JPH11305162A - Optical scanner - Google Patents
Optical scannerInfo
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- JPH11305162A JPH11305162A JP11680798A JP11680798A JPH11305162A JP H11305162 A JPH11305162 A JP H11305162A JP 11680798 A JP11680798 A JP 11680798A JP 11680798 A JP11680798 A JP 11680798A JP H11305162 A JPH11305162 A JP H11305162A
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- movable plate
- optical scanner
- deflection angle
- coil
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光源からの光を反
射し、その反射光を1次元または2次元に走査する小型
の光スキャナに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a small optical scanner which reflects light from a light source and scans the reflected light in one or two dimensions.
【0002】[0002]
【従来の技術】先に、本願出願人は、半導体(シリコ
ン)基板から半導体集積回路製造技術により形成された
反射鏡、フレーム、およびねじりばねから構成され、電
磁力によって反射鏡を揺動させて光を走査する小型の光
スキャナに関わる発明を特願平8−279340号によ
り開示している。2. Description of the Related Art The applicant of the present invention has a mirror (mirror), a frame, and a torsion spring formed from a semiconductor (silicon) substrate by a semiconductor integrated circuit manufacturing technique. An invention relating to a small optical scanner for scanning light is disclosed in Japanese Patent Application No. 8-279340.
【0003】この光スキャナは、図23に示すように、
支持体801 と、可動板802 と、弾性部材803 と、駆動コ
イル804 と、永久磁石805 と、配線806 と、パッド807
から構成されている。This optical scanner is, as shown in FIG.
Support body 801, movable plate 802, elastic member 803, drive coil 804, permanent magnet 805, wiring 806, pad 807
It is composed of
【0004】ここで、弾性部材803 は、ポリイミド樹脂
等の弾性体から構成され、その内部に駆動コイル804 と
パッド807 を接続する配線806 が形成されている。ま
た、可動板802 の少なくとも一方の面には反射鏡が形成
されており、可動板802 を揺動させることによって可動
板802 からの反射光が走査される。Here, the elastic member 803 is made of an elastic body such as a polyimide resin, and a wiring 806 for connecting the drive coil 804 and the pad 807 is formed therein. A reflecting mirror is formed on at least one surface of the movable plate 802, and the light reflected from the movable plate 802 is scanned by swinging the movable plate 802.
【0005】そして、支持体801 と可動板802 とは、シ
リコン基板等の部材の所望の箇所をエッチング法によっ
て選択的に除去することにより形成されている。次に、
このように構成されている光スキャナの動作について説
明する。[0005] The support 801 and the movable plate 802 are formed by selectively removing desired portions of a member such as a silicon substrate by an etching method. next,
The operation of the optical scanner configured as described above will be described.
【0006】図23において、パッド807 に電圧を印加
すると、駆動コイル804 に流れる電流と永久磁石805 が
発生する磁界との相互作用によって、いわゆるローレン
ツ力が生じる。In FIG. 23, when a voltage is applied to a pad 807, a so-called Lorentz force is generated by an interaction between a current flowing through a drive coil 804 and a magnetic field generated by a permanent magnet 805.
【0007】このローレンツ力によって、可動板802
は、2つの弾性部材803 を結ぶ直線を軸として偏向運動
を行う。さらに、本願出願人は、可動板802 の表面に偏
向角検出素子を具備する光スキャナに関わる発明を特願
平9−358901号により開示している。The movable plate 802 is generated by the Lorentz force.
Performs a deflection motion about a straight line connecting the two elastic members 803 as an axis. Further, the applicant of the present application has disclosed an invention relating to an optical scanner having a deflection angle detecting element on the surface of a movable plate 802 in Japanese Patent Application No. 9-358901.
【0008】この光スキャナは、図25に示すように、
可動板902 の表面に駆動コイル904の他に偏向角検出コ
イル908 が形成されている。可動板902 が揺動すると、
永久磁石905 が発生する磁界との相互作用により、偏向
角検出コイル908 の両端に可動板902 の揺動速度に比例
した誘導起電力が発生する。この誘導起電力を時間につ
いて積分することにより、可動板902 の偏向角が計算さ
れる。This optical scanner is, as shown in FIG.
A deflection angle detection coil 908 is formed on the surface of the movable plate 902 in addition to the drive coil 904. When the movable plate 902 swings,
Interaction with the magnetic field generated by the permanent magnet 905 generates an induced electromotive force at both ends of the deflection angle detection coil 908 in proportion to the swing speed of the movable plate 902. By integrating the induced electromotive force with respect to time, the deflection angle of the movable plate 902 is calculated.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】しかるに、上述した本
願出願人による特願平8−279340号および特願平
9−358901号に開示されている光スキャナにおい
ては、未だ解決すべき次のような課題がある。However, the optical scanners disclosed in Japanese Patent Application Nos. 8-279340 and 9-358901 filed by the present applicant have the following problems to be solved. There are issues.
【0010】図23に示されるような本願出願人による
特願平8−279340号に開示されている光スキャナ
においては、その製法上、弾性部材803 は可動板802 の
表面と同一面内に形成されるため、図24に示すように
可動板802 の重心808 がその回動軸809 (可動板802 の
偏向運動の中心軸)から離れた位置に存在する。In the optical scanner disclosed in Japanese Patent Application No. 8-279340 filed by the present applicant as shown in FIG. 23, the elastic member 803 is formed in the same plane as the surface of the movable plate 802 due to its manufacturing method. Therefore, as shown in FIG. 24, the center of gravity 808 of the movable plate 802 is located at a position away from the rotation axis 809 (the center axis of the deflection movement of the movable plate 802).
【0011】このため、図23に示されるような本願出
願人による特願平8−279340号に開示されている
光スキャナにおいては、可動板802 を揺動させた場合に
その振動モードとして弾性部材803 を結ぶ線を軸とした
ねじり振動とは、別の振動モードが発生するという問題
があった。For this reason, in the optical scanner disclosed in Japanese Patent Application No. 8-279340 by the present applicant as shown in FIG. 23, when the movable plate 802 is swung, an elastic member is set as a vibration mode. There is a problem that a different vibration mode is generated from torsional vibration about the line connecting 803 as an axis.
【0012】この問題は、可動板802 を薄く形成するこ
とにより回避可能であるが、その場合、剛性の低下によ
り可動版802 の表面に形成されるミラーの平坦度が劣化
し、さらに、可動板802 の変形に起因する振動モードが
発生しがちであるという新たな問題が生ずる。This problem can be avoided by making the movable plate 802 thin, but in this case, the flatness of the mirror formed on the surface of the movable plate 802 is deteriorated due to the decrease in rigidity, and furthermore, the movable plate 802 is further reduced. A new problem arises in that vibration modes due to deformation of the 802 tend to occur.
【0013】さらに、可動板802 の偏向角を増大させる
ために、駆動コイル804 の巻き数を増加させる場合、薄
膜コイルを可動板802 表面の限られた面積に形成する関
係上、コイルの幅を1/2にしなければならない。Further, when the number of turns of the drive coil 804 is increased in order to increase the deflection angle of the movable plate 802, the width of the coil is reduced due to the fact that the thin film coil is formed on a limited area of the surface of the movable plate 802. Must be halved.
【0014】従って、コイルの電気抵抗がほぼ巻き数の
2乗に比例して増大することになり、コイルを流れる電
流が減少するため、結果的に、可動板802 の偏向角を増
大させることが困難になりがちであるという問題があっ
た。Therefore, the electric resistance of the coil increases substantially in proportion to the square of the number of turns, and the current flowing through the coil decreases. As a result, the deflection angle of the movable plate 802 can be increased. There was a problem that it was difficult.
【0015】さらに、駆動コイルは可動板端部から中央
部にわたる広い面積に形成されるため、図25に示され
るような本願出願人による特願平9−358901号に
開示されている光スキャナにおいては、偏向角検出コイ
ル908 の形成可能な領域が可動板902 の中央部近くの狭
い部分に限定され、偏向角検出コイル908 の感度が低下
しがちであるという問題があった。Further, since the drive coil is formed in a wide area extending from the end of the movable plate to the center, the optical scanner disclosed in Japanese Patent Application No. 9-358901 by the present applicant as shown in FIG. However, there is a problem that the area where the deflection angle detection coil 908 can be formed is limited to a narrow portion near the center of the movable plate 902, and the sensitivity of the deflection angle detection coil 908 tends to decrease.
