JPH11307414A - Remote controller for semiconductor aligner - Google Patents

Remote controller for semiconductor aligner

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JPH11307414A
JPH11307414A JP10128106A JP12810698A JPH11307414A JP H11307414 A JPH11307414 A JP H11307414A JP 10128106 A JP10128106 A JP 10128106A JP 12810698 A JP12810698 A JP 12810698A JP H11307414 A JPH11307414 A JP H11307414A
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JP
Japan
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information
semiconductor
remote control
semiconductor exposure
error
Prior art date
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Pending
Application number
JP10128106A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroiku Okochi
浩幾 大河内
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
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Publication of JPH11307414A publication Critical patent/JPH11307414A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the deterioration of the activity ratio of a semiconductor aligner, by surely communicating information to an operator even when an error or assist demand is generated in the semiconductor aligner in a situation in which the operator cannot monitor the remote controller of the semiconductor aligner. SOLUTION: A ratio communication equipment for transmitting information is loaded on a remote controller 2 for remote controller one or more semiconductor aligners 1, and information is transmitted according to the generation of an error or assist demand in the semiconductor aligner 1. An operator carries an information receiving device 10 such as a pager for receiving information transmitted from the remote controller 2 anytime.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体露光装置の遠
隔操作装置、半導体製造システムおよび半導体製造方法
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a remote control device for a semiconductor exposure apparatus, a semiconductor manufacturing system, and a semiconductor manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造工場ではクリーンルームにお
ける無人化や省力化を目的として、半導体露光装置の遠
隔操作システムが導入されている。この遠隔操作システ
ムによりオペレータがクリーンルーム内に入ることなく
複数の半導体露光装置の操作や監視をすることができ
る。
2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing plant, a remote control system of a semiconductor exposure apparatus is introduced for the purpose of unmanned operation and labor saving in a clean room. This remote operation system allows an operator to operate and monitor a plurality of semiconductor exposure apparatuses without entering the clean room.

【0003】以下にこのような従来の半導体露光装置の
遠隔操作システムを図3および4を用いて説明する。図
3は従来の遠隔操作システムの外観図を示す。同図中、
1は半導体露光装置、2は遠隔操作装置、3は遠隔操作
装置2の操作部、4は遠隔操作する半導体露光装置を選
択するための装置選択スイッチ、6は遠隔操作装置2に
接続されている半導体露光装置1に発生した異常(エラ
ー)やオペレータの介在要求(アシスト要求)を表示す
る装置状態表示部、7はエラーやアシスト要求の発生を
通知するブザー、9は半導体露光装置1と遠隔遠隔操作
装置2間を双方向に各種情報を送受する通信ラインであ
る。
Hereinafter, such a conventional remote control system for a semiconductor exposure apparatus will be described with reference to FIGS. FIG. 3 shows an external view of a conventional remote control system. In the figure,
1 is a semiconductor exposure apparatus, 2 is a remote operation apparatus, 3 is an operation unit of the remote operation apparatus 2, 4 is an apparatus selection switch for selecting a semiconductor exposure apparatus to be remotely operated, and 6 is connected to the remote operation apparatus 2. An apparatus status display unit for displaying an abnormality (error) occurring in the semiconductor exposure apparatus 1 or an operator's intervention request (assist request), a buzzer 7 for notifying the occurrence of an error or an assist request, and a remote control 9 for the semiconductor exposure apparatus 1 This is a communication line for transmitting and receiving various information between the operation devices 2 in both directions.

