JP2000081589A - Light deflector - Google Patents

Light deflector

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JP2000081589A
JP2000081589A JP11190501A JP19050199A JP2000081589A JP 2000081589 A JP2000081589 A JP 2000081589A JP 11190501 A JP11190501 A JP 11190501A JP 19050199 A JP19050199 A JP 19050199A JP 2000081589 A JP2000081589 A JP 2000081589A
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movable plate
hall element
optical deflector
coil
hall
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JP11190501A
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Japanese (ja)
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Yukiaki Minamoto
幸昭 源
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light deflector permitting to detect positional information of a movable plate with higher accuracy and sensitivity. SOLUTION: This light deflector possesses a support 103, a movable plate 101 with a mirror 106 formed at least on one face for reflecting light from a light source, and an elastic member 102 for coupling this movable plate 101 to the support 103 and holding the movable plate 101 to be able to deflect. Further, the light deflector is provided with a driving coil 104 formed at least on one surface of the movable plate 101, a permanent magnet 107 generating a magnetic field in the direction almost parallel to the surface of the movable plate 101, and a hall element 108 which is arranged on the movable plate 101 and detects a deflection angle of deflection movement of the movable plate 101 when the elastic member 102 is elastically deformed by the interaction between current applied to the driving coil 104 and the magnetic field of the permanent magnet 107.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光源からの光を反
射し、その反射光を走査する光偏向器に関する。
The present invention relates to an optical deflector that reflects light from a light source and scans the reflected light.

【0002】[0002]

【従来の技術】特開昭64−2015号公報は従来の光
偏向器の一例を開示しており、図21(a)、(b)は
この公報に開示されている光偏向器の構成を示してい
る。図21(a)はこの光偏向器の概略図であり、図2
1(b)はその断面図である。1は一平面に反射手段を
有する可動板、2は金属平板で形成されたトーションバ
ー構造であるヒンジ部材、3はヒンジ部材2の両端を固
定している支持体、40は磁石、6は磁石40の両磁極
に対向する位置にヒンジ部材2に固定されている第1の
コイル、8は第1のコイル6に固定されている第2のコ
イル、9は第1のコイル6と第2のコイル8が位置する
磁気ギャップを有し一巡の閉磁気回路を構成するヨー
ク、10は上記第1のコイル6の近傍に位置しヨーク9
に固定されている第3のコイルである。
2. Description of the Related Art Japanese Patent Laying-Open No. 64-2015 discloses an example of a conventional optical deflector, and FIGS. 21A and 21B show the configuration of the optical deflector disclosed in this publication. Is shown. FIG. 21A is a schematic diagram of this optical deflector, and FIG.
FIG. 1 (b) is a sectional view thereof. 1 is a movable plate having a reflecting means on one plane, 2 is a hinge member having a torsion bar structure formed of a metal flat plate, 3 is a support member fixing both ends of the hinge member 2, 40 is a magnet, 6 is a magnet 40, a first coil fixed to the hinge member 2 at a position facing both magnetic poles, 8 is a second coil fixed to the first coil 6, 9 is the first coil 6 and the second coil The yoke 10, which has a magnetic gap in which the coil 8 is located and forms a closed magnetic circuit, is located near the first coil 6 and the yoke 9
The third coil is fixed to the third coil.

【0003】このような構成の光偏向器において、第1
のコイル6に交流電流を印加すると、第1のコイル6に
流れる電流と磁石40によって発生する磁界の相互作用
により、第1のコイル6に可動板1の厚み方向にローレ
ンツ力が発生する。このローレンツ力により、可動板1
はヒンジ部材2内の可動板平面に平行な方向を回動中心
として回動運動する。
In the optical deflector having such a configuration, the first
When an alternating current is applied to the first coil 6, Lorentz force is generated in the first coil 6 in the thickness direction of the movable plate 1 due to the interaction between the current flowing through the first coil 6 and the magnetic field generated by the magnet 40. By this Lorentz force, the movable plate 1
Rotates about a direction parallel to the plane of the movable plate in the hinge member 2 as a center of rotation.

【0004】また可動板1と同時に回動する第2のコイ
ル8は、磁石40から発生する磁束と鎖交し、その鎖交
速度に比例した誘導起電力が第2のコイル8の両端に発
生する。また第2のコイル8は上記の誘導起電力のほか
に、第1のコイル6に流れる電流の変化に伴う相互誘導
作用による起電力も発生する。この相互誘導起電力を低
減するのに、第2のコイル8と同様に相互誘導起電力を
発生する第3のコイル10との差を第1のコイル6に負
帰還させる。このように相互誘導起電力を低減させた第
2のコイル8に発生する誘導起電力が可動板1の速度信
号となり、また第2のコイル8、第3のコイル10は可
動板1の偏向角を制御する手段となる。この光偏向器は
回動する可動板1にレーザー光等の光を照射させること
により反射光を走査することができる。
The second coil 8 which rotates simultaneously with the movable plate 1 interlinks with the magnetic flux generated from the magnet 40, and induced electromotive force proportional to the interlinking speed is generated at both ends of the second coil 8. I do. In addition to the above-described induced electromotive force, the second coil 8 also generates an electromotive force due to a mutual induction effect accompanying a change in the current flowing through the first coil 6. In order to reduce the mutual induction electromotive force, the difference between the second coil 8 and the third coil 10 that generates the mutual induction electromotive force is negatively fed back to the first coil 6. The induced electromotive force generated in the second coil 8 in which the mutual induced electromotive force is reduced as described above becomes a speed signal of the movable plate 1, and the second coil 8 and the third coil 10 determine the deflection angle of the movable plate 1. Is a means for controlling This optical deflector can scan the reflected light by irradiating the rotating movable plate 1 with light such as laser light.

【0005】また、特開平10−90625公報には、
従来の光偏向器の他の例が記載されている。
[0005] Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-90625 discloses that
Another example of a conventional optical deflector is described.

【0006】図22はこのような光偏向器の平面構成を
示しており、可動板21,弾性部材22,支持体23,
駆動用コイル24,検出用コイル25,駆動用コイル電
極パッド26、検出用コイル電極パッド27、永久磁石
28から構成されている。ここで、可動板21、弾性部
材22、支持体23、駆動用コイル24、検出用コイル
25等は半導体製造法により一体形成されている。可動
板21は主として高剛性材料であるSi基板を用い、駆
動用コイル24,検出用コイル25が存在する面の裏面
に、反射面が一平面である反射手段を有している。弾性
部材22は主としてポリイミド等の有機材料を用い、可
動板21の板厚方向に移動可能に可動板21を支持して
いる。支持体23は可動板21と同基板を用い、弾性部
材22を固定している。駆動用コイル24,検出用コイ
ル25は主としてAl、Cu等の金属材料を用い、可動
板21内においてできるだけ外側に複数回巻いてある。
両コイルは互いにほぼ直上、直下の位置関係にあり、両
コイル間に絶縁層を形成することにより両コイル間を絶
縁している。駆動用コイル電極パッド26、検出用コイ
ル電極パッド27は支持体23上に形成し、両コイルの
両端は弾性部材22中を通り、支持体23まで延在して
いる。永久磁石28は可動板21の平面方向で、磁石近
傍の駆動用コイル24の電流方向に対して垂直方向に着
磁されている。また駆動力を高め、かつ検出信号出力レ
ベルを高めるため、可動板21及び駆動用コイル24,
検出用コイル25の近傍に設けてある。
FIG. 22 shows a plan view of such an optical deflector. A movable plate 21, an elastic member 22, a support 23,
It comprises a driving coil 24, a detecting coil 25, a driving coil electrode pad 26, a detecting coil electrode pad 27, and a permanent magnet 28. Here, the movable plate 21, the elastic member 22, the support 23, the drive coil 24, the detection coil 25, and the like are integrally formed by a semiconductor manufacturing method. The movable plate 21 is mainly made of a Si substrate made of a high-rigidity material, and has a reflecting means having a flat reflecting surface on the back surface of the surface on which the driving coil 24 and the detecting coil 25 exist. The elastic member 22 mainly uses an organic material such as polyimide, and supports the movable plate 21 so as to be movable in the thickness direction of the movable plate 21. The support 23 uses the same substrate as the movable plate 21, and fixes the elastic member 22. The drive coil 24 and the detection coil 25 are mainly made of a metal material such as Al or Cu and are wound a plurality of times inside the movable plate 21 as outwardly as possible.
The two coils have a positional relationship substantially immediately above and immediately below each other, and an insulating layer is formed between the two coils to insulate the two coils from each other. The drive coil electrode pad 26 and the detection coil electrode pad 27 are formed on the support 23, and both ends of both coils pass through the elastic member 22 and extend to the support 23. The permanent magnet 28 is magnetized in the plane direction of the movable plate 21 and in a direction perpendicular to the current direction of the driving coil 24 near the magnet. In order to increase the driving force and the output level of the detection signal, the movable plate 21 and the driving coil 24,
It is provided near the detection coil 25.

