JPH11333389A - 板状部品の洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】板状部品の表面に汚染や処理ムラを生じさせな
い洗浄装置を提供する。 【解決手段】板状部品１の上下に配置された洗浄板１０
１,１２１の面内温度は、それぞれ、その内部に内蔵さ
れている温度制御ユニット１１５,１２５によって制御
されている。処理流体は、上下洗浄板１０１,１２１に
開けられた噴出口１０３,１０４,１２３,１２４から、
回転中の板状部品１に向って噴出し、上下洗浄板１０１
と板状部品１との間を通過して、板状部品１の外縁から
流出する。板状部品１の外縁から流出した廃液は、上下
洗浄板１０１,１２１及び板状部品１の外周を覆うよう
に設けられた外輪フード２０８に捕捉される。そして、
この外輪フード２０８の内部は、外部のサイクロン式気
液分離器によって真空吸引されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェハ、磁
気記録ディスク媒体、液晶表示パネル、ブラウン管シャ
ドーマスク等の薄板状の部品を洗浄する洗浄装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウェハ等の薄板状の部品(以下、
板状部品と呼ぶ)を洗浄するための装置として、従来、
特開平８−１５０３８０号公報記載のスクラビング装置
が知られている。このスクラビング装置(以下、従来の
スクラビング装置と呼ぶ)は、板状部品に超純水をふき
つけながら、その表面を回転ブラシでスクラブ洗浄した
後、板状部品を高速回転させ、遠心力によって、その表
面に付着している水分(以下、洗浄廃液と呼ぶ)を除去す
るものである。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記従来の
スクラビング装置では、脱水乾燥時等における板状部品
の高速回転によって吹き飛ばされた洗浄廃液が、雰囲気
中にミストとして漂いつづけるため、洗浄によって清浄
化された板状部品の表面が、洗浄廃液の再付着によって
新たな汚染を受けることがある。

【０００４】そこで、本発明は、洗浄廃液による板状部
品の表面の汚染を防止することができる洗浄装置を提供
することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明は、板状部品を略面内で回転させながら、当
該板状部品を洗浄する板状部品の洗浄装置であって、前
記板状部品の少なくとも片面側に、当該板状部品に対向
するように配置された洗浄板と、前記洗浄板側から前記
板状部材に向けて処理流体を噴出する流体供給手段と、
前記板状部材の外縁と前記洗浄板の外縁とを覆うフード
と、前記フード内に溜った処理流体を吸引する吸引手段
と、前記洗浄板の温度を制御する洗浄板温度制御手段と
を備えることを特徴とする板状部品の洗浄装置を提供す
る。

【０００６】このような装置構成によれば、脱水乾燥時
等における板状部品の高速回転によって吹き飛ばされた
洗浄廃液が、フードと吸引手段とによって直ちに回収さ
れるため、洗浄廃液の付着による板状部品の表面の汚染
を回避することができる。

【０００７】また、洗浄板の面内温度の制御によって、
洗浄板と板状部品との間を流れる処理流体の温度が調整
することができるため、板状部品に洗浄ムラが発生する
こともない。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、添付の図面を参照しなが
ら、本発明に係る実施の一形態について説明する。

【０００９】最初に、円板状のシリコンウェハを洗浄対
象とした場合を一例に挙げて、本実施の形態に係る洗浄
装置の基本構成について説明する。

【００１０】本洗浄装置は、図１及び図２に示すよう
に、ほぼ水平にウエハ１を支持するウェハ支持ユニット
２００、ウエハ１の下面を洗浄する下洗浄ユニット１２
０、ウェハ１の上面を洗浄する上洗浄ユニット１００、
ウェハ１の着脱時等に上洗浄ユニット１００を上下方向
に移動させる上下駆動ユニット(不図示)、上下洗浄ユニ
ット１００,１２０にそれぞれ処理流体(洗浄薬液、純
水、乾燥窒素)を供給する処理流体供給ユニット(不図
示)、ウエハ支持ユニット２００の外輪(後述)を回転さ
せる外輪駆動系２１０、ウエハ支持ユニット２００の外
輪の回転を停止させ外輪停止ユニット(不図示)、ウエハ
支持ユニット２００の内輪(後述)を回転させる内輪駆動
系２３０、両駆動系２１０,２３０を収容した円筒状の
洗浄ヘッドシャシーユニット２５０、使用済みの処理流
体を回収する気液回収ユニット２６０、本洗浄装置全体
を制御する制御装置(不図示)を備えている。これら各部
の詳細は、以下に示すとおりである。

【００１１】ウェハ支持ユニット２００は、ウェハ１の
外縁をチャックする複数のチャックピン２０１、全チャ
ックピン２０１を一体的として支持シャフト１３８の軸
心周りに回転(公転)させる外輪２０３、外輪２０３との
相対回転によって全チャックピン２０１をそれぞれの内
部にある軸周りに回転(自転)させる内輪２０４、内輪２
０４に対する各チャックピン２０１の上下動を阻止する
ピン押え２０６、外輪２０３の上部外周を被せられた円
筒状の外輪フード２０８、外輪２０３に外輪フード２０
８を固定した結合ピン２０７を備えている。

【００１２】そして、チャックピン２０１は、図３に示
すように、円柱状のピン部、このピン部の下部外周に形
成されているギヤ部を有している。ピン部の上端部は、
ピン部の中心軸(自転軸)を中心として１８０°切り欠か
れており、そこが、ウェハ１を単純支持するためのウェ
ハ開放部２０１ｂとなっている。また、ピン部の上端部
には、チャックピン２０１の自転に伴い、ウェハ開放部
２０１ｂ上のウェハ１の外縁が嵌まり込むＶ字型のチャ
ック溝２０１ａが形成されている。そして、ギヤ部に
は、その外周に、ギヤ２０１ｅが形成されている。ま
た、ギヤ部には、ピン部の中心軸を中心として、上下に
貫通する円弧状の貫通穴２０１ｃが複数あけられてい
る。これらの貫通孔２０１ｃの間の板部２０１ｄが板バ
ネとして機能するため、ギヤ２０１ｅに過大なトルクが
かかったとしても、そのトルクはピン部にまで及ばず、
ウェハ１やチャックピン２０１の損傷が発生しにくい。

【００１３】そして、内外輪２０３,２０４は、何れ
も、支持シャフト１３８の中心軸(公転軸)を中心として
配置されている。外輪２０３の内周面には、チャックピ
ン２０１のギヤ部の一部が収容される円弧状溝２０２が
形成され、内輪２０４の外周面には、その円弧状溝２０
２に収容されたチャックピン２０１のギヤ２０１ｅと噛
み合うギヤ２０５が形成されている。従って、外輪２０
３と内輪２０４とが相対的に回転すると、各チャックピ
ン２０１は、それぞれ、ピン部の中心軸周りの自転運動
をしながら、支持シャフト１３８の中心軸周りの公転運
動を行う。