【0004】オペレータは遠隔操作装置2から操作対象
の半導体露光装置1を指定して、操作部3から操作する
と通信ライン9を通じて半導体露光装置1を操作でき
る。また半導体露光装置1でエラーが発生したり、オペ
レータの介在が必要となった場合は通信ライン9を通じ
て遠隔操作装置2に通知され、ブザー7および装置状態
表示部6によりその状態が示される。また自動的に操作
部3が異常の発生した装置へ切り換わり、画面表示およ
び操作可能状態となることも可能である。
When the operator designates the semiconductor exposure apparatus 1 to be operated from the remote controller 2 and operates the operation unit 3, the operator can operate the semiconductor exposure apparatus 1 through the communication line 9. When an error occurs in the semiconductor exposure apparatus 1 or when an operator's intervention is required, the remote operation apparatus 2 is notified through the communication line 9, and the state is indicated by the buzzer 7 and the apparatus state display unit 6. Further, the operation unit 3 can be automatically switched to the device in which the abnormality has occurred, and can be brought into a screen display and operable state.

【0005】図4は従来の遠隔操作システムの概念図を
示す。クリーンルーム内にある複数台の半導体露光装置
1とクリーンルーム外にある遠隔操作装置2が通信ライ
ン9で接続され、オペレータにより集中操作、監視され
ている。遠隔操作装置2に接続できる半導体露光装置1
の台数は決まっているため、さらに別の遠隔操作装置2
により同様のシステムが形成されている。
FIG. 4 is a conceptual diagram of a conventional remote control system. A plurality of semiconductor exposure apparatuses 1 in a clean room and a remote control apparatus 2 outside the clean room are connected by a communication line 9 and are collectively operated and monitored by an operator. Semiconductor exposure apparatus 1 that can be connected to remote control device 2
Since the number of the remote control devices is determined,
Form a similar system.

【0006】半導体露光装置の稼動率を高めるために
は、装置に異常が発生したりオペレータの介在が必要と
なった場合に、素早く対応することが必要である。従来
の遠隔操作システムでは半導体露光装置にこのようなエ
ラーやアシスト要求が発生した場合には、遠隔操作装置
の操作部に情報が表示されると同時に音響装置や表示装
置により近傍にいるオペレータに通知し、対応を要求す
るようになっている。
In order to increase the operation rate of the semiconductor exposure apparatus, it is necessary to quickly respond to the occurrence of an abnormality in the apparatus or the need for operator intervention. In the conventional remote operation system, when such an error or assist request occurs in the semiconductor exposure apparatus, information is displayed on the operation unit of the remote operation apparatus and, at the same time, a nearby operator is notified by an acoustic device or a display device. And request a response.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】装置の信頼性の向上と
ともにオペレータが一人で監視する装置の数も増えてき
ている。また遠隔操作装置の設置条件により、必ずしも
一個所に遠隔操作装置を設置できるとは限らない。こう
いった理由からオペレータが常時すべての遠隔操作装置
を監視することは困難であり、場合によっては異常が発
生したまま放置され装置の稼動率が低下する状況も発生
している。
As the reliability of the apparatus is improved, the number of apparatuses monitored by an operator alone is increasing. Also, depending on the installation conditions of the remote operation device, it is not always possible to install the remote operation device in one place. For these reasons, it is difficult for the operator to constantly monitor all the remote control devices, and in some cases, the operation rate of the devices is reduced due to being left unattended with an abnormality.

【0008】本発明の目的は、上記従来技術の課題を解
決し、オペレータが半導体露光装置の遠隔操作装置を監
視できない状況において半導体露光装置でエラーやアシ
スト要求が発生した場合でも、確実にオペレータに情報
を通知し装置の稼働率の低下を防止できる半導体露光装
置の遠隔操作装置を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, and to surely provide an operator with an error or an assist request in a semiconductor exposure apparatus in a situation where the operator cannot monitor a remote control device of the semiconductor exposure apparatus. An object of the present invention is to provide a remote control device of a semiconductor exposure apparatus which can notify information and prevent a decrease in the operation rate of the apparatus.