【0007】このような構成の光偏向器において、駆動
用コイル24に交流電流を印加すると、駆動用コイル2
4に流れる電流と永久磁石28によって発生する磁界の
相互作用により、駆動用コイル24に可動板21の厚み
方向にローレンツ力が発生する。このローレンツ力によ
り可動板21は弾性部材22と支持体23の境界部を固
定端として可動板厚み方向に並進運動すると同時に、弾
性部材22の永久磁石28着磁方向を中心軸として可動
板厚み方向に回動運動する。また可動板21と同時に並
進、回動する検出用コイル25は永久磁石28から発生
する磁束と鎖交し、その鎖交速度に比例した誘導起電力
が検出用コイル25の両端に発生する。この検出用コイ
ル25に発生する誘導起電力が可動板21の速度信号と
なり、また検出用コイル25が可動板21の偏向角を制
御する手段となる。この光偏向器は並進、回動する可動
板21にレーザー光等の光を照射させることにより反射
光を走査することができる。
In the optical deflector having such a configuration, when an alternating current is applied to the driving coil 24, the driving coil 2
The Lorentz force is generated in the driving coil 24 in the thickness direction of the movable plate 21 due to the interaction between the current flowing through 4 and the magnetic field generated by the permanent magnet 28. Due to this Lorentz force, the movable plate 21 translates in the thickness direction of the movable plate with the boundary between the elastic member 22 and the support 23 as a fixed end, and at the same time, moves in the thickness direction of the movable plate with the magnetization direction of the permanent magnet 28 of the elastic member 22 as the central axis. To rotate. The detection coil 25 that translates and rotates simultaneously with the movable plate 21 interlinks with the magnetic flux generated from the permanent magnet 28, and induced electromotive force proportional to the interlinking speed is generated at both ends of the detection coil 25. The induced electromotive force generated in the detection coil 25 becomes a speed signal of the movable plate 21, and the detection coil 25 serves as a means for controlling the deflection angle of the movable plate 21. The optical deflector can scan the reflected light by irradiating the movable plate 21 that translates and rotates with light such as laser light.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記した
従来技術で用いられている検出手段としての検出用コイ
ルの信号は速度信号であるので、正確には可動板の位置
を検出してはいない。速度信号は積分処理すれば位置信
号になるが、積分処理した信号が正確な可動板の位置と
ずれる可能性がある。特に駆動コイルに印加する電流の
周波数が低い場合は信号が非常に微弱であるため、積分
処理信号が可動板の変位信号と異なる可能性が高い。さ
らに印加電流が直流である場合は正確な検出が困難であ
る。従って、可動板を位置決め手段として使用する場合
は、従来例のような駆動用コイルによる検出手段を用い
ることはできない。
However, since the signal of the detecting coil used as the detecting means used in the above-mentioned prior art is a speed signal, the position of the movable plate is not accurately detected. Although the speed signal becomes a position signal when it is integrated, the integrated signal may deviate from the accurate position of the movable plate. In particular, when the frequency of the current applied to the drive coil is low, the signal is very weak, so the integration processing signal is likely to be different from the displacement signal of the movable plate. Further, when the applied current is DC, accurate detection is difficult. Therefore, when the movable plate is used as the positioning means, it is not possible to use a detecting means using a driving coil as in the conventional example.

【0009】また弾性部材にピエゾ素子等のひずみゲー
ジを形成し、弾性部材の曲げ、ねじりによって信号を検
出する手段もあるが、弾性部材の変形が必ずしも可動板
の変位に対応するわけではない。
There is also a means in which a strain gauge such as a piezo element is formed on the elastic member and a signal is detected by bending and torsion of the elastic member. However, the deformation of the elastic member does not always correspond to the displacement of the movable plate.

【0010】本発明はこのような課題に着目してなされ
たものであり、その目的とするところは、可動板の位置
情報を従来よりもより正確かつ高感度で検出することが
できるとともに、低周波信号や直流信号で駆動した場合
においても可動板の正確な位置検出が行なえる光偏向器
を提供することにある。
The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to enable the position information of a movable plate to be detected more accurately and with higher sensitivity than in the past, and to reduce the position information. An object of the present invention is to provide an optical deflector capable of accurately detecting the position of a movable plate even when driven by a frequency signal or a DC signal.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の光偏向器は、支持体と、少なくとも一方
の面に光源からの光を反射するための鏡面が形成された
可動板と、この可動板と前記支持体との間を連結し、前
記可動板を偏向可能に保持する弾性部材と、前記可動板
の少なくとも一方の面に形成された駆動用コイルと、前
記可動板の面に略平行な方向に磁界を発生する磁界発生
手段と、前記駆動用コイルに印加された電流と前記磁界
発生手段の磁界との相互作用により前記弾性部材を弾性
変形させたときの前記可動板の偏向運動の偏向角を検出
するためのホール素子とを具備する。
In order to achieve the above object, an optical deflector according to the present invention comprises a movable member having a support and a mirror surface formed at least on one surface for reflecting light from a light source. A plate, an elastic member for connecting the movable plate and the support body, and holding the movable plate so as to be able to deflect; a driving coil formed on at least one surface of the movable plate; Magnetic field generating means for generating a magnetic field in a direction substantially parallel to the plane of the plane, and the movable member when the elastic member is elastically deformed by an interaction between a current applied to the driving coil and a magnetic field of the magnetic field generating means. A Hall element for detecting a deflection angle of the deflection motion of the plate.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下に、図面を参照して本発明の
実施の形態を詳細に説明する。本発明の各実施の形態で
は可動板にホール素子を形成したことを共通の特徴とし
ており、したがって、まずこのホール素子の動作原理に
ついて説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. Each of the embodiments of the present invention has a common feature that a Hall element is formed on a movable plate. Therefore, first, the operating principle of the Hall element will be described.

【0013】図1に示すように、長方形の半導体薄板5
0に電流Iを印加し、電流Iと垂直方向に磁束密度B
(Z方向)をかけると、電流Iと磁束密度Bとの相互作用
により双方に垂直な方向(Y方向)にローレンツ力が発生
する。電流Iによる電子はこのローレンツ力を受けるこ
とによって電流Iと磁束密度Bの双方に垂直な方向(Y
方向)に曲げられ、そのためY方向に起電力VH が発生
する。VH はホール起電力と呼ばれ、次の式で与えられ
る。
As shown in FIG. 1, a rectangular semiconductor thin plate 5
0 and a magnetic flux density B perpendicular to the current I.
When (Z direction) is applied, the Lorentz force is generated in a direction (Y direction) perpendicular to both directions due to the interaction between the current I and the magnetic flux density B. The electrons generated by the current I receive this Lorentz force, so that the direction (Y
Direction), and an electromotive force VH is generated in the Y direction. V H is called the Hall electromotive force and is given by the following equation.

