JPH11320410A - Sandblast device - Google Patents

Sandblast device

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JPH11320410A
JPH11320410A JP14518298A JP14518298A JPH11320410A JP H11320410 A JPH11320410 A JP H11320410A JP 14518298 A JP14518298 A JP 14518298A JP 14518298 A JP14518298 A JP 14518298A JP H11320410 A JPH11320410 A JP H11320410A
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JP
Japan
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nozzle
vibration
monitoring function
signal
stroke sensor
Prior art date
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Application number
JP14518298A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeo Amanuma
武男 天沼
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH11320410A publication Critical patent/JPH11320410A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To appropriately and relatively easily grasp the speed fluctuation and vibration of a nozzle by providing monitoring functions for measuring the speed fluctuation and the vibration of the nozzle. SOLUTION: A sandblast device 100 is provided with a monitoring function for measuring speed fluctuation of a nozzle and a monitoring function for measuring the vibration. For example, as for the monitoring function for the speed fluctuation, a fitting part 142 of a wire 141 tip of a stroke sensor 140 is attached to a nozzle 110, and a signal obtained from the stroke sensor 140 is processed by a processing system (signal processing part) to be expressed into a voltage waveform by an oscilloscope so that the speed fluctuation is detected. As for the vibration monitoring function, a piezoelectric acceleration sensor 150 is attached to the nozzle 10 to obtain the change in impedance and the obtained signal is directly inputted in an FFT analyzer 155 so that the vibration is directly detected.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラスビーズ等の
研磨砂の粉末を高圧空気を用いて噴射させるサンドブラ
スト処理を行うサンドブラスト装置に関し、特に、ノズ
ル部の速度ムラ、振動を検出するためのモニタリング機
能を設けたサンドブラスト装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a sandblasting apparatus for performing a sandblasting process in which abrasive sand powder such as glass beads is sprayed by using high-pressure air, and more particularly to monitoring for detecting unevenness in speed and vibration of a nozzle portion. The present invention relates to a sandblasting device provided with a function.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、プラズマディスプレイパネル(以
下PDPとも記す)は、その奥行きの薄いこと、軽量で
あること、更に鮮明な表示と液晶パネルに比べ視野角が
広いことにより、種々の表示装置に利用されつつある。
一般に、プラズマディスプレイパネル(PDP)は、2
枚の対向するガラス基板にそれぞれ規則的に配列した一
対の電極を設け、その間にネオン、キセノン等を主体と
するガスを封入した構造となっている。そして、これら
の電極間に電圧を印加し、電極周辺の微小なセル内で放
電を発生させることにより、各セルを発光させて表示を
行うようにしている。特に情報表示をするためには、規
則的に並んだセルを選択的に放電発光させている。
2. Description of the Related Art In recent years, plasma display panels (hereinafter, also referred to as PDPs) have been used in various display devices because of their small depth, light weight, clear display, and wide viewing angle compared to liquid crystal panels. It is being used.
Generally, a plasma display panel (PDP) has two
A pair of regularly arranged electrodes are provided on a pair of opposed glass substrates, and a gas mainly containing neon, xenon, or the like is sealed between the pair of electrodes. Then, a voltage is applied between these electrodes, and a discharge is generated in minute cells around the electrodes, so that each cell emits light and display is performed. In particular, in order to display information, regularly arranged cells are selectively discharged to emit light.

