JPH11319844A - 浄水システム - Google Patents

浄水システム

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JPH11319844A
JPH11319844A JP10140798A JP14079898A JPH11319844A JP H11319844 A JPH11319844 A JP H11319844A JP 10140798 A JP10140798 A JP 10140798A JP 14079898 A JP14079898 A JP 14079898A JP H11319844 A JPH11319844 A JP H11319844A
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JP
Japan
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water
fed
chlorine
magnetic
floc
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Pending
Application number
JP10140798A
Other languages
English (en)
Inventor
Fumitaka Handa
文隆 半田
Shiro Nakahira
四郎 仲平
Minoru Morita
穣 森田
Tokimitsu Kuwabara
勅光 桑原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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Publication of JPH11319844A publication Critical patent/JPH11319844A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/48Treatment of water, waste water, or sewage with magnetic or electric fields
    • C02F1/488Treatment of water, waste water, or sewage with magnetic or electric fields for separation of magnetic materials, e.g. magnetic flocculation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/52Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/66Treatment of water, waste water, or sewage by neutralisation; pH adjustment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C02TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02FTREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/72Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
    • C02F1/76Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with halogens or compounds of halogens

Landscapes

  • Separation Of Suspended Particles By Flocculating Agents (AREA)
  • Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】浄水処理における必要な機器の設置面積を小さ
くする。 【解決手段】急速ろ過システムの中の沈澱池やろ過池の
代わりに超電導磁気分離システムを用いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は浄水システムに関す
る。
【0002】
【従来の技術】水源地で取水された原水はほとんどの場
合、そのままでは飲料に供することができないので飲料
水の水質基準値を満たすように浄水処理を受けて飲用に
適する浄水となるまで質の改善が行われる。
【0003】今日の最も一般的な浄水法である急速ろ過
システムは懸濁物の除去と細菌の無害化がその主な機能
であり、凝集,沈澱,ろ過,殺菌の4つのプロセスから
成る。公知例は特開昭64−34411 号公報に記載されてい
る。消毒プロセスについては、特開昭64−34411 号公報
においては触れられていないが、例えば「新体系土木工
学88 上水道」 社団法人土木学会編 丹保憲仁著
技報堂出版発行の143から146頁ではごく一般的に行
われるプロセスとして述べられている。
【0004】急速ろ過システムにおいて沈澱プロセスと
ろ過プロセスではそれぞれ広大な面積を持つ池が必要
で、これらの池の面積が浄水場全体に占める割合が約5
0%に上る場合がある。
【0005】図3は急速ろ過システムの概要である。水
源から送られてきた水はまず着水井1にはいる。原水が
高度に汚染されている場合には前塩素11を投入する。
また、後段で投入する凝集剤で効果的にフロックを形成
できるように凝集補助剤12を投入しpH値を整える。
次に急速混和池2に送り、凝集剤13を投入して急速に
攪拌した後フロック形成池3において緩速攪拌して後段
の処理に適すフロックを作る(凝集プロセス)。
【0006】その後沈澱池4にて大きなフロックを沈降
分離する(沈澱プロセス)。上澄水にろ過助剤14及び
中塩素15を投入し急速ろ過池5に入れ小さな懸濁物を
除去するために砂ろ過を行う(ろ過プロセス)。その後
塩素混和池6で後塩素16とpH調整剤17を投入し消
毒,無害化する(消毒プロセス)。そして送水まで浄水
池7に貯留する。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】人口の増加や生活習慣
の変化などで水道水の需要が増えると、浄水場の新設や
既設浄水場の能力増大を行う必要が生じるが、広大な用
地を必要とするため用地確保が難しく、浄水場をなるべ
く狭い面積に収めることが求められている。