【００１４】そして、外輪フード２０８は、支持シャフ
ト１３８を中心とした略円筒状をなしており、チャック
ピン２０１にチャックされたウェハ１の外縁の周りは、
この外輪フードによって覆われる。尚、この外輪フード
２０８は、外輪２０３の上部に結合ピン２０７で固定さ
れているため、外輪２０３と共に、支持シャフト１３８
を中心として回転する。

【００１５】内輪駆動系２３０は、上端のフランジに内
輪２０４が固定されている内輪保持中空軸２３１、内輪
保持中空軸２３１の外周に固定ネジ２３３で固定された
カムフォロワ２３２、内輪保持中空軸２３１の下端に固
定されたギア付き回転円板２３４、ギヤ付き回転円板２
３４に対して係合状態と離脱状態とをとるクラッチギア
２３５、クラッチギヤ２３５を回転させる内輪回転モー
タ２３７、内輪回転モータ２３７の回転速度を減速させ
る減速機２３６、ギヤ付き回転円板２３４を上下から回
転可能に支持するスラスト軸受２３８、スラスト軸受２
３８を上下から挟み込む上下リング２３９,２４０、上
下リング２３９,２４０の間隔を保持する中空円筒状の
スペーサ２４５、スペーサ２４５の内部を通って上下リ
ング２３９,２４０に貫通するタイロッド２４６、タイ
ロッド２４６から上下リング２３９,２４０が外れるの
を防ぐネジ２４７、上下リング２３９,２４０を上下方
向に移動させる上下動シリンダ２４２、上下動シリンダ
２４２の駆動端を下リング２４０に連結する固定ネジ２
４１、筐体２に対する上下動シリンダ２４２の取り付け
レベルを調節するためのスペーサ２４３等から構成され
ている。このような構成において、上下動シリンダ２４
２の駆動により上下リング２３９,２４０が上下動する
と、ギヤ付き回転円板２３４が上下動し、内輪保持中空
軸２３１、内輪２０４及びチャックピン２０１も上下動
する。そして、ギヤ付き回転円板２３４や内輪保持中空
軸２３１等が上端位置に位置しているときには、ギヤ付
き回転円板２３４とクラッチギヤ２３５とが係合状態に
あり、内輪回転モータ２３７の駆動によりクラッチギヤ
２３５が回転すると、ギヤ付き回転円板２３４も回転
し、内輪保持中空軸２３１及び内輪２０４等が支持シャ
フト１３８を中心として回転する。その反対に、ギヤ付
き回転円板２３４や内輪保持中空軸２３１等が下端位置
に位置しているときには、ギヤ付き回転円板２３４とク
ラッチギヤ２３５とは離脱状態にあり、内輪回転モータ
２３７の駆動によってクラッチギヤ２３５が回転して
も、ギヤ付き回転円板２３４、内輪保持中空軸２３１及
び内輪２０４は回転しない。

【００１６】外輪駆動系２１０は、上端のフランジに外
輪２０３と上軸受２１３の内輪とが固定されている外輪
保持中空軸２１１、外輪２０３の内側であって外輪保持
中空軸２１１のフランジに固定された外輪液止２１２、
支持シャフト１３８を中心として外輪保持中空軸２１１
を回転可能に支持した上下軸受２１３,２１５、上軸受
２１３の外輪と洗浄ヘッドシャーシユニット２５０の洗
浄ヘッドシャーシ２５１とに固定された上軸受保持部材
２１４、外輪保持中空軸２１１の下端と下軸受２１５の
内輪とに固定された下軸受内輪保持部材２１６、下軸受
２１５の外輪とと洗浄ヘッドシャーシユニット２５０の
洗浄ヘッドシャーシ２５１とに固定された下軸受外輪保
持部材２１８、下軸受内輪保持部材２１６と下軸受外輪
保持部材２１８との間に設けられたシール２１７、支持
シャフト１３８を中心として外輪保持中空軸２１１を回
転させる円筒状の外輪回転中空モータ２１９、下軸受内
輪保持部材２１６に固定ネジ２２１で固定されたスリッ
ト付きの回転円板２２０等から構成されている。

【００１７】そして、外輪保持中空軸２１１の内部に
は、内輪駆動系２３０の内輪保持中空軸２３１が挿入さ
れている。外輪保持中空軸２１１に対して内輪保持中空
軸２３１がスムーズに回転及び上下動することができる
ように、これらの接触面(外輪保持中空軸２１１の内周
面及び内輪保持中空軸２３１の外周面)には、それぞれ
滑り軸受２４４が形成されている。また、外輪保持中空
軸２１１のフランジの外周には、外輪停止ユニット２７
０の軸受(後述)が入りこむ溝が形成されている。

【００１８】そして、下軸受内輪保持部材２１６には、
図４に示すように、内周側から外周側に貫通したカム溝
２２２が形成されている。このカム溝２２２は、所定の
待機位置２２２ａから所定の長さ上方に伸び、その位置
２２２ｂ(以下、ウェハチャック待ち位置２２２ｂと呼
ぶ)から所定の長さ水平方向に伸び、さらに、その位置
２２２ｃ(以下、ウェハチャック位置２２２ｃと呼ぶ)か
ら、待機位置２２２ａより下方の位置２２２ｄ(以下、
洗浄位置２２２ｄと呼ぶ)にまで伸びている。そして、
内輪駆動系２３０のカムフォロワ２３２が、このカム溝
２２２に摺動可能に嵌め込まれ、外輪２０３及び外輪保
持中空軸２１１対する内輪２０４及び内輪保持中空軸２
３１の相対運動量(回転角、上下方向のスラスト移動量)
を規制している。即ち、ウェハチャック位置２２２ｃか
ら洗浄位置２２２ｄまでの長さは、チャックピン２０１
の上下方向のストローク量に相当する長さになってお
り、ウェハチャック待ち位置２２２ｂからウェハチャッ
ク位置２２２ｃまでの長さは、その間のカムフォロワ２
３２の移動によってチャックピン２０１を約９０°回転
させることができる長さになっている。

【００１９】そして、外輪回転中空モータ２１９は、上
下軸受２１３,２１５のあいだに配置されている。この
外輪回転中空モータ２１９のステータは、支持シャフト
１３８を中心として円筒状をなし、その外周面がシャー
シ２５１に固定されている。この外輪回転中空モータ２
１９のロータは、支持シャフト１３８を中心として円筒
状をなし、その内周面が外輪保持中空軸２１１に固定さ
れている。従って、この外輪回転中空モータ２１９が駆
動されると、外輪２０３は、支持シャフト１３８を中心
として回転する。