【0003】ここで、PDPの構成を、図6に示すAC
型PDPの1例を挙げて説明しておく。図6はPDP構
成斜視図であるが、分かり易くするため前面板(ガラス
基板610)、背面板(ガラス基板620)とを実際よ
り離して示してある。図6に示すように、2枚のガラス
基板610、620が互いに平行に且つ対向して配設さ
れており、両者は背面板となるガラス基板620上に互
いに平行に設けられた障壁(セル障壁とも言う)630
により、一定の間隔に保持されている。前面板となるガ
ラス基板610の背面側には、放電維持電極である透明
電極640とバス電極である金属電極650とで構成さ
れる複合電極が互いに平行に形成され、これを覆って、
誘電体層660が形成されており、更にその上に保護層
(MgO層)670が形成されている。また、背面板と
なるガラス基板620の前面側には前記複合電極と直交
するように障壁630間に位置してアドレス電極680
が互いに平行に形成されており、更に障壁630の壁面
とセル底面を覆うように螢光面690が設けられてい
る。障壁630は放電空間を区画するためのもので、区
画された各放電空間をセルないし単位発光領域と言う。
このAC型PDPは面放電型であって、前面板上の複合
電極間に交流電圧を印加し、で放電させる構造である。
この場合、交流をかけているために電界の向きは周波数
に対応して変化する。そして、この放電により生じる紫
外線により螢光体690を発光させ、前面板を透過する
光を観察者が視認できるものである。なお、DC型PD
Pにあっては、電極は誘電体層で被膜されていない構造
を有する点でAC型と相違するが、その放電効果は同じ
である。また、図6に示すものは、ガラス基板620の
一面に下地層667を設けその上に誘電体層665を設
けた構造となっているが、下地層667、誘電体層66
5は必ずしも必要としない。
Here, the structure of the PDP is shown in FIG.
An example of the type PDP will be described. FIG. 6 is a perspective view of the PDP structure, but shows the front plate (glass substrate 610) and the rear plate (glass substrate 620) apart from the actual case for easy understanding. As shown in FIG. 6, two glass substrates 610 and 620 are arranged in parallel and opposed to each other, and both are barriers (cell barriers) provided in parallel on a glass substrate 620 serving as a back plate. 630)
Are held at regular intervals. On the back side of the glass substrate 610 serving as a front plate, composite electrodes composed of a transparent electrode 640 serving as a sustain electrode and a metal electrode 650 serving as a bus electrode are formed in parallel with each other.
A dielectric layer 660 is formed, and a protective layer (MgO layer) 670 is further formed thereon. In addition, on the front side of the glass substrate 620 serving as a back plate, an address electrode 680 is positioned between the barriers 630 so as to be orthogonal to the composite electrode.
Are formed in parallel with each other, and a fluorescent surface 690 is provided so as to cover the wall surface of the barrier 630 and the cell bottom surface. The barrier 630 is for defining a discharge space, and each partitioned discharge space is called a cell or a unit light emitting region.
This AC type PDP is of a surface discharge type, and has a structure in which an AC voltage is applied between composite electrodes on the front panel to cause discharge.
In this case, since the alternating current is applied, the direction of the electric field changes according to the frequency. Then, the phosphor 690 emits light by the ultraviolet light generated by the discharge, and the light transmitted through the front plate can be visually recognized by an observer. In addition, DC type PD
In the case of P, the electrode is different from the AC type in that the electrode has a structure not coated with the dielectric layer, but the discharge effect is the same. 6 has a structure in which a base layer 667 is provided on one surface of a glass substrate 620 and a dielectric layer 665 is provided thereon.
5 is not necessarily required.

【0004】そして、従来、上記PDPに使用する背面
板の障壁の形成方法としては、ガラス基板上に障壁形成
材料を障壁パターン形状に、スクリーン印刷にて複数回
繰り返して重ねて印刷して所要の高さに積み上げ、乾燥
させる第1の方法(スクリーン印刷法と呼ばれる)、あ
るいは、ガラス基板上に障壁形成材料を全面に塗布した
後、塗布面上にサンドブラストに耐性を有するレジスト
を所定形状にパターニング形成し、該レジストをマスク
としてサンドブラストにより障壁形成材料を所定形状に
形成する第2の方法(サンドブラスト法と呼ばれる)が
採られていた。しかし、上記第1の方法によるPDPに
使用する背面板の障壁形成においては、障壁としての所
定の厚さを得るには、数回〜10数回程度のペーストの
スクリーン印刷が必要で手間がかかる上に、印刷精度の
管理が必要となり、品質的にも満足のいくものを得るこ
とが難しく、現在では、第2の方法が主流となってい
る。
[0004] Conventionally, as a method of forming a barrier of a back plate used in the above-mentioned PDP, a barrier forming material is repeatedly printed on a glass substrate in a barrier pattern shape by screen printing a plurality of times, and a required pattern is formed. The first method of stacking and drying at a height (called a screen printing method), or applying a barrier-forming material over the entire surface of a glass substrate and then patterning a resist having sandblast resistance on the applied surface into a predetermined shape A second method (called a sandblast method) of forming a barrier-forming material into a predetermined shape by sandblasting using the resist as a mask has been employed. However, in forming the barrier of the back plate used in the PDP by the first method, it is necessary to screen-print the paste several times to several tens times to obtain a predetermined thickness as the barrier, which is troublesome. In addition, it is necessary to control the printing accuracy, and it is difficult to obtain satisfactory printing quality. At present, the second method is mainly used.

