle). (FIG. 9
(Equivalent to (C)) Next, the above-mentioned coating solution for red pattern was applied on the entire surface of the photocatalyst-containing layer by a bar coater. The applied coating liquid for the red pattern is repelled in the non-irradiated portion of the photocatalyst containing layer,
It selectively adhered only to the irradiated site. Then, at 60 ° C, 3
By drying for a minute and exposing with a mercury lamp,
The coating liquid for red pattern is cured,
A heat treatment for 30 minutes was performed to form a red pattern.
Similarly, a photocatalyst-containing layer was formed on the photocatalyst-containing layer on which the red pattern was formed as described above in the same manner as in Example 1. After irradiating the formation area with light and applying a green pattern coating liquid to selectively adhere only to the light irradiation area, a curing process and a heating process are performed to form a green pattern, and further a green pattern is formed. A photocatalyst-containing layer was formed on the photocatalyst-containing layer in the same manner as in Example 1, and the blue pattern-forming region of the photocatalyst-containing layer was irradiated with light. Then, a hardening treatment and a heating treatment were performed to form a blue pattern.

【0095】次いで、保護層として二液混合型熱硬化剤
(日本合成ゴム(株)製SS7265)をスピンコータ
ーにて着色層上に塗布し、200℃、30分間の硬化処
理を施して保護層を形成し、図4に示されるような構成
の本発明のカラーフィルタを製造した。(図9(E)に
相当) (実施例7)ブラックマトリックスの形成 まず、実施例1と同様にして光触媒含有層を形成し、こ
の光触媒含有層のブラックマトリックス形成領域に光照
射を行い、ブラックマトリックス用塗布液を塗布して照
射部位に選択的に付着させた後、加熱処理を施してブラ
ックマトリックスを形成した。着色層の形成 上記のようにブラックマトリックスが形成された光触媒
含有層上に、実施例1と同様にして光触媒含有層を形成
し、この光触媒含有層を、開口部(23μm×12μm
の長方形の開口部)をもつマスクを介して水銀灯(波長
365nm)により照射(70mW/cm2 の照度で9
0秒間)して、照射部位を高親水性(水の接触角に換算
して10°以下)とした。
Next, a two-component mixed type thermosetting agent (SS7265 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) was applied as a protective layer on the colored layer by a spin coater, and cured at 200 ° C. for 30 minutes. Was formed, and a color filter of the present invention having a configuration as shown in FIG. 4 was manufactured. (Equivalent to FIG. 9 (E)) (Example 7) Formation of black matrix First, a photocatalyst containing layer was formed in the same manner as in Example 1, and the black matrix forming region of the photocatalyst containing layer was irradiated with light to obtain a black matrix. After a matrix coating solution was applied and selectively adhered to the irradiated site, a heat treatment was performed to form a black matrix. Formation of Colored Layer On the photocatalyst-containing layer on which the black matrix was formed as described above, a photocatalyst-containing layer was formed in the same manner as in Example 1, and this photocatalyst-containing layer was formed into an opening (23 μm × 12 μm).
Irradiation with a mercury lamp (wavelength 365 nm) through a mask having a rectangular opening (9 mm at an illuminance of 70 mW / cm 2 ).
(0 seconds) to make the irradiated site highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle).

【0096】次に、真空蒸着法にて、下記の構造式で示
されるペリレン系顔料を上記の光触媒含有層上に、真空
度1×10-5Torr、蒸着速度10Å/秒の条件で蒸
着し、光触媒含有層上の全面に赤色顔料薄膜を形成し
た。
Next, a perylene pigment represented by the following structural formula was vapor-deposited on the photocatalyst-containing layer at a degree of vacuum of 1 × 10 −5 Torr and a vapor deposition rate of 10 ° / sec by a vacuum vapor deposition method. A red pigment thin film was formed on the entire surface of the photocatalyst-containing layer.