【0014】VH =RH ・I・B / t (1) ここでRH はホール係数と呼ばれ、n型半導体の場合、
電子密度をnとすればRH =−1/neで与えられ、p
型半導体の場合、正孔密度をpとすればRH =1/pe
で与えられる。ここでeは電子の単位電荷量である。ま
たtは薄板の厚さである。
V H = R H · I · B / t (1) Here, R H is called a Hall coefficient, and in the case of an n-type semiconductor,
If the electron density is n, it is given by R H = −1 / ne, and p
In the case of a type semiconductor, if the hole density is p, R H = 1 / pe
Given by Here, e is the unit charge of electrons. T is the thickness of the thin plate.

【0015】次に本発明の第1の実施の形態を説明す
る。この実施の形態の特徴は、可動板上にホール素子を
貼り合わせて取り付けた点にある。図2(a)は本発明
の第1の実施の形態にかかわる光偏向器の斜視図であ
り、図2(b)は、図2(a)中のA−A’に沿った光
偏向器の断面図である。第1実施の形態にかかわる光偏
向器は、支持体103と、一方の面に光源からの光を反
射するための鏡面106が形成された可動板101と、
この可動板101と支持体103との間を連結し、可動
板101を偏向可能に保持する弾性部材102と、可動
板101の他方の面に形成された駆動用コイル104
と、この駆動用コイル104のコイル配線111と、可
動板101の面に略平行な方向に磁界を発生する磁界発
生手段としての永久磁石107と、可動板101上でか
つ駆動コイル104の内側に設けられたホール素子10
8と、このホール素子108のホール素子配線109
と、駆動用コイル104を覆う絶縁膜110とで構成さ
れている。弾性部材102はトーションバー構造となっ
ている。本実施の形態は永久磁石107、ホール素子1
08、ホール素子配線109以外はモノリシックで一体
形成されている。
Next, a first embodiment of the present invention will be described. The feature of this embodiment resides in that a Hall element is attached on a movable plate and attached. FIG. 2A is a perspective view of the optical deflector according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2B is an optical deflector along AA ′ in FIG. 2A. FIG. The optical deflector according to the first embodiment includes a support 103, a movable plate 101 having a mirror surface 106 formed on one surface for reflecting light from a light source,
An elastic member 102 for connecting the movable plate 101 and the support body 103 to deflectably hold the movable plate 101, and a driving coil 104 formed on the other surface of the movable plate 101
And a coil wiring 111 of the driving coil 104, a permanent magnet 107 as a magnetic field generating means for generating a magnetic field in a direction substantially parallel to the surface of the movable plate 101, and on the movable plate 101 and inside the drive coil 104. Hall element 10 provided
8 and the hall element wiring 109 of the hall element 108
And an insulating film 110 that covers the driving coil 104. The elastic member 102 has a torsion bar structure. In this embodiment, the permanent magnet 107 and the Hall element 1 are used.
08, except for the hall element wiring 109, are monolithically integrated.

【0016】本実施形態における光偏向器の各部を説明
すると、可動板101,支持体103は主に高剛性材料
であるSi基板等で形成することが望ましく、弾性部材
102は主として長寿命、偏向角が大きく取れるポリイ
ミド等の有機材料で形成することが望ましい。駆動用コ
イル104の材料としては抵抗率の低いAl,Cu等が
望ましい。可動板101の駆動力を高め偏向角を大きく
するには、駆動用コイル104の抵抗を低く押さえなが
らターン数を多くし、できるだけ永久磁石107に近い
位置、すなわち可動板101内の外縁部に近い位置に配
置する。鏡面106の表面は可動板101がSi基板な
らばSiの研磨面、あるいはその上部に薄いアルミニウ
ムあるいは金などを被覆させても良い。永久磁石107
は可動板101の両運動端に対向する位置に可動板10
1に近接させて配置する。また、永久磁石107は図2
(a)中のY方向に着磁し、可動板101側が互いに異
なる磁極になるように配置する。ホール素子108は図
2では可動板上の駆動用コイル104の内側(巻線の内
側)にあるが、ホール素子配線109が形成できる範囲
なら駆動用コイル104に厚み方向において重なる位置
にあってもよい。
The components of the optical deflector according to the present embodiment will be described. It is desirable that the movable plate 101 and the support 103 are mainly formed of a Si substrate or the like, which is a high-rigidity material. It is desirable to form it from an organic material such as polyimide which can make a large angle. As a material of the driving coil 104, Al, Cu or the like having a low resistivity is desirable. In order to increase the driving force of the movable plate 101 and increase the deflection angle, the number of turns is increased while the resistance of the driving coil 104 is kept low, and the position is as close as possible to the permanent magnet 107, that is, as close to the outer edge of the movable plate 101 as possible. Place in position. If the movable plate 101 is a Si substrate, the surface of the mirror surface 106 may be coated with a polished surface of Si or a thin upper portion of aluminum or gold. Permanent magnet 107
Is a movable plate 10 at a position facing both ends of movement of the movable plate 101.
1 and placed close to each other. The permanent magnet 107 is shown in FIG.
(A) It is magnetized in the Y direction and is arranged such that the movable plate 101 side has different magnetic poles. Although the Hall element 108 is inside the driving coil 104 (inside the winding) on the movable plate in FIG. 2, the Hall element 108 may overlap the driving coil 104 in the thickness direction as long as the Hall element wiring 109 can be formed. Good.

【0017】上記した構成の光偏向器において、駆動用
コイル104に電流を印加すると、駆動用コイル104
に流れるX方向の電流と永久磁石107から発生するY
方向の磁界との相互作用により、駆動用コイル104に
はZ方向にローレンツ力が発生する。このローレンツ力
により、可動板101は弾性部材102のX方向を中心
軸として回動運動する。本実施形態の光偏向器は、可動
板101の鏡面106にレーザー光等の光を照射しなが
ら上記の方法により可動板101を回動させて反射光を
走査するように構成されている。
In the optical deflector having the above structure, when a current is applied to the driving coil 104, the driving coil 104
Current flowing in the X direction and Y generated from the permanent magnet 107
Due to the interaction with the magnetic field in the direction, a Lorentz force is generated in the driving coil 104 in the Z direction. Due to this Lorentz force, the movable plate 101 rotates around the X direction of the elastic member 102 as a central axis. The optical deflector of the present embodiment is configured to scan the reflected light by rotating the movable plate 101 by the above method while irradiating the mirror surface 106 of the movable plate 101 with light such as laser light.

【0018】ここで図3(a)、(b)には、可動板1
01が中立位置に対してθだけ傾いている状態を示す。
図において可動板とコイル、ホール素子及びその配線の
みを示し、弾性部材などは省略されている(図4(a)
〜図9(a)、図10、図11(a)〜図14(a)に
おいても同様)。ホール素子108の厚み方向成分の磁
束密度はB・sinθ となる。このときホール素子108
のX方向の端子間に電流を流すと、ホール素子108の
Y方向の端子間には上記式(1)により、 VH =RH ・I・B・sinθ/ t (2) で示されるホール電圧が発生する。これによりホール電
圧は、同一のホール素子を用い、印加電流、磁束密度が
同一の場合、可動板101の傾向角に依存するので、可
動板101の位置を表わす信号(位置信号)となる。ホ
ール素子108の材料としては、キャリア移動度が大き
いInSb、InAs、GaAs等が望ましい。これら
のホール素子は素子の材料、形状によっても異なるが、
一般的に印加電流数mA、数百Gの磁束密度の場合でも
数百mVのホール電圧が発生する。
FIGS. 3A and 3B show the movable plate 1.
01 indicates a state inclined by θ with respect to the neutral position.
In the figure, only the movable plate, the coil, the Hall element and its wiring are shown, and the elastic members and the like are omitted (FIG. 4A).
9 (a), 10 and 11 (a) to 14 (a). The magnetic flux density of the component in the thickness direction of the Hall element 108 is B · sin θ. At this time, the Hall element 108
When a current is caused to flow between the terminals in the X direction of the Hall element 108, the Hall represented by the following equation (1) is obtained between the terminals in the Y direction of the Hall element 108: V H = R H IB Sin θ / t (2) Voltage is generated. Thus, when the same Hall element is used and the applied current and the magnetic flux density are the same, the Hall voltage depends on the tendency angle of the movable plate 101, and thus becomes a signal (position signal) indicating the position of the movable plate 101. As a material of the Hall element 108, InSb, InAs, GaAs, or the like having high carrier mobility is desirable. These Hall elements vary depending on the material and shape of the element,
Generally, even when the applied current is several mA and the magnetic flux density is several hundred G, a Hall voltage of several hundred mV is generated.