【0005】ここで、第2の方法(サンドブラスト法)
による障壁の形成の1例を図5に挙げて、サンドブラス
ト法による障壁形成方法を、更に説明しておく。図5
(a)に示すように、ガラス基板510の一面上に下引
き層520を介して電極配線530を形成した後、該電
極配線530上に、ガラス基板510面を覆うように、
更に、誘電体層550を形成する。次いで、誘電体層5
50上全面に、障壁形成用の低融点ガラスペーストから
なる加工用素材560を塗布した(図5(b))後、加
工用素材560上に、サンドブラスト処理に耐性のある
感光性のレジスト540を配設し(図5(c))、次い
で、形成する障壁の形状に対応した所定形状の絵柄を有
するフォトマスクを用いて、レジスト540の所定領域
のみを露光し、これを現像して、所定形状にパターン化
する。(図5(d))そして、レジスト540を加工用
素材560をサンドブラスト処理する際のマスクとし
て、サンドブラスト処理を行い、マスクから露出してい
る加工用素材560のみを切削して、所定の形状にす
る。(図5(e))この後、レジスト540を除去し
て、焼成処理を施して障壁560Aを誘電体層550上
に形成する。(図5(f))
Here, the second method (sand blast method)
FIG. 5 shows an example of the barrier formation by the sand blast method, and the barrier formation method by the sand blast method will be further described. FIG.
As shown in (a), after the electrode wiring 530 is formed on one surface of the glass substrate 510 via the undercoat layer 520, the electrode wiring 530 is formed on the surface of the glass substrate 510 so as to cover the surface of the glass substrate 510.
Further, a dielectric layer 550 is formed. Next, the dielectric layer 5
After a processing material 560 made of a low-melting glass paste for forming a barrier is applied to the entire surface on the top 50 (FIG. 5B), a photosensitive resist 540 resistant to sandblasting is applied on the processing material 560. Then, only a predetermined area of the resist 540 is exposed using a photomask having a pattern of a predetermined shape corresponding to the shape of a barrier to be formed, and is developed to a predetermined level. Pattern into shape. (FIG. 5D) Then, the resist 540 is used as a mask when the processing material 560 is sandblasted, and sandblasting is performed, and only the processing material 560 exposed from the mask is cut into a predetermined shape. I do. (FIG. 5E) Thereafter, the resist 540 is removed, and a baking process is performed to form a barrier 560A on the dielectric layer 550. (FIG. 5 (f))

【0006】第2の方法によるPDPに使用する背面板
となるガラス基板への障壁形成においては、ガラス基板
上に塗膜された障壁形成用材料をサンドブラストに耐性
のあるマスクで覆い、複数本のノズルからガラスビーズ
等の研磨砂を高圧空気にて吹きつけ、マスクから露出し
た部分を選択的に切削して障壁を形成しているが、所望
の障壁を得るために、ノズルの移動速度、ガラス基板
(背面板)の移動速度、ノズルの噴射条件等、処理条件
の厳密な制御が要求されている。そして、ますます高い
品質が要求される中、ノズルの速度ムラや振動が障壁の
品質に大きく悪影響を及ぼしていることが分かってき
た。ノズルの移動は、通常、ノズルを支持するシャフト
を、所定のスライドウエイに沿い移動する搬送プレート
に直接的ないし間接的に固定して搬送させることによ
り、行なわれている。この場合の、ノズルの速度ムラな
いし振動の原因としては、主にノズル搬送機構自体の機
械的な劣化、特にスライドウエイのスライド部の摩耗、
スライドウエイを移動する搬送プレートのスライドウエ
イとの接触部(例えばベアリング)の摩耗が挙げられ
る。しかし、ノズルの速度ムラないし振動を、適宜、比
較的簡単に把握できる方法がなく問題となっていた。
In forming a barrier on a glass substrate serving as a back plate used in a PDP by the second method, a barrier-forming material coated on the glass substrate is covered with a sandblast-resistant mask to form a plurality of barriers. Polishing sand such as glass beads is blown from the nozzle with high-pressure air, and the portion exposed from the mask is selectively cut to form a barrier.To obtain a desired barrier, the moving speed of the nozzle and the glass Strict control of processing conditions such as the moving speed of the substrate (back plate) and the jetting conditions of the nozzles is required. And, while ever higher quality is required, it has been found that unevenness in the speed and vibration of the nozzle greatly affects the quality of the barrier. The movement of the nozzle is usually performed by directly or indirectly fixing and transporting a shaft supporting the nozzle to a transport plate moving along a predetermined slideway. In this case, the cause of the nozzle speed unevenness or vibration is mainly mechanical deterioration of the nozzle transfer mechanism itself, particularly wear of the slide portion of the slide way,