【００２０】洗浄ヘッドシャーシユニット２５０は、内
輪回転モータ２３７等を収容した洗浄ヘッドシャーシ２
５１、固定ねじ２５４で洗浄ヘッドシャーシ２５１に固
定された位置微調整可能な円板状のセンサプレート２５
３、センサプレートの下面に取り付けられた３つの回転
センサ２５２、洗浄ヘッドシャーシ２５１の開口部を塞
ぐ蓋２５５を備えている。３つの回転センサ２５２(位
相差検出による回転検出のためのＡ相用とＢ相用、角度
原点検出のためのＺ相用)は、何れもフォトインタラプ
トセンサであり、外輪駆動系２１０の回転円板２２０に
形成されている複数のスリットを通過した光を検出する
ことによって、外輪２０３の回転角度に比例したパルス
信号を発生する。これらの回転センサ２５２から出力さ
れたパルス信号は、外輪回転中空モータ２１９を制御す
るサーボコントロールユニット(不図示)に送られる。

【００２１】処理流体供給ユニット５００の配管系統
は、図５に示すように、乾燥窒素供給部５０１からの乾
燥窒素を上下洗浄ユニット１００,１２０に供給する乾
燥窒素供給系と、純水供給部５０２からの純水を上下洗
浄ユニット１００,１２０に供給する純水供給系と、薬
液供給部５０３からの薬液を上下洗浄ユニット１００,
１２０に供給する薬液供給系と、薬液供給系中の薬液を
薬液回収部５０４に戻す薬液回収系とに４分割されてい
る。

【００２２】そして、乾燥窒素供給系は、さらに、上洗
浄板の中央部に乾燥窒素を導く上洗浄板中央供給系と、
上洗浄板の周辺部に乾燥窒素を導く上洗浄板周辺供給系
と、下洗浄板の中央部に乾燥窒素を導く下洗浄板供給系
とに３分割されている。これら３つの系には、それぞ
れ、流量調整弁５１１,５１３,５１７、流量計５２１,
５２３,５２７、フィルタ５３１,５３３,５３７、エア
駆動仕切弁５４１,５４７,５５１が設けられている。そ
して、上洗浄板中央供給系のエア駆動仕切弁５４７は、
上洗浄ユニット１００の上導入管１０２に接続され、上
洗浄板周辺供給系のエア駆動仕切弁５４１は、上洗浄ユ
ニット１００の上周辺導入管１０５に接続されている。
また、下洗浄板供給系のエア駆動仕切弁５５１は、下洗
浄ユニット１２０の下導入管１２２に接続されている。

【００２３】そして、純水供給系は、さらに、上洗浄板
の中央部に純水を導く上洗浄板中央供給系と、上洗浄板
の周辺部に純水を導く上洗浄板周辺供給系と、下洗浄板
の中央部に純水を導く下洗浄板供給系とに３分割されて
いる。これら３つの系統には、それぞれ、流量調整弁５
１２,５１４,５１８、流量計５２２,５２４,５２８、フ
ィルタ５３２,５３４,５３８、エア駆動仕切弁５４２,
５４８,５５２が設けられている。そして、上洗浄板中
央供給系のエア駆動仕切弁５４８は、上洗浄ユニット１
００の上導入管１０２に接続され、上洗浄板周辺供給系
のエア駆動仕切弁５４２は、上洗浄ユニット１００の上
周辺導入管１０５に接続されている。また、下洗浄板供
給系のエア駆動仕切弁５５２は、下洗浄ユニット１２０
の下導入管１２２に接続されている。

【００２４】そして、薬液供給系は、さらに、上洗浄板
の中央部に洗浄液を導く上洗浄板中央供給系と、下洗浄
板の中央部に洗浄液を導く下洗浄板供給系とに２分割さ
れている。これら２つ系には、それぞれ、流量調整弁５
１５,５１６、流量計５２５,５２６、フィルタ５３５,
５３６、第１エア駆動仕切弁５４３,５４６、第２エア
駆動仕切弁５４９,５５０が設けられている。そして、
上洗浄板中央供給系の第２エア駆動仕切弁５４９は、上
洗浄ユニット１００の上導入管１０２に接続され、下洗
浄板供給系の第２エア駆動仕切弁５５０は、下洗浄ユニ
ット１２０の下導入管１２２に接続されている。

【００２５】そして、薬液回収系は、薬液供給系の上洗
浄板中央供給系の第１エア駆動仕切弁５４３と第２エア
駆動仕切弁５４９との間から分岐した上薬液回収系と、
薬液供給系の下洗浄板供給系の第１エア駆動仕切弁５４
６と第２エア駆動仕切弁５５０との間から分岐した下薬
液回収系とに２分割されている。これら２つの系には、
それぞれエア駆動仕切弁５４４,５４５が設けられてい
る。この薬液回収系を設けることによって、常に洗浄薬
液を循環させ、絶えず洗浄液がフィルタで濾過されるよ
うにしているため、洗浄液への異物等の混入を防止する
ことができる。

【００２６】尚、下洗浄板供給系の３つのエア駆動仕切
弁５５０,５５１,５５２を下洗浄板１０１に直接設ける
ことが構造上困難であることから長くせざるを得ない下
導入管１２２には、エア駆動仕切弁５５３を介して、管
内部に残存した洗浄液等を取り除くためのサックバック
５０６が接続され、下洗浄ユニット１２０への処理流体
の切替えの高速化が図られている。サックバック５０６
の廃液排出口には、廃液処理設備(不図示)へと洗浄廃液
を導く廃液排出ラインが接続されている。

【００２７】外輪停止ユニット２７０は、図６及び図７
に示すように、エアシリンダ２７１を有している。この
エアシリンダ２７１のシリンダケースは、スペーサ２７
２、アングル２７４及びネジ２７３によって、シャーシ
２５１の外周に固定されている。また、このエアシリン
ダ２７１のシリンダロッドの先端には、ネジ２７６で、
ブレーキヘッドカバー２７８が固定されている。そし
て、このブレーキヘッドカバー２７８の上下動は、シャ
ーシ２５１の上部外周の溝２５１ａに固定されたガイド
２８３によって案内される。そして、このブレーキヘッ
ドカバー２７８の軸２７９の外周には、スペーサ２８１
及びネジ２８０によって軸受２８２が固定されている。
外輪２０３及び外輪保持中空軸２１１の回転中にエアシ
リンダ２７１を駆動させ、この軸受２８２が外輪保持中
空軸２１１のフランジの外周の溝２１１ａに入ると、外
輪の回転は停止する。