【0097】次いで、この赤色顔料薄膜表面をアセトン
にて洗い流したところ、光触媒含有層の光照射部位と非
照射部位における赤色顔料の接着性の違いにより、非照
射部位のみ赤色顔料薄膜が剥離し、照射部位には、23
μm×12μmの長方形の赤色顔料薄膜(膜厚0.4μ
m)からなる赤色パターンが形成された。
Next, when the surface of the red pigment thin film was washed away with acetone, the red pigment thin film was peeled off only at the non-irradiated portion due to the difference in adhesion between the light-irradiated portion and the non-irradiated portion of the photocatalyst containing layer. The irradiation site has 23
μm × 12 μm rectangular red pigment thin film (0.4 μm thick
m) was formed.

【0098】[0098]

【化2】 (実施例8)ブラックマトリックスの形成 まず、実施例1と同様にして光触媒含有層を形成し、こ
の光触媒含有層のブラックマトリックス形成領域に光照
射を行い、ブラックマトリックス用塗布液を塗布して照
射部位に選択的に付着させた後、加熱処理を施してブラ
ックマトリックスを形成した。着色層の形成 上記のようにブラックマトリックスが形成された光触媒
含有層上に、実施例1と同様にして光触媒含有層を形成
し、この光触媒含有層を、開口部(23μm×12μm
の長方形の開口部)をもつマスクを介して水銀灯(波長
365nm)により照射(70mW/cm2 の照度で9
0秒間)して、照射部位を高親水性(水の接触角に換算
して10°以下)とした。
Embedded image Example 8 Formation of Black Matrix First, a photocatalyst-containing layer was formed in the same manner as in Example 1, light was irradiated to the black matrix formation region of the photocatalyst-containing layer, and a coating liquid for black matrix was applied and irradiated. After selectively attaching to the site, a heat treatment was performed to form a black matrix. Formation of Colored Layer On the photocatalyst-containing layer on which the black matrix was formed as described above, a photocatalyst-containing layer was formed in the same manner as in Example 1, and this photocatalyst-containing layer was formed into an opening (23 μm × 12 μm).
Irradiation with a mercury lamp (wavelength 365 nm) through a mask having a rectangular opening (9 mm at an illuminance of 70 mW / cm 2 ).
(0 seconds) to make the irradiated site highly hydrophilic (10 ° or less in terms of water contact angle).

【0099】次に、真空蒸着法にて、下記の構造式で示
されるペリレン系顔料を上記の光触媒含有層上に、真空
度1×10-5Torr、蒸着速度10Å/秒の条件で蒸
着し、光触媒含有層上の全面に青色顔料薄膜を形成し
た。
Next, a perylene pigment represented by the following structural formula was vapor-deposited on the photocatalyst-containing layer at a degree of vacuum of 1 × 10 −5 Torr and a vapor deposition rate of 10 ° / sec by a vacuum vapor deposition method. A blue pigment thin film was formed on the entire surface of the photocatalyst-containing layer.

【0100】次いで、この青色顔料薄膜表面をメタノー
ルにて洗い流したところ、光触媒含有層の光照射部位と
非照射部位における青色顔料の接着性の違いにより、非
照射部位のみ青色顔料薄膜が剥離し、照射部位には、2
3μm×12μmの長方形の青色顔料薄膜(膜厚0.4
μm)からなる青色パターンが形成された。
Next, when the surface of the blue pigment thin film was rinsed with methanol, the blue pigment thin film was peeled off only at the non-irradiated portion due to the difference in adhesion between the light-irradiated portion and the non-irradiated portion of the photocatalyst-containing layer. The irradiation site is 2
Rectangular blue pigment thin film of 3 μm × 12 μm (thickness 0.4
μm) was formed.

【0101】[0101]

【化3】 次に、濡れ性変化成分層として有機高分子樹脂層を用い
た実施例を説明する。 (実施例9)有機高分子含有層の形成 ポリカーボネート(三菱瓦斯化学(株)製ユーピロンZ
400)を、ジクロロメタンと1,1,2トリクロロエ
タンの3:2混合液にて溶解し、固形分10重量%のポ
リカーボネート溶液とした。
Embedded image Next, an example using an organic polymer resin layer as a wettability changing component layer will be described. Example 9 Formation of Organic Polymer-Containing Layer Polycarbonate (Iupilon Z manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd.)
400) was dissolved in a 3: 2 mixture of dichloromethane and 1,1, trichloroethane to give a polycarbonate solution having a solid content of 10% by weight.