Wear of a contact portion (for example, a bearing) of the transport plate that moves the slideway with the slideway may be mentioned. However, there has been no problem because there is no method for relatively easily grasping the speed unevenness or vibration of the nozzle.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記のように、PDP
に使用する背面板の障壁形成をサンドブラスト法により
行う場合、ノズルの速度ムラ、振動が、品質面で問題と
なっており、その対応が求められていた。本発明は、こ
のような状況のもと、ノズルを支持するシャフトを、所
定のスライドウエイに沿い移動する搬送プレートに直接
的ないし間接的に固定して搬送させ、ノズルを所望の速
度で移動させ、且つ、マスクを介して高圧空気により研
磨砂をノズルから吹き付けて、処理基板上の表面物質を
選択的に切削除去するサンドブラスト装置で、ノズルの
速度ムラ、振動を、適宜、比較的簡単に把握できる方法
を提供しようとするものである。
As described above, the PDP
When the barrier of the back plate used in the method is formed by the sand blast method, the unevenness in the speed and the vibration of the nozzles are problematic in terms of quality, and the measures have been required. Under such circumstances, the present invention is to directly or indirectly fix and transport the shaft supporting the nozzle to the transport plate moving along the predetermined slideway, and to move the nozzle at a desired speed. In addition, a sandblasting device that blows abrasive sand from a nozzle with high-pressure air through a mask to selectively cut off and remove surface materials on a processing substrate. It seeks to provide a possible way.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明のサンドブラスト
装置は、ノズルを支持するシャフトを所定のスライドウ
エイに沿い移動する搬送プレートに直接的ないし間接的
に固定して搬送させて、ノズルを所望の速度で移動さ
せ、且つ、マスクを介して高圧空気により研磨砂をノズ
ルから吹き付けて、処理基板上の表面物質を選択的に切
削除去するサンドブラスト装置であって、ノズルの速度
ムラないし振動を測定するためのモニタリング機能を備
えていることを特徴とするものである。そして、上記に
おいて、速度ムラのモニタリング機能が、ノズル部にス
トロークセンサを取付けて、該ストロークセンサから得
られた信号を処理して、速度ムラを検出するものであ
り、更に、信号の処理が、ストロークセンサから得られ
た信号を増幅し、更に、周波数−電圧変換を施すもの
で、該信号の処理結果をオシロスコープにて観察するこ
とにより速度ムラを検出するものであることを特徴とす
るものである。
According to the sand blasting apparatus of the present invention, a nozzle supporting a nozzle is directly or indirectly fixed to a transfer plate which moves along a predetermined slideway, and is conveyed, so that a desired nozzle is provided. A sandblasting device that moves at a speed and blows abrasive sand from a nozzle with high-pressure air through a mask to selectively cut and remove surface materials on a processing substrate, and measures the speed unevenness or vibration of the nozzle. It is characterized by having a monitoring function for monitoring. And in the above, the monitoring function of the speed unevenness is to attach a stroke sensor to the nozzle unit, process a signal obtained from the stroke sensor, and detect the speed unevenness, and further, the signal processing includes: Amplify the signal obtained from the stroke sensor, and further perform frequency-voltage conversion, and detect uneven speed by observing the processing result of the signal with an oscilloscope. is there.