【0016】本発明は、以上のような点に鑑みてなされ
たもので、大きな偏向角を有し、可動板偏向角の検出感
度が高く、不要振動モードの発生のない光スキャナを提
供するためになされたもので、可動板の重心をその回動
軸に近づけることにより不要振動モードの発生のない光
スキャナを提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above points, and has as its object to provide an optical scanner which has a large deflection angle, has high sensitivity for detecting the movable plate deflection angle, and does not generate unnecessary vibration modes. An object of the present invention is to provide an optical scanner which does not generate an unnecessary vibration mode by bringing a center of gravity of a movable plate close to a rotation axis thereof.
【0017】また、本発明は、不要振動モードの防止や
可動板の慣性モーメントの低減を目的として可動板を薄
く形成した場合に問題となる可動板の剛性低下を防止す
ることが可能な光スキャナを提供することを目的とす
る。The present invention also provides an optical scanner capable of preventing a reduction in rigidity of a movable plate, which is a problem when the movable plate is formed thin for the purpose of preventing unnecessary vibration modes and reducing the moment of inertia of the movable plate. The purpose is to provide.
【0018】また、本発明は、可動板の偏向角の増大や
偏向角の検出感度の向上が可能な光スキャナを提供する
ことを目的とする。また、本発明は、可動板の偏向角を
高感度で検出可能な光スキャナを提供することを目的と
する。Another object of the present invention is to provide an optical scanner capable of increasing the deflection angle of the movable plate and improving the detection sensitivity of the deflection angle. Another object of the present invention is to provide an optical scanner capable of detecting the deflection angle of the movable plate with high sensitivity.
【0019】[0019]
【課題を解決するための手段】本発明によると、上記課
題を解決するために、 1.支持体と、少なくとも一方の面に光を反射するため
の反射面が形成された可動板と、該可動板と前記支持体
との間を、前記可動板の一方の表面と同一平面内におい
て連結する弾性部材と、前記可動板の駆動手段とを具備
し、該駆動手段により前記弾性部材に生ずる弾性変形に
より前記可動板の偏向運動を行う光スキャナであって、
前記可動板の重心が該可動板の回動軸上あるいはその近
傍にあることを特徴とする光スキャナが提供される。 <対応する発明の実施の形態>この発明1.に関する実
施の形態は、後述する第1と第2の実施の形態が対応す
る。According to the present invention, in order to solve the above problems, it is necessary to: A support, a movable plate having a reflection surface for reflecting light on at least one surface, and a connection between the movable plate and the support in the same plane as one surface of the movable plate; An optical scanner comprising: an elastic member to be driven; and a driving unit for the movable plate, wherein the driving unit performs a deflecting motion of the movable plate by elastic deformation generated in the elastic member.
An optical scanner is provided, wherein the center of gravity of the movable plate is on or near the rotation axis of the movable plate. <Corresponding Embodiment of the Invention> The first and second embodiments to be described later correspond to the embodiments related to the present invention.
【0020】この発明1.中の弾性部材は、これらの実
施の形態においては、ねじりばねが対応する。 <作用効果>この発明1.においては、可動板の偏向運
動を行う光スキャナにおいて、前記可動板の重心が前記
可動板の回動軸上あるいはその近傍にあることにより、
不要振動モードの発生を防止することが可能となる。Invention 1 The torsion spring corresponds to the inner elastic member in these embodiments. <Effects of the invention> In the optical scanner performing the deflecting motion of the movable plate, the center of gravity of the movable plate is on or near the rotation axis of the movable plate,
It is possible to prevent the generation of the unnecessary vibration mode.
【0021】また、本発明によると、上記課題を解決す
るために、 2.前記可動板の厚さが前記支持体より薄く、かつ前記
可動板の少なくとも一面に補強用部材が形成されている
ことを特徴とする1.に記載の光スキャナが提供され
る。 <対応する発明の実施の形態>この発明2.に関する実
施の形態は、後述する第1と第2の実施の形態が対応す
る。According to the present invention, in order to solve the above problems, The movable plate has a thickness smaller than that of the support, and a reinforcing member is formed on at least one surface of the movable plate. An optical scanner according to (1) is provided. <Corresponding Embodiment of the Invention> This invention 2. The first and second embodiments to be described later correspond to the embodiments related to the present invention.
【0022】この発明2.中の補強用部材は、これらの
実施の形態おいては、補強用リブが対応する。 <作用効果>この発明2.においても上記発明1.と同
様に、不要振動モードを発生を防止することが可能とな
り、さらに、前記可動板の慣性モーメントが低下するた
め、高効率駆動が可能となる。Invention 2 In these embodiments, the reinforcing member in the inside corresponds to a reinforcing rib. <Effects> This invention 2. In the above-mentioned invention 1. In the same manner as described above, it is possible to prevent the generation of the unnecessary vibration mode, and further, the moment of inertia of the movable plate is reduced, so that highly efficient driving is possible.
【0023】また、この発明2.においては、前記可動
板の剛性や平坦度を損なうことなく、前記可動板を薄く
形成することが可能となる。また、本発明によると、上
記課題を解決するために、 3.支持体と、少なくとも一方の面に光を反射するため
の反射面が形成された可動板と、該可動板と前記支持体
との間を連結する弾性部材と、前記可動板の面に形成さ
れた駆動コイルおよび偏向角検出コイルと、前記可動板
の面に平行な方向に磁界を印加するために配置された磁
石とを具備し、前記駆動コイルに電流を印加することに
より前記弾性部材に生ずる弾性変形により前記可動板の
偏向運動を行う光スキャナであって、前記駆動コイルお
よび偏向角検出コイルの一方あるいは両方が絶縁膜を介
して形成される複層のコイルから構成され、各層に形成
された前記コイル同士が前記絶縁膜に形成されたコンタ
クトホールによって互いに電気的に接続されていること
を特徴とする光スキャナが提供される。 <対応する発明の実施の形態>この発明3.に関する実
施の形態は、後述する第2実施の形態が対応する。Further, according to the invention 2. In this case, the movable plate can be formed thin without deteriorating the rigidity and flatness of the movable plate. According to the present invention, in order to solve the above problems, A support, a movable plate having at least one surface formed with a reflection surface for reflecting light, an elastic member connecting the movable plate and the support, and a movable plate formed on the surface of the movable plate. And a magnet arranged to apply a magnetic field in a direction parallel to the surface of the movable plate, and a current is generated in the elastic member by applying a current to the drive coil. An optical scanner that performs a deflecting movement of the movable plate by elastic deformation, wherein one or both of the drive coil and the deflection angle detection coil are formed of a multilayer coil formed through an insulating film, and are formed on each layer. Wherein the coils are electrically connected to each other by contact holes formed in the insulating film. <Corresponding Embodiment of the Invention> This invention 3. The second embodiment described below corresponds to an embodiment related to the present invention.
【0024】この発明3.中の弾性部材は、この実施の
形態においては、ねじりばねが対応する。 <作用効果>この発明3.においては、可動板の偏向運
動を行う光スキャナにおいて、駆動コイルまたは偏向角
検出コイルの形成可能な領域の面積を増大させることが
可能となるため、前記駆動コイルを薄膜コイルで構成し
た場合についても、コイルの電気抵抗を増大させること
なく巻き数を増大させることが可能となり、可動板の偏
向角の増大が可能となる。Invention 3 In this embodiment, a torsion spring corresponds to the inner elastic member. <Effects> This invention 3. In the optical scanner performing the deflecting motion of the movable plate, it is possible to increase the area of the area where the drive coil or the deflection angle detection coil can be formed. The number of turns can be increased without increasing the electric resistance of the coil, and the deflection angle of the movable plate can be increased.
【0025】また、この発明3.においては、偏向角検
出コイルについてもコイルの巻き数の増加により感度の
向上が可能となる。また、本発明によると、上記課題を
解決するために、 4.支持体と、少なくとも一方の面に光を反射するため
の反射面が形成された可動板と、該可動板と前記支持体
との間を連結する弾性部材と、前記可動板の面に形成さ
れた駆動コイルと、前記可動板の面に平行な方向に磁界
を印加するために配置された磁石とを具備し、前記駆動
コイルに電流を印加することにより前記弾性部材に生ず
る弾性変形により前記可動板の偏向運動を行う光スキャ
ナであって、前記可動板が半導体基板から構成され、該
半導体基板内に不純物拡散層からなる偏向角検出用のコ
イルが形成されることにより、該偏向角検出用コイルに
発生する誘導起電力から前記可動板の偏向角を検出する
ことを特徴とする光スキャナが提供される。 <対応する発明の実施の形態>この発明4.に関する実
施の形態は、後述する第2実施の形態が対応する。The present invention In, the sensitivity of the deflection angle detection coil can be improved by increasing the number of turns of the coil. According to the present invention, in order to solve the above problems, A support, a movable plate having at least one surface formed with a reflection surface for reflecting light, an elastic member connecting the movable plate and the support, and a movable plate formed on the surface of the movable plate. A driving coil, and a magnet arranged to apply a magnetic field in a direction parallel to the surface of the movable plate. The movable coil is elastically deformed by applying a current to the driving coil. An optical scanner performing a deflecting motion of a plate, wherein the movable plate is formed of a semiconductor substrate, and a coil for detecting a deflection angle formed of an impurity diffusion layer is formed in the semiconductor substrate, thereby detecting the deflection angle. An optical scanner is provided which detects a deflection angle of the movable plate from an induced electromotive force generated in a coil. <Corresponding Embodiment of the Invention> This invention 4. The second embodiment described below corresponds to an embodiment related to the present invention.
