JPH11327455A - フラットディスプレイスクリ―ン密封壁の下の導電路 - Google Patents
フラットディスプレイスクリ―ン密封壁の下の導電路Info
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- JPH11327455A JPH11327455A JP11083587A JP8358799A JPH11327455A JP H11327455 A JPH11327455 A JP H11327455A JP 11083587 A JP11083587 A JP 11083587A JP 8358799 A JP8358799 A JP 8358799A JP H11327455 A JPH11327455 A JP H11327455A
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- H01J31/08—Cathode ray tubes; Electron beam tubes having a screen on or from which an image or pattern is formed, picked up, converted, or stored
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- Cathode-Ray Tubes And Fluorescent Screens For Display (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 密封壁の下にあるグリッド導電体の渡しに接
続される、スクリーンの内側と外側との間の漏れのリス
クを抑制する、新しいマイクロチップスクリーンを提供
する。 【解決手段】 実質的に薄い周辺シールの下にある薄い
厚さの導電行を用いて、フラットスクリーンの内部空間
と外側との間に電気接続部を備えており、容易にその伸
縮をなす開口作動構造を含んでおり、該開口作動構造
は、電気接続部が非直線導電部分を有するようなもので
ある。また、カソード導体を覆う絶縁層上にデポジット
された行を形成したフラットマイクロチップスクリーン
グリッドを備えており、各グリッド行は、少なくとも１
つの電気接続部を備えている。
続される、スクリーンの内側と外側との間の漏れのリス
クを抑制する、新しいマイクロチップスクリーンを提供
する。 【解決手段】 実質的に薄い周辺シールの下にある薄い
厚さの導電行を用いて、フラットスクリーンの内部空間
と外側との間に電気接続部を備えており、容易にその伸
縮をなす開口作動構造を含んでおり、該開口作動構造
は、電気接続部が非直線導電部分を有するようなもので
ある。また、カソード導体を覆う絶縁層上にデポジット
された行を形成したフラットマイクロチップスクリーン
グリッドを備えており、各グリッド行は、少なくとも１
つの電気接続部を備えている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フラットディスプ
レイスクリーンに関する。詳細には、スクリーンの底部
及び表面をそれぞれ形成する２つのプレートによって規
定されたタイトなチャンバの内側と外側との間の電気接
続部の渡りに関する。
レイスクリーンに関する。詳細には、スクリーンの底部
及び表面をそれぞれ形成する２つのプレートによって規
定されたタイトなチャンバの内側と外側との間の電気接
続部の渡りに関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、フラットスクリーンは、ガラスか
ら作られ、一般に矩形状の２つの外部プレートから形成
される。一方のプレートはスクリーン表面を形成し、他
方のプレートは、例えば放射手段を備えたスクリーン底
部を形成する。２つのプレートは、互いに分離して空間
を維持するべく、シールを用いて組み立てられる。電界
効果ディスプレイ（ＦＥＤ）若しくはマイクロチップス
クリーン又は真空蛍光ディスプレイ（ＶＦＤ）について
は、２つのガラスプレートを分離する空間内に真空を作
り、プラズマスクリーンについては、この空間が低圧ガ
スで充填される。
ら作られ、一般に矩形状の２つの外部プレートから形成
される。一方のプレートはスクリーン表面を形成し、他
方のプレートは、例えば放射手段を備えたスクリーン底