【００２８】上下駆動ユニット３００は、図８に示すよ
うに、上洗浄ユニット１００の上洗浄板１０１が固定さ
れた洗浄板固定梁３０１、洗浄板固定梁３０１を上洗浄
ユニット１００と共に上下動させる上下動テーブル３０
３を備えている。

【００２９】気液回収ユニット２６０は、周期的に深さ
が変化する溝が外輪フード２０８の内壁に沿うように環
状に形成されている円筒型樋２６１、円筒型樋２６１の
溝の最深部のそれぞれ接続された複数の気液回収管２６
２を備えている。尚、円筒型樋２６１は、図８に示すよ
うに、筐体２に立てられた複数の支柱２６４に固定され
た樋支持金具２６３に固定されている。

【００３０】さらに、気液回収ユニット２６０は、図５
に示すように、複数の気液回収管２６２から排出された
洗浄廃液から気体と液体とを分離するサイクロン式気液
分離器５６０、気液回収管２６２からの処理流体と外部
から混入した空気とを吸引させるべくサイクロン式気液
分離器５６０の排気口から真空吸引する真空ポンプ５０
５を備えている。そして、サイクロン式気液分離器５６
０の廃液排出口には、を廃液処理設備(不図示)へと洗浄
廃液を導く廃液排出ライン５０７が接続されている。

【００３１】ウェハ洗浄中及びウエハ乾燥中、ウエハ支
持ユニットの高速回転に伴う遠心力で上下洗浄板とウェ
ハとの間から飛び出した処理流体は、外輪フード２０８
の内壁をつたって円筒型樋２６１の溝に流れ込み、さら
に気液回収管２６２を介して、サイクロン式気液分離器
５６０に吸引される。そして、サイクロン式気液分離器
５６０で気体から遠心分離された液体(洗浄液と水との
混合液)が廃液排出ライン５０７に排出される。

【００３２】尚、廃液処理設備の処理能力によっては、
サイクロトロン式気液分離器５６０からの廃液排出ライ
ン５０７と、サックバック５０６からの廃液排出ライン
とに、それぞれ切替え弁を設けて、洗浄廃液を、高濃度
廃液と低濃度廃液とに分別して回収できるようにするこ
とが望ましい。

【００３３】上洗浄ユニット１００は、ウェハ支持ユニ
ットに支持されたウェハ１の上面に対向するように配置
された円板状の上洗浄板１０１、処理流体供給ユニット
５００の上洗浄板中央供給系の３つのエア駆動仕切弁５
４７,５４８,５４９等によって構成された上バルブユニ
ット１０７を備えている。これらは、何れも、洗浄液
(酸アルカリ等の薬液)に侵食されないように、その主要
な部分が、耐薬品性に優れた材料、例えばフッ素樹脂等
で形成されていることが望ましい。

【００３４】そして、この上洗浄板１０１に、図９に示
すように、その中央部に、その上面から下面にぬける上
導入管１０２が形成されている。この上導入管１０２の
下面側は、上洗浄板１０１の下面中央から処理流体を噴
出する上主噴出口１０３と、上主噴出口回りから処理流
体を噴出する上補助噴出口１０４とに分岐している。そ
して、この上導入管１０２の上面側には、上バルブ駆動
空気導入口１１０からの空気によって駆動される上バル
ブユニット１０７が接続されている。尚、１１１は、空
気排出用の上バルブ駆動空気排出口である。

【００３５】また、この上洗浄板１０１には、その外周
部に、その上面から下面にぬける上周辺噴出口１０６が
形成され、この上周辺噴出口１０６の上面側に上周辺導
入管１０５が接続されている。そして、上周辺導入管１
０５の他端に、処理流体供給ユニット５００の上洗浄板
周辺供給系の２つのエア駆動仕切弁５４１,５４２が接
続されている。

【００３６】更に、上洗浄板１０１には、図１０に示す
ように、その下面側に、その面内温度を制御する温度制
御ユニット１１５が内蔵されている。

【００３７】この温度制御ユニット１１５は、外部から
供給された電流に応じて表裏面間で熱搬送を行うドーナ
ツ型の熱電変換素子(例えば、ペルチェ素子等)１１５ａ
と、熱伝導性に優れた銅合金等で形成されたドーナツ型
のバックプレート１１５ｂと、バックプレート１１５ｂ
を介して熱電変換素子１１５ａの裏面(熱電効果(例え
ば、ペルチェ効果)による熱の発生／吸収面、かつ、ジ
ュール熱を逃がす面)と熱交換を行うことによって熱電
変換素子１１５ａの熱電効果を促進する水冷／温水式の
給廃熱体１１５ｃとの三層構造を有しており、かつ、熱
電変換素子１１５ａを上洗浄板１０１の下面側に向けて
配置されている。そして、熱電変換素子１１５ａに供給
される電流は、制御装置によって制御されている。

【００３８】給廃熱体１１５ｃは、図１１に示すよう
に、２つに折り曲げたパイプを、その折屈部Ａが芯側に
なるようになるように螺線に巻き回すことによって形成
されている。そして、パイプの両端(給水口及び排水口)
は、何れも、給廃熱体１１５ｃの中央部への上バルブユ
ニット１０７の配置を妨げない部位、即ち、給廃熱体１
１５ｃの最外周に位置付けられている。

【００３９】従って、この給廃熱体１１５ｃの給水口か
ら温水または冷水(以下、熱伝達媒体と呼ぶ)を供給する
と、この熱伝達媒体は、給廃熱体１１５ｃの中央部を経
由し、給廃熱体１１５ｃの外周の排水口から流れ出す。
このような往復経路で熱伝達媒体が循環する給廃熱体１
１５ｃには、その面内に、パイプ内を通過する熱伝達媒
体の水温変化による温度ムラが生じにくい。また、この
給廃熱体１１５ｃと熱電変換素子１１５ａとの間にはバ
ックプレート１１５ｂが介在させてあるため、この給廃
熱体１１５ｃを熱電変換素子１１５ａの裏面に直接接触
させた場合と異なり、熱電変換素子１１５ａの裏面の局
所加熱または局所冷却が起こらない。従って、熱電変換
素子１１５ａの裏面全体を一様に加熱または冷却するこ
とができる。