【0026】この発明4.中の弾性部材は、この実施の
形態においては、ねじりばねが対応する。 <作用効果>この発明4.においては、可動板の偏向運
動を行う光スキャナにおいて、検出コイルを可動板内に
形成することにより、検出コイルを可動板の外周部近く
の広い面積にわたって形成することが可能となり、偏向
角検出感度が向上するという効果を有する。Invention 4 In this embodiment, a torsion spring corresponds to the inner elastic member. <Effects> This invention 4. In the optical scanner performing the deflecting motion of the movable plate, the detection coil can be formed in a wide area near the outer peripheral portion of the movable plate by forming the detection coil in the movable plate, and the deflection angle detection sensitivity can be increased. Is improved.
【0027】[0027]
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。 <発明の第1実施の形態>図1は、本発明の第1実施の
形態に係る光スキャナの要部の構成を示す斜視図であ
る。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. <First Embodiment of the Invention> FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a main part of an optical scanner according to a first embodiment of the present invention.
【0028】図2は、図1中C−D間における断面図で
ある。図1において、基本的な構成は、図23に示した
本願出願人による特願平8−279340号の開示と同
様であるが、可動板102 が可能な限り薄膜化され、さら
に、その強度を確保するため、可動板102 の端部に補強
用リブ103 が形成されているとともに、ねじりばね(弾
性部材)104 の表面または内部に、可動板102の偏向角
検出用のピエゾ抵抗体108 が形成されている点が、上述
した本願出願人による特願平8−279340号の開示
と異なっている。FIG. 2 is a sectional view taken along the line CD in FIG. In FIG. 1, the basic configuration is the same as that disclosed in Japanese Patent Application No. 8-279340 by the present applicant shown in FIG. 23, except that the movable plate 102 is made as thin as possible, and furthermore its strength is reduced. To ensure this, a reinforcing rib 103 is formed at the end of the movable plate 102, and a piezoresistor 108 for detecting the deflection angle of the movable plate 102 is formed on or inside the torsion spring (elastic member) 104. This is different from the above-mentioned disclosure of Japanese Patent Application No. 8-279340 by the present applicant.
【0029】なお、図2において、参照符号109,110
は、それぞれ後述するポリイミド層、窒化シリコン膜で
ある。また、説明の便宜上、C−D間における存在しな
い補強用リブ103 及び支持体101 の一部を図示してあ
る。In FIG. 2, reference numerals 109, 110
Are a polyimide layer and a silicon nitride film, respectively, which will be described later. In addition, for convenience of explanation, a part of the reinforcing rib 103 and a part of the support body 101 which do not exist between CD are shown.
【0030】次に、本発明による第1実施形態の作用を
説明する。図1において、図示左側の支持体101 に形成
される2カ所のパッド107 の間に図示しない電源を接続
すると、配線106 を介してねじりばね104 の内部を通過
して可動板102 上に形成された駆動コイル105 に電流が
流れる。Next, the operation of the first embodiment according to the present invention will be described. In FIG. 1, when a power supply (not shown) is connected between two pads 107 formed on the support 101 on the left side of the drawing, the power supply passes through the interior of the torsion spring 104 via the wiring 106 and is formed on the movable plate 102. The current flows through the drive coil 105.
【0031】一方、可動板102 の周囲四辺のうち、ねじ
りばね104 が形成されていない二辺に沿った駆動コイル
105 に、図示しない永久磁石等による外部磁界(図23
参照)が作用し、これと電流の間に働くローレンツ力が
駆動力となり、可動板102 が偏向する。On the other hand, of the four sides around the movable plate 102, drive coils along two sides where the torsion spring 104 is not formed
105, an external magnetic field generated by a permanent magnet (not shown) (FIG. 23)
) Acts, and the Lorentz force acting between this and the current becomes the driving force, and the movable plate 102 is deflected.
【0032】一方、可動板102 の偏向に伴い、ねじりば
ね104 に生ずるひずみによるピエゾ抵抗体108 の抵抗変
化を、配線106 を介して図示右側の支持体101 に形成さ
れる4カ所のパッド107 で検出することにより、偏向角
度を検出することが可能である。On the other hand, the resistance change of the piezoresistor 108 due to the strain generated in the torsion spring 104 due to the deflection of the movable plate 102 is applied to the four pads 107 formed on the support 101 on the right side in FIG. By detecting, it is possible to detect the deflection angle.
【0033】本実施の形態においては、可動板102 を可
能な限り薄く形成することにより、可動板102 の重心を
その回動軸(可動板102 の偏向運動の中心軸)近傍に設
定可能なため不要な振動モードの発生を防止することが
可能となる。In this embodiment, since the movable plate 102 is formed as thin as possible, the center of gravity of the movable plate 102 can be set near its rotation axis (the center axis of the deflection movement of the movable plate 102). It is possible to prevent generation of unnecessary vibration modes.
【0034】また、本実施の形態においては、可動板10
2 を薄く形成することにより、可動板102 の慣性モーメ
ントが低減されるため、高効率駆動が可能となる。ま
た、本実施の形態においては、可動板102 の端部に補強
用リブ103 が形成されていることにより、可動板102 を
薄く形成した場合においても、当該可動板102 の平坦性
を損なわないという効果も有する。In the present embodiment, the movable plate 10
By making 2 thin, the moment of inertia of the movable plate 102 is reduced, so that highly efficient driving is possible. Further, in the present embodiment, since the reinforcing ribs 103 are formed at the ends of the movable plate 102, the flatness of the movable plate 102 is not impaired even when the movable plate 102 is formed thin. It also has an effect.
【0035】次に、製造工程に沿って、本実施の形態を
さらに詳細に説明する。図3乃至図12は、本発明の第
1実施の形態に係る光スキャナの断面構造及び平面構造
を製造工程順に示した図である。Next, the present embodiment will be described in more detail along the manufacturing process. 3 to 12 are views showing a cross-sectional structure and a planar structure of the optical scanner according to the first embodiment of the present invention in the order of manufacturing steps.
【0036】先ず、図3に示すように、シリコン基板30
1 の一方の面に、イオン注入等の方法により高濃度のP
型ドーパントを注入した後、熱酸化することにより、基
板表面に熱酸化膜303 およびP型拡散層302 を形成す
る。First, as shown in FIG.
1 on one side by high concentration P
After the implantation of the type dopant, thermal oxidation is performed to form a thermal oxide film 303 and a P-type diffusion layer 302 on the substrate surface.
【0037】ここで、P型拡散層302 の厚さが、最終的
に、可動板102 の厚さとなるので、希望する可動板102
の厚さに応じてイオン注入や熱酸化の条件を設定する。
さらに、LP-CVD(Law Pressure Chemical Vapor Deposi
tion)等の方法により、熱酸化膜303 表面に窒化シリコ
ン膜304 を形成した後、フォトレジスト等をマスクとし
て拡散層302 の形成された面においては可動板と支持体
の形成予定領域を除く部分の窒化シリコン膜304 を、他
方の面においては次工程でエッチングによりシリコンを
除去する部分の熱酸化膜303 および窒化シリコン膜304
をそれぞれ除去する。Here, since the thickness of the P-type diffusion layer 302 finally becomes the thickness of the movable plate 102, the desired movable plate 102
Conditions for ion implantation and thermal oxidation are set according to the thickness of the substrate.
Furthermore, LP-CVD (Law Pressure Chemical Vapor Deposi
After a silicon nitride film 304 is formed on the surface of the thermal oxide film 303 by a method such as a method, the photoresist layer or the like is used as a mask on the surface where the diffusion layer 302 is formed, excluding the region where the movable plate and the support are to be formed. Of the silicon oxide film 304 and the silicon oxide film 304 on the other surface where the silicon is removed by etching in the next step.
