JPH11330651A - Flexible wiring board and production thereof - Google Patents

Flexible wiring board and production thereof

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JPH11330651A
JPH11330651A JP13305498A JP13305498A JPH11330651A JP H11330651 A JPH11330651 A JP H11330651A JP 13305498 A JP13305498 A JP 13305498A JP 13305498 A JP13305498 A JP 13305498A JP H11330651 A JPH11330651 A JP H11330651A
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JP
Japan
Prior art keywords
glass cloth
synthetic resin
cloth mesh
wiring board
flexible wiring
Prior art date
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Pending
Application number
JP13305498A
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Japanese (ja)
Inventor
Katsuhiro Murata
勝弘 村田
Mitsumasa Shibata
光正 芝田
Tetsuya Naoki
哲也 直木
Kenji Doi
研児 土井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Graphite Industries Ltd
Original Assignee
Nippon Graphite Industries Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To deal with heat treatment requirements severer than conventional ones by enhancing the dimensional stability of flexible wiring board furthermore the heat treatment required for connecting it with other element. SOLUTION: The flexible wiring board comprises a flexible base film 1 and a conductive pattern layer 4 provided thereon. The base film 1 has a synthetic resin film 2 and a glass cloth mesh 3 included therein. The conductive pattern layer 4 is formed of a copper foil circuit pattern, and a metal plating covering the surface of the circuit pattern. The base film 1 preferably comprises a pair of synthetic resin layers and an impregnated glass cloth mesh sandwiched between wherein the impregnated glass cloth mesh comprises a glass cloth mesh and a synthetic resin impregnating the glass cloth mesh.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フレキシブル配線
板およびその製造方法に関するものである。
The present invention relates to a flexible wiring board and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】フレキシブル配線板は、液晶表示素子の
電極端子部分と、プリント回路基板の電極端子部分とを
接続するのに用いられており、また、液晶表示素子の電
極端子部分と、プリント回路基板の電極端子部分とを接
続しつつ、更に液晶駆動用ICなどの電子素子をパッケ
ージするのに用いられている。従来、フレキシブル配線
板は、図4に概略的に示すように、可撓性のベースフィ
ルム10上に接着剤層11を設け、この上に銅箔をラミ
ネートし、銅箔をエッチングして銅箔製の回路パターン
を作製し、この回路パターンの表面にメッキを施し、導
電パターン4を形成していた。
2. Description of the Related Art A flexible wiring board is used to connect an electrode terminal portion of a liquid crystal display element to an electrode terminal portion of a printed circuit board. It is used to connect an electrode terminal portion of a substrate and further package an electronic element such as a liquid crystal driving IC. Conventionally, as shown schematically in FIG. 4, a flexible wiring board is provided with an adhesive layer 11 on a flexible base film 10, a copper foil is laminated thereon, and the copper foil is etched to form a copper foil. A conductive pattern 4 was formed by plating a surface of the circuit pattern.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来の方法により製造
されたフレキシブル配線板は、接着剤層11を含んでい
るので、フレキシブル配線板と他の電子素子とを接合す
るときに、接着剤の耐熱性の不足や熱収縮によって、フ
レキシブル配線板の寸法が変化しやすくなり、信頼性が
低下するという問題があった。また、電子部品の実装密
度が高くなるのにつれて、TCP(テープキャリアパッ
ケージ)としてICをパッケージする実装形態が採用さ
れるようになったことや、部品からの発熱が問題になっ
てきたことから、フレキシブル配線板には、従来以上の
耐熱性が要求されるようになっている。この要求には、
接着剤層11を含む3層フレキシブル配線板では、対応
できなくなってきた。更に、従来のフレキシブル配線板
では、接着剤層11の厚さが20μm程度あるので、フ
レキシブル配線板を薄くすることが困難である。この結
果、電子部品の高密度実装を達成する上で必要な、フレ
キシブル配線板の可撓性の向上や省スペース化を妨げて
いた。
Since the flexible wiring board manufactured by the conventional method includes the adhesive layer 11, when the flexible wiring board is joined to another electronic element, the heat resistance of the adhesive is reduced. Due to insufficient properties or thermal shrinkage, the dimensions of the flexible wiring board are likely to change, and there has been a problem that reliability is reduced. In addition, as the mounting density of electronic components has increased, mounting forms for packaging ICs as a TCP (tape carrier package) have been adopted, and heat generation from components has become a problem. Flexible wiring boards are required to have higher heat resistance than ever before. This request includes:
The three-layer flexible wiring board including the adhesive layer 11 cannot be used. Furthermore, in the conventional flexible wiring board, since the thickness of the adhesive layer 11 is about 20 μm, it is difficult to make the flexible wiring board thin. As a result, the improvement of the flexibility of the flexible wiring board and the space saving required for achieving high-density mounting of electronic components have been hindered.