【0019】一方、従来例の検出用コイルによる信号
は、印加電流が低周波の場合は数十から数百μVオーダ
ーである。従って本実施形態では、従来例による方法と
比較してはるかに検出感度が大きい。また検出信号が位
置信号であることにより、従来よりも正確な可動板の位
置情報が検出され、さらに直流駆動させたときのスタテ
ィックな状態でも正確な検出が可能である。
On the other hand, the signal from the conventional detection coil is on the order of tens to hundreds of μV when the applied current is at a low frequency. Therefore, in the present embodiment, the detection sensitivity is much higher than in the method according to the conventional example. In addition, since the detection signal is a position signal, more accurate position information of the movable plate is detected than in the related art, and accurate detection is possible even in a static state when DC driving is performed.

【0020】また図3(a)、(b)においてホール素
子108の印加電流と検出電圧の方向を逆にしても検出
可能である。ただしホール素子108の形状によって検
出感度が変化するので以下にこのことについて説明す
る。
3 (a) and 3 (b), it is possible to detect even if the direction of the current applied to the Hall element 108 and the direction of the detection voltage are reversed. However, since the detection sensitivity changes depending on the shape of the Hall element 108, this will be described below.

【0021】図1においてホール素子の印加電流端子間
の距離をLとし、ホール電圧端子間の距離をWとし、式
(1)を別の形で表すと VH =μ・V’・B・W / L (3) となる。ここでV’はホール素子の印加電流端子間の距
離Lに印加する電圧、μはキャリア移動度である。ホー
ル電圧VH を大きくするには式(1)よりキャリア密度
(電子密度n、正孔密度p)を小さくした方がよい。す
なわち印加電流端子間の抵抗を大きくするためにはL>
Wの関係を満たす形状の方が望ましいが、印加電流Iを
大きくするには印加電圧V′を大きくしなければならな
い。
In FIG. 1, the distance between the applied current terminals of the Hall element is L, the distance between the Hall voltage terminals is W,
Expressing (1) in another form, V H = μ · V ′ · B · W / L (3) Here, V ′ is a voltage applied to the distance L between the applied current terminals of the Hall element, and μ is the carrier mobility. In order to increase the Hall voltage V H , it is better to decrease the carrier density (electron density n, hole density p) from equation (1). That is, in order to increase the resistance between the applied current terminals, L>
Although a shape that satisfies the relationship of W is more desirable, the applied voltage V ′ must be increased to increase the applied current I.

【0022】一方、L<Wの関係を満たす形状において
は、式(3)により同じ印加電圧、キャリア移動度なら
ば、WがLに比較して大きくなるほどホール電圧は大き
くなるが、印加電流端子間の抵抗を小さくし過ぎるとキ
ャリア移動度μの方が小さくなってしまう。従って検出
感度を高くするには印加電流端子間の抵抗を大きくする
ために、L>Wの関係を満たす形状を用いてW/Lの値
が大きくなるようにすることが望ましいが、印加電圧の
限界、消費電力の限界を考慮することが必要である。
On the other hand, in a shape that satisfies the relationship of L <W, if the applied voltage and the carrier mobility are the same according to the equation (3), the Hall voltage becomes larger as W becomes larger than L, but the applied current terminal If the resistance between them is too small, the carrier mobility μ becomes smaller. Therefore, in order to increase the resistance between the applied current terminals in order to increase the detection sensitivity, it is desirable to increase the value of W / L by using a shape satisfying the relationship of L> W. It is necessary to consider the limits and power consumption limits.

【0023】以下に、可動板101をSi基板とした場
合の光偏向器の製造方法の一例を簡単に説明する。まず
Si基板の一方の面に後でSiエッチングするためのマ
スクとなる絶縁膜をスパッタリング、CVD、真空蒸着
法等によって成膜し、フォトリソグラフィー法でパター
ン形成する。次にSi基板の他方の面に有機絶縁膜10
2をスピンコート、印刷法等で成膜、パターン形成す
る。この有機絶縁膜102は、図2(b)に示すよう
に、可動板101のみならず支持体103上にも形成さ
れ、さらに弾性部材152の形状にパターニングされ
る。その後、駆動用コイル104の材料である金属膜を
スパッタリング、CVD、真空蒸着、メッキ、印刷等に
よって成膜し、フォトリソグラフィー法でそれぞれパタ
ーン形成する。次にその上部に絶縁膜110を形成し駆
動用コイル104を覆うとともに、弾性部材152の形
状をパターニングする。そして最初に形成した絶縁膜を
マスクとしてSi基板をエッチングする。
An example of a method for manufacturing an optical deflector when the movable plate 101 is a Si substrate will be briefly described below. First, an insulating film serving as a mask for later performing Si etching is formed on one surface of the Si substrate by sputtering, CVD, vacuum evaporation, or the like, and is patterned by photolithography. Next, an organic insulating film 10 is formed on the other surface of the Si substrate.
2 is formed into a film by spin coating, printing, or the like to form a pattern. As shown in FIG. 2B, the organic insulating film 102 is formed not only on the movable plate 101 but also on the support 103, and is further patterned into the shape of the elastic member 152. After that, a metal film as a material of the driving coil 104 is formed by sputtering, CVD, vacuum deposition, plating, printing, or the like, and patterns are formed by photolithography. Next, an insulating film 110 is formed thereon to cover the driving coil 104 and the shape of the elastic member 152 is patterned. Then, the Si substrate is etched using the insulating film formed first as a mask.

【0024】ここまでがホール素子108を形成する前
までの製造工程であるが、このように同一基板上に半導
体製造法で作製することによって、可動板101,弾性
部材102,支持体103,駆動用コイル104,鏡面
106をモノリシックに一体形成することができ、小型
化及び量産化が容易となる。最後に駆動用コイル104
の内側における可動板101上の位置にホール素子10
8を貼り合せるとともに、これに接続してホール素子配
線109をも貼り合わせる。ホール素子108としては
上記のようにキャリア移動度の大きいInSb、InA
s、GaAs等が望ましい。またSi等のキャリア移動
度の比較的小さいホール素子においては、ホール電圧信
号を増幅したり差動させたりする処理回路とホール素子
とを一体化したホールICを可動板101に備えてもよ
い。
Up to this point, the manufacturing process up to the formation of the Hall element 108 is performed. By manufacturing the semiconductor device on the same substrate as described above, the movable plate 101, the elastic member 102, the support 103, the drive The coil for use 104 and the mirror surface 106 can be monolithically formed integrally, which facilitates miniaturization and mass production. Finally, the driving coil 104
The Hall element 10 is located at a position on the movable plate 101 inside the
8 as well as the Hall element wiring 109 connected thereto. As described above, the Hall element 108 is made of InSb or InA having a large carrier mobility.
s, GaAs and the like are desirable. In the case of a Hall element having a relatively small carrier mobility, such as Si, the movable plate 101 may be provided with a Hall IC in which a processing circuit for amplifying and / or differentially a Hall voltage signal and a Hall element are integrated.

【0025】また図2(a)、(b)、図3(a)、
(b)ではホール素子を駆動コイル内側全体に取り付け
ているが、図4(a)、(b)に示すように可動板10
1の運動端部に小型のホール素子108を取り付ける
と、ホール素子108全体が永久磁石により近くなるの
で、ホール素子108の厚み方向成分の磁束密度Bも大
きくなる。従って式(2)により発生するホール電圧VH
も大きくなり、より高感度の位置信号が検出可能な光偏
向器となる。
FIGS. 2A, 2B, 3A,
In FIG. 4B, the Hall element is mounted on the entire inside of the drive coil, but as shown in FIGS.
When the small Hall element 108 is attached to the moving end of No. 1, the entire Hall element 108 becomes closer to the permanent magnet, so that the magnetic flux density B of the Hall element 108 in the thickness direction also increases. Therefore, the Hall voltage V H generated by equation (2)
And the optical deflector can detect a position signal with higher sensitivity.