Are respectively removed.
【0038】次に、図4に示すように、シリコン基板30
1 のうち熱酸化膜303 や窒化シリコン膜304 に被覆され
ていない部分を加熱したKOH やTMAH等によりエッチング
除去することにより、補強用リブ305 および支持体の一
部306 を形成する。Next, as shown in FIG.
A portion not covered with the thermal oxide film 303 or the silicon nitride film 304 in 1 is removed by etching with heated KOH or TMAH to form a reinforcing rib 305 and a part 306 of the support.
【0039】ここで、P型拡散層302 はエッチング停止
層として作用するため、エッチングはP型拡散層302 が
露出した時点で自動的に停止する。図5は、図4をエッ
チングされた面から見た斜視図である。Here, since the P-type diffusion layer 302 acts as an etching stop layer, the etching is automatically stopped when the P-type diffusion layer 302 is exposed. FIG. 5 is a perspective view of FIG. 4 as viewed from the etched surface.
【0040】図5に示すように、補強用リブ305 および
支持体の一部306 を除く部分のシリコンが、可動板102
の厚さに相当する部分を残して除去される。ここで、図
5中A−B間における断面図が図4となる。As shown in FIG. 5, the silicon except for the reinforcing ribs 305 and a part 306 of the support is replaced with the movable plate 102.
Is removed except for a portion corresponding to the thickness of the substrate. Here, FIG. 4 is a cross-sectional view taken along a line AB in FIG.
【0041】図5に示すように、補強用リブ305 や支持
体のうち後工程でねじりばね104 に接する部分および配
線やパッドの形成される部分も同様に除去される。次
に、図6または図7に示すように、前工程でエッチング
された面のみに窒化シリコン膜308 をP-CVD (Plazma A
ssisted Chemical Vapor Deposition )等の方法により
形成する。As shown in FIG. 5, portions of the reinforcing ribs 305 and the support that come into contact with the torsion spring 104 in a later step and portions where wirings and pads are formed are similarly removed. Next, as shown in FIG. 6 or FIG. 7, a silicon nitride film 308 is formed by P-CVD (Plazma A) only on the surface etched in the previous step.
ssisted Chemical Vapor Deposition).
【0042】さらに、多結晶シリコン膜をLP-CVD等の手
法により形成した後、イオン注入等の方法によりドーパ
ントを注入した後熱処理を行い、さらにフォトレジスト
等をマスクにして不要な部分を除去することにより、ピ
エゾ抵抗体307 をねじりばね104 の形成予定部に形成す
る。Further, after a polycrystalline silicon film is formed by a method such as LP-CVD or the like, a dopant is implanted by a method such as ion implantation and heat treatment is performed, and unnecessary portions are removed by using a photoresist or the like as a mask. As a result, the piezoresistor 307 is formed at the portion where the torsion spring 104 is to be formed.
【0043】ここで、図6中のC−D間における断面図
が図7となる。なお、説明の便宜上、C−D間における
存在しない補強用リブ305 及び支持体の一部306 を図示
してある(以下、図8乃至図12においても同様)。FIG. 7 is a sectional view taken along the line CD in FIG. For convenience of explanation, a reinforcing rib 305 and a part 306 of the support that do not exist between C and D are illustrated (the same applies to FIGS. 8 to 12 hereinafter).
【0044】次に、図8に示すように、窒化シリコン膜
308 の表面において、少なくともピエゾ抵抗体307 およ
びねじりばね104 の形成予定領域を含む部分に1層目の
ポリイミド膜309 をスピンコートやスクリーン印刷等の
方法で形成する。Next, as shown in FIG.
A first polyimide film 309 is formed by spin coating, screen printing, or the like on at least a portion including a region where the piezoresistor 307 and the torsion spring 104 are to be formed on the surface of the 308.
【0045】この工程において、コンタクトホール310
やねじりばねの部分(図示せず)も同時に形成しておく
ものとする。さらに、アルミニウム膜等をスパッタリン
グ等の手法により形成した後、フォトレジスト等をマス
クにして不要な部分を除去することにより、駆動コイル
311およびピエゾ抵抗体307 への配線312 を形成する。In this step, the contact holes 310
A torsion spring (not shown) is also formed at the same time. Further, after an aluminum film or the like is formed by a method such as sputtering, unnecessary portions are removed by using a photoresist or the like as a mask, so that a driving coil is formed.
A wiring 312 to 311 and the piezoresistor 307 is formed.
【0046】ここで、配線312 はコンタクトホール310
を通してピエゾ抵抗体307 に接続される。コンタクトホ
ール310 等のパターンについて、ポリイミド膜309 をス
クリーン印刷法で形成する場合には成膜と同時に形成可
能であるが、スピンコート法で形成する場合には感光性
のポリイミド前駆体を使用して写真蝕刻法により形成す
る方法や、ポリイミド表面にマスクを形成しておきエッ
チングにより不要な部分を除去する方法等がある。Here, the wiring 312 is formed in the contact hole 310.
To the piezoresistor 307 When the polyimide film 309 is formed by a screen printing method, it can be formed at the same time as the film formation, but when formed by a spin coating method, a photosensitive polyimide precursor is used. There are a method of forming by photolithography, a method of forming a mask on the polyimide surface, and removing unnecessary portions by etching.
【0047】次に、図9に示すように、基板表面におい
て少なくとも駆動コイル311 およびねじりばね104 の形
成予定領域を含む部分に2層目のポリイミド膜313 を1
層目のポリイミド膜309 と同様の方法で形成する。Next, as shown in FIG. 9, a second polyimide film 313 is formed on a portion of the substrate surface including at least a region where the drive coil 311 and the torsion spring 104 are to be formed.
It is formed in the same manner as the polyimide film 309 of the layer.
【0048】この工程においても、コンタクトホール31
4 やねじりばね104 の部分を同時に形成しておくものと
する。次に、図10に示すように、駆動コイル311 への
配線315 を駆動コイル311 等と同様の方法で形成する。Also in this step, the contact holes 31
4 and the torsion spring 104 are formed at the same time. Next, as shown in FIG. 10, a wiring 315 to the drive coil 311 is formed in the same manner as the drive coil 311 and the like.
【0049】さらに、基板表面において、少なくとも駆
動コイル311 への配線315 およびねじりばね104 の形成
予定領域を含む部分に3層目のポリイミド膜316 を形成
した後、1層目および2層目のポリイミド膜の場合と同
様にねじりばね104 の部分を形成すると共に、パッド
(図示せず)表面のポリイミド膜を除去しておく。Further, a third polyimide film 316 is formed on a portion of the substrate surface including at least a region where the wiring 315 to the drive coil 311 and a region where the torsion spring 104 is to be formed, and then the first and second polyimide films are formed. As in the case of the film, the portion of the torsion spring 104 is formed, and the polyimide film on the surface of the pad (not shown) is removed.
【0050】次に、図11に示すように、ポリイミド膜
を含む基板表面全面にレジスト膜317 を形成した後、そ
れとは反対側の面に形成されている熱酸化膜303 うち窒
化シリコン膜304 に被覆されていない部分を弗化水素や
弗化アンモニウム水溶液等によって除去する。Next, as shown in FIG. 11, after a resist film 317 is formed on the entire surface of the substrate including the polyimide film, a silicon oxide film 304 of the thermal oxide film 303 formed on the opposite surface is formed. The uncoated portion is removed with hydrogen fluoride or an aqueous solution of ammonium fluoride.
【0051】次に、レジスト膜317 を除去した後、図1
2に示すように、熱酸化膜303 や窒化シリコン膜304 を
マスクとしてP型拡散層302 の一部をRIE (Reactive I
on Etching)等の方法により除去することにより、可動
板318 と支持体319 とを分離形成する。Next, after removing the resist film 317, FIG.
As shown in FIG. 2, a part of the P-type diffusion layer 302 is subjected to RIE (Reactive I / O) using the thermal oxide film 303 and the silicon nitride film 304 as a mask.
The movable plate 318 and the support body 319 are separately formed by removing by a method such as on etching.
【0052】ここでRIE の条件は、マスクの熱酸化膜30
3 や窒化シリコン膜304 とP型拡散層302 のエッチング
選択比が大きくなるように設定する。最後に、熱酸化膜
303 のうち露出している部分をRIE 等の方法で除去した
後、可動板318 のうち駆動コイルの形成されていない面
にアルミニウム膜をスパッタリング等の手法により成膜
してミラーを形成することにより、図1に示す光スキャ
ナが完成する。Here, the condition of RIE is as follows.