【0102】次に、開口部140μm×260μmで線
幅30μmのクロム薄膜パターンからなるブラックマト
リックスを有する透明基板上に、上記のポリカーボネー
ト溶液を膜厚100μmにて塗布し、15分間レベリン
グした後、80℃、120分間の乾燥を行い、濡れ性変
化成分層としての有機高分子樹脂層を形成した。この有
機高分子樹脂層の水に対する接触角を実施例1と同様に
測定した結果、85°であった。着色層の形成 次に、ブラックマトリックスの線幅(30μm)よりも
狭い線幅(20μm)の遮光層パターン(パターンピッ
チは155μm×275μm)を有するフォトマスクを
有機高分子樹脂層を介してブラックマトリックス上に位
置合わせした後、このフォトマスクを介してエキシマラ
ンプ(ヘレウス社製エキシマランプ172:照射波長1
72nm)にて有機高分子樹脂層を照射(出力90Wで
10秒間)して、表面粗化により、照射部位を高親水性
(水の接触角に換算して20°以下)とした。
Next, the above polycarbonate solution was applied at a thickness of 100 μm on a transparent substrate having a black matrix composed of a chromium thin film pattern having openings of 140 μm × 260 μm and a line width of 30 μm, and leveled for 15 minutes. Drying was performed at 120 ° C. for 120 minutes to form an organic polymer resin layer as a wettability changing component layer. The contact angle of this organic polymer resin layer with water was measured in the same manner as in Example 1, and as a result, it was 85 °. Formation of Colored Layer Next, a photomask having a light-shielding layer pattern (pattern pitch: 155 μm × 275 μm) having a line width (20 μm) smaller than the line width (30 μm) of the black matrix is interposed through the organic polymer resin layer. After positioning above, an excimer lamp (Excimer lamp 172 manufactured by Heraeus: irradiation wavelength 1) is passed through this photomask.
The organic polymer resin layer was irradiated (at an output of 90 W for 10 seconds) with a surface roughening treatment to make the irradiated portion highly hydrophilic (equivalent to a contact angle of water of 20 ° or less) by surface roughening.

【0103】上記の各照射部(高親水性部位)は150
μm×270μmの大きさがあり、、非照射部はブラッ
クマトリックス上に20μmの幅で存在する。
Each of the above irradiating portions (highly hydrophilic portions) is 150
It has a size of μm × 270 μm, and the non-irradiated portion exists on the black matrix with a width of 20 μm.

【0104】次に、各色の顔料としてピグメントレッド
168、ピグメントグリーン36、ピグメントブルー6
0を準備し、実施例4と同様の組成にて各着色パターン
用の塗布液を調製した。
Next, pigment red 168, pigment green 36, pigment blue 6
0 was prepared, and a coating solution for each colored pattern was prepared with the same composition as in Example 4.