部を形成する。２つのプレートは、互いに分離して空間
を維持するべく、シールを用いて組み立てられる。電界
効果ディスプレイ（ＦＥＤ）若しくはマイクロチップス
クリーン又は真空蛍光ディスプレイ（ＶＦＤ）について
は、２つのガラスプレートを分離する空間内に真空を作
り、プラズマスクリーンについては、この空間が低圧ガ
スで充填される。
【０００３】この説明を簡単にするために、マイクロチ
ップスクリーンだけが、以下で議論される。しかし、本
発明は、一般に、種々の前述したディスプレイのタイプ
等に関することに注意すべきである。
ップスクリーンだけが、以下で議論される。しかし、本
発明は、一般に、種々の前述したディスプレイのタイプ
等に関することに注意すべきである。
【０００４】図１Ａ及び図１Ｂは、従来のマイクロチッ
プスクリーンの構造を部分的に且つ概略的に表してい
る。図１Ａは断面図である。図１Ｂは、図１Ａの線Ｂ−
Ｂ’に沿った平面図である。
プスクリーンの構造を部分的に且つ概略的に表してい
る。図１Ａは断面図である。図１Ｂは、図１Ａの線Ｂ−
Ｂ’に沿った平面図である。
【０００５】このようなマイクロチップスクリーンは、
実質的に、マイクロチップ３及びグリッド４を有するカ
ソードの、例えばガラスから作られた第１の基板１（図
１Ａ）上に形成される。カソード−グリッドは、一般に
透過スクリーン表面を形成する、例えばガラスの第２の
基板６上に作られたカソード発光アノード５と反対に配
置される。
実質的に、マイクロチップ３及びグリッド４を有するカ
ソードの、例えばガラスから作られた第１の基板１（図
１Ａ）上に形成される。カソード−グリッドは、一般に
透過スクリーン表面を形成する、例えばガラスの第２の
基板６上に作られたカソード発光アノード５と反対に配
置される。
【０００６】このようなスクリーンの動作原理及び構造
の詳細は、例えばコミッサリア タレネルジー アトミ
ークに譲渡された米国特許第４，９４０，９１７号に記
載されている。
の詳細は、例えばコミッサリア タレネルジー アトミ
ークに譲渡された米国特許第４，９４０，９１７号に記
載されている。
【０００７】カソード−グリッド２−４とアノード５と
は、２つの基板１と６との上に離れて作られ、続いて周
辺シール又は密封壁７を用いて組み立てられる。基板１
及び６は、カソード２からアノード５へ電子の循環のた
めの空間８を規定する。
は、２つの基板１と６との上に離れて作られ、続いて周
辺シール又は密封壁７を用いて組み立てられる。基板１
及び６は、カソード２からアノード５へ電子の循環のた
めの空間８を規定する。
【０００８】カソード２は、複数列９で構成され、基板
１上で、導電層を網状に配置したカソード導体を含む。
マイクロチップ３は、一般にカソード導体上にデポジッ
トされた抵抗層上に作られ、カソード導体によって規定
された網の内側に配置される。図１Ａにおいて、カソー
ド導体及び抵抗層は、異なる列でも同じ共通符号９で示
されている。グリッド４は、（例えばシリコン酸化物
（SiO２）から作られた）絶縁層１１上にデポジットさ
れた導電行１０（図１Ｂ）に構成される。ホール１２
は、各マイクロチップ３を受け入れるために、グリッド
４の行１０と絶縁層１１とに形成される。グリッド４の
１つの行とカソード２の１つの列との交点は、一般にス
クリーンピクセルを規定する。
１上で、導電層を網状に配置したカソード導体を含む。
マイクロチップ３は、一般にカソード導体上にデポジッ
トされた抵抗層上に作られ、カソード導体によって規定
された網の内側に配置される。図１Ａにおいて、カソー
ド導体及び抵抗層は、異なる列でも同じ共通符号９で示
されている。グリッド４は、（例えばシリコン酸化物
（SiO２）から作られた）絶縁層１１上にデポジットさ
れた導電行１０（図１Ｂ）に構成される。ホール１２
は、各マイクロチップ３を受け入れるために、グリッド
４の行１０と絶縁層１１とに形成される。グリッド４の
１つの行とカソード２の１つの列との交点は、一般にス
クリーンピクセルを規定する。
【０００９】アノード側において、蛍光素子（図示な
し）は、一般に透過導電層に形成された電極上にデポジ
ットされており、カソードによって放射された電子によ
って励起される。明らかにするために、アノード及びそ
の全ての部品は、図１Ａの通常の参照符号５で示されて
いる。
し）は、一般に透過導電層に形成された電極上にデポジ