【0009】そしてまた、上記において、振動のモニタ
リング機能が、ノズル部に加速度センサを取付けて、得
られた信号を直接FFTアナライザに入力して、所定周
波数の振動を検出するものであることを特徴とするもの
である。
Further, in the above, the vibration monitoring function is characterized in that an acceleration sensor is attached to a nozzle portion, and an obtained signal is directly input to an FFT analyzer to detect vibration of a predetermined frequency. It is assumed that.

【0010】[0010]

【作用】本発明のサンドブラストによる装置は、このよ
うな構成にすることにより、ノズルを支持するシャフト
を所定のスライドウエイに沿い移動する搬送プレートに
直接的ないし間接的に固定して搬送させて、ノズルを所
望の速度で移動させ、且つ、マスクを介して高圧空気に
より研磨砂をノズルから吹き付けて、処理基板上の表面
物質を選択的に切削除去するサンドブラスト装置で、ノ
ズルの速度ムラないし振動を、適宜、比較的簡単に把握
できる方法の提供を可能とするものである。具体的に
は、ノズルを支持するシャフトを所定のスライドウエイ
に沿い移動する搬送プレートに直接的ないし間接的に固
定して搬送させて、ノズルを所望の速度で移動させ、且
つ、マスクを介して高圧空気により研磨砂をノズルから
吹き付けて、処理基板上の表面物質を選択的に切削除去
するサンドブラスト装置であって、ノズルの速度ムラな
いし振動を測定するためのモニタリング機能を備えてい
ることをにより、これを達成している。更に具体的に
は、速度ムラをモニタリングするモニタリング機能が、
ノズル部にストロークセンサを取付けて、該ストローク
センサから得られた信号を処理して、速度ムラを検出す
るもので、信号の処理が、ストロークセンサから得られ
た信号を増幅し、更に、周波数−電圧変換を施すもの
で、該信号の処理結果をオシロスコープにて観察するこ
とにより速度ムラを検出するものであることにより、比
較的簡単に、随時、速度ムラを測定できるものとしてい
る。また、振動をモニタリングするモニタリング機能
が、ノズル部に加速度センサを取付けて、得られた信号
を直接FFTアナライザに入力して、所定周波数の振動
を検出するものであることにより、比較的簡単に、随
時、振動を測定できるものとしている。
According to the sand blasting apparatus of the present invention, a shaft supporting a nozzle is directly or indirectly fixed to a transport plate moving along a predetermined slideway and transported by such a configuration. A sandblasting device that moves the nozzle at a desired speed and blows polishing sand from the nozzle with high-pressure air through a mask to selectively cut and remove surface materials on the processing substrate. It is possible to provide a method that can be grasped relatively easily as appropriate. Specifically, the shaft supporting the nozzle is directly or indirectly fixed and transported to a transport plate that moves along a predetermined slideway, the nozzle is moved at a desired speed, and via a mask. A sandblasting device that blows abrasive sand from a nozzle with high-pressure air to selectively cut and remove surface materials on a processing substrate, and has a monitoring function for measuring speed unevenness or vibration of the nozzle. Has achieved this. More specifically, a monitoring function for monitoring uneven speed is
A stroke sensor is attached to the nozzle portion, and a signal obtained from the stroke sensor is processed to detect speed unevenness. The signal processing amplifies a signal obtained from the stroke sensor, and further includes a frequency- Since the voltage conversion is performed and the speed unevenness is detected by observing the processing result of the signal with an oscilloscope, the speed unevenness can be relatively easily measured at any time. In addition, the monitoring function for monitoring the vibration is such that an acceleration sensor is attached to the nozzle portion, the obtained signal is directly input to the FFT analyzer, and the vibration of a predetermined frequency is detected. Vibration can be measured at any time.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明のサンドブラスト装置の実
施の形態の1例を挙げ、図に基づいて説明する。図1
(a)は実施の形態の第1の例のサンドブラスト装置の
特徴部の概略図で、図1(b)は図1(a)の一点鎖線
の矢印方向から見た図で、図2はスライドウエイと搬送
プレートとを示した斜視図、図3(a)は速度ムラの測
定系の概略構成図で、図3(b)はFFTアナライザの
構成を示した図で、図4は速度ムラの検出を説明するた
めのオシロスコープの検出波形の図である。尚、ここで
は、ノズル、シャフトの組みを1つだけ図示している
が、これは説明を分かり易くするためのもので、実際に
は、複数個の組みを有している。また、図2(a)は一
部展開図を含む。図1〜図4中、100はサンドブラス
ト装置、105は処理室、110はノズル、111はシ
ャフト、113はシャフト固定部、115はシャフト搬
送部、120は搬送プレート、125は精密研磨ベアリ
ング、127はネジ、128はキャップシール、129
は固定ジャーナル、130はスライドウエイ、140は
ストロークセンサ、141はワイヤ、142は取付け
部、145は処理系(信号処理部)、147はオシロス
コープ、150は加速度センサ(ピックアップ)、15
5はFFTアナライザ、170は搬送ロール、180は
ガラス基板(背面板)、190は処理室壁部、191は
天井、195はスリット、311はパルスアンプ、31
2は周波数−電圧変換部、313はグラフィックディス
プレイ、321はアンプ、322はローパスフィルタ
ー、323はA/D変換器、324は波形メモリ、32
5はFFT演算機能部、326は表示データ作成部、3
27はグラフィックディスプレイである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of a sand blasting apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG.
FIG. 1A is a schematic view of a characteristic portion of a sand blasting device according to a first example of the embodiment, FIG. 1B is a diagram viewed from the direction of an alternate long and short dash line in FIG. 1A, and FIG. FIG. 3A is a schematic configuration diagram of a measurement system for speed unevenness, FIG. 3B is a diagram showing the configuration of an FFT analyzer, and FIG. FIG. 4 is a diagram of a detection waveform of an oscilloscope for explaining detection. Here, only one set of the nozzle and the shaft is shown, but this is for easy understanding of the description, and actually has a plurality of sets. FIG. 2A includes a partially developed view. 1 to 4, reference numeral 100 denotes a sand blasting apparatus, 105 denotes a processing chamber, 110 denotes a nozzle, 111 denotes a shaft, 113 denotes a shaft fixing part, 115 denotes a shaft conveying part, 120 denotes a conveying plate, 125 denotes a precision polishing bearing, and 127 denotes a precision polishing bearing. Screw, 128 is cap seal, 129
Is a fixed journal, 130 is a slideway, 140 is a stroke sensor, 141 is a wire, 142 is a mounting part, 145 is a processing system (signal processing part), 147 is an oscilloscope, 150 is an acceleration sensor (pickup), 15
5 is an FFT analyzer, 170 is a transport roll, 180 is a glass substrate (back plate), 190 is a processing chamber wall, 191 is a ceiling, 195 is a slit, 311 is a pulse amplifier, 31
2 is a frequency-voltage converter, 313 is a graphic display, 321 is an amplifier, 322 is a low-pass filter, 323 is an A / D converter, 324 is a waveform memory, 32
5 is an FFT operation function unit, 326 is a display data creation unit, 3
27 is a graphic display.