【００４０】下洗浄ユニット１２０は、ウェハ支持ユニ
ットに支持されたウェハ１の下面に対向するように配置
された円板状の下洗浄板１２１、上端で下洗浄板１２１
を支持する中空円筒型の支持シャフト１３８、支持シャ
フト１３８の上端付近の外周を囲むように下洗浄板１２
１の下面に固定された円筒状の飛沫防止壁１３７を備え
ている。これらのうち、荷重がかかる支持シャフト１３
７と固定ねじ１３９とだけは、剛性の高いステンレス等
で形成されている必要があるが、その他の構成部品は、
洗浄液(酸アルカリ等の薬液)に侵食されないように、そ
の主要部分が、耐薬品性に優れた材料、例えばフッ素樹
脂等で形成されていることが望ましい。

【００４１】そして、下洗浄板１２１の中央部には、上
洗浄板１０１の中央部と同様に、下洗浄板１２１の上面
中央から処理流体を噴出する上主噴出口１２３と、上主
噴出口回りから処理流体を噴出する下補助噴出口１２４
とに分岐する流体路が形成されている。この流体路の他
端は、支持シャフト１３８の内部の下導入管１２２を介
して、処理流体供給ユニット５００の下洗浄板中央供給
系の３つのエア駆動仕切弁５５０,５５１,５５２が接続
されている。

【００４２】また、下洗浄板１２１にも、上面側にも、
上洗浄板１０１の温度制御ユニット１１５と同様な温度
制ユニット１２５が内蔵されている。従って、上洗浄板
１０１と同様に、下洗浄板１２１の上面の面内温度も制
御することができる。

【００４３】そして、支持シャフト１３８の下端は、僅
かに筐体２を突き抜け、シャフト固定ネジ１３９で筐体
２に固定されている。

【００４４】次に、この洗浄装置の動作について説明す
る。

【００４５】ウェハ洗浄前の待機状態においては、上洗
浄ユニット１００は、最上位置に退避している。また、
内輪保持中空軸２３１のカムフォロワ２３２は、図４
(ｂ)に示すように、下軸受内輪保持部材２１６のカム溝
２２２の待機位置２２２ａに位置している。内輪保持中
空軸２３１、内輪２０４及びチャックピン２０１は、上
下方向において、それぞれの中段レベルに位置してい
る。また、内輪駆動系２３０の上下動シリンダ２４２の
駆動端、これに連結されている上下リング２３９,２４
０、内輪保持中空軸２３１に固定されているギヤ付き回
転円板２３４も、上下方向において中段レベルに位置し
ている。ギヤ付き回転円板２３４とクラッチギヤ２３５
とは係合状態である。また、外輪停止ユニット２７０の
エアシリンダ２７１のシリンダロッド先端の軸受２８２
は、外輪保持中空軸２１１の溝２１１ａに嵌まり込んで
いる。このため、外輪保持中空軸２１１及びこれに固定
された外輪２０３は回転不能に拘束されている。

【００４６】この待機状態から、内輪駆動系２３０の上
下動シリンダ２４２の駆動端を前進させ、ウェハチャッ
ク待ち状態にする。上下動シリンダ２４２の駆動端が前
進すると、これに連結されている上下リング２３９,２
４０、上下リング２３９,２４０に挟まれているギヤ付
き回転円板２３４、ギヤ付き回転円板２３４が固定され
ている内輪保持中空軸２３１、内輪保持中空軸２３１に
取り付けられているカムフォロワ２３２及び内輪２０
４、さらに、内輪２０４に対して相対的に上下動不能な
チャックピン２０１も、それぞれの最上位置に至る。こ
のとき、カムフォロワ２３２は、カム溝２２２内の最上
端のウェハチャック待ち位置２２２ｂに位置し、これ以
上、上昇できない状態になっている。このため、カムフ
ォロワ２３２が取り付けられている内輪保持中空軸２３
１や、これに固定されている内輪２０４等も、これ以
上、上昇できない。

【００４７】そして、チャックピン２０１の上端部は、
いずれも、外輪フード２０８の上端よりも上方に突出
し、チャックピン２０１にウェハ１が取り付けやすいよ
うになっている。各チャックピン２０１のウェハ開放部
２０１ｂは、支持シャフト１３８側を向いている。これ
らのウェハ開放部２０１ｂにウェハ１を載せると、内輪
回転モータ２３７を駆動させ、ウェハチャック状態にす
る。ウェハ待機状態と同様にギヤ付き回転円板２３４と
クラッチギヤ２３５とが係合状態であるため、内輪回転
モータ２３７の駆動によって、ギヤ付き回転円板２３
４、このギヤ付き回転円板２３４が固定されている内輪
保持中空軸２３１、これに固定されている内輪２０４
が、支持シャフト１３８を中心として回転する。外輪２
０３は、外輪停止ユニット２７０で回転不能に拘束され
ているから、内輪２０４は、外輪２０３に対して相対的
に回転する。このように内輪２０４が外輪２０３に対し
て相対回転すると、カムフォロワ２３２がカム溝２２２
のウェハチャック待ち位置２２２ｂからウェハチャック
位置２２２ｃまで移動して、内輪２０４と外輪２０３と
の間に挟まれているチャックピン２０１が９０°自転
し、チャックピン２０１のチャック溝２０１ａが支持シ
ャフト１３８側を向く。そのチャック溝２０１ａに、ウ
ェハ開放部２０１ｂで単純支持されていたウェハ１の外
縁が嵌まり込む。

【００４８】このように複数のチャックピン２０１にウ
ェハ１がチャックされると、内輪駆動系２３０の上下動
シリンダ２４２の駆動端を下降させる。上下動シリンダ
２４２の駆動端が下降すると、上下動シリンダ２４２の
駆動端に連結されている上下リング２３９,２４０、上
下リング２３９,２４０に挟まれギヤ付き回転円板２３
４、このギヤ付き回転円板２３４が下端に固定されてい
る内輪保持中空軸２３１、内輪保持中空軸２３１に取り
付けられているカムフォロワ２３２及び内輪２０４、さ
らに、内輪２０４に対して相対的に上下動不能なチャッ
クピン２０１も、それぞれの最下位置に至る。この過程
で、ウェハ１も下降し、下洗浄ユニット１２０の下洗浄
板１２１に近づく。チャックピン２０１等が最下位置に
至ったとき、カムフォロワ２３２は、図４(ａ)に示すよ
うに、カム溝２２２の洗浄位置２２２ｄに位置し、これ
以上、下降することができない状態になっているため、
カムフォロワ２３２が取り付けられている内輪保持中空
軸２３１、これに固定された内輪２０４、さらにチャッ
クピン２０１等も、これ以上、下降することができない
状態になっている。なお、この状態においては、ギヤ付
き回転円板２３４とクラッチギヤ２３５とが離脱状態に
あり、内輪回転モータ２３７を駆動させても、ギヤ付き
回転円板２３４、これが固定されている内輪保持中空軸
２３１及び内輪２０４を回転させることができない。