ットされており、カソードによって放射された電子によ
って励起される。明らかにするために、アノード及びそ
の全ての部品は、図１Ａの通常の参照符号５で示されて
いる。
【００１０】カソード２、グリッド４及びアノード５の
種々の導体を適切にバイアス（アドレス）するために、
これら導体は、一般に可溶ガラスコードである密封壁７
によって閉じられたチャンバの外側からアクセスできる
ようにしなければならない。
種々の導体を適切にバイアス（アドレス）するために、
これら導体は、一般に可溶ガラスコードである密封壁７
によって閉じられたチャンバの外側からアクセスできる
ようにしなければならない。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】密封壁の通路で生じる
問題は、壁の上部及び下部の材料の非常に異なる特性の
ために起こる。この問題は、本質的に、カソード−グリ
ッド側のスタックの上部にあるグリッド４の行１０に対
して生じる。
問題は、壁の上部及び下部の材料の非常に異なる特性の
ために起こる。この問題は、本質的に、カソード−グリ
ッド側のスタックの上部にあるグリッド４の行１０に対
して生じる。
【００１２】約１マイクロメータの厚さを有する層１１
を構成するシリコン酸化物と、１マイクロメータ未満の
厚さを有するグリッド層４を構成する、一般にニオブで
ある金属と、数百マイクロメータの厚さを有する密封壁
７を構成する（一般に可溶ガラスである）材料とがあ
る。これら層の材料の間の大きい厚さの差に関連する、
材料の固有の特性の差は、結果として、グリッド行とカ
ソード列との間の絶縁の層１１を構成するシリコン酸化
物内にクラックを生じる応力となる。このようなクラッ
クは、密封壁のどちらか一方の壁上に伸長でき、真空の
下での内側と、スクリーンの外側との間で漏れを生じ
る。
を構成するシリコン酸化物と、１マイクロメータ未満の
厚さを有するグリッド層４を構成する、一般にニオブで
ある金属と、数百マイクロメータの厚さを有する密封壁
７を構成する（一般に可溶ガラスである）材料とがあ
る。これら層の材料の間の大きい厚さの差に関連する、
材料の固有の特性の差は、結果として、グリッド行とカ
ソード列との間の絶縁の層１１を構成するシリコン酸化
物内にクラックを生じる応力となる。このようなクラッ
クは、密封壁のどちらか一方の壁上に伸長でき、真空の
下での内側と、スクリーンの外側との間で漏れを生じ
る。
【００１３】応力は、本質的に、密封壁の下でスタック
を形成する材料の間の、異なる熱伸縮効率に起因する。
従って、高温度で可溶なガラスコードの追加の上で、前
述の欠点が現れる。
を形成する材料の間の、異なる熱伸縮効率に起因する。
従って、高温度で可溶なガラスコードの追加の上で、前
述の欠点が現れる。
【００１４】別の問題が、グリッド４の列１０に対して
生じる。実際に、従来のスクリーンにおいて、グリッド
４の列１０を構成する導電層は、カソード−グリッドプ
レート１上にデポジットされた最後の層である。従っ
て、壁７を構成する可溶ガラスは、外側に対して行１０
の接続の端部即ち伸長部１０′上に直接デポジットされ
ている。通常、グリッド行はニオブから形成され、シー
ル７を構成するガラスによってニオブのエッチングが観
測される。これは、結果として、スクリーンの内側と外
側との間にいくつかの行１０の遮断のためにスクリーン
故障のリスクを生じる。
生じる。実際に、従来のスクリーンにおいて、グリッド
４の列１０を構成する導電層は、カソード−グリッドプ
レート１上にデポジットされた最後の層である。従っ
て、壁７を構成する可溶ガラスは、外側に対して行１０
の接続の端部即ち伸長部１０′上に直接デポジットされ
ている。通常、グリッド行はニオブから形成され、シー
ル７を構成するガラスによってニオブのエッチングが観
測される。これは、結果として、スクリーンの内側と外
側との間にいくつかの行１０の遮断のためにスクリーン
故障のリスクを生じる。
【００１５】本発明は、スクリーンの内側と外側との間
の導電路の渡しに関連する、従来のスクリーンの不都合
な点を克服することを目的とする。
の導電路の渡しに関連する、従来のスクリーンの不都合
な点を克服することを目的とする。
【００１６】本発明は、特に、密封壁の下にあるグリッ
ド導電体の渡しに接続される、スクリーンの内側と外側
との間の漏れのリスクを抑制する、新しいマイクロチッ