【0026】図4(a)、(b)に示すように、ホール
素子を可動板の運動端部に取り付けると、例えば図5
(a)のように、コイル、ホール素子と同じ面に鏡面を
形成することも可能である。図5(b)には、A−A’
に沿った断面図を示す。この場合の製法としては、先に
説明した工程において、例えば以下の変更を行えばよ
い。すなわち、絶縁膜102にパターン形成する際に、
鏡面を形成する部分の絶縁膜を除去する。次に、コイル
104の材料である金属膜がアルミニウムや金等の高反
射率を有する材料である場合には、パターン形成の際に
鏡面部に金属膜が残るようにする。さらに、絶縁膜11
0を成膜後、鏡面を覆う部分を除去するようにパターン
形成を行う。
As shown in FIGS. 4A and 4B, when the Hall element is attached to the moving end of the movable plate, for example, FIG.
As shown in (a), a mirror surface can be formed on the same surface as the coil and the Hall element. In FIG. 5B, AA ′
FIG. In this case, for example, the following changes may be made in the steps described above. That is, when forming a pattern on the insulating film 102,
The part of the insulating film that forms the mirror surface is removed. Next, when the metal film that is the material of the coil 104 is a material having a high reflectance such as aluminum or gold, the metal film is left on the mirror surface during pattern formation. Further, the insulating film 11
After forming the film 0, a pattern is formed so as to remove a portion covering the mirror surface.

【0027】一方、コイル材料が銅などの低反射率材料
である場合には、絶縁膜102、110において鏡面を
形成する部分を除去するパターン形成を行った後に、鏡
面となる金属の成膜とパターン形成を行う。あるいは、
いずれの場合においても、可動板表面をそのまま鏡面と
して用いてもよい。
On the other hand, when the coil material is a low-reflectance material such as copper, a pattern for removing the mirror-forming portions of the insulating films 102 and 110 is formed, and then a metal film for forming the mirror-surface is formed. Perform pattern formation. Or,
In any case, the movable plate surface may be used as it is as a mirror surface.

【0028】図5(a)、(b)に示す構成において
は、可動板の少なくとも一方の面が研磨されていればよ
いため、例えば図2(a)、(b)に示す構成において
両面が研磨された材料を可動板として使用する必要があ
るのに対して安価な材料を用いることができる特徴があ
る。
In the configuration shown in FIGS. 5A and 5B, it is sufficient that at least one surface of the movable plate is polished. For example, in the configuration shown in FIGS. There is a feature that an inexpensive material can be used while a polished material needs to be used as a movable plate.

【0029】さらにまた別の例では、図6(a)、
(b)に示すように、可動板101の運動端近傍におけ
る駆動用コイル104の配線領域とホール素子108と
が、可動板101の厚み方向において重なるような位置
にホール素子108を配置する。これによりホール素子
108全体が永久磁石により近くなるので検出感度が高
くなる。さらにホール素子108が駆動用コイル104
の直上の位置に設けられていることより、ホール素子1
08における駆動用コイル104に流れる電流からの磁
束密度はほぼ可動板101と平行方向成分となり、ホー
ル素子108の厚み方向成分には磁束密度は発生しな
い。これにより駆動用コイル104の印加電流との相互
作用によるホール電圧は発生しなくなり、不要な信号発
生を防止できる光偏向器となる。
In still another example, FIG.
As shown in (b), the Hall element 108 is arranged at a position where the wiring region of the driving coil 104 near the moving end of the movable plate 101 and the Hall element 108 overlap in the thickness direction of the movable plate 101. As a result, the entire Hall element 108 is closer to the permanent magnet, and the detection sensitivity is increased. Further, the Hall element 108 is used as the driving coil 104
The Hall element 1
In 08, the magnetic flux density from the current flowing through the driving coil 104 becomes a component in a direction substantially parallel to the movable plate 101, and no magnetic flux density is generated in the component in the thickness direction of the Hall element 108. As a result, no Hall voltage is generated due to the interaction with the applied current of the driving coil 104, and the optical deflector can prevent unnecessary signal generation.

【0030】またさらに図7(a)、(b)のように可
動板101の両側の運動端でかつ駆動用コイル104の
直上にホール素子108を取り付けた場合には、両ホー
ル素子から発生するホール電圧を加算することにより検
出感度が2倍となる。
Further, when the Hall elements 108 are mounted at the moving ends on both sides of the movable plate 101 and immediately above the driving coil 104 as shown in FIGS. 7A and 7B, the signals are generated from both Hall elements. The detection sensitivity is doubled by adding the Hall voltage.

【0031】またさらには図10に示すように、ホール
素子の両配線間に増幅機能を有するMOSやバイポーラ
トランジスタ等を集積化した能動アンプ212を可動板
上に一体形成する。これにより発生するホール電圧が増
幅されることにより大きくなり、高感度の位置信号を発
生する光偏向器が実現される。
Further, as shown in FIG. 10, an active amplifier 212 in which a MOS or bipolar transistor having an amplifying function is integrated between both wirings of the Hall element is integrally formed on a movable plate. As a result, the generated Hall voltage is amplified and increased, thereby realizing an optical deflector for generating a highly sensitive position signal.

【0032】また、図示はしないが、ホール素子と信号
処理回路が一体化されたホールICをホール素子108
の代わりに取り付けることにより、図10の構成と同様
の効果を得ることが可能である。
Although not shown, a Hall IC in which a Hall element and a signal processing circuit are integrated is mounted on the Hall element 108.
By mounting in place of, it is possible to obtain the same effect as the configuration of FIG.

【0033】上記した第1実施の形態によれば、可動板
上にホール素子を取り付けることにより、従来よりも正
確で高感度の位置信号が検出可能な光偏向器が実現でき
る。
According to the first embodiment described above, by mounting the Hall element on the movable plate, an optical deflector capable of detecting a position signal with higher accuracy and higher sensitivity than before can be realized.

【0034】次に本発明の第2実施の形態について説明
する。この実施の形態の特徴は可動板とホール素子とを
モノリシックに一体形成している点である。図8
(a)、(b)に第2実施の形態を示す。
Next, a second embodiment of the present invention will be described. The feature of this embodiment is that the movable plate and the Hall element are monolithically formed integrally. FIG.
(A) and (b) show a second embodiment.

【0035】まず図8(a)、(b)に示すように、S
i、InSb、InAs、GaAs基板等の半導体基板
からなる可動板201に、4端子電極のコンタクトとし
て電子密度1020cm-3から1022cm-3ほどの高濃度の
不純物をイオン注入して高濃度不純物拡散層211を形
成する。その後、高濃度不純物拡散層211の上部に絶
縁膜210を介在させ、コンタクトホールを介して高濃
度不純物拡散層211に接触するように、スパッタリン
グ、CVD、真空蒸着法等によりホール素子配線209
を形成する。その後、形成した高濃度不純物拡散層21
1、ホール素子配線209の上部に弾性部材を兼ねる絶
縁膜202を介して駆動用コイル204を形成する。
First, as shown in FIGS. 8A and 8B, S
The movable plate 201 made of a semiconductor substrate such as i, InSb, InAs, or GaAs is ion-implanted with a high-concentration impurity having an electron density of about 10 20 cm −3 to 10 22 cm −3 as a four-terminal electrode contact. A concentration impurity diffusion layer 211 is formed. After that, the insulating film 210 is interposed on the high-concentration impurity diffusion layer 211, and the Hall element wiring 209 is formed by sputtering, CVD, vacuum evaporation, or the like so as to be in contact with the high-concentration impurity diffusion layer 211 via a contact hole.
To form Thereafter, the formed high concentration impurity diffusion layer 21 is formed.
1. A drive coil 204 is formed above the Hall element wiring 209 via an insulating film 202 also serving as an elastic member.