【0004】本発明の課題は、フレキシブル配線板を他
の素子と接続する際に必要な熱処理に対する、フレキシ
ブル配線板の寸法安定性を一層向上させ、従来よりも激
しい熱処理条件にも対応できるようにすることである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to further improve the dimensional stability of a flexible wiring board with respect to the heat treatment required for connecting the flexible wiring board to another element, and to cope with heat treatment conditions that are more severe than in the past. It is to be.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者は(図1を参
照)、従来の接着剤層11を含む基本的に三層構造の三
層フレキシブル配線板に変わり、導電パターン層4と、
ガラスクロスメッシュ3を包含する合成樹脂2製のベー
スフィルム1とからなる二層の基本構造を有する二層フ
レキシブル配線板を想到し、この二層フレキシブル配線
板によれば、熱処理時の寸法安定性が著しく向上し、か
つ強度を高くできることを見いだし、本発明に到達し
た。
The present inventor (see FIG. 1) has replaced a conventional three-layer flexible wiring board having a basically three-layer structure including an adhesive layer 11 with a conductive pattern layer 4,
A two-layer flexible wiring board having a two-layer basic structure composed of a base film 1 made of a synthetic resin 2 including a glass cloth mesh 3 has been conceived, and according to this two-layer flexible wiring board, dimensional stability during heat treatment has been achieved. Has been found to be significantly improved and the strength can be increased, and the present invention has been achieved.

【0006】本発明のフレキシブル配線板を製造するに
は、銅箔の片面に、ガラスクロスメッシュが包含されて
いる合成樹脂皮膜からなるベースフィルムを形成し、次
いで銅箔をエッチングして回路パターンを形成し、この
回路パターンの表面を金属メッキして導電パターン層を
形成する。
To manufacture the flexible wiring board of the present invention, a base film made of a synthetic resin film containing a glass cloth mesh is formed on one side of a copper foil, and then the circuit pattern is formed by etching the copper foil. Then, the surface of the circuit pattern is plated with metal to form a conductive pattern layer.

【0007】特に好ましくは、合成樹脂を有機溶剤に混
合溶解し、固形分15〜20%、粘度50〜150ポイ
ズの皮膜形成用の合成樹脂塗料(a1)を製造する。こ
の皮膜形成用の塗料を銅箔上側面にコーティングし、加
熱乾燥し、図2に示すように第一のコーティング層6を
形成する。
Particularly preferably, a synthetic resin is mixed and dissolved in an organic solvent to produce a synthetic resin paint (a1) for forming a film having a solid content of 15 to 20% and a viscosity of 50 to 150 poise. This paint for forming a film is coated on the upper surface of the copper foil and dried by heating to form a first coating layer 6 as shown in FIG.

【0008】次いで、合成樹脂を有機溶剤に混合、溶解
し、固形分2%−8%、粘度5ポイズ−20ポイズの含
浸用の合成樹脂塗料(a2)を得る。この含浸用の塗料
(a2)をガラスクロスメッシュ3に含浸させ、加熱、
乾燥し、含浸ガラスクロスメッシュを製造する。特に好
ましくは、この含浸ガラスクロスメッシュ3を、再度、
合成樹脂に含浸させ、コーティング層6上に貼り合わ
せ、加熱、乾燥し、含浸ガラスクロスメッシュ7を形成
し、これによって強度が一層向上する。13は合成樹脂
である。この際、皮膜形成用塗料よりも含浸用塗料の方
を、固形分を少なくし、粘度を低くすることによって、
フレキシブル配線板の寸法安定性が一層向上する。
Next, the synthetic resin is mixed and dissolved in an organic solvent to obtain a synthetic resin paint (a2) for impregnation having a solid content of 2% -8% and a viscosity of 5-20 poise. The impregnating paint (a2) is impregnated into the glass cloth 3 and heated.
Dry to produce an impregnated glass cloth mesh. Particularly preferably, this impregnated glass cloth mesh 3 is again
It is impregnated with a synthetic resin, stuck on the coating layer 6, heated and dried to form an impregnated glass cloth mesh 7, whereby the strength is further improved. 13 is a synthetic resin. At this time, the impregnating paint is less solid than the film-forming paint, by lowering the viscosity,
The dimensional stability of the flexible wiring board is further improved.