プスクリーンを提供することである。
ド導電体の渡しに接続される、スクリーンの内側と外側
との間の漏れのリスクを抑制する、新しいマイクロチッ
プスクリーンを提供することである。
【００１７】本発明は、更に、従来のマクロチップスク
リーンの製造及び密封方法でもたらされる修正を最小に
する解決策を提供することを目的とする。
リーンの製造及び密封方法でもたらされる修正を最小に
する解決策を提供することを目的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】これらの目的を達成する
ために、本発明は、実質的に薄い周辺シールの下にある
薄い厚さの導電行を用いて、フラットスクリーンの内部
空間と外側との間に電気接続部を備えており、容易にそ
の伸縮をなす開口作動構造を含んでおり、該開口作動構
造は、電気接続部が非直線導電部分を有するようなもの
である。
ために、本発明は、実質的に薄い周辺シールの下にある
薄い厚さの導電行を用いて、フラットスクリーンの内部
空間と外側との間に電気接続部を備えており、容易にそ
の伸縮をなす開口作動構造を含んでおり、該開口作動構
造は、電気接続部が非直線導電部分を有するようなもの
である。
【００１９】本発明は、更に、カソード導体を覆う絶縁
層上にデポジットされた行を形成したフラットマイクロ
チップスクリーングリッドを備えており、各グリッド行
は、少なくとも１つの電気接続部を備えている。
層上にデポジットされた行を形成したフラットマイクロ
チップスクリーングリッドを備えており、各グリッド行
は、少なくとも１つの電気接続部を備えている。
【００２０】本発明の一実施形態によれば、グリッドは
クロムから作られる。
クロムから作られる。
【００２１】本発明の一実施形態によれば、各行は活性
スクリーン領域についてニオブから作られ、各電気接続
部はクロムから作られる。
スクリーン領域についてニオブから作られ、各電気接続
部はクロムから作られる。
【００２２】本発明は、更に、カソード発光アノードを
衝撃するためのマイクロチップを有するカソードと、グ
リッドとを含むタイプのフラットディスプレイスクリー
ンを備えている。
衝撃するためのマイクロチップを有するカソードと、グ
リッドとを含むタイプのフラットディスプレイスクリー
ンを備えている。
【００２３】本発明の前述の目的、特徴及び利点は、添
付図面と共に、以下の限定しない特定の実施形態の詳細
な説明の中で議論される。
付図面と共に、以下の限定しない特定の実施形態の詳細
な説明の中で議論される。
【００２４】
【発明の実施の形態】同一構成要素は、異なる図面にお
いても同一参照符号で示される。明らかにするために、
図面の表現は同一縮尺ではなく、本発明の理解に必要と
なる構成要素のみが図面に表され、以下で説明される。
いても同一参照符号で示される。明らかにするために、
図面の表現は同一縮尺ではなく、本発明の理解に必要と
なる構成要素のみが図面に表され、以下で説明される。
【００２５】本発明の特徴は、外側から内側のスクリー
ン空間を分離する密封壁の下で、導電行、ここではグリ
ッド行の伸縮を助けることにある。このために、本発明
は、密封壁の下でこれら行の部分のグリッド行を構成す
る導電層に開口をなすように提供する。
ン空間を分離する密封壁の下で、導電行、ここではグリ
ッド行の伸縮を助けることにある。このために、本発明
は、密封壁の下でこれら行の部分のグリッド行を構成す
る導電層に開口をなすように提供する。
【００２６】図２は、本発明の第１の実施形態の平面図
である。この図面は、フラットマイクロチップスクリー
ンのカソード−グリッドを支持するプレート１を概略的
に表している。スクリーンカソードは、従来のスクリー
ンのカソードと同じである。図２において、カソード列
９は破線で説明されている。
である。この図面は、フラットマイクロチップスクリー
ンのカソード−グリッドを支持するプレート１を概略的
に表している。スクリーンカソードは、従来のスクリー
ンのカソードと同じである。図２において、カソード列
９は破線で説明されている。
【００２７】活性スクリーン領域において、即ちマイク
ロチップを含む領域において、グリッド行１０は、従来
のスクリーンのグリッド行と同じであり、即ちそれらは
マイクロチップの上部にホール１２を含む。明らかにす
るために、ピクセル当たり２マイクロチップのみが図面