【００４９】さらに上下動ユニット３００の上下動テー
ブル３０３を駆動し、上洗浄ユニット１００の上洗浄板
１０１を下降させて、複数のチャックピン２０１でチャ
ックされているウェハ１に上洗浄板１０１を近づけ、洗
浄状態にする。このときの洗浄板１０１の下面とウェハ
１の上面との間隔、及び、下洗浄板１２１の上面とウェ
ハ１の下面との間隔は、何れも、０.６ｍｍ程度であ
る。但し、乾燥窒素によるウェハの乾燥処理が開始され
たら、上洗浄板１０１の下面とウェハ１の上面との間隔
を３ｍｍ程度にする。

【００５０】以上の洗浄状態になると、上洗浄板１０１
の下面及び下洗浄板１２１の上面を所定温度にするた
め、これらに内蔵されている温度制御ユニット１１５,
１２５のペルチェ素子１１５ａ,１２５ａへの電流の供
給、及び、給廃熱体１１５ｃ,１２５ｃへの熱伝達媒体
の供給を開始する。そして、薬液供給部５０３、純水供
給部５０２、乾燥窒素供給部５０１から、処理流体供給
ユニット５００を介して、上下洗浄ユニット１００,１
２０に、薬液、純水、乾燥窒素を順次供給すると共に、
外輪停止ユニット２７０のエアシリンダ２７１を駆動
し、外輪２０３の拘束を解除してから、外輪回転中空モ
ータ２１９を駆動する。このとき、カムフォロワ２３２
は、カム溝２２２の洗浄位置２２２ｄに位置し、その水
平移動が阻止されているため、カムフォロワ２３２が取
り付けられている内輪保持中空軸２３１は、カム溝２２
２が形成されている下軸受内輪保持部材２１６及びこれ
が固定されている外輪保持中空軸２１１に対して相対回
転することができない。従って、外輪回転中空モータ２
１９の駆動によって、外輪保持中空軸２１１のみなら
ず、内輪保持中空軸２３１も外輪保持中空軸２１１と一
体的に回転する。この回転によって、内輪２０４及び外
輪２０３も、支持シャフト１３８を中心として一体的に
回転し、内輪２０４と外輪２０３との間の複数のチャッ
クピン２０１は、支持シャフト１３８を中心として公転
する。これにより、複数のチャックピン２０１にチャッ
クされているウェハ１も支持シャフト１３８を中心とし
て回転する。

【００５１】上洗浄板１０１に供給された処理流体は、
上洗浄板１０１の上主噴出口１０３や上補助噴出口１０
４等から噴出し、上洗浄板１０１の下面とウェハ１の上
面との間を通過して、ウェハ１の外縁から、洗浄廃液と
して流出する。一方、下洗浄板１２１に供給された処理
流体は、下洗浄板１２１の下主噴出口１２３や下補助噴
出口１２４から噴出し、下洗浄板１２１の上面とウェハ
１の下面との間を通過して、ウェハ１の外縁から、洗浄
廃液として流出する。このとき上洗浄板１０１の下面温
度及び下洗浄板１２１の上面温度が所定温度に維持され
ているため、ウェハ１の上下面全域に渡って、処理条件
を満たす一定温度の処理流体を作用させることができ
る。従って、例えば、フッ酸エッチング処理等、温度変
化に敏感な低温洗浄処理においても、ウェハ１の上下面
に処理ムラが発生しにくくなる。

【００５２】このとき、上洗浄板１０１とウェハ１の上
面との間、下洗浄板１２１とウェハ１の下面との間に
は、処理流体の通過によって、それぞれ、ベルヌーイの
定理に応じた圧力が生じている。そして、上洗浄板１０
１とウェハ１の上面との間の圧力と、下洗浄板１２１と
ウェハ１の下面との間の圧力は、基本的に同じになり、
両者間において、微妙な圧力バランスがとられている。
ところが、処理流体供給ユニット５００の一部に支障が
生じた場合、処理流体供給ユニット５００の操作ミスが
あった場合等においては、上洗浄板１０１に供給する処
理流体の流量と、下洗浄板１２１に供給する処理流体の
流量とのバランスが僅かに崩れることがある。このよう
な場合、上洗浄板１０１とウェハ１の上面との間の圧力
と、下洗浄板１２１とウェハ１の下面との間の圧力との
圧力バランスが崩れ、上洗浄板１０１と下洗浄板１２１
との間で、ウェハ１は傾こうとしたり、上下に移動しよ
うとする。しかしながら、ウェハ１は、複数のチャック
２０１でしっかりとチャックされているため、ウェハ１
が傾いたり、上下に移動することはなく、これを原因し
たウェハの損傷や汚れを回避することができる。

【００５３】ウェハ１の外縁から流出した洗浄廃液は、
ウェハ１の外周側に位置している外輪フード２０８に捕
捉され、外輪２０３と共に回転している外輪フード２０
８から、気液回収ユニット２６０の樋２６１に流れ込
む。そして、気液回収ユニット２６０の樋２６１に溜っ
た洗浄廃液は、気液回収管２６２を介して、サイクロン
式気液分離器２６３に吸引される。従って、洗浄処理中
には洗浄廃液の逆流が防止され、乾燥処理中には洗浄廃
液のミスト化を防止することができ、洗浄廃液の付着に
よるウェハ１の表面の汚染を回避することができる。

【００５４】尚、サイクロン式気液分離器２６３内で、
洗浄廃液は、気体(乾燥窒素等)と液体(薬液、純水等)と
に分離され、気体は、真空ポンプ５０５を経て排気さ
れ、液体は、廃液排出ライン５０７を経て廃液処理設備
に送られる。

【００５５】ウェハ１の洗浄処理及び乾燥処理が終了す
ると、外輪回転中空モータ２１９を停止し、外輪停止ユ
ニット２７０のエアシリンダ２７１を駆動して、外輪２
０３を回転不能に拘束すると共に、上下動テーブル３０
３を駆動して、上洗浄ユニット１００を上方に退避させ
る。そして、内輪駆動系２３０の上下動シリンダ２４２
の駆動端を上昇させて、ウェハチャック状態にする。さ
らに、内輪回転モータ２３７を駆動して、ウェハチャッ
ク待ち状態にし、チャックピン２０１によるウェハ１の
チャック状態を解除する。最終的に、チャックピン２０
１からウェハ１を取り除き、内輪駆動系２３０の上下動
シリンダ２４２の駆動端を下降させて、待機状態に戻
す。