【0105】次に、上記の赤色パターン用塗布液をノズ
ルからブラックマトリックスに囲まれた各赤色パターン
形成領域の中心部にドット径90μmで滴下した。同様
に、緑色パターン用塗布液をノズルからブラックマトリ
ックスに囲まれた各緑色パターン形成領域の中心部にド
ット径90μmで滴下した。さらに、青色パターン用塗
布液をノズルからブラックマトリックスに囲まれた各青
色パターン形成領域の中心部にドット径90μmで滴下
した。このように滴下された各着色パターン用塗布液
は、ブラックマトリックス上の非照射部位ではじかれ、
ブラックマトリックスに囲まれた高親水性部位である各
色のパターン形成領域内で均一に拡散して選択的に付着
した。その後、100℃、45分間の加熱処理を施して
赤色パターン、緑色パターン、青色パターンからなる着
色層を形成した。
Next, the above-mentioned coating liquid for red pattern was dropped at a dot diameter of 90 μm from the nozzle to the center of each red pattern forming area surrounded by the black matrix. Similarly, a coating liquid for a green pattern was dropped at a dot diameter of 90 μm from a nozzle to the center of each green pattern forming region surrounded by a black matrix. Further, a blue pattern coating liquid was dropped at a dot diameter of 90 μm from a nozzle to the center of each blue pattern forming region surrounded by a black matrix. The coating liquid for each colored pattern thus dropped is repelled at a non-irradiated portion on the black matrix,
In the pattern forming region of each color, which is a highly hydrophilic portion surrounded by a black matrix, the dye was uniformly diffused and selectively adhered. Thereafter, a heat treatment was performed at 100 ° C. for 45 minutes to form a colored layer including a red pattern, a green pattern, and a blue pattern.

【0106】次に、保護層として二液混合型熱硬化剤
(日本合成ゴム(株)製SS7265)をスピンコータ
ーにて着色層上に塗布し、200℃、30分間の硬化処
理を施して保護層を形成し、図2に示されるような構成
の本発明のカラーフィルタを製造した。 (評価)実施例1〜9において作製した各カラーフィル
タを光学顕微鏡により観察したところ、ブラックマトリ
ックスおよび着色層において、変色、混色、白抜け、色
むら等の欠陥はみとめられなかった。
Next, a two-component mixed type thermosetting agent (SS7265 manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd.) was applied as a protective layer on the colored layer by a spin coater, and a curing treatment was performed at 200 ° C. for 30 minutes for protection. Layers were formed, and a color filter of the present invention having a configuration as shown in FIG. 2 was manufactured. (Evaluation) When the color filters produced in Examples 1 to 9 were observed with an optical microscope, no defects such as discoloration, color mixture, white spots, and color unevenness were observed in the black matrix and the colored layer.

【0107】[0107]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば特
定の濡れ性部位において、遮光層用塗料や着色層用塗料
に対する濡れ性が高く、遮光層用塗料や着色層用塗料を
供給することにより、特定の濡れ性部位のみに選択的に
確実に付着し、他の領域に接触した塗料ははじかれの
で、高い精度で遮光層や着色層を形成でき、高解像度の
カラーフィルタが可能となり、また、遮光層や着色層を
形成する箇所のみに塗料を付着させるので材料の使用効
率が高く、さらに、現像や洗浄の工程、現像廃液の処理
工程が不要なので工程も簡便なものとなる。また、特定
の濡れ性部位を形成する濡れ性変化成分層を光触媒含有
層や有機高分子樹脂層とすることにより、光照射部位が
光触媒の作用によって臨界表面張力が高くなって高親水
性(特定の濡れ性部位)となり、あるいは、高分子鎖の
切断による低分子化に伴う表面粗化によって高親水性
(特定の濡れ性部位)となり、一方、非照射部位は高い
撥水性を維持したままであり、このような光触媒含有層
や有機高分子樹脂層上に遮光層用塗料や着色層用塗料を
供給することにより、非照射部位に接触した塗料ははじ
かれ、濡れ性の高い光照射部位(高親水性部位)のみに
選択的に確実に付着する。
As described above in detail, according to the present invention, a specific wettability portion has high wettability with respect to the light-shielding layer paint and the colored layer paint, and supplies the light-shielding layer paint and the colored layer paint. By doing so, it selectively adheres only to specific wettable parts, paint that comes in contact with other areas is repelled, so it is possible to form a light-shielding layer and a colored layer with high precision, enabling a high-resolution color filter In addition, since the paint is attached only to the portion where the light-shielding layer or the colored layer is formed, the use efficiency of the material is high, and furthermore, the steps of development and washing, and the step of treating the development waste liquid are unnecessary, so that the steps are simplified. . In addition, by making the wettability changing component layer that forms a specific wettability portion a photocatalyst-containing layer or an organic polymer resin layer, the photoirradiation portion increases the critical surface tension due to the action of the photocatalyst and increases the hydrophilicity (specificity). Wettability site), or high hydrophilicity (specific wettability site) due to surface roughening due to molecular weight reduction by breaking of polymer chains, while non-irradiation sites maintain high water repellency By supplying a light-shielding layer coating or a coloring layer coating on such a photocatalyst-containing layer or an organic polymer resin layer, the coating in contact with the non-irradiated part is repelled, and the light-irradiated part with high wettability ( Selectively adheres only to the highly hydrophilic site).