に表されているけれども、これらマイクロチップ及びグ
リッドの対応するホール１２は、スクリーンピクセル当
たり数千個あることに注意すべきである。
ロチップを含む領域において、グリッド行１０は、従来
のスクリーンのグリッド行と同じであり、即ちそれらは
マイクロチップの上部にホール１２を含む。明らかにす
るために、ピクセル当たり２マイクロチップのみが図面
に表されているけれども、これらマイクロチップ及びグ
リッドの対応するホール１２は、スクリーンピクセル当
たり数千個あることに注意すべきである。
【００２８】本発明によれば、スクリーン密封壁７の下
部で渡す固体となる代わりに、行１０は、これらの伸縮
を可能にするために開口作動がされ、従ってそれらに与
えられる応力を最小にする。従って、これらの長さ部分
３０において、グリッド行１０は、網を形成するために
分散された開口３１を示しており、一方でシール７のど
ちらか一方の側上で電気的導通を補償する。
部で渡す固体となる代わりに、行１０は、これらの伸縮
を可能にするために開口作動がされ、従ってそれらに与
えられる応力を最小にする。従って、これらの長さ部分
３０において、グリッド行１０は、網を形成するために
分散された開口３１を示しており、一方でシール７のど
ちらか一方の側上で電気的導通を補償する。
【００２９】好ましくは、図５に関して以下に表された
ように、グリッド行の領域３０内に作られた開口３１の
パターンは、これら行がいずれの直線導電部分をも有さ
ないようになり、それらの長さ又はそれらの幅の通常の
方向にそれをなす。従って、密封壁の上部のグリッド行
において起こりうる応力伝播は、更に削減される。
ように、グリッド行の領域３０内に作られた開口３１の
パターンは、これら行がいずれの直線導電部分をも有さ
ないようになり、それらの長さ又はそれらの幅の通常の
方向にそれをなす。従って、密封壁の上部のグリッド行
において起こりうる応力伝播は、更に削減される。
【００３０】図２に関連して説明された実施形態の利点
は、本フラットスクリーン製造方法と完全に互換性があ
ることである。従って、図２の実施形態において、グリ
ッド行１０は例えばニオブから作られる。
は、本フラットスクリーン製造方法と完全に互換性があ
ることである。従って、図２の実施形態において、グリ
ッド行１０は例えばニオブから作られる。
【００３１】図３及び図４は、本発明の第２の実施形態
を説明する。図３は、密封壁の下の部分的な断面図であ
る。図４は、図２の平面図と同じ図である。
を説明する。図３は、密封壁の下の部分的な断面図であ
る。図４は、図２の平面図と同じ図である。
【００３２】この実施形態の特徴は、密封壁７の下で実
質的なグリッド行の領域３０において、異なる導電材料
から作られたセクション３２を提供することである。セ
クション３２を構成する材料は、本発明によれば、前記
壁によってダメージを受けることがないように密封壁７
を構成する材料と互換性があるように選択される。セク
ション３２は、第１の実施形態のように、その伸縮を容
易にするように開口作動され、従って、スタックされた
材料の厚さと伸縮効率との差につながる応力の効果を最
小にする。
質的なグリッド行の領域３０において、異なる導電材料
から作られたセクション３２を提供することである。セ
クション３２を構成する材料は、本発明によれば、前記
壁によってダメージを受けることがないように密封壁７
を構成する材料と互換性があるように選択される。セク
ション３２は、第１の実施形態のように、その伸縮を容
易にするように開口作動され、従って、スタックされた
材料の厚さと伸縮効率との差につながる応力の効果を最
小にする。
【００３３】インプリメンテーションの一例として、グ
リッド行１０のセクション３２はクロムから作られる。
リッド行１０のセクション３２はクロムから作られる。
【００３４】好ましくは、活性スクリーン領域の少なく
とも一方の側で、グリッド行のレストは、ニオブから作
られる。活性スクリーン領域のカソードとグリッドとを
分離するシリコン酸化物における、クロムによるクラッ
クの生成が避けられる。この理由のために従来のスクリ
ーンにおいて、ニオブはクロムであるのが好ましい。
とも一方の側で、グリッド行のレストは、ニオブから作
られる。活性スクリーン領域のカソードとグリッドとを
分離するシリコン酸化物における、クロムによるクラッ
クの生成が避けられる。この理由のために従来のスクリ