【0009】更に、皮膜形成用の合成樹脂塗料(a1)
を、含浸ガラスクロスメッシュ7の上側面にコーティン
グし、加熱、乾燥し、第二のコーティング層8を形成
し、図2に示す積層体5を作製する。この積層体5を加
熱、乾燥し、ベースフィルム1を得る。
Further, a synthetic resin paint for forming a film (a1)
Is coated on the upper surface of the impregnated glass cloth mesh 7, heated and dried to form a second coating layer 8, thereby producing the laminate 5 shown in FIG. The laminate 5 is heated and dried to obtain the base film 1.

【0010】合成樹脂塗料(a1)(a2)における各
有機溶剤は、ジメチルアセトアミドおよびN−メチル−
2−ピロリドンからなる群より選ばれた一種以上の有機
溶剤であることが好ましい。
The organic solvents in the synthetic resin paints (a1) and (a2) are dimethylacetamide and N-methyl-
It is preferably at least one organic solvent selected from the group consisting of 2-pyrrolidone.

【0011】合成樹脂塗料(a1)(a2)における各
合成樹脂は、イミド化の完了したポリイミド樹脂である
ことが好ましい。
Each synthetic resin in the synthetic resin paints (a1) and (a2) is preferably a polyimide resin which has been imidized.

【0012】第一のコーティング層、第二のコーティン
グ層を形成する際には、好ましくは、各合成樹脂塗料を
コーティングした後に、各塗料を、それぞれ、100℃
−130℃の温度で仮乾燥し、次いで150℃−170
℃の温度で本乾燥する。また、含浸ガラスクロスメッシ
ュを作製する際には、好ましくは、ガラスクロスメッシ
ュに合成樹脂塗料を含浸させた後に、100℃−130
℃で乾燥する。含浸ガラスクロスメッシュを作製する段
階では、一段階の乾燥を行う方が、ベースフィルムの強
度が一層向上する。次いで、特に好ましくは、積層体5
を作製した後に、積層体5を150℃−180℃で加熱
処理し、更に230℃−250℃で加熱処理することに
よって、ベースフィルム1を形成する。
When forming the first coating layer and the second coating layer, preferably, after coating each synthetic resin coating, each coating is heated to 100 ° C.
Preliminary drying at a temperature of -130 ° C, then 150-170 ° C
Main drying at a temperature of ° C. When producing the impregnated glass cloth mesh, preferably, the glass cloth mesh is impregnated with a synthetic resin paint,
Dry at ℃. In the stage of producing the impregnated glass cloth mesh, performing the one-stage drying further improves the strength of the base film. Then, particularly preferably, the laminate 5
, The laminate 5 is heat-treated at 150 ° C. to 180 ° C., and further heat-treated at 230 ° C. to 250 ° C. to form the base film 1.

【0013】次に、図1に示すように、銅箔のベースフ
ィルムを形成した面とは別の面に、フォトエッチング法
により、銅の回路パターンを形成し、銅回路パターン上
に金属メッキをして導電パターン層4を形成する。この
結果、ベースフィルム1と導電パターン4からなる2層
フレキシブル配線板を製造する。金属メッキとしては、
スズ、ニッケル、ニッケル−金、半田(Sn/Pb=
6:4)、半田(Sn/Pb=9:1)が好ましい。
Next, as shown in FIG. 1, a copper circuit pattern is formed by a photoetching method on a surface different from the surface on which the copper foil base film is formed, and metal plating is performed on the copper circuit pattern. Thus, the conductive pattern layer 4 is formed. As a result, a two-layer flexible wiring board including the base film 1 and the conductive pattern 4 is manufactured. As metal plating,
Tin, nickel, nickel-gold, solder (Sn / Pb =
6: 4) and solder (Sn / Pb = 9: 1) are preferable.