【0012】本例は、ノズルを支持するシャフトを、所
定のスライドウエイに沿い移動する搬送プレートに直接
的ないし間接的に固定して搬送させ、ノズルを所望の速
度で移動させ、且つ、マスクを介して高圧空気により研
磨砂をノズルから吹き付けて、処理基板上の表面物質を
選択的に切削除去するサンドブラスト装置であって、ノ
ズルの速度ムラを測定するためのモニタリング機能と、
振動を測定するためのモニタリング機能とを共に備えて
いるものである。図1(b)に示すように、スライドウ
エイ130に沿いスライド移動する搬送プレート120
にシャフト搬送部115は固定され、さらに、シャフト
搬送部115にシャフト111が固定されている。そし
て、ノズル110はシャフト111に支持されており、
搬送プレート120のスライドウエイ130に沿う移動
に伴い、シャフト搬送部115、シャフト111、ノズ
ル110は、これと一体となって移動する。
In this embodiment, a shaft supporting a nozzle is directly or indirectly fixed and conveyed to a conveyance plate moving along a predetermined slideway, the nozzle is moved at a desired speed, and the mask is moved. A sandblasting device that blows abrasive sand from a nozzle by high-pressure air through the nozzle to selectively cut and remove a surface material on a processing substrate, and a monitoring function for measuring the speed unevenness of the nozzle,
It has both a monitoring function for measuring vibration. As shown in FIG. 1B, the transport plate 120 that slides along the slide way 130.
The shaft conveyance section 115 is fixed to the shaft conveyance section 115, and the shaft 111 is fixed to the shaft conveyance section 115. The nozzle 110 is supported by a shaft 111,
As the transport plate 120 moves along the slide way 130, the shaft transport section 115, the shaft 111, and the nozzle 110 move integrally with the transport way.

【0013】本例の速度ムラのモニタリング機能は、ノ
ズル110にストロークセンサ140のワイヤ141先
端の取付け部142を取付けて、該ストロークセンサ1
40から得られた信号を図3に示す処理系(信号処理
部)145にて処理して、これをオシロスコープ147
で電圧波形として表し、速度ムラを検出するものであ
る。ここで、図3に基づいて、信号の処理を簡単に説明
しておく。ストロークセンサ140から得られた信号
は、まずパルスアンプ311により増幅され、更に、周
波数−電圧変換部312により、電圧に変換される。そ
して、この電圧を時間軸でオシロスコープ等のグラフィ
ックディスプレイ313に表示して速度ムラを検出する
ものである。ストロークセンサ140は、1回転毎に所
定のパルス数を発生するもので、所定の一定速度でノズ
ルが移動しているときには、単位時間に所定のパルス数
を発生するが、速度が速くなると、単位時間内のパルス
数が増え、遅くなると単位時間内のパルス数が減る。こ
のように速度変化がパルス数の変化として捕らえるた
め、周波数−電圧変換を施すことにより、速度の変化に
対応する周波数の変化を電圧の変化として捕らえること
ができる。図4(a)はスライドウエイ130、搬送プ
レート120交換前の、ストロークセンサー140から
のオシロスコープ147の波形で、図4(b)はスライ
ドウエイ130、搬送プレート120交換前後のオシロ
スコープ147の波形である。ノズル110の搬送の移
動中においては、所定の速度からの速度ムラが、点線円
内の波として検出されるが、交換後にこの波の振幅が、
交換前に比べ小さくなっていることが分かる。このよう
に、この波の振幅の大きささから速度ムラの大小を知
り、装置状態をを把握でき、必要な場合は装置の手直し
を行う。尚、図4中、T1は、ノズルを20m/min
の速度で走行させた時の1ストローク分の走行時間であ
り、略3.1secである。
The speed unevenness monitoring function of the present embodiment is performed by attaching a mounting portion 142 at the tip of a wire 141 of a stroke sensor 140 to the nozzle 110,
The signal obtained from the signal processing unit 40 is processed by a processing system (signal processing unit) 145 shown in FIG.
Are used to detect speed unevenness. Here, the signal processing will be briefly described based on FIG. The signal obtained from the stroke sensor 140 is first amplified by the pulse amplifier 311, and is further converted into a voltage by the frequency-voltage converter 312. This voltage is displayed on a graphic display 313 such as an oscilloscope on the time axis to detect speed unevenness. The stroke sensor 140 generates a predetermined number of pulses per rotation. When the nozzle is moving at a predetermined constant speed, the stroke sensor 140 generates a predetermined number of pulses per unit time. The number of pulses in a time increases, and the number of pulses in a unit time decreases as the number of pulses decreases. Since the change in speed is captured as a change in the number of pulses in this manner, by performing frequency-voltage conversion, a change in frequency corresponding to the change in speed can be captured as a change in voltage. FIG. 4A shows the waveform of the oscilloscope 147 from the stroke sensor 140 before the slide way 130 and the transfer plate 120 are replaced, and FIG. 4B shows the waveform of the oscilloscope 147 before and after the replacement of the slide way 130 and the transfer plate 120. . During the movement of the conveyance of the nozzle 110, speed unevenness from a predetermined speed is detected as a wave within a dotted circle. After replacement, the amplitude of the wave becomes
It turns out that it is smaller than before the replacement. As described above, the magnitude of the speed unevenness can be known from the magnitude of the amplitude of the wave, the state of the apparatus can be grasped, and the apparatus can be modified if necessary. In addition, in FIG. 4, T1 is a nozzle at 20 m / min.
It is a running time for one stroke when the vehicle is run at the speed described above, which is approximately 3.1 sec.