ーンにおいて、ニオブはクロムであるのが好ましい。
【００３５】好ましくは、外側スクリーンの側におい
て、ニオブパッド３３がセクション３２に接続される。
ニオブ外部接続パッド３３を維持する利点は、本スクリ
ーン製造方法と互換性があることである。
て、ニオブパッド３３がセクション３２に接続される。
ニオブ外部接続パッド３３を維持する利点は、本スクリ
ーン製造方法と互換性があることである。
【００３６】図５は、密封壁７の下のグリッド行領域３
０のパターンの一実施形態を表している。この実施形態
は、前述の好ましいもの、即ち下に置かれるシリコン酸
化物のクラック伝播を妨げるために、直線性応力領域を
避ける。このために、領域３０は、幅若しくは長さ又は
別の方向となる、不連続直線性部分を含む。
０のパターンの一実施形態を表している。この実施形態
は、前述の好ましいもの、即ち下に置かれるシリコン酸
化物のクラック伝播を妨げるために、直線性応力領域を
避ける。このために、領域３０は、幅若しくは長さ又は
別の方向となる、不連続直線性部分を含む。
【００３７】図５に説明された実施形態によれば、グリ
ッド行は、領域３０の蜂の巣形状となる。
ッド行は、領域３０の蜂の巣形状となる。
【００３８】しかしながら、他のパターンが前述された
制約を重視するように提供されて選択されることに注意
すべきである。
制約を重視するように提供されて選択されることに注意
すべきである。
【００３９】壁の下で渡るスクリーンとセクション３２
の内側のグリッド行を形成するために選択された材料の
間の抵抗率の差は、本発明においてクリティカルではな
い。実際に、グリッド行は、注目すべき効果を有さない
抵抗率の差に対して、密封壁の下で十分となる通常の幅
である。
の内側のグリッド行を形成するために選択された材料の
間の抵抗率の差は、本発明においてクリティカルではな
い。実際に、グリッド行は、注目すべき効果を有さない
抵抗率の差に対して、密封壁の下で十分となる通常の幅
である。
【００４０】特定の実施形態の例として、４０００Åの
厚さでデポジットされたニオブは、平方当たり４オーム
の抵抗率を有しており、同じ厚さでデポジットされたク
ロムは、平方当たり２オームの抵抗率を有する。図５に
説明されたタイプの交点は、例えばこのような厚みで作
ることができる。クロムのセクション３２の幅は、例え
ば５〜１０μｍの間である。開口３１の表面は、例えば
５００μｍ２のオーダである。
厚さでデポジットされたニオブは、平方当たり４オーム
の抵抗率を有しており、同じ厚さでデポジットされたク
ロムは、平方当たり２オームの抵抗率を有する。図５に
説明されたタイプの交点は、例えばこのような厚みで作
ることができる。クロムのセクション３２の幅は、例え
ば５〜１０μｍの間である。開口３１の表面は、例えば
５００μｍ２のオーダである。
【００４１】もちろん、本発明は、当業者によれば容易
に発明することができるあろう種々の変更、修正及び改
善をすることができる。特に、本発明をインプリメント
するために従来のスクリーンの製造方法への適合は、当
業者の能力の中にある。更に一例として前述して示した
他の材料は、記載された基本的な制約に関連して提供さ
れて用いられる。更に、本発明はマイクロチップスクリ
ーンのグリッドに関連して説明されているが、それは、
密封壁の下部又は上部でフラットスクリーンの内側と外
側との間の薄い層を用いて電気接続が与えられる。
に発明することができるあろう種々の変更、修正及び改
善をすることができる。特に、本発明をインプリメント
するために従来のスクリーンの製造方法への適合は、当
業者の能力の中にある。更に一例として前述して示した
他の材料は、記載された基本的な制約に関連して提供さ
れて用いられる。更に、本発明はマイクロチップスクリ
ーンのグリッドに関連して説明されているが、それは、
密封壁の下部又は上部でフラットスクリーンの内側と外
側との間の薄い層を用いて電気接続が与えられる。
【００４２】このような変更、修正及び改善は、この開
示の部分でしようとするものであり、本発明の技術的思
想及び見地の中でしようとするものである。従って、前
述の説明は、単に一例とであり、限定しようとするもの
ではない。本発明は、特許請求の範囲及びそれらの均等
物に規定されるものにの限定される。
示の部分でしようとするものであり、本発明の技術的思
想及び見地の中でしようとするものである。従って、前