【0008】本発明の目的は、浄水場単位面積当たりの
処理量を増大する浄水システムを提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】そこで、沈澱プロセスや
ろ過プロセスを超電導磁気分離システムで置き換えると
浄水場全体の面積が縮小できる。
【0010】超電導磁気分離装置は、凝集剤,磁性粉を
原水に添加して、原水中の懸濁物を磁性フロック(磁性
粉を含む凝集体)化する前処理プロセスと、磁気フィル
タにより水の中から磁性フロックを除去する磁気分離プ
ロセス、および遠心分離などにより磁性フロックから磁
性粉を回収し、残った汚泥の処理を行う後処理プロセス
の3つのプロセスから成る。
【0011】超電導磁気分離装置の運転操作例を図4に
示す。被処理水には、あらかじめ水を加えよく撹拌して
おいた四酸化三鉄等の磁性粉109を加え、次に、水溶
液化したポリ塩化アルミニウム等の凝集剤112を加
え、必要ならば水酸化ナトリウム等のpH調整剤115
を注入する。次に急速撹絆装置117で急速に撹拌す
る。次に緩速撹絆装置119で緩速撹絆し、磁性フロッ
クを成長させる。フロック強度を上げるため、水に溶解
させた高分子120を、緩速撹拌装置と急速撹拌装置の
間に取り付けた注入装置121aもしくは緩速撹拌装置
119に取り付けた注入装置121bで加える。121
aと121bはどちらかを取り付ければよい。ここで、
高分子の溶解工程や緩速撹拌工程に高い剪断力を持つ高
速回転ミキサーを使うと、高分子鎖を切断し凝集性能の
低下を招くので避ける。
【0012】以上で磁性フロックを含む前処理水123
ができる。前処理水123は弁124を経て、磁気分離部
125内に流入する。磁気分離部125では超電導磁石
が発生する磁気により水から磁性フロックを分離除去す
る。磁性凝集体を取り除かれた処理水は弁126を通し
て流出する。磁気分離部125で捕捉された磁性フロッ
クは所定の周期で圧縮空気製造手段128によって作ら
れた圧縮空気を弁129を通して磁気分離部125内に導
き、フィルタをエアバブリングすることにより洗浄され
る。磁性フロックを含む逆洗処理水130は弁131を
通って逆洗処理水槽132に貯められる。この逆洗処理
水は逆洗処理水槽132から運び出され別途処理され
る。
【0013】この超電導磁気分離装置に必要なもので急
速ろ過浄水場にないものは、磁気分離部の他には磁性粉
混入設備と磁性粉分離設備程度であるため、既存の浄水
場の処理能力を増大させる際にも設備を大改造すること
なく目的を達成できる。
【0014】
【発明の実施の形態】第1の発明による発明の概要を図
1に示す。図3に示した従来の急速ろ過システムにおけ
る急速ろ過池5を超電導磁気分離装置500に置き換え
たものである。
【0015】水源から送られてきた水はまず着水井1に
はいる。原水が高度に汚染されている場合には前塩素1
1を投入する。また、後段で投入する凝集剤で効果的に
フロックを形成できるように凝集補助剤12を投入し、
pH値を整える。次に急速混和池2に送り、凝集剤13
と磁性粉109を投入して急速に攪拌する。凝集剤は急
速ろ過システムで用いているものと同じでよい。その後
フロック形成池3において緩速攪拌して後段の処理に適
す磁性フロックを作る。
【0016】その後、超電導磁気分離装置500で磁性
フロックを除去する。その後、ろ過助剤14及び中塩素
15を投入し急速ろ過池5に入れ小さな懸濁物を除去す
るために砂ろ過を行う。その後塩素混和池6で後塩素1
6とpH調整剤17を投入し消毒,無害化する。そして
送水まで浄水池7に貯留する。
【0017】第2の発明による発明の概要を図2に示
す。図1に示したシステムにくらべ、急速ろ過池5が省
略されている。超電導磁気分離装置により飲料に適する
レベルまで懸濁物質を除去できる場合には急速ろ過池5
も省略することが可能であり、より一層の省スペース化
が可能となる。
【0018】
【発明の効果】浄水施設において、広大な面積を必要と
する沈澱池や急速ろ過池の代わりに、超電導磁気分離装
置を用いることで、浄水施設に必要な土地の面積を縮小
する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による一実施例である浄水システムのブ
ロック図。
【図2】本発明による一実施例である浄水システムのブ
ロック図。
【図3】急速ろ過システムの従来技術による一実施例の
ブロック図。
【図4】超電導磁気分離装置の従来技術による一実施例
のブロック図。
【符号の説明】
1…着水井、2…急速混和池、3…フロック形成池、4
…沈澱池、5…急速ろ過池、6…塩素混和池、7…浄水
池、11…前塩素、12…凝集補助剤、13…凝集剤、
14…ろ過助剤、15…中塩素、16…後塩素、17…
pH調整剤、109…磁性粉、112…凝集剤、115
…pH調整剤、117…急速撹絆装置、119…緩速撹
絆装置、120…高分子の水溶液、121…高分子注入
装置、123…磁性フロックを含む前処理水、125…
超電導磁気分離部、128…圧縮空気製造手段、130
…磁性フロックを含む逆洗処理水、132…逆洗処理水
槽。
フロントページの続き (72)発明者 桑原 勅光 茨城県土浦市神立町603番地 株式会社日 立製作所土浦工場内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】浄水処理の急速ろ過浄水処理システムにお
    ける沈澱プロセスを超電導磁気分離装置で行うことを特
    徴とする水処理システム。
JP10140798A 1998-05-22 1998-05-22 浄水システム Pending JPH11319844A (ja)

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JP10140798A JPH11319844A (ja) 1998-05-22 1998-05-22 浄水システム

Applications Claiming Priority (1)

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JP10140798A JPH11319844A (ja) 1998-05-22 1998-05-22 浄水システム

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JPH11319844A true JPH11319844A (ja) 1999-11-24

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