【0036】図8(b)では駆動用コイル204が最上
部で露出しているが、もちろんその上部に絶縁膜を形成
してもよい。これにより可動板201上の4端子電極内
側領域は可動板に設けられた半導体ホール素子となる。
In FIG. 8B, the driving coil 204 is exposed at the uppermost part, but an insulating film may be formed on the upper part. Thereby, the four-terminal electrode inner region on the movable plate 201 becomes a semiconductor Hall element provided on the movable plate.

【0037】図8(a)に示すように、第1実施の形態
同様、X方向間に電流を印加すると、Y方向間の電極に
ホール電圧が発生し、位置信号が検出可能となる光偏向
器が実現される。
As shown in FIG. 8 (a), similarly to the first embodiment, when a current is applied in the X direction, a Hall voltage is generated in the electrodes in the Y direction, and the light deflection that enables the position signal to be detected. Vessel is realized.

【0038】以上により、可動板上の駆動用コイル内側
にイオン注入で4端子電極コンタクト用の拡散層を設け
ることにより、可動板とモノリシックに一体形成でホー
ル素子を作製することができるので小型化量産化可能と
なり、大幅な製造工数削減、コスト低減の光偏向器が実
現できる。
As described above, by providing the diffusion layer for the four-terminal electrode contact by ion implantation inside the driving coil on the movable plate, the Hall element can be monolithically formed integrally with the movable plate, thereby reducing the size. It can be mass-produced, and an optical deflector with a significant reduction in manufacturing man-hours and cost can be realized.

【0039】また、図9(a)、(b)に示すように第
1実施の形態の図6と同様に、ホール素子が駆動用コイ
ル204の直下に位置するように4端子電極コンタクト
用の高濃度不純物拡散層210’を設ける。これにより
第1実施の形態と同様に、ホール素子全体が永久磁石に
より近くなるので検出感度が高くなるとともに、ホール
素子における駆動用コイル204に流れる電流からの磁
束密度はほぼ可動板201と平行方向成分となり、厚み
方向成分には発生しない。従って駆動用コイル204の
印加電流との相互作用によるホール電圧は発生しなくな
り、不要な信号発生を防止できる光偏向器が実現され
る。
Also, as shown in FIGS. 9A and 9B, similarly to FIG. 6 of the first embodiment, the four-terminal electrode contact is arranged so that the Hall element is located immediately below the driving coil 204. A high concentration impurity diffusion layer 210 'is provided. As a result, similarly to the first embodiment, the whole Hall element is closer to the permanent magnet, so that the detection sensitivity is increased, and the magnetic flux density from the current flowing through the driving coil 204 in the Hall element is substantially parallel to the movable plate 201. And does not occur in the thickness direction component. Therefore, no Hall voltage is generated due to interaction with the applied current of the driving coil 204, and an optical deflector that can prevent unnecessary signal generation is realized.

【0040】なお、図9(a)、(b)では駆動用コイ
ル204の直下にホール素子が位置するように示してい
るが、上記した第1の実施の形態のように駆動用コイル
204の直上でもよい。また図面には記載してないが第
1実施の形態と同様に、可動板201の両側の運動端で
かつ駆動用コイル204の直下または直上位置にホール
素子を取り付けることにより、2倍の検出感度が得られ
る光偏向器を実現することもできる。
Although FIGS. 9A and 9B show that the Hall element is located immediately below the driving coil 204, the Hall element is located just below the driving coil 204 as in the first embodiment. It may be directly above. Although not shown in the drawing, as in the first embodiment, by mounting a Hall element at the moving end on both sides of the movable plate 201 and at a position directly below or directly above the driving coil 204, double detection sensitivity can be obtained. Can be realized.

【0041】さらに図示しないが、ホール素子の信号処
理回路を可動板上に一体形成し、高感度の位置信号を発
生させることも可能であり、コイル、ホール素子と同じ
面に鏡面を形成することも可能である。
Although not shown, the signal processing circuit of the Hall element can be integrally formed on the movable plate to generate a high-sensitivity position signal. A mirror surface is formed on the same plane as the coil and the Hall element. Is also possible.

【0042】上記した第2実施の形態によれば、可動板
とホール素子とをモノリシックに一体形成したので小型
化及び量産化が可能となり、大幅な製造工数の削減、コ
ストの低減による光偏向器が実現できる。
According to the second embodiment, since the movable plate and the Hall element are monolithically formed integrally, miniaturization and mass production are possible, and the optical deflector is greatly reduced in manufacturing man-hours and cost. Can be realized.

【0043】次に本発明の第3の実施の形態を説明す
る。この実施の形態の特徴はホール素子をモノリシック
に一体形成し、さらにホール素子を薄膜化することによ
り高感度の検出手段を得る点にある。図11(a)、
(b)に第3実施の形態を示す。
Next, a third embodiment of the present invention will be described. The feature of this embodiment is that a Hall element is monolithically formed integrally, and the Hall element is thinned to obtain a highly sensitive detection means. FIG. 11 (a),
(B) shows a third embodiment.

【0044】図11(a)、(b)に示すように、可動
板301を形成しているSi、InSb、InAs、G
aAs等の半導体基板とは逆極性のキャリアが発生する
ような不純物を可動板301にイオン注入して不純物拡
散層313を形成する。その後、この不純物拡散層31
3に第2実施の形態と同様に、高濃度の不純物をイオン
注入することによりホール素子電極コンタクト用の高濃
度不純物拡散層311を形成する。次にその上部に絶縁
膜310を介在させ、コンタクトホールを介して高濃度
不純物拡散層311に接触するようにホール素子配線3
09を形成する。その後ホール素子配線309の上部に
弾性部材を兼ねる絶縁膜302を介して駆動用コイル3
04を形成する。
As shown in FIGS. 11A and 11B, Si, InSb, InAs, G forming the movable plate 301 are formed.
Impurities such as aAs that generate carriers having a polarity opposite to that of the semiconductor substrate are ion-implanted into the movable plate 301 to form an impurity diffusion layer 313. Thereafter, the impurity diffusion layer 31
As in the second embodiment, a high-concentration impurity diffusion layer 311 for Hall element electrode contact is formed by ion-implanting a high-concentration impurity in the third embodiment. Next, an insulating film 310 is interposed therebetween, and the Hall element wiring 3 is contacted with the high-concentration impurity diffusion layer 311 through the contact hole.
09 is formed. After that, the driving coil 3 is placed above the Hall element wiring 309 via the insulating film 302 also serving as an elastic member.
04 is formed.

【0045】これにより第2実施の形態と同様にモノリ
シックにホール素子を形成できるが、この例では不純物
拡散層313が可動板基板と反対のキャリアを発生する
ことにより、不純物拡散層313の厚さtがホール素子
の厚さになる。第2実施の形態ではホール素子の厚さは
基板の厚さとなるので数百μmほどになるが、この実施
の形態では数千オングストロームの厚さとなり、式(1)
により発生するホール電圧が3桁ほどにも大きくなる。
従って、第3実施形態では3桁分の高感度の位置信号を
発生するホール素子をモノリシックに形成できる光偏向
器が実現される。
Thus, the Hall element can be formed monolithically as in the second embodiment. However, in this example, the impurity diffusion layer 313 generates carriers opposite to the movable plate substrate, so that the thickness of the impurity diffusion layer 313 is reduced. t is the thickness of the Hall element. In the second embodiment, the thickness of the Hall element is about several hundred μm because it is the thickness of the substrate. In this embodiment, the thickness is several thousand angstroms, and the equation (1)
Causes the Hall voltage to increase by about three digits.
Therefore, in the third embodiment, an optical deflector that can monolithically form a Hall element that generates a three-digit position signal with high sensitivity is realized.