述の説明は、単に一例とであり、限定しようとするもの
ではない。本発明は、特許請求の範囲及びそれらの均等
物に規定されるものにの限定される。
【図１Ａ】従来のフラットマイクロチップスクリーンの
部分的な断面図である。
部分的な断面図である。
【図１Ｂ】従来のフラットマイクロチップスクリーンの
部分的な平面図である。
部分的な平面図である。
【図２】本発明によるグリッド接続の第１の実施形態を
説明するマイクロチップスクリーンのカソード−グリッ
ドの部分的な平面図である。
説明するマイクロチップスクリーンのカソード−グリッ
ドの部分的な平面図である。
【図３】本発明による電気グリッド接続の第２の実施形
態を説明するフラットマイクロチップスクリーンのカソ
ードグリッドの部分的な断面図である。
態を説明するフラットマイクロチップスクリーンのカソ
ードグリッドの部分的な断面図である。
【図４】図３に表されたカソード−グリッドの平面図で
ある。
ある。
【図５】本発明によるグリッド行の部分的な詳細な平面
図である。
図である。
１ 第１の基板、プレート ２ カソード ３ マイクロチップ ４ グリッド ５ アノード ６ 第２の基板 ７ 密封壁 ８ 空間 ９ カソード列 １０ グリッド行 １１ 絶縁層 １２ ホール ３０ 領域 ３１ 開口 ３２ セクション ３３ ニオブ外部接続パッド
Claims (5)
- 【請求項１】 実質的に薄い周辺シール（７）の下にあ
る薄い厚さの導電行（１０）を用いて、フラットスクリ
ーンの内部空間（８）と外側との間の電気接続部におい
て、 容易にその伸縮をなす開口作動構造を含んでおり、該開
口作動構造は、前記電気接続部が非直線導電部分を有す
るようなものであることを特徴とする電気接続部。 - 【請求項２】 カソード導体（９）を覆う絶縁層（１
１）上にデポジットされた行（１０）を形成したフラッ
トマイクロチップスクリーングリッドにおいて、 各グリッド行が、請求項１に記載の少なくとも１つの電
気接続部を備えたことを特徴とするグリッド。 - 【請求項３】 クロムから作られることを特徴とする請
求項２に記載のグリッド。 - 【請求項４】 各行（１０）は活性スクリーン領域につ
いてニオブから作られ、各電気接続部（３２）はクロム
から作られることを特徴とする請求項２に記載のグリッ
ド。 - 【請求項５】 カソード発光アノード（５）を衝撃する
ためのマイクロチップ（３）を有するカソード（２）を
含むタイプのフラットディスプレイスクリーンにおい
て、 前記請求項２に記載の前記グリッド（４）を含むことを
特徴とするフラットディスプレイスクリーン。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| FR9804204A FR2776826B1 (fr) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | Passage conducteur d'un mur de scellement d'un ecran plat de visualisation |
| FR9804204 | 1998-03-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11327455A true JPH11327455A (ja) | 1999-11-26 |
Family
ID=9524862
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11083587A Withdrawn JPH11327455A (ja) | 1998-03-31 | 1999-03-26 | フラットディスプレイスクリ―ン密封壁の下の導電路 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6351064B1 (ja) |
| EP (1) | EP0948026A1 (ja) |
| JP (1) | JPH11327455A (ja) |