【0014】必要に応じて、導電パターン層4を含むベ
ースフィルム1上に、所定のパターンにて形成された絶
縁層を形成することができる。
If necessary, an insulating layer formed in a predetermined pattern can be formed on the base film 1 including the conductive pattern layer 4.

【0015】例えば、図3に示すように、必要に応じ
て、(c)合成樹脂10〜30重量%、および、(d)
有機溶剤70〜90重量%からなる、絶縁性レジストイ
ンクあるいはエポキシ系レジストインクを、スクリーン
印刷法によって、ベースフィルム1上に、導電パターン
層4の表面の一部を被覆するように印刷し、加熱乾燥
し、絶縁レジスト層9を形成する。
For example, as shown in FIG. 3, if necessary, (c) 10 to 30% by weight of the synthetic resin, and (d)
An insulating resist ink or an epoxy resist ink composed of 70 to 90% by weight of an organic solvent is printed on the base film 1 by a screen printing method so as to cover a part of the surface of the conductive pattern layer 4, and heated. After drying, an insulating resist layer 9 is formed.

【0016】(c)における合成樹脂としては、イミド
化の完了したポリイミド樹脂が特に好ましい。(d)に
おける有機溶剤としては、ジメチルアセトアミドまた
は、N−メチル−2−ピロリドンの1種以上から成る有
機溶剤が特に好ましい。
As the synthetic resin in (c), a polyimide resin which has been completely imidized is particularly preferable. As the organic solvent in (d), an organic solvent composed of at least one of dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone is particularly preferable.

【0017】ガラスクロスメッシュとしては、イミド樹
脂との親和性を高めるように表面処理されたガラス繊維
により構成された、ガラスクロスメッシュであることが
好ましい。好ましくは、このガラスクロスメッシュは、
繊維密度40−70本/25mmのメッシュであり、繊
維の織り方は平織あるいは綾織が好ましく、ベースフィ
ルムの寸法安定性および強度を維持する効果を発揮する
メッシュである。
The glass cloth mesh is preferably a glass cloth mesh made of glass fibers whose surface has been treated so as to increase the affinity with the imide resin. Preferably, the glass cloth mesh is
The mesh has a fiber density of 40 to 70 fibers / 25 mm, and the weave of the fibers is preferably a plain weave or a twill weave, and is a mesh exhibiting the effect of maintaining the dimensional stability and strength of the base film.

【0018】[0018]

【実施例】[各フレキシブル配線板の製造] (実施例1)イミド化の完了したポリイミド樹脂15重
量%を、N−メチル−2−ピロリドン85重量%に混合
し、溶解し、固形分15%、粘度98ポイズのポリイミ
ド樹脂塗料(a1)を得た。この塗料(a1)を、厚さ
18μmの電解銅箔の片面の全面にコーティングし、遠
赤炉にて120℃で仮乾燥し、遠赤炉にて170℃で本
乾燥し、厚さ8μmのポリイミド樹脂からなる第一のコ
ーティング層6を形成した。次に、イミド化の完了した
ポリイミド樹脂3重量%を、N−メチル−2−ピロリド
ン97重量%に混合し、溶解し、ポリイミド樹脂塗料
(a2)を得た。この塗料(a2)を、ガラスクロスメ
ッシュに含浸させ、乾燥させ、ポリイミド樹脂含浸クロ
スを製造した。このポリイミド樹脂含浸クロスを、再
度、前記ポリイミド樹脂塗料(a2)に含浸させ、前記
コーティング層6上に貼り合わせ、遠赤炉にて120℃
で加熱乾燥し、厚さ42μmの含浸ガラスクロスメッシ
ュ7を作製した。
EXAMPLES [Manufacture of Flexible Wiring Boards] (Example 1) 15% by weight of a polyimide resin which has been imidized is mixed with 85% by weight of N-methyl-2-pyrrolidone, dissolved and solid content is 15%. Thus, a polyimide resin paint (a1) having a viscosity of 98 poise was obtained. This paint (a1) is coated on the entire surface of one side of an electrolytic copper foil having a thickness of 18 μm, preliminarily dried at 120 ° C. in a far-infrared furnace, and finally dried at 170 ° C. in a far-infrared furnace. A first coating layer 6 made of a polyimide resin was formed. Next, 3% by weight of the imidized polyimide resin was mixed with 97% by weight of N-methyl-2-pyrrolidone and dissolved to obtain a polyimide resin paint (a2). The paint (a2) was impregnated into a glass cloth mesh and dried to produce a polyimide resin impregnated cloth. This polyimide resin impregnated cloth is again impregnated with the polyimide resin coating material (a2), bonded on the coating layer 6, and heated at 120 ° C. in a far-infrared furnace.
And dried by heating to produce an impregnated glass cloth mesh 7 having a thickness of 42 μm.