【0046】次に上記した第3実施の形態の変形例を説
明する。図12(a)、(b)に示すように、可動板3
01上に絶縁膜310’を可動板301の全面に形成す
る。次に絶縁膜310’上にInSb、InAs等のホ
ール電圧の検出感度の高いホール素子314を真空蒸
着、スパッタリングなどの方法により薄膜化して形成す
る。その後、第2実施の形態と同様に、ホール素子31
4に高濃度の不純物をイオン注入することによりホール
素子電極コンタクト用の高濃度不純物拡散層311を形
成し、その上部に絶縁膜310”を介在させ、コンタク
トホールを介して高濃度不純物拡散層311に接触する
ようにホール素子配線309を形成する。
Next, a modification of the third embodiment will be described. As shown in FIGS. 12A and 12B, the movable plate 3
An insulating film 310 ′ is formed on the entire surface of the movable plate 301 on the substrate 01. Next, a Hall element 314 such as InSb or InAs, which has a high sensitivity for detecting a Hall voltage, is formed on the insulating film 310 'by thinning using a method such as vacuum evaporation or sputtering. Thereafter, similarly to the second embodiment, the Hall element 31
A high-concentration impurity diffusion layer 311 for contacting the Hall element electrode is formed by ion-implanting a high-concentration impurity into the semiconductor substrate 4, and an insulating film 310 ″ is interposed therebetween. Is formed so as to be in contact with.

【0047】その後ホール素子配線309の上部に弾性
部材を兼ねる絶縁膜302を介して駆動用コイル304
を形成する。上記の変形例では絶縁膜310”を介在さ
せることによりホール素子の厚さは半導体(InSb、
InAs等)の厚さとなるので、第2実施の形態よりも
はるかに薄膜化したホール素子が実現できる。従って高
感度の位置信号を発生するホール素子をモノリシックで
形成できる光偏向器が実現される。なおこの場合の可動
板基板はSi、GaAs等の半導体基板に限らず金属、
絶縁基板等の高剛性材料でもよい。
After that, the driving coil 304 is formed on the Hall element wiring 309 via the insulating film 302 also serving as an elastic member.
To form In the above modification, the thickness of the Hall element can be reduced by the semiconductor (InSb,
(InAs or the like), so that a Hall element that is much thinner than in the second embodiment can be realized. Accordingly, an optical deflector capable of monolithically forming a Hall element for generating a highly sensitive position signal is realized. In this case, the movable plate substrate is not limited to a semiconductor substrate such as Si or GaAs, but may be a metal,
A highly rigid material such as an insulating substrate may be used.

【0048】以上により可動板上部に絶縁膜を形成し絶
縁膜上部にホール素子をモノリシックに一体形成するこ
とにより、高感度の位置信号が発生可能な光偏向器が実
現される。なお、ここでは真空蒸着、スパッタリング法
で薄膜化したホール素子を形成する実施形態を示したが
これに限らず、多結晶半導体(poly -Siなど)をCV
D法で形成する実施形態(図13)、あるいは、可動板
をSOI(Silicon OnInsulator)基板にし、上部の半導
体層をホール素子にする実施形態(図14)を採用した場
合でも、図12に示した光偏向器と同様に高感度の位置
信号が発生できる光偏向器を実現できる。なお、図1
2、13に示す実施形態ではSi半導体を用いたが、G
aAs、InSb、InAsを用いてもよい。
As described above, an optical deflector capable of generating a highly sensitive position signal is realized by forming an insulating film on the movable plate and monolithically forming a Hall element on the insulating film. Here, an embodiment in which a thin-film Hall element is formed by a vacuum deposition or sputtering method has been described. However, the present invention is not limited to this, and a polycrystalline semiconductor (poly-Si or the like) may be formed by CV.
Even when the embodiment (FIG. 13) formed by the method D or the embodiment in which the movable plate is an SOI (Silicon On Insulator) substrate and the upper semiconductor layer is a Hall element (FIG. 14) is employed, the structure shown in FIG. An optical deflector that can generate a highly sensitive position signal can be realized in the same manner as the optical deflector. FIG.
In the embodiments shown in FIGS. 2 and 13, the Si semiconductor is used,
aAs, InSb, and InAs may be used.

【0049】また、第1、第2実施の形態と同様に、ホ
ール素子が駆動コイルの直上または直下に位置するよう
に構成して検出感度の向上と不要信号の発生防止を実現
することも可能である。さらに、ホール素子の信号処理
回路を可動板上に一体形成して高感度の位置信号を発生
させることも可能である。
As in the first and second embodiments, it is also possible to improve the detection sensitivity and prevent the generation of unnecessary signals by configuring the Hall element so as to be located immediately above or below the driving coil. It is. Further, it is possible to generate a highly sensitive position signal by integrally forming the signal processing circuit of the Hall element on the movable plate.

【0050】上記した第3実施の形態によれば、薄膜化
したホール素子をモノリシックに一体形成することによ
り高感度の位置信号を発生する光偏向器が実現される。
According to the third embodiment described above, an optical deflector that generates a highly sensitive position signal is realized by integrally forming a thinned Hall element in a monolithic manner.

【0051】これまで第1〜3実施の形態をトーション
バー構造で支持された光偏向ミラーにおいて説明した
が、図15、16に示すように片持ち梁構造においても
本実施形態を適用することができる。以下に図15、1
6の動作について説明する。図15は可動板上にホール
素子を貼り付けで形成(第1実施の形態に対応)した光
偏向器であり、図16は可動板とホール素子とを一体形
成した光偏向器である(第2実施の形態に対応)。
Although the first to third embodiments have been described with reference to the light deflecting mirror supported by the torsion bar structure, the present embodiment can be applied to a cantilever structure as shown in FIGS. it can. FIG. 15 and FIG.
The operation of No. 6 will be described. FIG. 15 shows an optical deflector formed by attaching a Hall element on a movable plate (corresponding to the first embodiment), and FIG. 16 shows an optical deflector in which the movable plate and the Hall element are integrally formed (No. (Corresponding to two embodiments).

【0052】図15、16において、駆動用コイル10
4、204に交流電流を印加すると、駆動用コイル10
4、204に流れるY方向の電流と永久磁石107、2
07から発生するX方向の磁界との相互作用により、駆
動用コイル104、204にZ方向にローレンツ力が発
生する。このローレンツ力により、可動板101、20
1は弾性部材102、202と支持体の境界部を回動中
心としてY軸回りに回動運動する。
15 and 16, the driving coil 10
When an alternating current is applied to the driving coils 10 and 204, the driving coil 10
4, 204, the current flowing in the Y direction and the permanent magnets 107, 2
07, a Lorentz force is generated in the driving coils 104 and 204 in the Z direction. Due to this Lorentz force, the movable plates 101, 20
Numeral 1 rotates around the Y axis about the boundary between the elastic members 102 and 202 and the support.

【0053】ここで可動板101、201が角度θだけ
傾いているとき、ホール素子の厚み方向成分の磁束密度
はB・sinθ となる。従って片持ち梁構造においても、
トーションバー構造と同様に、ホール素子のX方向の端
子間に電流を流すと、ホール素子のY方向の端子間に、 VH =RH ・I・B・sinθ/ t で示されるホール電圧が発生する。これによりホール電
圧は、同一のホール素子を用いかつ、印加電流、磁束密
度が同一の場合には、可動板の偏向角に依存するので、
可動板101、201の位置を表わす信号(位置信号)
となる。以上により検出信号が位置信号であることによ
り、従来よりも正確な可動板の位置情報が検出され、さ
らに直流駆動させたときのスタティックな状態でも正確
な検出が可能である。また、図示していないが、ホール
電極下部に拡散層や絶縁膜を介して薄膜化したホール素
子を形成することで高感度化を実現することが可能であ
り、ホール素子の配置や信号処理回路の集積化等に関し
て第1〜第3実施形態と同様の変形が可能である。
When the movable plates 101 and 201 are inclined by an angle θ, the magnetic flux density of the Hall element in the thickness direction becomes B · sin θ. Therefore, even in a cantilever structure,
Similarly to the torsion bar structure, when a current is applied between the terminals of the Hall element in the X direction, the Hall voltage represented by V H = R H IB Sin θ / t is applied between the terminals of the Hall element in the Y direction. appear. As a result, the Hall voltage depends on the deflection angle of the movable plate when the same Hall element is used and the applied current and the magnetic flux density are the same.
Signal (position signal) indicating the position of the movable plates 101 and 201
Becomes As described above, since the detection signal is a position signal, more accurate position information of the movable plate than before can be detected, and accurate detection can be performed even in a static state when the DC driving is performed. Although not shown, high sensitivity can be realized by forming a thin Hall element under the Hall electrode with a diffusion layer or an insulating film interposed therebetween, and the arrangement of the Hall element and the signal processing circuit can be realized. The same modifications as those of the first to third embodiments can be made with respect to integration and the like.