3 and the etching selectivity between the silicon nitride film 304 and the P-type diffusion layer 302 are set to be large. Finally, the thermal oxide film
After removing the exposed portion of 303 by RIE or the like, an aluminum film is formed on the surface of the movable plate 318 where the drive coil is not formed by a method such as sputtering to form a mirror. The optical scanner shown in FIG. 1 is completed.
【0053】なお、本実施の形態においては、駆動コイ
ル311 や配線312 、315 がアルミニウムから構成されて
いる例を示したが、導体であれば銅や銀等の他の材料も
使用可能である。In this embodiment, the example in which the drive coil 311 and the wirings 312 and 315 are made of aluminum is shown, but other materials such as copper and silver can be used as long as they are conductors. .
【0054】また、本実施の形態においては、駆動コイ
ル311 、配線312 、315 の層間絶縁膜やねじりばねがポ
リイミド膜309 、313 、316 から構成されている例を示
したが、絶縁体でかつ弾性変形領域が可動板の最大偏向
角に対して十分広ければポリプロピレン、弗化樹脂(テ
フロン:登録商標)等他の材料も使用可能である。Further, in this embodiment, an example has been shown in which the interlayer insulating film and the torsion spring of the drive coil 311 and the wirings 312 and 315 are composed of the polyimide films 309, 313 and 316. If the elastic deformation region is sufficiently large with respect to the maximum deflection angle of the movable plate, other materials such as polypropylene and fluorinated resin (Teflon: registered trademark) can be used.
【0055】また、本実施の形態における窒化シリコン
膜308 の代わりに、酸化シリコン膜を同様な方法で形成
してもよい。また、本実施の形態においては、可動板31
8 に形成するミラーがアルミニウム膜から構成されてい
る例を示したが、他の高反射率金属、あるいは誘電体多
層膜ミラーを形成してもよい。Further, instead of the silicon nitride film 308 in this embodiment, a silicon oxide film may be formed by a similar method. In the present embodiment, the movable plate 31
8 shows an example in which the mirror to be formed is made of an aluminum film, but other high-reflectance metal or dielectric multilayer mirrors may be formed.
【0056】また、本実施の形態におけるピエゾ抵抗体
307 を構成する多結晶シリコン膜の成膜法として、Phot
o CVD 法を使用してもよい。この場合、成膜とパターニ
ング、ドーピング処理とを同時に行うことが可能とな
る。Also, the piezoresistor in the present embodiment
As a method of forming the polycrystalline silicon film constituting 307, Phot
o CVD method may be used. In this case, film formation, patterning, and doping can be performed simultaneously.
【0057】また、本発明の実施の形態における弾性部
材の構成は、例えば、以下のような変形も可能である。
すなわち、図13に示すように、ねじりばね104 が片側
にのみ形成された構成とすることも可能である。The configuration of the elastic member in the embodiment of the present invention can be modified, for example, as follows.
That is, as shown in FIG. 13, it is also possible to adopt a configuration in which the torsion spring 104 is formed only on one side.
【0058】本変形例においては、図示しないピエゾ抵
抗体307 が必要な場合には、駆動コイル105 の配線が通
過しているねじりばね104 上に形成する。また、本変形
例においては、重力によってねじりばね104 にたわみが
生じやすいため、ねじりばねが重力方向に平行となり、
可動板102 がねじりばねを引っ張る方向に設置すること
が望ましい。In this modification, when a piezoresistor 307 (not shown) is required, it is formed on the torsion spring 104 through which the wiring of the drive coil 105 passes. Further, in this modification, since the torsion spring 104 is likely to bend due to gravity, the torsion spring becomes parallel to the direction of gravity,
It is desirable that the movable plate 102 be installed in a direction in which the torsion spring is pulled.
【0059】本変形例においては、上述した本発明の第
1実施の形態の効果に加えて、片側支持であるため、製
造時に発生しうるねじりばね104 の内部応力を解放する
ことが可能であり、ばねの機械的特性への影響を軽減す
ることができるという効果が得られる。In this modification, in addition to the effect of the first embodiment of the present invention, since the support is one-sided, the internal stress of the torsion spring 104 which may be generated at the time of manufacturing can be released. The effect of reducing the influence on the mechanical characteristics of the spring can be obtained.
【0060】また、図14には、いわゆる4つのトーシ
ョンバーを用いたジンバル構造を有する光スキャナを示
すが、このような変形例にも本発明は適用可能である。
本変形例においては、上述した本発明の第1実施の形態
の発明の効果に加えて、一つの光スキャナによって二次
元の光スキャンが可能であるという効果が得られる。 <発明の第2実施の形態>図15は、本発明の第2実施
の形態に係る光スキャナの要部の構成を示す斜視図であ
る。FIG. 14 shows an optical scanner having a gimbal structure using so-called four torsion bars, but the present invention can be applied to such a modification.
In this modified example, in addition to the effect of the first embodiment of the present invention described above, an effect that two-dimensional optical scanning can be performed by one optical scanner is obtained. <Second Embodiment of the Invention> FIG. 15 is a perspective view showing a configuration of a main part of an optical scanner according to a second embodiment of the present invention.
【0061】図16は、図15中A−B間における断面
図である。図15および図16において、基本的な構成
は、上述した本発明の第1実施の形態と同様であるが、
可動板402 の補強用リブ409 が駆動コイル404 等の形成
されていない下面側に形成されている点、駆動コイル40
4 が2層に形成されている点、および可動板402 の偏向
角検出用素子として可動板402 の内部に偏向角検出用コ
イル406 が形成されている点が、上述した本発明の第1
実施の形態と異なっている。FIG. 16 is a sectional view taken along the line AB in FIG. 15 and 16, the basic configuration is the same as that of the above-described first embodiment of the present invention.
The point that the reinforcing rib 409 of the movable plate 402 is formed on the lower surface side where the drive coil 404 and the like are not formed,
4 is formed in two layers, and a deflection angle detecting coil 406 is formed inside the movable plate 402 as a deflection angle detecting element of the movable plate 402.
This is different from the embodiment.
【0062】図15および図16に示すように、駆動コ
イル404 と偏向角検出用コイル406との間には、シール
ド電極板405 が形成されている。すなわち、本発明の第
2実施の形態においては、このシールド電極板405 を接
地することにより、偏向角検出用コイル406 と駆動コイ
ル404 と間の電気的干渉が防止される。As shown in FIGS. 15 and 16, a shield electrode plate 405 is formed between the drive coil 404 and the deflection angle detecting coil 406. That is, in the second embodiment of the present invention, by grounding the shield electrode plate 405, electrical interference between the deflection angle detection coil 406 and the drive coil 404 is prevented.
【0063】そして、可動板402 の偏向角の検出は、偏
向角検出用コイル406 の両端の電位差を配線407 を介し
て図示右側の支持体401 に形成されるパッド408 でモニ
ターすることにより行う。The detection of the deflection angle of the movable plate 402 is performed by monitoring the potential difference between the two ends of the deflection angle detection coil 406 via the pad 408 formed on the support 401 on the right side of the drawing via the wiring 407.
【0064】すなわち、可動板402 が偏向する際に、偏
向角検出コイル406 の両端に誘導起電力が発生するが、
この誘導起電力から可動板402 の偏向速度を計算するこ
とができるので、それを時間について積分することによ
り、可動板402 の偏向角検出が可能となる。That is, when the movable plate 402 deflects, induced electromotive force is generated at both ends of the deflection angle detection coil 406.
Since the deflection speed of the movable plate 402 can be calculated from the induced electromotive force, the deflection angle of the movable plate 402 can be detected by integrating it with respect to time.
【0065】図16において、駆動コイル404 は2層に
形成され、各層のコイル413,414 は図17に示すよう
に、配線415 によって互いに並列に接続されている。こ
れにより、駆動コイル404 の巻き数をコイルの電気抵抗
を増大させることなく増やすことが可能となるため、可
動板402 の偏向角の増大が可能となる。In FIG. 16, the drive coil 404 is formed in two layers, and the coils 413 and 414 of each layer are connected in parallel with each other by a wiring 415 as shown in FIG. As a result, the number of turns of the drive coil 404 can be increased without increasing the electric resistance of the coil, so that the deflection angle of the movable plate 402 can be increased.