【００５６】ところで、本実施の形態では、３層構造を
有する温度制御ユニット１５１,１２０を使用すること
によって、上下洗浄板１０１,１２１の面内温度を制御
しているが、このような温度制御ユニット１５１,１２
０によらなくとも、上下洗浄板１０１,１２１の面内温
度を制御することは可能である。

【００５７】例えば、図１２に示すように、温度制御ユ
ニット１５１,１２０から熱電素子１１５ａ,１２０ａを
取り外し、制御装置が、給廃熱体１１５ｃ,１２０ｃに
供給される熱伝達媒体の温度が制御するようにすれば、
給廃熱体１１５ｃ,１２０ｃを、上下洗浄板１０１,１２
１を放熱もしくは吸熱させる温度調節用部品として利用
することができる。このようにすれば、熱電素子１１５
ａ,１２０ａを取り外した分だけ、温度制御ユニットの
薄型化及び装置製造コストの削減を図ることができる。
また、能動素子である熱電素子１１５ａ,１２０ａを取
り外したことにより、故障、制御ミス等の発生率が低減
する。尚、このような構成の洗浄装置は、高速な温度切
替えを必要としない洗浄処理に適している。

【００５８】あるいは、図１３に示すように、熱電素子
１１５ａ,１２０ａの代わりに、螺線状に巻き回した抵
抗線(ニクロム線等)１１５ｄ,１２０ｄを使用し、制御
装置が、各抵抗線１１５ｄ,１２０ｄに印加される電圧
を制御するようにしても構わない。抵抗線１１５ｄ,１
２０ｄは、上下洗浄板１０１,１２１の外縁付近等に設
けることが困難な給廃熱体１１５ｃ,１２０ｃの併設を
必要とせず、その取付けの自由度が高いため、これを温
度調節用部品として利用すれば、上下洗浄板１０１,１
２１に、その目標面内温度分布に適したレイアウトで温
度調節用部品を設けることが可能となる。また、細い抵
抗線１１５ｄ,１２０ｄを狭ピッチで巻き回して使用す
れば、上下洗浄板の面内温度の不均一が生じにくくなる
ため、確実に、ウェハ１の上下面の全域に渡って均一な
処理流体を作用させることができるようになる。尚、こ
のような構成の洗浄装置は、高温洗浄中の薬液の温度低
下を防止する必要がある洗浄処理への使用に適してい
る。

【００５９】また、本実施の形態では、洗浄処理及び乾
燥処理の何れにおいても、上下洗浄板１０１,１２１の
面内温度が均一になるようにしているが、上下洗浄板１
０１,１２１の面内温度に勾配をもたせることによっ
て、ウェハの上下面における処理ムラの発生を効果的に
抑制できることもある。

【００６０】例えば、乾燥処理中における処理ムラの発
生防止を主眼とする場合には、図１４に示すように、上
下洗浄ユニット１００,１２０の外周に抵抗線１１５ｄ,
１２５ｄを設けることが望ましい。このように上下洗浄
ユニット１００,１２０の外周だけを局所的に加熱すれ
ば、気化熱による雰囲気温度の低下によって乾燥速度が
低下しやすいウェハ外周部の乾燥が促進されるため、ウ
ェハの上下面における処理ムラの発生を抑制することが
できる。そして、更に、図１６に示すように、上洗浄板
１０１の下面を凹面形状にすれば、乾燥処理中、外部か
らウェハ収容部への酸素の混入が防止され、ウェハ収容
部内の雰囲気の酸素濃度が低くおさえされるため、ウェ
ハの上下面(特に、外周領域)の酸化膜の成長を抑制する
ことができる。尚、図１６において、上下洗浄板１０
１,１２１に上補助噴出口を設けていないのは、分岐を
なくし、その分、上下主噴出口１０３,１２３の開口面
積を広くすることによって、上下主導入管１０２,１２
２の内部に異物がつまるのを防止するためである。上周
辺噴出口１０６の開口面積を広くしているのも、これと
同様な理由からである。

【００６１】また、ウェハ１の一部領域における異物処
理能力の低下防止を主眼とする場合には、図１５に示す
ように、各温度制御ユニット１１５,１２１に組み込ま
れている熱電変換素子をそれぞれ同心状に分割し、制御
装置が、各分割領域の熱電変換素子１１５ａ₁,１１５ａ
₂,...,１１５ａ_n,１２１ａ₁,１２１ａ₂,...,１２１ａ_n
に供給される電流をそれぞれ独立に制御できるようにす
ることが望ましい。スピン洗浄装置の異物除去能力は、
ウェハの表面全域に渡って均一という訳ではなく、処理
流体の流速が遅いウェハ１の中央領域において劣ること
が知られているが、このような構成にすれば、上下洗浄
板１０１,１２１の中央領域を外周領域よりも高温に
し、ウェハ１の中央領域に対する異物除去作用を促進す
ることが可能となるため、ウェハ１の表面の処理ムラの
発生を効果的に防止することができる。

【００６２】さて、以上説明した洗浄装置は、洗浄廃液
の回収能力に優れているため、これを、湿気の混入を嫌
うプロセス装置(真空成膜装置、高温処理装置等)と連結
して使用しても、プロセス装置側の処理に支障を生じる
ことはない。例えば、本洗浄装置と、洗浄後のウェハに
成膜する真空成膜装置とを連結する場合には、図１７に
示すように、本洗浄装置の洗浄ヘッド３と真空成膜装置
の高温処理室８との間を搬送室７で連結し、搬送室７内
に、洗浄ヘッド３で清浄化されたウェハ１を高温処理室
８へと搬送するアーム４を設置すればよい。但し、洗浄
ヘッド３と搬送室７との間にはエアロック６を設け、高
温処理室８と搬送室７との間にはゲートバルブ９を設け
てある。洗浄ヘッド３側からの洗浄廃液の漏洩を殆ど考
慮する必要がないため、これらエアロック６及びゲート
バルブ９は、簡単な耐食性処理が施された比較的単純な
構造のものであれば足りる。

【００６３】尚、１１は、洗浄前のウェハ１を搬送室７
に搬入するための受入口であり、１０は、受入口１１か
ら受け入れられたウェハ１を一旦待機させるためのエレ
ベータ部である。

【００６４】

【発明の効果】本発明に係る洗浄装置によれば、洗浄処
理中の洗浄廃液の逆流及び乾燥処理中の洗浄廃液ミスト
の発生が抑制されるため、従来、洗浄処理及び乾燥処理
中に起こりがちであった洗浄廃液による板状部品の表面
の汚染を防止することができる。また、板状部品の表面
に作用する処理流体を温度制御することができるため、
板状部品の表面の処理ムラの発生を抑制することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の一形態に係る洗浄装置(洗浄状
態)の縦断面図である。