【0019】更に、上で製造したポリイミド樹脂塗料
(a1)を、含浸ガラスクロスメッシュ7上の全面にコ
ーティングし、遠赤炉にて120℃で仮乾燥し、遠赤炉
にて170℃で本乾燥し、コーティング層8を形成し
た。次いで、積層体5を、銅箔とともに、電気炉にて1
50℃で2時間加熱処理し、更に電気炉にて230℃で
2時間加熱処理し、2層の合成樹脂層と一層の含浸ガラ
スクロスメッシュからなる厚さ52μmのベースフィル
ム1を作製した。次に、銅箔のうち、ベースフィルム1
を形成した面とは別の面に、フォトエッチング法によ
り、銅の回路パターンを形成し、この銅回路パターン上
にスズメッキを施し、導電パターン層4を形成した。
Further, the polyimide resin paint (a1) prepared above is coated on the entire surface of the impregnated glass cloth mesh 7, preliminarily dried at 120 ° C. in a far-infrared furnace, and dried at 170 ° C. in a far-infrared furnace. It dried and the coating layer 8 was formed. Next, the laminate 5 is put together with a copper foil in an electric furnace for 1 hour.
Heat treatment was performed at 50 ° C. for 2 hours, and further heat treatment was performed at 230 ° C. for 2 hours in an electric furnace to produce a 52 μm-thick base film 1 composed of two synthetic resin layers and one layer of impregnated glass cloth mesh. Next, of the copper foil, the base film 1
A copper circuit pattern was formed on a surface different from the surface on which was formed by photoetching, and tin plating was performed on the copper circuit pattern to form a conductive pattern layer 4.

【0020】このようにして形成した、ベースフィルム
層1と導電パターン層4から成る2層フレキシブル配線
板を、所定の長さおよび幅に切断した。
The thus-formed two-layer flexible wiring board comprising the base film layer 1 and the conductive pattern layer 4 was cut into a predetermined length and width.

【0021】(実施例2)実施例1において、第一のコ
ーティング層6を形成した後、ポリイミド樹脂塗料(a
1)を、コーティング層6の全面にコーティングし、こ
の上にガラスクロスメッシュを貼り合わせ、遠赤炉にて
120℃で仮乾燥し、遠赤炉にて170℃で加熱乾燥す
ることによって、ガラスクロスメッシュ層を形成した。
これ以外は、全く実施例1と同じようにして、2層フレ
キシブル配線板を製造した。
Example 2 In Example 1, after forming the first coating layer 6, the polyimide resin paint (a
1) is coated on the entire surface of the coating layer 6, a glass cloth mesh is stuck thereon, and temporarily dried at 120 ° C. in a far-infrared furnace, and dried by heating at 170 ° C. in a far-infrared furnace. A cross mesh layer was formed.
Except for this, a two-layer flexible wiring board was manufactured in exactly the same manner as in Example 1.

【0022】(実施例3)実施例1において、ガラスク
ロスメッシュにポリイミド樹脂塗料(a2)を含浸させ
た後、ガラスクロスを乾燥させず、含浸を1回だけとし
た。これ以外は全く実施例1と同様にして、2層フレキ
シブル配線板を製造した。
Example 3 In Example 1, after the glass cloth mesh was impregnated with the polyimide resin paint (a2), the glass cloth was not dried, and the impregnation was performed only once. Except for this point, a two-layer flexible wiring board was manufactured in the same manner as in Example 1.