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のカラーフィルタの実施形態の一例を示
す概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an example of an embodiment of a color filter of the present invention.

【図2】本発明のカラーフィルタの実施形態の他の例を
示す概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing another example of the embodiment of the color filter of the present invention.

【図3】本発明のカラーフィルタの実施形態の他の例を
示す概略断面図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view showing another example of the embodiment of the color filter of the present invention.

【図4】本発明のカラーフィルタの実施形態の他の例を
示す概略断面図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view showing another example of the embodiment of the color filter of the present invention.

【図5】本発明のカラーフィルタ製造方法の一実施形態
を説明するための工程図である。
FIG. 5 is a process chart for explaining one embodiment of a color filter manufacturing method of the present invention.

【図6】本発明のカラーフィルタ製造方法の他の実施形
態を説明するための工程図である。
FIG. 6 is a process chart for explaining another embodiment of the color filter manufacturing method of the present invention.

【図7】図6に示される本発明のカラーフィルタ製造方
法における光触媒含有層の光照射時のマスクの状態を示
す平面図である。
FIG. 7 is a plan view showing a state of a mask when the photocatalyst-containing layer is irradiated with light in the color filter manufacturing method of the present invention shown in FIG.

【図8】本発明のカラーフィルタ製造方法の他の実施形
態を説明するための工程図である。
FIG. 8 is a process chart for explaining another embodiment of the color filter manufacturing method of the present invention.

【図9】本発明のカラーフィルタ製造方法の他の実施形
態を説明するための工程図である。
FIG. 9 is a process chart for explaining another embodiment of the color filter manufacturing method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,11,21,31…カラーフィルタ 2,12,22,32…透明基板 3,13,23a,23b,23c,33a,33b,
33c,33d…光触媒含有層(濡れ性変化成分層) 3´,13´,23´a,23´b,33´a,33´
b…光照射部位(高親水性部位=特定の濡れ性部位) 4,14,24,34…ブラックマトリックス 5,15,25,35…着色層
1, 11, 21, 31 ... color filters 2, 12, 22, 32 ... transparent substrates 3, 13, 23a, 23b, 23c, 33a, 33b,
33c, 33d: Photocatalyst containing layer (wetting property changing component layer) 3 ', 13', 23'a, 23'b, 33'a, 33 '
b: Light irradiation site (highly hydrophilic site = specific wettability site) 4, 14, 24, 34: black matrix 5, 15, 25, 35: colored layer