【0066】駆動コイル404 は、図18に示すように接
続してもよいが、この場合、2層目のコイル414 と配線
415 とを互いに絶縁するために、絶縁層がさらに1層必
要になる。The drive coil 404 may be connected as shown in FIG. 18, but in this case, the coil 414 of the second layer and the wiring
In order to insulate 415 from each other, one more insulating layer is required.
【0067】なお、図16において、参照符号410,411,
412 はそれぞれ後述する Insulator層、窒化シリコン
膜、ポリイミド層である。次に、本発明による第2実施
形態の作用を説明する。In FIG. 16, reference numerals 410, 411,
Reference numeral 412 denotes an insulator layer, a silicon nitride film, and a polyimide layer, which will be described later. Next, the operation of the second embodiment according to the present invention will be described.
【0068】図15において、図示左側の支持体401 に
形成される2カ所のパッド408 の間に図示しない電源を
接続すると、配線407 を介してねじりばね403 の内部を
通過して可動板402 に形成された駆動コイル404 に電流
が流れる。In FIG. 15, when a power source (not shown) is connected between two pads 408 formed on the support 401 on the left side of the drawing, the power passes through the inside of the torsion spring 403 via the wiring 407 to the movable plate 402. A current flows through the formed drive coil 404.
【0069】一方、可動板402 の周囲四辺のうち、ねじ
りばね403 が形成されていない二辺に沿った駆動コイル
404 に、図示しない永久磁石等による外部磁界(図23
参照)が作用し、これと電流の間に働くローレンツ力が
駆動力となり、可動板402 が偏向する。On the other hand, of the four sides around the movable plate 402, drive coils along two sides where the torsion spring 403 is not formed
An external magnetic field generated by a permanent magnet or the like (not shown)
) Acts, and the Lorentz force acting between this and the current becomes the driving force, and the movable plate 402 is deflected.
【0070】そして、可動板402 の偏向に伴い、前述し
たように偏向角検出コイル406 の両端に発生する誘導起
電力を配線407 を介して図示右側の支持体401 に形成さ
れるパッド408 で検出することにより、偏向角度を検出
することが可能である。Then, as described above, the induced electromotive force generated at both ends of the deflection angle detecting coil 406 due to the deflection of the movable plate 402 is detected by the pad 408 formed on the right support 401 on the right side of the drawing via the wiring 407. By doing so, it is possible to detect the deflection angle.
【0071】本実施の形態においても、可動板402 の重
心をその回動軸近傍に設定可能なため、不要な振動モー
ド発生の防止が可能となる。また、本実施の形態におい
ても、可動板402 を薄く形成することにより、可動板40
2 の慣性モーメントが低減されるため、高効率駆動が可
能となる。Also in the present embodiment, since the center of gravity of the movable plate 402 can be set near the rotation axis thereof, it is possible to prevent the occurrence of unnecessary vibration modes. Also in the present embodiment, the movable plate 402
Since the inertia moment of 2 is reduced, high-efficiency driving is possible.
【0072】また、本実施の形態においても、可動板40
2 の端部に補強用リブ409 が形成されていることによ
り、可動板402 を薄く形成した場合においても可動板40
2 の平坦性を損なわないという効果を有する。Also in this embodiment, the movable plate 40
Since the reinforcing rib 409 is formed at the end of the movable plate 402, even if the movable plate 402 is formed thin,
2 has the effect of not impairing the flatness.
【0073】さらに、本実施の形態においても、偏向角
検出用コイル406 を可動板402 の内部に形成することに
より、当該偏向角検出用コイル406 を可動板402 の外周
部に形成することができるため、高感度な偏向角検出が
可能となる。Further, also in the present embodiment, by forming the deflection angle detecting coil 406 inside the movable plate 402, the deflection angle detecting coil 406 can be formed on the outer peripheral portion of the movable plate 402. Therefore, highly sensitive deflection angle detection becomes possible.
【0074】次に、製造工程に沿って、本実施の形態を
さらに詳細に説明する。図19乃至図22は、本発明の
第2実施の形態に係る光スキャナの断面構造を製造工程
順に示した図である。Next, the present embodiment will be described in more detail along the manufacturing steps. 19 to 22 are views showing the cross-sectional structure of the optical scanner according to the second embodiment of the present invention in the order of manufacturing steps.
【0075】先ず、図19に示すように、SOI (Silico
n On Insulator)基板501 の表面にフォトレジストをマ
スクとしてイオン注入法等の方法により、SOI 基板501
と異なる導電型のドーパントを注入した後熱処理を行う
ことにより、SOI 基板内部に偏向角検出用コイル507 を
形成する。First, as shown in FIG. 19, SOI (Silico
n On Insulator) The SOI substrate 501 is formed on the surface of the substrate 501 by ion implantation or the like using a photoresist as a mask.
After implanting a dopant of a different conductivity type from that of the above, a heat treatment is performed to form a deflection angle detecting coil 507 inside the SOI substrate.
【0076】さらに、SOI 基板501 の表面に、窒化シリ
コン膜504 をLP-CVD等の手法により形成した後、フォト
レジスト等をマスクとして窒化シリコン膜504 を、図1
6における可動板402 の補強用リブ409 と支持体401 の
形成予定領域を除く部分のみ除去する。Further, after a silicon nitride film 504 is formed on the surface of the SOI substrate 501 by a method such as LP-CVD or the like, the silicon nitride film 504 is
In FIG. 6, only the portion of the movable plate 402 other than the area where the reinforcing rib 409 and the support 401 are to be formed is removed.
【0077】ここで、SOI 基板501 の内部に形成されて
いるInsulator 層502 は、酸化シリコンまたは窒化シリ
コンで構成され、図15における支持体401 および可動
板402 の形成予定領域にのみパターニング形成されてい
る。Here, the insulator layer 502 formed inside the SOI substrate 501 is made of silicon oxide or silicon nitride, and is formed by patterning only in the region where the support 401 and the movable plate 402 are to be formed in FIG. I have.
【0078】また、Insulator 層502 の深さ503 が、最
終的に可動板402 の厚さとなるので、希望する可動板40
2 の厚さに応じて、当該Insulator 層502 の深さ503 を
設定する。Further, since the depth 503 of the insulator layer 502 finally becomes the thickness of the movable plate 402, the desired movable plate 40
2, the depth 503 of the insulator layer 502 is set.
【0079】次に、図18に示すように、窒化シリコン
膜504 のうちコンタクトホール510の部分を除去した
後、上述した本発明の第1実施の形態と同様にしてアル
ミニウム膜を成膜後、フォトレジスト等をマスクとして
シールド電極板506 を形成し、さらに1層目のポリイミ
ド層516 を形成する。Next, as shown in FIG. 18, after removing the contact hole 510 in the silicon nitride film 504, an aluminum film is formed in the same manner as in the first embodiment of the present invention. A shield electrode plate 506 is formed using a photoresist or the like as a mask, and a first polyimide layer 516 is further formed.
【0080】さらに、同様にして1層目の駆動コイル50
5 、2層目のポリイミド層508 を形成する。次に、図2
1に示すように、2層目の駆動コイル509 、および配線
511 を1層目の駆動コイル505 等と同様の方法で形成し
た後、3層目のポリイミド層512 1層目のポリイミド膜
508 と同様に形成する。Further, the driving coil 50 of the first layer
5. A second polyimide layer 508 is formed. Next, FIG.
As shown in FIG. 1, the second-layer drive coil 509 and the wiring
511 is formed in the same manner as the drive coil 505 of the first layer, etc., and then the third polyimide layer 512 is the first polyimide film.
It is formed in the same manner as 508.
【0081】次に、図22に示すように、窒化シリコン
膜503 およびInsulator 層502 をマスクとしてシリコン
層の一部を加熱したKOH やTMAH等によりエッチング除去
することにより、可動板513 と支持体514 とを分離形成
するとともに、補強用リブ515 を形成する。Next, as shown in FIG. 22, by using the silicon nitride film 503 and the insulator layer 502 as a mask, a part of the silicon layer is removed by etching with heated KOH or TMAH or the like, so that the movable plate 513 and the support 514 are formed. Are formed separately, and a reinforcing rib 515 is formed.
【0082】最後に窒化シリコン膜503 およびInsulato
r 層502 のうち露出している部分をRIE 等の方法で除去
した後、可動板513 のうち駆動コイルの形成されていな
い面にアルミニウム膜をスパッタリング等の手法により
成膜してミラーを形成することにより、図15に示す光
スキャナが完成する。Finally, the silicon nitride film 503 and the insulator
After removing the exposed portion of the r layer 502 by a method such as RIE, an aluminum film is formed on the surface of the movable plate 513 where the drive coil is not formed by a method such as sputtering to form a mirror. Thus, the optical scanner shown in FIG. 15 is completed.