【0009】[0009]

【課題を解決する手段および作用】上記の目的を達成す
るために本発明では、1台あるいは複数台の半導体露光
装置を遠隔操作可能な遠隔操作装置において、半導体露
光装置の情報を無線により発信するため、遠隔操作装置
に情報発信のできる通信装置等の情報発信手段を設ける
ことを特徴とする。この情報発信手段は、通常、半導体
露光装置の運転開始、終了や継続中等の運転状態に加え
て、半導体露光装置でのエラーやアシスト要求等の事象
の発生を検知し、検知した事象に基いた情報を発信す
る。
In order to achieve the above object, according to the present invention, in a remote control device capable of remotely controlling one or a plurality of semiconductor exposure apparatuses, information on the semiconductor exposure apparatuses is transmitted wirelessly. Therefore, the remote control device is provided with information transmitting means such as a communication device capable of transmitting information. This information transmission means usually detects the occurrence of an event such as an error or an assist request in the semiconductor exposure apparatus, in addition to the operation state of the semiconductor exposure apparatus such as start, end, and ongoing operation, and based on the detected event. Disseminate information.

【0010】また、情報発信手段から発信される情報に
は、エラーやアシスト要求がどの装置で発生したかを識
別するための識別情報や、エラーやアシスト要求がどの
ような内容かを識別するためのエラーコード等の識別情
報を含み、その時点で対応の緊急度が判別できるように
することが望ましい。
[0010] The information transmitted from the information transmitting means includes identification information for identifying an apparatus in which the error or the assist request has occurred, and information about the content of the error or the assist request. It is desirable to include the identification information such as the error code described above so that the urgency of the response can be determined at that time.

【0011】本発明の半導体製造システムは、1台ある
いは複数台の半導体露光装置と、半導体露光装置を遠隔
操作可能な上述の遠隔操作装置と、遠隔操作装置の情報
発信手段からの情報を受信するための情報受信装置とを
具備し、情報受信装置がオペレータに携帯可能な携帯受
信装置を有することを特徴とする。
A semiconductor manufacturing system according to the present invention receives one or more semiconductor exposure apparatuses, the above-mentioned remote operation apparatus capable of remotely operating the semiconductor exposure apparatus, and information from information transmitting means of the remote operation apparatus. And an information receiving device for the operator, wherein the information receiving device has a portable receiving device that can be carried by an operator.

【0012】オペレータはページャー等の情報受信装置
を携帯することにより、遠隔操作装置から発信される情
報をいつでも受けられるようにする。この情報受信装置
は、情報発信手段から発信する情報を携帯受信装置で直
接受信するものでもよく、他の通信設備を経由して携帯
受信装置で受信するものでもよい。
An operator carries an information receiving device such as a pager so that information transmitted from a remote control device can be received at any time. The information receiving device may be a device that directly receives information transmitted from the information transmitting means by the portable receiving device, or may be a device that receives the information via another communication facility.

【0013】本発明のデバイス製造方法は、1台あるい
は複数台の半導体露光装置を遠隔操作して半導体デバイ
スを製造する方法であって、半導体露光装置で事象が発
生した際に、事象の発生を検知し、検知した事象に基い
た情報を遠隔操作装置から無線により発信することを特
徴とする。
A device manufacturing method according to the present invention is a method for manufacturing a semiconductor device by remotely controlling one or more semiconductor exposure apparatuses. When an event occurs in the semiconductor exposure apparatus, the occurrence of the event is determined. It is characterized by detecting and transmitting wirelessly information based on the detected event from the remote control device.

【0014】これによりオペレータは遠隔操作装置の近
傍で監視していなくても即座に装置のエラーやアシスト
要求を知って迅速な対応をすることが可能となり、装置
の稼動率を高めることができる。
Thus, even if the operator does not monitor in the vicinity of the remote control device, the operator can immediately know the error of the device and the assist request and can take a quick response, thereby increasing the operation rate of the device.