【図２】本発明の実施の一形態に係る洗浄装置(洗浄状
態)の他方向からの縦断面図である。

【図３】本発明の実施の一形態に係るチャックピンの斜
視図である。

【図４】本発明の実施の一形態に係るカム溝とカムフォ
ロワとの関係を説明するための図である。

【図５】本発明の実施の一形態に係る処理流体供給ユニ
ット及び気液回収ユニットの系統図である。

【図６】本発明の実施の一形態に係る外輪停止ユニット
の正面図である。

【図７】本発明の実施の一形態に係る外輪停止ユニット
の要部切欠き側面図である。

【図８】本発明の実施の一形態に係る洗浄装置の側面図
である。

【図９】本発明の実施の一形態に係る洗浄装置の洗浄部
の立面図である。

【図１０】本発明の実施の一形態に係る洗浄装置の洗浄
部の断面図である。

【図１１】本発明の実施の一形態に係る温度制御ユニッ
トの内部構造を説明するための図である。

【図１２】本発明の実施の一形態に係る洗浄装置の洗浄
部の断面図である。

【図１３】本発明の実施の一形態に係る洗浄装置の洗浄
部の断面図である。

【図１４】本発明の実施の一形態に係る洗浄装置の洗浄
部の断面図である。

【図１５】本発明の実施の一形態に係る洗浄装置の洗浄
部の断面図である。

【図１６】本発明の実施の一形態に係る洗浄装置の洗浄
部の断面図である。

【図１７】本発明の実施の一形態に係る洗浄装置と、洗
浄後の板状部品に所定の処理を施す装置とを備えたシス
テムの概略構成図である。

【符号の説明】

１…シリコンウェハ ２…筐体 １００…上洗浄ユニット １０１…上洗浄板 １０７…上バルブユニット １１５…(上洗浄板の)温度制御ユニット １２０…下洗浄ユニット １２１…下洗浄板 １２５…(下洗浄板の)温度制御ユニット １３８…支持シャフト ２００…ウェハ支持ユニット ２０１…チャックピン ２０１ａ…チャック溝 ２０１ｂ…ウェハ開放部 ２０１ｅ…（チャックピンの）ギヤ ２０２…（外輪の）円弧状溝 ２０３…外輪 ２０４…内輪 ２０５…（内輪の）ギヤ ２０６…ピン押え ２０８…外輪フード（被覆部材） ２１０…外輪駆動系 ２１１…外輪保持中空軸 ２１６…下軸受内輪保持部材 ２１９…外輪回転中区モータ ２２２…カム溝 ２２２ａ…待機位置 ２２２ｂ…ウェハチャック待ち位置 ２２２ｃ…ウェハチャック位置 ２２２ｄ…洗浄位置 ２３０…内輪駆動系 ２３１…内輪保持中空軸 ２３２…カムフォロワ ２３４…ギヤ付き回転円板 ２３５…クラッチギヤ ２３７…内輪回転モータ ２４２…上下動シリンダ ２５０…シャーシユニット ２５１…シャーシ ２５８…樋支持金具 ２６０…気液回収ユニット ２６１…樋 ２６２…気液回収管 ２６３…サイクロン式気液分離器 ２６３ａ…廃液入口 ２６３ｂ…気体排出口 ２６３ｃ…廃液排出口 ２６５…真空ポンプ ２７０…外輪停止ユニット ３００…上下駆動ユニット ３０３…上下動テーブル ５００…処理流体供給ユニット ５０１…乾燥窒素供給部 ５０２…純水供給部 ５０３…薬液供給部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐伯 智則 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 相内 進 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】板状部品を略面内で回転させながら、当該
   板状部品を洗浄する板状部品の洗浄装置であって、 前記板状部品の少なくとも片面側に、当該板状部品に対
   向するように配置された洗浄板と、 前記洗浄板から前記板状部品に向けて処理流体を噴出さ
   せる流体供給手段と、 前記板状部材の外縁と前記洗浄板の外縁とを覆うフード
   と、 前記フード内に溜った処理流体を吸引する吸引手段と、 前記洗浄板の温度を制御する洗浄板温度制御手段とを備
   えることを特徴とする板状部品の洗浄装置。
2. 【請求項２】請求項１記載の板状部品の洗浄装置であっ
   て、 前記流体供給手段は、洗浄液、水及び気体のうちで、前
   記処理流体を切り替えることを特徴とする板状部品の洗
   浄装置。
3. 【請求項３】請求項１または２記載の板状部品の洗浄装
   置であって、 前記洗浄板温度制御手段の温度制御によって、前記洗浄
   板の面内の中央部と外周部に、互いに温度が異なる領域
   が形成されることを特徴とする板状部品の洗浄装置。
4. 【請求項４】請求項１、２及び３のうちの何れか１項記
   載の板状部品の洗浄装置であって、 前記洗浄板温度制御手段は、 温度調整用部品として前記洗浄板に設けられた配管と、 前記配管に流体を送る流体供給手段と、 前記流体の温度を制御する流体温度制御手段とを備える
   ことを特徴とする板状部品の洗浄装置。
5. 【請求項５】請求項１、２及び３のうちの何れか１項記
   載の板状部品の洗浄装置であって、 前記洗浄板温度制御手段は、 温度調整用部品として前記洗浄板に設けられた熱電変換
   素子と、 前記電熱変換素子に印加される電流を制御する電流制御
   手段とを備えることを特徴とする板状部品の洗浄装置。
6. 【請求項６】請求項１、２及び３のうちの何れか１項記
   載の板状部品の洗浄装置であって、 前記洗浄板温度制御手段は、 温度調整用部品として前記洗浄板に設けられた抵抗線
   と、 前記抵抗線に印加される電圧を制御する電圧制御手段と
   を備えることを特徴とする板状部品の洗浄装置。
7. 【請求項７】請求項５または６記載の板状部品の洗浄装
   置であって、 前記温度調整用部品は、前記洗浄板の面内の中央部を中
   心として同心状に設けられたことを特徴とする板状部品
   の洗浄装置。
8. 【請求項８】請求項１、２、３、４、５、６および７の
   うちの何れか１項記載の板状部品の洗浄装置と、 前記洗浄装置による洗浄処理の前工程または後工程の処
   理を、前記板状部品に施すプロセス装置と、 前記洗浄装置と前記プロセス装置との間で前記板状部品
   を搬送する板状部品搬送手段と、 前記板状部品搬送手段により前記板状部品が搬送される
   搬送路を外部から遮蔽する搬送室とを備えたことを特徴
   とするシステム。