【0083】なお、本実施の形態においても、駆動コイ
ル505 、509 や配線511 の材料としてアルミニウムを使
用した例を示したが、導体であれば銅や銀等の他の材料
も使用可能である。Although the present embodiment has shown an example in which aluminum is used as the material of the drive coils 505 and 509 and the wiring 511, other materials such as copper and silver can be used as long as they are conductors. .
【0084】また、本実施の形態においても、ポリイミ
ド膜516 、508 、512 の代わりとして、絶縁体でかつ弾
性変形領域が、可動板513 の最大偏向角に対して十分広
ければ、ポリプロピレン、弗化樹脂(テフロン:登録商
標)等他の材料も使用可能である。Also in the present embodiment, if the insulator and the elastically deformable region are sufficiently wide with respect to the maximum deflection angle of the movable plate 513, instead of the polyimide films 516, 508, and 512, polypropylene, fluoride, etc. Other materials such as resin (Teflon: registered trademark) can also be used.
【0085】また、本実施の形態においても、可動板40
2 に形成するミラーがアルミニウム膜から構成されてい
る例を示したが、他の高反射率金属、あるいは誘電体多
層膜ミラーを形成してもよい。Also in this embodiment, the movable plate 40
2 shows an example in which the mirror to be formed is made of an aluminum film. However, another high-reflectance metal or a dielectric multilayer film mirror may be formed.
【0086】また、本実施の形態においては、駆動コイ
ル505, 509を異なる2層に形成した例を示したが、3層
以上に形成してもよい。また、本実施の形態において
も、偏向角検出コイルを可動板402 の内部に形成する例
を示したが、駆動コイルと同様の方法でそれらと同一の
層あるいは別の層に形成してもよい。Further, in the present embodiment, an example is shown in which the drive coils 505 and 509 are formed in two different layers, but they may be formed in three or more layers. Also, in the present embodiment, the example in which the deflection angle detecting coil is formed inside the movable plate 402 has been described, but the deflection angle detecting coil may be formed in the same layer as the driving coil or in another layer in the same manner as the drive coil. .
【0087】この場合、多層に形成した偏向角検出コイ
ルを互いに直列に接続することにより、検出感度が向上
する。さらに、本発明の第2実施の形態は、第1実施の
形態と同様に、ねじりばねが片側にのみ形成された構成
や、ジンバル構造による二次元スキャナ等の変形例にも
適応可能であり、既に述べたものと同様の効果を得るこ
とが可能である。In this case, the detection sensitivity is improved by connecting the deflection angle detecting coils formed in multiple layers in series with each other. Further, the second embodiment of the present invention is also applicable to a configuration in which a torsion spring is formed only on one side or a modified example such as a two-dimensional scanner having a gimbal structure, as in the first embodiment. The same effects as those already described can be obtained.
【0088】[0088]
【発明の効果】以上詳述したように、この発明によれ
ば、可動板の重心をその回動軸に近づけることにより、
大きな偏向角を有し、可動板偏向角の検出感度が高く、
不要振動モードの発生のない光スキャナを提供すること
が可能となる。As described above in detail, according to the present invention, by bringing the center of gravity of the movable plate close to its rotation axis,
Has a large deflection angle, high detection sensitivity of the movable plate deflection angle,
It is possible to provide an optical scanner that does not generate an unnecessary vibration mode.
【0089】また、この発明によれば、不要振動モード
の防止や可動版の慣性モーメントの低減を目的として可
動板を薄く形成した場合に問題となる可動版の剛性低下
を防止することができる光スキャナを提供することが可
能となる。Further, according to the present invention, it is possible to prevent a decrease in rigidity of the movable plate, which is a problem when the movable plate is formed thin for the purpose of preventing unnecessary vibration modes and reducing the inertia moment of the movable plate. It becomes possible to provide a scanner.
【0090】また、この発明によれば、可動板の偏向角
の増大や偏向角の検出感度の向上が可能な光スキャナを
提供することが可能となる。また、この発明によれば、
可動板の偏向角を高感度で検出可能な光スキャナを提供
することが可能となる。Further, according to the present invention, it is possible to provide an optical scanner capable of increasing the deflection angle of the movable plate and improving the sensitivity of detecting the deflection angle. According to the invention,
An optical scanner capable of detecting the deflection angle of the movable plate with high sensitivity can be provided.
【図1】図1は、本発明に係る光スキャナの第1実施の
形態の要部の構成を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a configuration of a main part of a first embodiment of an optical scanner according to the present invention.
【図2】図2は、本発明に係る光スキャナの第1実施の
形態の要部の構成を示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing a configuration of a main part of the first embodiment of the optical scanner according to the present invention.
【図3】図3は、本発明に係る光スキャナの第1実施の
形態の製造工程を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the optical scanner according to the first embodiment of the present invention.
【図4】図4は、本発明に係る光スキャナの第1実施の
形態の製造工程を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the optical scanner according to the first embodiment of the present invention.
【図5】図5は、本発明に係る光スキャナの第1実施の
形態の製造工程を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing a manufacturing process of the first embodiment of the optical scanner according to the present invention.
【図6】図6は、本発明に係る光スキャナの第1実施の
形態の製造工程を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing a manufacturing process of the optical scanner according to the first embodiment of the present invention.
【図7】図7は、本発明に係る光スキャナの第1実施の
形態の製造工程を示す断面図である。FIG. 7 is a sectional view showing a manufacturing process of the optical scanner according to the first embodiment of the present invention.
【図8】図8は、本発明に係る光スキャナの第1実施の
形態の製造工程を示す断面図である。FIG. 8 is a sectional view showing a manufacturing process of the optical scanner according to the first embodiment of the present invention.
【図9】図9は、本発明に係る光スキャナの第1実施の
形態の製造工程を示す断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the optical scanner according to the first embodiment of the present invention.
【図10】図10は、本発明に係る光スキャナの第1実
施の形態の製造工程を示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the optical scanner according to the first embodiment of the present invention.
【図11】図11は、本発明に係る光スキャナの第1実
施の形態の製造工程を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the optical scanner according to the first embodiment of the present invention.
【図12】図12は、本発明に係る光スキャナの第1実
施の形態の製造工程を示す断面図である。FIG. 12 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the optical scanner according to the first embodiment of the present invention.
【図13】図13は、本発明に係る光スキャナの第1実
施の形態の変形例の要部の構成を示す斜視図である。FIG. 13 is a perspective view showing a configuration of a main part of a modification of the optical scanner according to the first embodiment of the present invention.
【図14】図14は、本発明に係る光スキャナの第1実
施の形態の異なる変形例の要部の構成を示す斜視図であ
る。FIG. 14 is a perspective view illustrating a configuration of a main part of a modified example of the optical scanner according to the present invention, which is different from the first embodiment.
【図15】図15は、本発明に係る光スキャナの第2実
施の形態の要部の構成を示す斜視図である。FIG. 15 is a perspective view illustrating a configuration of a main part of an optical scanner according to a second embodiment of the invention.
【図16】図16は、本発明に係る光スキャナの第2実
施の形態の要部の構成を示す断面図である。FIG. 16 is a sectional view showing a configuration of a main part of a second embodiment of the optical scanner according to the present invention.
【図17】図17は、本発明に係る光スキャナの第2実
施の形態において、コイルおよび配線のレイアウトを示
す斜視図である。FIG. 17 is a perspective view showing a layout of coils and wirings in a second embodiment of the optical scanner according to the present invention.
【図18】図18は、本発明に係る光スキャナの第2実
施の形態において、コイルおよび配線の異なるレイアウ
トを示す斜視図である。FIG. 18 is a perspective view showing a different layout of coils and wirings in a second embodiment of the optical scanner according to the present invention.
【図19】図19は、本発明に係る光スキャナの第2実
施の形態の製造工程を示す断面図である。FIG. 19 is a sectional view showing a manufacturing process of the optical scanner according to the second embodiment of the present invention.
【図20】図20は、本発明に係る光スキャナの第2実
施の形態の製造工程を示す断面図である。FIG. 20 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the optical scanner according to the second embodiment of the present invention.
【図21】図21は、本発明に係る光スキャナの第2実
施の形態の製造工程を示す断面図である。FIG. 21 is a sectional view showing a manufacturing process of the optical scanner according to the second embodiment of the present invention.