Claims (21)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基板と、該透明基板上に所定のパタ
ーンで形成された複数色からなる着色層と、各着色層の
境界部に位置する遮光層とを有し、前記着色層と前記遮
光層の少なくとも1層が、濡れ性変化成分層の特定の濡
れ性部位を介して前記透明基板上に形成されたものであ
ることを特徴とするカラーフィルタ。
A transparent substrate, a colored layer formed of a plurality of colors formed in a predetermined pattern on the transparent substrate, and a light-shielding layer located at a boundary between the colored layers. A color filter, wherein at least one of the light-shielding layers is formed on the transparent substrate via a specific wettability portion of the wettability changing component layer.
【請求項2】 透明基板と、該透明基板上に設けられた
濡れ性変化成分層と、該濡れ性変化成分層の特定の濡れ
性部位上に所定のパターンで形成された複数色からなる
着色層および各着色層の境界部に位置する遮光層とを有
することを特徴とするカラーフィルタ。
2. A transparent substrate, a wettability changing component layer provided on the transparent substrate, and a plurality of colors formed in a predetermined pattern on a specific wettability site of the wettability changing component layer. A color filter comprising a layer and a light-shielding layer located at a boundary between the colored layers.
【請求項3】 所定のパターンで遮光層を備えた透明基
板と、該遮光層を覆うように前記透明基板上に設けられ
た濡れ性変化成分層と、該濡れ性変化成分層の特定の濡
れ性部位上に所定のパターンで形成された複数色からな
る着色層とを備え、各着色層の境界部に前記遮光層が位
置することを特徴とするカラーフィルタ。
3. A transparent substrate having a light-shielding layer in a predetermined pattern, a wettability changing component layer provided on the transparent substrate so as to cover the light-shielding layer, and a specific wettability of the wettability changing component layer. And a colored layer having a plurality of colors formed in a predetermined pattern on the active site, wherein the light-shielding layer is located at a boundary between the colored layers.
【請求項4】 所定のパターンで遮光層を備えた透明基
板と、該遮光層を覆うように前記透明基板上に、濡れ性
変化成分層と該濡れ性変化成分層の特定の濡れ性部位上
に所定のパターンで形成された着色層との積層体を所望
の色数分積層して備え、各着色層の境界部に前記遮光層
が位置することを特徴とするカラーフィルタ。
4. A transparent substrate having a light shielding layer in a predetermined pattern, a wettability changing component layer and a specific wettability portion of the wettability changing component layer on the transparent substrate so as to cover the light shielding layer. A color filter having a desired number of colors and a stack of colored layers formed in a predetermined pattern, wherein the light-shielding layer is located at a boundary between the colored layers.
【請求項5】 透明基板と、該透明基板上に設けられた
濡れ性変化成分層と、該濡れ性変化成分層の特定の濡れ
性部位上に所定のパターンで形成された遮光層と、該遮
光層を覆うように前記濡れ性変化成分層上に、濡れ性変
化成分層と該濡れ性変化成分層の特定の濡れ性部位上に
所定のパターンで形成された着色層との積層体を所望の
色数分積層して備え、各着色層の境界部に前記遮光層が
位置することを特徴とするカラーフィルタ。
5. A transparent substrate, a wettability changing component layer provided on the transparent substrate, a light-shielding layer formed in a predetermined pattern on a specific wettability portion of the wettability changing component layer, On the wettability changing component layer, a laminate of a wettability changing component layer and a colored layer formed in a predetermined pattern on a specific wettability site of the wettability changing component layer to cover the light shielding layer is desired. Wherein the light-shielding layer is located at the boundary between the colored layers.
【請求項6】 特定の濡れ性部位は、高親水性部位であ
ることを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれかに
記載のカラーフィルタ。
6. The color filter according to claim 1, wherein the specific wettability site is a highly hydrophilic site.
【請求項7】 前記濡れ性変化成分層は、少なくともバ
インダーと光触媒からなる光触媒含有層であることを特
徴とする請求項1乃至請求項6のいずれかに記載のカラ
ーフィルタ。
7. The color filter according to claim 1, wherein the wettability changing component layer is a photocatalyst-containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst.
【請求項8】 前記バインダーは、クロロまたはアルコ