【0014】本例の振動モニタリング機能は、ノズル1
10に、圧電式の加速度センサ150を取付けて、イン
ピーダンスの変化を得て、得られた信号を直接、FFT
アナライザ155に入力して、振動を直接検出するもの
である。FFTアナライザは0〜10KHzの解析帯域
を持つものが多いが、DC〜10MHzの解析帯域を持
つものもある。尚、FFTは、fast fourie
transformationの略で、波形メモリ内
の波形に対して、フーリエ変換を高速に演算する手法を
意味し、FFTアナライザにおいては、トランジエント
波形を記憶保持し、その波形の周波数スペクトルを測定
することが可能である。FFTアナライザは、一般に、
振動、音響の分野に用いられるもので、本例で用いたも
のは、図3(b)に示すような構成をしており、通常の
デジタルオシロスコープに比べ、ローパスフィルタ、F
FT演算機能を追加した構成である。本例で用いた加速
度センサ(ピックアップ)は圧電式のものであるが、こ
れに限定はされない。
The vibration monitoring function of this embodiment is based on the nozzle 1
10, an acceleration sensor 150 of a piezoelectric type is attached, a change in impedance is obtained, and the obtained signal is directly subjected to FFT.
It is input to the analyzer 155 to directly detect vibration. Many FFT analyzers have an analysis band of 0 to 10 KHz, but some have an analysis band of DC to 10 MHz. In addition, FFT is fast fourie.
Abbreviation of "transformation", which means a method of performing a fast Fourier transform on a waveform in a waveform memory. In an FFT analyzer, a transient waveform can be stored and held, and the frequency spectrum of the waveform can be measured. It is. FFT analyzers are generally
The one used in the field of vibration and sound and used in this example has a configuration as shown in FIG. 3 (b), and has a low-pass filter, F
This is a configuration to which an FT calculation function is added. The acceleration sensor (pickup) used in this example is of a piezoelectric type, but is not limited to this.

【0015】[0015]

【発明の効果】本発明は、上記のように、ノズルを支持
するシャフトを、所定のスライドウエイに沿い移動する
搬送プレートに直接的ないし間接的に固定して搬送さ
せ、ノズルを所望の速度で移動させ、且つ、マスクを介
して高圧空気により研磨砂をノズルから吹き付けて、処
理基板上の表面物質を選択的に切削除去するサンドブラ
スト装置で、ノズルの速度ムラないし振動を、適宜、比
較的簡単に把握できる装置の提供を可能とした。PDP
に使用する背面板の障壁をサンドブラスト法にて形成す
る際の、サンドブラスト装置に本発明を適用した場合に
は、生産上、特に有効である。
According to the present invention, as described above, the shaft supporting the nozzle is directly or indirectly fixed to the transport plate moving along the predetermined slideway and transported, and the nozzle is moved at a desired speed. A sandblasting device that moves and sprays abrasive sand from a nozzle with high-pressure air through a mask to selectively cut and remove surface materials on a processing substrate. It is possible to provide a device that can be easily grasped. PDP
In the case where the present invention is applied to a sandblasting device when forming a barrier of a back plate used in a sandblasting method, it is particularly effective in production.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施の形態の1例を示した概略図FIG. 1 is a schematic diagram showing an example of an embodiment.

【図2】スライドウエイと搬送プレートとを示した斜視
FIG. 2 is a perspective view showing a slideway and a transport plate.

【図3】図3(a)は速度ムラの測定系の概略構成を説
明するための図で、図3(bはFFTアナライザの概略
構成図である。
FIG. 3A is a diagram for explaining a schematic configuration of a measurement system for speed unevenness, and FIG. 3B is a schematic configuration diagram of an FFT analyzer.