【図22】図22は、本発明に係る光スキャナの第2実
施の形態の製造工程を示す断面図である。FIG. 22 is a sectional view showing a manufacturing process of the optical scanner according to the second embodiment of the present invention.
【図23】図23は、本願出願人による先願の光スキャ
ナの構成を示す斜視図である。FIG. 23 is a perspective view showing a configuration of an optical scanner of the prior application by the present applicant.
【図24】図24は、図23に示す光スキャナの問題点
の一つを説明する図である。FIG. 24 is a diagram for explaining one of the problems of the optical scanner shown in FIG. 23;
【図25】図25は、本願出願人による異なる先願の光
スキャナの構成を示す斜視図である。FIG. 25 is a perspective view showing the configuration of an optical scanner of a different prior application by the present applicant.
101…支持体、 102…可動板、 103…補強用リブ、 104…ねじりばね、 105…駆動コイル、 106…配線、 107…パッド、 108…ピエゾ抵抗体、 109…ポリイミド層、 110…窒化シリコン膜 301…シリコン基板、 302…P型拡散層、 303…熱酸化膜、 304、308…窒化シリコン膜、 305…補強用リブ、 306…支持体の一部、 307…ピエゾ抵抗体、 309…1層目のポリイミド膜、 310、314…コンタクトホール、 311…駆動コイル、 312、315…配線、 313…2層目のポリイミド膜、 316…3層目のポリイミド膜、 317…フォトレジスト、 318…可動板、 319…支持体、 401…支持体、 402…可動板、 403…ねじりばね、 404…駆動コイル、 405…シールド電極板、 406…偏向角検出用コイル、 407…配線、 408…パッド、 409…補強用リブ、 410… Insulator 層、 411…窒化シリコン膜、 412…ポリイミド膜、 413…1層目コイル、 414…2層目コイル、 415…配線、 501…SOI 基板、 502… Insulator 層、 503… Insulator 層502 の深さ、 504…窒化シリコン膜、 505…1層目の駆動コイル、 506…シールドパターン、 507…偏向角検出コイル、 516…1層目のポリイミド膜、 508…2層目のポリイミド膜、 509…2層目の駆動コイル、 510…コンタクトホール、 511…配線、 512…3層目のポリイミド膜、 513…可動板、 514…支持体、 515…補強用リブ、 801…支持体、 802…可動板、 803…弾性部材、 804…駆動コイル、 805…永久磁石、 806…配線、 807…パッド、 808…可動板802の重心、 809…可動板802の回転軸、 901…支持体、 902…可動板、 903…弾性部材、 904…駆動コイル、 905…永久磁石、 906…配線、 907…パッド、 908…偏向角検出用コイル。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 ... Support body, 102 ... Movable plate, 103 ... Reinforcing rib, 104 ... Torsion spring, 105 ... Drive coil, 106 ... Wiring, 107 ... Pad, 108 ... Piezoresistor, 109 ... Polyimide layer, 110 ... Silicon nitride film Reference numeral 301: silicon substrate, 302: P-type diffusion layer, 303: thermal oxide film, 304, 308: silicon nitride film, 305: reinforcing rib, 306: a part of the support, 307: piezoresistor, 309: one layer 310, 314 contact hole, 311 drive coil, 312, 315 wiring, 313 second polyimide film, 316 third polyimide film, 317 photoresist, 318 movable plate 319: support, 401: support, 402: movable plate, 403: torsion spring, 404: drive coil, 405: 406: Deflection angle detecting coil, 407: Wiring, 408: Pad, 409: Reinforcing rib, 410: Insulator layer, 411: Silicon nitride film, 412: Polyimide film, 413: First layer coil, 414 .., Second layer coil, 415, wiring, 501, SOI substrate, 502, Insulator layer, 503, depth of Insulator layer 502, 504, silicon nitride film, 505, first layer driving coil, 506, shield pattern, 507 … Deflection angle detection coil 516… First layer polyimide film 508… Second layer polyimide film 509… Second layer drive coil 510… Contact hole 511… Wiring 512… Third layer polyimide film 513: movable plate, 514: support, 515: reinforcing rib, 801: support, 802: movable plate, 803: elastic member, 8 04: drive coil, 805: permanent magnet, 806: wiring, 807: pad, 808: center of gravity of movable plate 802, 809: rotation axis of movable plate 802, 901: support body, 902: movable plate, 903: elastic member, 904: drive coil, 905: permanent magnet, 906: wiring, 907: pad, 908: deflection angle detection coil.
Claims (4)
された可動板と、 該可動板と前記支持体との間を、前記可動板の一方の表
面と同一平面内において連結する弾性部材と、 前記可動板の駆動手段とを具備し、 該駆動手段により前記弾性部材に生ずる弾性変形により
前記可動板の偏向運動を行う光スキャナであって、 前記可動板の重心が該可動板の回動軸上あるいはその近
傍にあることを特徴とする光スキャナ。A movable plate having at least one surface on which a reflection surface for reflecting light is formed; and a space between the movable plate and the support, and one surface of the movable plate. An optical scanner comprising: an elastic member connected in the same plane; and a driving unit for driving the movable plate, wherein the optical scanner performs a deflecting motion of the movable plate by elastic deformation generated in the elastic member by the driving unit. Wherein the center of gravity of the optical scanner is on or near the rotation axis of the movable plate.
く、かつ前記可動板の少なくとも一面に補強用部材が形
成されていることを特徴とする請求項1記載の光スキャ
ナ。2. The optical scanner according to claim 1, wherein the thickness of the movable plate is smaller than the thickness of the support, and a reinforcing member is formed on at least one surface of the movable plate.
された可動板と、 該可動板と前記支持体との間を連結する弾性部材と、 前記可動板の面に形成された駆動コイルおよび偏向角検
出コイルと、 前記可動板の面に平行な方向に磁界を印加するために配
置された磁石とを具備し、 前記駆動コイルに電流を印加することにより前記弾性部
材に生ずる弾性変形により前記可動板の偏向運動を行う
光スキャナであって、 前記駆動コイルおよび偏向角検出コイルの一方あるいは
両方が絶縁膜を介して形成される複層のコイルから構成
され、各層に形成された前記コイル同士が前記絶縁膜に
形成されたコンタクトホールによって互いに電気的に接
続されていることを特徴とする光スキャナ。3. A support, a movable plate having at least one surface formed with a reflection surface for reflecting light, an elastic member connecting the movable plate and the support, and the movable plate. A drive coil and a deflection angle detection coil formed on the surface of the movable plate, and a magnet arranged to apply a magnetic field in a direction parallel to the surface of the movable plate, by applying a current to the drive coil. An optical scanner that performs a deflecting movement of the movable plate by elastic deformation generated in the elastic member, wherein one or both of the drive coil and the deflection angle detection coil are configured by a multilayer coil formed through an insulating film. An optical scanner, wherein the coils formed in each layer are electrically connected to each other by contact holes formed in the insulating film.
された可動板と、 該可動板と前記支持体との間を連結する弾性部材と、 前記可動板の面に形成された駆動コイルと、 前記可動板の面に平行な方向に磁界を印加するために配
置された磁石とを具備し、 前記駆動コイルに電流を印加することにより前記弾性部
材に生ずる弾性変形により前記可動板の偏向運動を行う
光スキャナであって、 前記可動板が半導体基板から構成され、該半導体基板内
に不純物拡散層からなる偏向角検出用のコイルが形成さ
れることにより、 該偏向角検出用コイルに発生する誘導起電力から前記可
動板の偏向角を検出することを特徴とする光スキャナ。4. A support, a movable plate having at least one surface formed with a reflection surface for reflecting light, an elastic member connecting between the movable plate and the support, and the movable plate. And a magnet arranged to apply a magnetic field in a direction parallel to the surface of the movable plate, and generated in the elastic member by applying a current to the drive coil. An optical scanner that performs a deflecting motion of the movable plate by elastic deformation, wherein the movable plate is formed of a semiconductor substrate, and a deflection angle detection coil formed of an impurity diffusion layer is formed in the semiconductor substrate. An optical scanner for detecting a deflection angle of the movable plate from an induced electromotive force generated in the deflection angle detection coil.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11680798A JPH11305162A (en) | 1998-04-27 | 1998-04-27 | Optical scanner |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP11680798A JPH11305162A (en) | 1998-04-27 | 1998-04-27 | Optical scanner |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11305162A true JPH11305162A (en) | 1999-11-05 |
Family
ID=14696153
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11680798A Pending JPH11305162A (en) | 1998-04-27 | 1998-04-27 | Optical scanner |
Country Status (1)
Country | Link |
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