【0023】(比較例1)図4に示す従来の3層フレキ
シブル配線板を使用した。ただし、ベースフィルム10
は、イミド化の完了したポリイミド樹脂からなる。接着
剤層11は、エポキシ系熱硬化性樹脂からなる。
Comparative Example 1 The conventional three-layer flexible wiring board shown in FIG. 4 was used. However, the base film 10
Consists of a polyimide resin that has been imidized. The adhesive layer 11 is made of an epoxy-based thermosetting resin.

【0024】(評価)実施例で製造した2層フレキシブ
ル配線板と、比較例で製造した3層フレキシブル配線板
について、寸法安定性および耐折強度を測定し、表1に
示す結果を得た。寸法安定性については、回路パターン
のトータルピッチを測定し、規定寸法に対して伸びた割
合を示している、耐折強度については、MIT式によ
り、銅箔を除去したベースフィルムを所定の大きさに切
断し、荷重0.5kgf、折り曲げ角度135℃、速度
175cpmで、角屈曲半径での切断するまでの回数を
測定した。
(Evaluation) The dimensional stability and bending strength of the two-layer flexible wiring board manufactured in the example and the three-layer flexible wiring board manufactured in the comparative example were measured, and the results shown in Table 1 were obtained. For dimensional stability, the total pitch of the circuit pattern was measured, and the ratio of elongation to the specified size was shown. For the bending strength, the base film from which the copper foil had been removed by the MIT method was a predetermined size. At a load of 0.5 kgf, a bending angle of 135 ° C., and a speed of 175 cpm, and the number of cuts at an angular bending radius was measured.

【0025】[0025]

【表1】 [Table 1]

【0026】実施例1では、寸法安定性、耐折強度と
も、顕著に改善されていた。実施例2では、実施例1よ
りは劣るが、好ましい特性が得られた。実施例3では、
寸法安定性については実施例1と遜色なかったが、強度
については若干低下していた。
In Example 1, both dimensional stability and bending strength were remarkably improved. Example 2 was inferior to Example 1, but had favorable characteristics. In the third embodiment,
The dimensional stability was comparable to that of Example 1, but the strength was slightly reduced.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明により製造されたフレキシブル配
線板は、従来の3層フレキブル配線板では対応できなか
った耐熱性や寸法安定性について、対応可能となった。
また、フレキシブル配線板から接着剤層を使用する必要
をなくしたことによって、可撓性が向上し、フレキシブ
ル配線板を薄くできるようになった。
According to the present invention, the flexible wiring board manufactured according to the present invention is able to cope with heat resistance and dimensional stability which cannot be handled by the conventional three-layer flexible wiring board.
Further, by eliminating the need to use an adhesive layer from the flexible wiring board, the flexibility is improved, and the flexible wiring board can be made thinner.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施形態に係る2層フレキシブル配
線板を概略的に示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view schematically showing a two-layer flexible wiring board according to an embodiment of the present invention.

【図2】第一のコーティング層6、含浸ガラスクロスメ
ッシュ7および第三のコーティング層8からなる積層体
5を概略的に示す斜視図である。
FIG. 2 is a perspective view schematically showing a laminate 5 including a first coating layer 6, an impregnated glass cloth mesh 7, and a third coating layer 8.

【図3】本発明の他の実施形態に係る2層フレキシブル
配線板を概略的に示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view schematically showing a two-layer flexible wiring board according to another embodiment of the present invention.

【図4】従来の3層フレキシブル配線板を概略的に示す
斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view schematically showing a conventional three-layer flexible wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ベースフィルム 2 合成樹脂皮膜 3 ガラスクロスメッシュ 4 導電パターン層 5 積層体 6 第一のコーティング層 7 含浸ガラスクロスメッシュ 8 第二のコーティング層 9 絶縁層 13 含浸されている合成樹脂 Reference Signs List 1 base film 2 synthetic resin film 3 glass cloth mesh 4 conductive pattern layer 5 laminated body 6 first coating layer 7 impregnated glass cloth mesh 8 second coating layer 9 insulating layer 13 impregnated synthetic resin

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 土井 研児 滋賀県大津市唐橋町9番22号 日本黒鉛工 業株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Kenji Doi 9-22, Karabashi-cho, Otsu-shi, Shiga Japan Graphite Industry Co., Ltd.