【0015】[0015]

【実施例】本発明の一実施例について図を用いて説明す
る。図1に本実施例における遠隔操作装置の機能ブロッ
クを示す。1は半導体露光装置、2は半導体露光装置を
遠隔操作するための遠隔操作装置、3は遠隔操作装置2
における操作部、4は遠隔操作を行なう半導体露光装置
を選択するための装置選択スイッチ、5は装置選択スイ
ッチ4にしたがって遠隔操作する半導体露光装置を切り
換える遠隔操作対象切り換え部、6は遠隔操作装置2に
接続されている半導体露光装置のエラーやアシスト要求
を表示する装置状態表示部、7はエラーやアシスト要求
の発生を通知するブザー、8は半導体露光装置のエラー
やアシスト要求の発生を検知して情報を発信する情報発
信部、9は半導体露光装置と遠隔操作装置2間を双方向
に各種情報を送受する通信ライン、10はオペレータが
携帯する情報受信装置、11は情報受信部、12は受信
した情報を表示する受信情報表示部、13は情報受信を
通知するブザーや振動発生器を含む受信通知部、14は
構内電話設備の受信部、15は構内電話設備の送信部で
ある。
An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 shows functional blocks of the remote control device according to the present embodiment. 1 is a semiconductor exposure device, 2 is a remote control device for remotely controlling the semiconductor exposure device, 3 is a remote control device 2
, 4 is a device selection switch for selecting a semiconductor exposure device to be remotely operated, 5 is a remote operation target switching unit for switching a semiconductor exposure device to be remotely operated according to the device selection switch 4, and 6 is a remote operation device 2. A device status display unit for displaying an error or an assist request of a semiconductor exposure apparatus connected to the apparatus; 7 a buzzer for notifying the occurrence of an error or an assist request; and 8 for detecting an error or an assist request of the semiconductor exposure apparatus. An information transmission unit for transmitting information; 9 a communication line for transmitting and receiving various information between the semiconductor exposure apparatus and the remote control device 2 in both directions; 10 an information receiving device carried by an operator; 11 an information receiving unit; A reception information display unit for displaying received information, a reception notification unit 13 including a buzzer or a vibration generator for notifying the reception of information, and a reception notification unit 14 for a private telephone system. Part, 15 is a transmission unit of the private telephone equipment.

【0016】図2に本実施例における半導体製造システ
ムの外観図を示す。半導体露光装置1でエラーやアシス
ト要求が発生すると、通信ライン9によって遠隔操作装
置2に通知される。遠隔操作装置2ではその半導体露光
装置1を遠隔操作しているしていないに関わらず、装置
状態表示部6に表示を行ない、ブザー7を鳴らして近傍
にいるオペレータに通知する。この時オペレータが遠隔
操作装置2の近傍にいないときには表示部6やブザー7
といった通知手段は無効となる。
FIG. 2 is an external view of a semiconductor manufacturing system according to this embodiment. When an error or an assist request occurs in the semiconductor exposure apparatus 1, the remote operation apparatus 2 is notified by the communication line 9. Regardless of whether the semiconductor exposure apparatus 1 is remotely operated, the remote operation apparatus 2 displays a message on the apparatus state display section 6 and sounds a buzzer 7 to notify a nearby operator. At this time, when the operator is not near the remote control device 2, the display unit 6 or the buzzer 7
Such notification means becomes invalid.

【0017】本実施例ではこれらの通知手段と同時に情
報発信部8からエラーやアシスト要求が発生したという
情報を発信する。発信された情報は直接あるいは構内電
話設備14、15を通してオペレータの携帯する情報受
信装置10の情報受信部11で受信され、ブザーや振動
発生装置を持つ受信通知部13によりオペレータに通知
される。オペレータは情報受信装置10を携帯している
ことにより常時遠隔操作装置2の近傍で監視していなく
ても半導体露光装置1でのエラーやアシスト要求の発生
を即座に知ることができる。オペレータは遠隔操作装置
2へ行って詳細情報を入手し、適切な対応を行なう。
In this embodiment, information indicating that an error or an assist request has occurred is transmitted from the information transmitting unit 8 at the same time as these notifying means. The transmitted information is received by the information receiving unit 11 of the information receiving device 10 carried by the operator directly or through the in-house telephone facilities 14 and 15, and is notified to the operator by a reception notifying unit 13 having a buzzer and a vibration generator. Since the operator carries the information receiving apparatus 10, the operator can immediately know the occurrence of an error or an assist request in the semiconductor exposure apparatus 1 without always monitoring near the remote control device 2. The operator goes to the remote control device 2 to obtain detailed information and takes appropriate measures.