【図4】ストロークセンサ出力からの検出波形の図FIG. 4 is a diagram of a detection waveform from an output of a stroke sensor.

【図5】サンドブラスト処理による障壁の形成を説明す
るための図
FIG. 5 is a diagram for explaining formation of a barrier by sandblasting.

【図6】PDP基板を説明するための図FIG. 6 is a diagram illustrating a PDP substrate.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

100 サンドブラスト装置 105 処理室 110 ノズル 111 シャフト 113 シャフト固定部 115 シャフト搬送部 120 搬送プレート 125 精密研磨ベアリング 127 ネジ 128 キャップシール 129 固定ジャーナル 130 スライドウエイ 140 ストロークセンサ 141 ワイヤ 142 取付け部 145 処理系(信号処理
部) 147 オシロスコープ 150 加速度センサ 155 FFTアナライザ 170 搬送ロール 180 ガラス基板(背面
板) 190 サンドブラスト処理
室壁部 191 天井 195 スリット 311 パルスアンプ 312 周波数−電圧変換部 313 グラフィックディス
プレイ 321 アンプ 322 ローパスフィルター 323 A/D変換器 234 波形メモリ 325 FFT演算機能部 326 表示データ作成部 327 グラフィックディス
プレイ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 100 Sand blast apparatus 105 Processing chamber 110 Nozzle 111 Shaft 113 Shaft fixing part 115 Shaft conveying part 120 Conveying plate 125 Precision polishing bearing 127 Screw 128 Cap seal 129 Fixed journal 130 Slide way 140 Stroke sensor 141 Wire 142 Mounting part 145 Processing system (signal processing) Part) 147 oscilloscope 150 acceleration sensor 155 FFT analyzer 170 transport roll 180 glass substrate (back plate) 190 sandblast processing chamber wall 191 ceiling 195 slit 311 pulse amplifier 312 frequency-voltage converter 313 graphic display 321 amplifier 322 low-pass filter 323 A / D converter 234 Waveform memory 325 FFT operation function unit 326 Display data Creating section 327 graphic display

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ノズルを支持するシャフトを所定のスラ
イドウエイに沿い移動する搬送プレートに直接的ないし
間接的に固定して搬送させて、ノズルを所望の速度で移
動させ、且つ、マスクを介して高圧空気により研磨砂を
ノズルから吹き付けて、処理基板上の表面物質を選択的
に切削除去するサンドブラスト装置であって、ノズルの
速度ムラないし振動を測定するためのモニタリング機能
を備えていることを特徴とするサンドブラスト装置。
1. A nozzle supporting a nozzle is moved at a desired speed by directly or indirectly fixing and transporting the shaft supporting a nozzle to a transport plate moving along a predetermined slideway, and via a mask. A sandblasting device that blows abrasive sand from a nozzle with high-pressure air to selectively cut and remove surface materials on a processing substrate, and has a monitoring function for measuring unevenness or vibration of the nozzle. And sandblasting equipment.
【請求項2】 請求項1において、速度ムラのモニタリ
ング機能が、ノズル部にストロークセンサを取付けて、
該ストロークセンサから得られた信号を処理して、速度
ムラを検出するものであることを特徴とするサンドブラ
スト装置。
2. The method according to claim 1, wherein the speed unevenness monitoring function includes a step of attaching a stroke sensor to the nozzle portion.
A sandblasting apparatus for processing a signal obtained from the stroke sensor to detect speed unevenness.
【請求項3】 請求項2における信号の処理が、ストロ
ークセンサから得られた信号を増幅し、更に、周波数−
電圧変換を施すもので、該信号の処理結果をオシロスコ
ープにて観察することにより速度ムラを検出するもので
あることを特徴とするサンドブラスト装置。
3. The signal processing according to claim 2, wherein the signal obtained from the stroke sensor is amplified, and
A sandblast apparatus for performing voltage conversion and detecting speed unevenness by observing a processing result of the signal with an oscilloscope.
【請求項4】 請求項1において、振動のモニタリング
機能が、ノズル部に加速度センサを取付けて、得られた
信号を直接FFTアナライザに入力して、所定周波数の
振動を検出するものであることを特徴とするサンドブラ
スト装置。
4. The vibration monitoring function according to claim 1, wherein an acceleration sensor is attached to the nozzle portion, and an obtained signal is directly input to an FFT analyzer to detect vibration at a predetermined frequency. Characteristic sandblasting equipment.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102059644A (en) * 2010-10-27 2011-05-18 广州大学 Intelligent processing robot for improved grinding
CN107399909A (en) * 2017-09-06 2017-11-28 安徽凯盛基础材料科技有限公司 The preparation method of solid phase converter glass microsphere

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