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 合成樹脂皮膜およびこの合成樹脂皮膜中
に包含されているガラスクロスメッシュを備えている可
撓性のベースフィルムと、前記ベースフィルム上に設け
られている導電パターン層であって、銅箔製の回路パタ
ーンおよびこの回路パターンの表面を覆う金属メッキに
よって形成されている導電パターン層とを備えているこ
とを特徴とする、フレキシブル配線板。
1. A flexible base film comprising a synthetic resin film and a glass cloth mesh contained in the synthetic resin film, and a conductive pattern layer provided on the base film, A flexible wiring board, comprising: a copper foil circuit pattern; and a conductive pattern layer formed by metal plating that covers a surface of the circuit pattern.
【請求項2】 前記ベースフィルムが、一対の合成樹脂
層と、一対の合成樹脂層の間に挟まれている含浸ガラス
クロスメッシュとを備えており、この含浸ガラスクロス
メッシュが、前記ガラスクロスメッシュと、このガラス
クロスメッシュ中に含浸されている合成樹脂とからなる
ことを特徴とする、請求項1記載のフレキシブル配線
板。
2. The base film includes a pair of synthetic resin layers and an impregnated glass cloth mesh sandwiched between the pair of synthetic resin layers, and the impregnated glass cloth mesh is formed of the glass cloth mesh. 2. The flexible wiring board according to claim 1, wherein said flexible wiring board comprises: a synthetic resin impregnated in said glass cloth mesh.
【請求項3】 銅箔の片面に、ガラスクロスメッシュが
包含されている合成樹脂皮膜からなるベースフィルムを
形成し、次いで前記銅箔をエッチングして回路パターン
を形成し、この回路パターンの表面を金属メッキして導
電パターン層を形成することを特徴とする、フレキシブ
ル配線板の製造方法。
3. A base film made of a synthetic resin film containing a glass cloth mesh is formed on one side of a copper foil, and then the copper foil is etched to form a circuit pattern. A method for manufacturing a flexible wiring board, comprising forming a conductive pattern layer by metal plating.
【請求項4】 前記銅箔の前記片面に、合成樹脂塗料を
コーティングし、加熱乾燥して第一のコーティング層を
形成し、前記ガラスクロスメッシュに合成樹脂塗料を含
浸させ、加熱乾燥させて含浸ガラスクロスメッシュを作
製し、この含浸ガラスクロスメッシュを前記第一のコー
ティング層上に配置し、次いで前記含浸ガラスクロスメ
ッシュ上に合成樹脂塗料をコーティングし、加熱乾燥し
て第二のコーティング層を形成して積層体を得、この積
層体を加熱乾燥して前記ベースフィルムを作製すること
を特徴とする、フレキシブル配線板の製造方法。
4. A method for coating said one side of said copper foil with a synthetic resin paint, heating and drying to form a first coating layer, impregnating said glass cloth mesh with a synthetic resin paint, and heating and drying to impregnate said copper cloth. Prepare a glass cloth mesh, place this impregnated glass cloth mesh on the first coating layer, then coat a synthetic resin paint on the impregnated glass cloth mesh, heat and dry to form a second coating layer And obtaining a laminate by heating and drying the laminate to produce the base film.
【請求項5】 前記ガラスクロスメッシュに合成樹脂塗
料を含浸させ、加熱乾燥させる工程を、二回以上繰り返
すことを特徴とする、請求項4記載のフレキシブル配線
板の製造方法。
5. The method for producing a flexible wiring board according to claim 4, wherein the step of impregnating the glass cloth mesh with a synthetic resin paint and heating and drying is repeated twice or more.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2005303243A (en) * 2004-03-15 2005-10-27 Hitachi Chem Co Ltd Printed circuit board
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JP2010195030A (en) * 2009-01-28 2010-09-09 Hitachi Chem Co Ltd Double-sided metal foil-clad laminated plate and flexible printed wiring board
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