【0018】次に、本発明の他の実施例について説明す
る。情報発信部8から発信する情報に、どの半導体露光
装置にエラーやアシスト要求が発生したかを示す識別情
報とエラーやアシスト要求の内容を示す識別情報を加え
る。情報受信装置10では受信通知部13でオペレータ
に通知すると同時に受信情報表示部12にそれらの識別
情報を表示する。オペレータはその情報により遠隔操作
装置で対応するか半導体露光装置で対応するかが判断で
きるためさらに短時間で適切な対応が可能となる。
Next, another embodiment of the present invention will be described. To the information transmitted from the information transmitting unit 8, identification information indicating which semiconductor exposure apparatus has generated an error or an assist request and identification information indicating the content of the error or the assist request are added. In the information receiving apparatus 10, the reception notifying section 13 notifies the operator and displays the identification information on the received information display section 12 at the same time. The operator can determine whether the response is performed by the remote control device or the semiconductor exposure device based on the information, so that an appropriate response can be performed in a shorter time.

【0019】次に、上記説明した半導体露光装置の遠隔
操作装置を利用したデバイスの生産方法を説明する。
Next, a method for manufacturing a device using the remote control device of the semiconductor exposure apparatus described above will be described.

【0020】図3は微小デバイス(ICやLSI等の半
導体チップ、液晶パネル、CCD、薄膜磁気ヘッド、マ
イクロマシン等)の製造のフローを示す。ステップ1
(回路設計)では半導体デバイスの回路設計を行う。ス
テップ2(マスク製作)では設計したパターンを形成し
たマスクを製作する。一方、ステップ3(ウエハ製造)
ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを製造す
る。ステップ4(ウエハプロセス)は前工程と呼ばれ、
上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技
術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステ
ップ5(組み立て)は後工程と呼ばれ、ステップ4によ
って作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程
であり、アッセンブリ工程(ダイシング、ボンディン
グ)、パッケージング工程(チップ封入)等の工程を含
む。ステップ6(検査)では、ステップ5で作製された
半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検
査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成
し、これが出荷(ステップ7)される。
FIG. 3 shows a flow of manufacturing micro devices (semiconductor chips such as ICs and LSIs, liquid crystal panels, CCDs, thin-film magnetic heads, micro machines, etc.). Step 1
In (circuit design), a circuit of a semiconductor device is designed. Step 2 is a process for making a mask on the basis of the designed pattern. Step 3 (wafer manufacturing)
Then, a wafer is manufactured using a material such as silicon or glass. Step 4 (wafer process) is called a pre-process,
An actual circuit is formed on the wafer by lithography using the prepared mask and wafer. The next step 5 (assembly) is called a post-process, and is a process of forming a semiconductor chip using the wafer produced in step 4, and includes processes such as an assembly process (dicing and bonding) and a packaging process (chip encapsulation). including. In step 6 (inspection), inspections such as an operation check test and a durability test of the semiconductor device manufactured in step 5 are performed. Through these steps, a semiconductor device is completed and shipped (step 7).