キシシランを含む組成物から得られるオルガノポリシロ
キサンを含有することを特徴とする請求項6または請求
項7に記載のカラーフィルタ。
8. The color filter according to claim 6, wherein the binder contains an organopolysiloxane obtained from a composition containing chloro or alkoxysilane.
【請求項9】 前記バインダーは、反応性シリコーンを
含む組成物から得られるオルガノポリシロキサンを含有
することを特徴とする請求項6または請求項7に記載の
カラーフィルタ。
9. The color filter according to claim 6, wherein the binder contains an organopolysiloxane obtained from a composition containing a reactive silicone.
【請求項10】 前記濡れ性変化成分層は、有機高分子
樹脂層であることを特徴とする請求項1乃至請求項6の
いずれかに記載のカラーフィルタ。
10. The color filter according to claim 1, wherein the wettability changing component layer is an organic polymer resin layer.
【請求項11】 透明基板上に所定のパターンで特定の
濡れ性部位を形成し、該濡れ性部位上に遮光層用塗料を
付着させて遮光層を形成する第1の工程、透明基板上に
所定のパターンで特定の濡れ性部位を形成し、該濡れ性
部位上に着色層用塗料を付着させて着色層を形成する第
2の工程、とを有することを特徴とするカラーフィルタ
の製造方法。
11. A first step of forming a specific wettable portion in a predetermined pattern on a transparent substrate and forming a light-shielding layer by applying a light-shielding layer paint on the wettable portion. Forming a specific wettable portion in a predetermined pattern, and applying a coating material for a colored layer on the wettable portion to form a colored layer. .
【請求項12】 前記第1の工程において、透明基板上
に少なくともバインダーと光触媒からなる光触媒含有層
を形成し、該光触媒含有層に光照射を行い、光照射部位
を光触媒の作用により高親水性とすることにより特定の
濡れ性部位を形成し、前記第2の工程において、前記光
触媒含有層に光照射を行い、光照射部位を光触媒の作用
により高親水性とすることにより特定の濡れ性部位を形
成することを特徴とする請求項11に記載のカラーフィ
ルタの製造方法。
12. In the first step, a photocatalyst-containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst is formed on a transparent substrate, and the photocatalyst-containing layer is irradiated with light. By forming a specific wettability site by the above, in the second step, the photocatalyst containing layer is irradiated with light, and the photoirradiation site is made highly hydrophilic by the action of the photocatalyst, thereby forming the specific wettability site The method for manufacturing a color filter according to claim 11, wherein:
【請求項13】 所定のパターンで遮光層を備えた透明
基板上に所定のパターンで特定の濡れ性部位を形成する
第1の工程、前記濡れ性部位上に着色層用塗料を付着さ
せて着色層を形成する第2の工程、とを有することを特
徴とするカラーフィルタの製造方法。
13. A first step of forming a specific wettable portion in a predetermined pattern on a transparent substrate provided with a light-shielding layer in a predetermined pattern, and applying a coloring material for a colored layer on the wettable portion for coloring. And a second step of forming a layer.
【請求項14】 前記第1の工程において、所定のパタ
ーンで遮光層を備えた透明基板上に遮光層を覆うように
少なくともバインダーと光触媒からなる光触媒含有層を
形成し、該光触媒含有層に光照射を行い、光照射部位を
光触媒の作用により高親水性とすることにより特定の濡
れ性部位を形成することを特徴とする請求項13に記載
のカラーフィルタの製造方法。
14. In the first step, a photocatalyst-containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst is formed on a transparent substrate having a light-shielding layer in a predetermined pattern so as to cover the light-shielding layer. 14. The method for producing a color filter according to claim 13, wherein irradiation is performed, and a specific wettability site is formed by making the light irradiation site highly hydrophilic by the action of a photocatalyst.
【請求項15】 所定のパターンで遮光層を備えた透明
基板上に所定のパターンで特定の濡れ性部位を形成し、
該濡れ性部位上に着色層用塗料を付着させて着色層を形
成する操作を、必要色数分繰り返して複数色からなる着
色層を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造
方法。
15. A specific wettability portion is formed in a predetermined pattern on a transparent substrate provided with a light shielding layer in a predetermined pattern,
A method for manufacturing a color filter, comprising: repeating the operation of forming a colored layer by adhering a coating material for a colored layer on the wettable portion by a required number of colors to form a colored layer of a plurality of colors.