| FR (1) | FR2776826B1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007294406A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Samsung Sdi Co Ltd | 電子放出表示素子 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI278887B (en) * | 2003-09-02 | 2007-04-11 | Ind Tech Res Inst | Substrate for field emission display |
| JP2006066279A (ja) * | 2004-08-27 | 2006-03-09 | Hitachi Displays Ltd | 自発光平面表示装置 |
| WO2008008318A2 (en) * | 2006-07-10 | 2008-01-17 | Boston Scientific Limited | Optical spectroscopic injection needle |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE671327C (de) | 1934-09-29 | 1939-02-17 | Siemens & Halske Akt Ges | Verzoegerungsanordnung in elektrischen Stromkreisen unter Verwendung eines elektrischen Leiters mit bei zunehmender Erwaermung fallendem Widerstand |
| NL49460C (ja) * | 1937-06-03 | |||
| GB496679A (en) * | 1937-06-14 | 1938-12-05 | Patent Treuhand Ges Fuer Elektrische Gluehlampen Mbh | Improvements in sealing metallic bodies hermetically through vitreous walls |
| US3842308A (en) * | 1970-12-12 | 1974-10-15 | Philips Corp | Gas discharge panel with apertured center plate having an oxidized surface |
| FR2707787B1 (fr) * | 1993-07-16 | 1995-10-20 | Pixel Int Sa | Système de connexions électriques externes pour écrans plats de visualisation. |
-
1998
- 1998-03-31 FR FR9804204A patent/FR2776826B1/fr not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-03-26 JP JP11083587A patent/JPH11327455A/ja not_active Withdrawn
- 1999-03-31 US US09/282,899 patent/US6351064B1/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-03-31 EP EP99410029A patent/EP0948026A1/fr active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007294406A (ja) * | 2006-04-26 | 2007-11-08 | Samsung Sdi Co Ltd | 電子放出表示素子 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6351064B1 (en) | 2002-02-26 |
| EP0948026A1 (fr) | 1999-10-06 |
| FR2776826B1 (fr) | 2000-06-16 |
| FR2776826A1 (fr) | 1999-10-01 |
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|---|---|---|---|
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