【0021】図4は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ11(酸化)ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ12(CVD)ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ13(電極形成)ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ14(イオン
打込み)ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ15
(レジスト処理)ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ16(露光)では上記説明した露光の適否を確認す
る手段を有する露光装置によってマスクの回路パターン
をウエハに焼付露光する。ステップ17(現像)では露
光したウエハを現像する。ステップ18(エッチング)
では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステッ
プ19(レジスト剥離)ではエッチングが済んで不要と
なったレジストを取り除く。これらのステップ11〜1
9を繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路
パターンが形成される。本実施例ではこの繰り返しの各
プロセスにおいて、上記述べたように露光(ステップ1
6)時に、エラーやアシスト要求等の発生による影響を
最小限に抑え、効率的にデバイスを製造することを可能
にしている。
FIG. 4 shows a detailed flow of the wafer process. Step 11 (oxidation) oxidizes the wafer's surface. Step 12 (CVD) forms an insulating film on the wafer surface. Step 13 (electrode formation) forms electrodes on the wafer by vapor deposition. In step 14 (ion implantation), ions are implanted into the wafer. Step 15
In (resist processing), a photosensitive agent is applied to the wafer. In step 16 (exposure), the circuit pattern on the mask is printed and exposed on the wafer by the exposure apparatus having the above-described means for confirming the suitability of the exposure. Step 17 (development) develops the exposed wafer. Step 18 (etching)
Then, portions other than the developed resist image are scraped off. In step 19 (resist stripping), unnecessary resist after etching is removed. These steps 11-1
By repeating step 9, multiple circuit patterns are formed on the wafer. In this embodiment, in each of the repetitive processes, the exposure (step 1) is performed as described above.
6) Sometimes, the effects of errors, assist requests, and the like are minimized, making it possible to efficiently manufacture devices.

【0022】本実施例の製造方法を用いれば、従来は製
造が難しかった高集積度の半導体デバイスを低コストで
製造することができる。
By using the manufacturing method of this embodiment, it is possible to manufacture a highly integrated semiconductor device, which was conventionally difficult to manufacture, at low cost.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば半導体露
光装置でエラーやアシスト要求が発生したときに遠隔操
作装置からその情報を発信して、オペレータの携帯情報
受信装置に通知することにより、オペレータが遠隔操作
装置を常時監視していなくても素早くエラーやアシスト
要求に対応することが可能となり、装置の稼動率を高め
ることができる。
As described above, according to the present invention, when an error or an assist request is generated in the semiconductor exposure apparatus, the information is transmitted from the remote control device to notify the portable information receiving device of the operator. Even if the operator does not constantly monitor the remote control device, it is possible to quickly respond to an error or an assist request, thereby increasing the operation rate of the device.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明における遠隔操作装置の機能ブロック
図。
FIG. 1 is a functional block diagram of a remote control device according to the present invention.

【図2】 本発明における半導体露光装置の遠隔操作シ
ステムの外観図。
FIG. 2 is an external view of a remote control system of the semiconductor exposure apparatus according to the present invention.

【図3】 微小デバイスの製造工程を示すフローチャー
ト。
FIG. 3 is a flowchart showing a manufacturing process of a micro device.

【図4】 図3のウエハプロセスの詳細なフローチャー
ト。
FIG. 4 is a detailed flowchart of the wafer process of FIG. 3;

【図5】 従来の半導体露光装置の遠隔操作システムの
外観図。
FIG. 5 is an external view of a conventional remote control system for a semiconductor exposure apparatus.