【請求項16】 所定のパターンで遮光層を備えた透明
基板上に遮光層を覆うように少なくともバインダーと光
触媒からなる光触媒含有層を形成し、該光触媒含有層に
光照射を行い、光照射部位を光触媒の作用により高親水
性とすることにより特定の濡れ性部位を形成することを
特徴とする請求項15に記載のカラーフィルタの製造方
法。
16. A photocatalyst-containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst is formed on a transparent substrate having a light-shielding layer in a predetermined pattern so as to cover the light-shielding layer, and the photocatalyst-containing layer is irradiated with light. The method for producing a color filter according to claim 15, wherein a specific wettability site is formed by making the compound highly hydrophilic by the action of a photocatalyst.
【請求項17】 透明基板上に所定のパターンで特定の
濡れ性部位を形成し、該濡れ性部位上に遮光層用塗料を
付着させて遮光層を形成する第1の工程、透明基板上に
所定のパターンで特定の濡れ性部位を形成し、該濡れ性
部位上に着色層用塗料を付着させて着色層を形成する操
作を、必要色数分繰り返して複数色からなる着色層を形
成する第2の工程、とを有することを特徴とするカラー
フィルタの製造方法。
17. A first step of forming a specific wettable portion in a predetermined pattern on a transparent substrate, and applying a light-shielding layer paint on the wettable portion to form a light-shielding layer. An operation of forming a specific wettable portion in a predetermined pattern, and applying a coating material for a colored layer on the wettable portion to form a colored layer is repeated for a required number of colors to form a colored layer having a plurality of colors. A method of manufacturing a color filter, comprising:
【請求項18】 前記第1の工程において、透明基板上
に少なくともバインダーと光触媒からなる光触媒含有層
を形成し、該光触媒含有層に光照射を行い、光照射部位
を光触媒の作用により高親水性とすることにより特定の
濡れ性部位を形成し、前記第2の工程において、遮光層
を覆うように少なくともバインダーと光触媒からなる光
触媒含有層を形成し、該光触媒含有層に光照射を行い、
光照射部位を光触媒の作用により高親水性とすることに
より特定の濡れ性部位を形成することを特徴とする請求
項17に記載のカラーフィルタの製造方法。
18. In the first step, a photocatalyst-containing layer comprising at least a binder and a photocatalyst is formed on a transparent substrate, and the photocatalyst-containing layer is irradiated with light. Forming a specific wettability site by forming a photocatalyst containing layer composed of at least a binder and a photocatalyst so as to cover the light shielding layer in the second step, and irradiating the photocatalyst containing layer with light,
The method for producing a color filter according to claim 17, wherein a specific wettability site is formed by making the light irradiation site highly hydrophilic by the action of a photocatalyst.
【請求項19】 前記光触媒含有層に対する光照射は、
マスクを介したパターン露光、および、光描画照射のい
ずれかによることを特徴とする請求項12、請求項1
4、請求項16及び請求項18のいずれかに記載のカラ
ーフィルタの製造方法。
19. The light irradiation on the photocatalyst-containing layer,
13. The method according to claim 12, wherein the exposure is performed by one of a pattern exposure through a mask and an optical drawing irradiation.
A method for manufacturing a color filter according to any one of claims 16 and 18.
【請求項20】 遮蔽層用塗料および/または着色層用
塗料の付着は、塗布方式、ノズル吐出方式および真空薄
膜形成方式のいずれかで行うことを特徴とする請求項1
1乃至請求項19のいずれかに記載のカラーフィルタの
製造方法。
20. The method according to claim 1, wherein the application of the coating material for the shielding layer and / or the coating material for the coloring layer is performed by any one of a coating method, a nozzle discharge method, and a vacuum thin film forming method.
A method for manufacturing a color filter according to any one of claims 1 to 19.
【請求項21】 前記真空薄膜形成方式において、薄膜
形成後に、特定の濡れ性部位以外の部位に付着した遮蔽
層用塗料または着色層用塗料からなる薄膜を除去する工
程を有することを特徴とする請求項20に記載のカラー
フィルタの製造方法。
21. The vacuum thin film forming method, further comprising, after forming the thin film, removing a thin film made of a paint for a shielding layer or a paint for a colored layer attached to a portion other than a specific wettability portion. A method for manufacturing a color filter according to claim 20.
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