【図6】 従来の半導体露光装置の遠隔操作システムの
概念図。
FIG. 6 is a conceptual diagram of a conventional remote control system for a semiconductor exposure apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:半導体露光装置、2:遠隔操作装置、3:操作部、
4:装置選択スイッチ、5:遠隔操作対象切り換え部、
6:装置状態表示部、7:ブザー、8:情報発信部、
9:通信ライン、10:情報受信装置、11:情報受信
部、12:受信情報表示部、13:受信通知部、14:
構内電話設備受信部、15:構内電話設備送信部。
1: semiconductor exposure apparatus, 2: remote control device, 3: operation unit,
4: Device selection switch, 5: Remote operation target switching unit,
6: device status display section, 7: buzzer, 8: information transmission section,
9: communication line, 10: information receiving device, 11: information receiving unit, 12: received information display unit, 13: reception notifying unit, 14:
Private telephone equipment receiving unit, 15: Private telephone equipment transmitting unit.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 1台あるいは複数台の半導体露光装置を
遠隔操作可能な遠隔操作装置において、該遠隔操作装置
に、該半導体露光装置の情報を無線により発信するため
の情報発信手段を設けることを特徴とする半導体露光装
置の遠隔操作装置。
1. A remote control device capable of remotely controlling one or a plurality of semiconductor exposure apparatuses, wherein the remote control apparatus is provided with information transmitting means for wirelessly transmitting information on the semiconductor exposure apparatus. Characteristic remote control device for semiconductor exposure equipment.
【請求項2】 前記情報発信手段は前記半導体露光装置
での事象の発生を検知し、検知した事象に基いた情報を
発信することを特徴とする請求項1記載の遠隔操作装
置。
2. The remote control device according to claim 1, wherein said information transmission means detects occurrence of an event in said semiconductor exposure apparatus and transmits information based on the detected event.
【請求項3】 前記事象がエラーまたはアシスト要求で
あることを特徴とする請求項2記載の遠隔操作装置。
3. The remote control device according to claim 2, wherein the event is an error or an assist request.
【請求項4】 前記情報発信手段から発信される情報
に、前記エラーまたは前記アシスト要求がどの装置で発
生したかを識別するための識別情報が含まれることを特
徴とする請求項3記載の遠隔操作装置。
4. The remote control according to claim 3, wherein the information transmitted from the information transmitting means includes identification information for identifying which device has generated the error or the assist request. Operating device.
【請求項5】 前記情報発信手段から発信される情報
に、前記エラーまたは前記アシスト要求がどのような内
容かを識別するための識別情報が含まれることを特徴と
する請求項3記載の遠隔操作装置。
5. The remote operation according to claim 3, wherein the information transmitted from the information transmitting means includes identification information for identifying the content of the error or the assist request. apparatus.
【請求項6】 1台あるいは複数台の半導体露光装置
と、該半導体露光装置を遠隔操作可能な請求項1〜5に
記載の遠隔操作装置と、該遠隔操作装置の情報発信手段
からの情報を受信するための情報受信装置とを具備し、
該情報受信装置がオペレータに携帯可能な携帯受信装置
を有することを特徴とする半導体製造システム。
6. One or more semiconductor exposure apparatuses, the remote operation apparatus according to claim 1, wherein said semiconductor exposure apparatus can be remotely controlled, and information from information transmission means of said remote operation apparatus. An information receiving device for receiving,
A semiconductor manufacturing system, wherein the information receiving device has a portable receiving device that can be carried by an operator.
【請求項7】 前記情報受信装置が、前記情報発信手段
から発信する情報を前記携帯受信装置で直接受信するも
のであることを特徴とする請求項6記載の半導体製造シ
ステム。
7. The semiconductor manufacturing system according to claim 6, wherein said information receiving apparatus directly receives information transmitted from said information transmitting means by said portable receiving apparatus.
【請求項8】 前記情報受信装置が、前記情報発信手段
から発信する情報を他の通信設備を経由して前記携帯受
信装置で受信するものであることを特徴とする請求項6
記載の半導体製造システム。
8. The information receiving apparatus according to claim 6, wherein the information transmitted from the information transmitting means is received by the portable receiving apparatus via another communication facility.
The semiconductor manufacturing system according to the above.
【請求項9】 1台あるいは複数台の半導体露光装置を
遠隔操作して半導体デバイスを製造する方法であって、
該半導体露光装置で事象が発生した際に、該事象の発生
を検知し、検知した事象に基いた情報を該遠隔操作装置
から無線により発信することを特徴とする半導体製造方
法。
9. A method for manufacturing a semiconductor device by remotely controlling one or more semiconductor exposure apparatuses, comprising:
When an event occurs in the semiconductor exposure apparatus, the occurrence of the event is detected, and information based on the detected event is wirelessly transmitted from the remote control device.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002289492A (en) * 2001-03-23 2002-10-04 Ricoh Co Ltd Method and system for semiconductor test consignment
JP4480290B2 (en) * 2001-03-23 2010-06-16 株式会社リコー Semiconductor test contract method and system

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