【0054】次に本発明の第4の実施の形態を説明す
る。この実施の形態の特徴は片持ち梁またはジンバル構
造を2次元駆動させて2次元の位置信号を検出する点に
ある。図17〜図20に第4実施の形態を示す。
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. The feature of this embodiment resides in that the cantilever or gimbal structure is driven two-dimensionally to detect a two-dimensional position signal. 17 to 20 show a fourth embodiment.

【0055】まず片持ち梁構成の光偏向器について説明
する。図17に示すようにX方向、Y方向の2方向に磁
束密度が発生するようにそれぞれの方向に着磁した永久
磁石407−1、407−2を配置する。またそれぞれ
の永久磁石407−1、407−2の近傍でかつ、駆動
用コイル404の直上の可動板401の位置にホール素
子408−1、408−2を貼り合せるとともに、これ
に接続してホール素子配線409−1、409−2をも
貼り合わせる。
First, an optical deflector having a cantilever structure will be described. As shown in FIG. 17, permanent magnets 407-1 and 407-2 magnetized in respective directions are arranged such that magnetic flux densities are generated in two directions of the X direction and the Y direction. Further, the Hall elements 408-1 and 408-2 are bonded to the positions of the movable plate 401 near the respective permanent magnets 407-1 and 407-2 and immediately above the driving coil 404, and are connected to the Hall elements 408-1 and 408-2. The element wirings 409-1 and 409-2 are also bonded.

【0056】上記した構成の光偏向器において、駆動用
コイル404に交流電流を印加すると、駆動用コイル4
04に流れるX方向の電流と永久磁石407−1から発
生するY方向の磁界との相互作用により、駆動用コイル
404にはZ方向のローレンツ力が発生する。また、駆
動用コイル404に流れるY方向の電流と永久磁石40
7−2から発生するX方向の磁界との相互作用により、
駆動用コイル404にはZ方向のローレンツ力が発生す
る。これらのローレンツ力により、可動板401は弾性
部材402のX方向を回動中心として回動運動するとと
もに弾性部材402と支持体403の境界部を回動中心
としてY軸回りに回動運動する。
In the optical deflector having the above configuration, when an alternating current is applied to the driving coil 404, the driving coil 4
Due to the interaction between the current flowing in the X direction in the X direction and the magnetic field in the Y direction generated from the permanent magnet 407-1, the driving coil 404 generates a Lorentz force in the Z direction. Further, the Y-direction current flowing through the driving coil 404 and the permanent magnet 40
By interaction with the magnetic field in the X direction generated from 7-2,
The driving coil 404 generates a Lorentz force in the Z direction. Due to these Lorentz forces, the movable plate 401 pivots around the X direction of the elastic member 402 and pivots around the Y axis around the boundary between the elastic member 402 and the support 403.

【0057】ここで可動板401が回動運動によりθだ
け傾いているときには、ホール素子408−1の厚み方
向成分の磁束密度はB・sinθ となる。一方可動板40
1が並進運動によりψだけ傾いているときには、ホール
素子408−2の厚み方向成分の磁束密度はB・sinψ
となる。これにより各ホール素子408−1、408−
2の一方向の端子間に電流を流すと、他方向の端子間に
はそれぞれ VH =RH ・I・B・sinθ/ t VH =RH ・I・B・sinψ/ t で示されるホール電圧が発生する。これにより各ホール
電圧は、同一のホール素子を用い、印加電流、磁束密度
が同一の場合には、可動板401のそれぞれの偏向角に
依存するので、各ホール素子の電圧信号を検出すること
により可動板401の2自由度の偏向角が検出できる。
また第1実施の形態と同様に、ホール素子408−1、
408−2を、可動板401の運動端近傍でかつ、駆動
用コイル404の直上の位置に設けたので、ホール素子
408−1、408−2における駆動用コイル404に
流れる電流から発生する磁束密度はほぼ可動板401と
平行方向成分となり、厚み方向成分には発生しない。こ
れにより駆動用コイル404に流れる電流との相互作用
によるホール電圧は発生しなくなり、不要な信号発生を
防止できる光偏向器が実現できる。
When the movable plate 401 is tilted by θ due to the rotational movement, the magnetic flux density of the Hall element 408-1 in the thickness direction becomes B · sin θ. On the other hand, movable plate 40
When 1 is inclined by ψ due to the translational motion, the magnetic flux density of the component in the thickness direction of the Hall element 408-2 becomes B · sinψ
Becomes Thereby, each Hall element 408-1, 408-
When a current flows between the terminals in one direction, V H = R H IB sin θ / t between the terminals in the other direction is represented by V H = R H IB sin / t. Hall voltage is generated. Accordingly, each Hall voltage uses the same Hall element, and when the applied current and the magnetic flux density are the same, it depends on the respective deflection angles of the movable plate 401. Therefore, by detecting the voltage signal of each Hall element, The deflection angle of the movable plate 401 with two degrees of freedom can be detected.
Further, similarly to the first embodiment, the Hall element 408-1,
Since 408-2 is provided near the moving end of the movable plate 401 and immediately above the driving coil 404, the magnetic flux density generated from the current flowing through the driving coil 404 in the Hall elements 408-1 and 408-2. Is substantially parallel to the movable plate 401 and does not occur in the thickness direction. As a result, no Hall voltage is generated due to the interaction with the current flowing through the driving coil 404, and an optical deflector that can prevent unnecessary signal generation can be realized.

【0058】なお、各ホール素子408−1、408−
2はともに駆動用コイル404の直上に設けられている
が、ホール素子408−1は永久磁石407−2から発
生するX方向の磁束密度の影響を受けにくいように、永
久磁石407−2から離れた位置に配置するのが望まし
い。またホール素子408−2も同様に、永久磁石40
7−1から離れた位置に配置するのが望ましい。
Each of the Hall elements 408-1, 408-
2 are provided directly above the driving coil 404, but the Hall element 408-1 is separated from the permanent magnet 407-2 so as to be hardly affected by the magnetic flux density in the X direction generated from the permanent magnet 407-2. It is desirable to arrange them at different positions. Similarly, the Hall element 408-2 also has a permanent magnet 40
It is desirable to arrange at a position away from 7-1.

【0059】図17では第1実施の形態のようにホール
素子を貼り合わせで形成した光偏向器を示したが、図1
8に示すように、第2実施の形態に対応してイオン注入
により高濃度不純物拡散層411−1,411−2を形
成して可動板とホール素子とをモノリシックに一体形成
することにより、2次元位置検出の光偏向器を実現する
ことができる。また図示していないが、第3実施の形態
と同様に、ホール電極下部に拡散層や絶縁膜を介して薄
膜化したホール素子を設けることにより2次元位置検出
可能な光偏向器を実現することもできる。
FIG. 17 shows an optical deflector formed by bonding Hall elements as in the first embodiment.
As shown in FIG. 8, according to the second embodiment, the high-concentration impurity diffusion layers 411-1 and 411-2 are formed by ion implantation and the movable plate and the Hall element are monolithically integrated to form An optical deflector for dimensional position detection can be realized. Although not shown, as in the third embodiment, an optical deflector capable of two-dimensional position detection can be realized by providing a thin Hall element under a hole electrode via a diffusion layer or an insulating film, as in the third embodiment. Can also.

【0060】次にジンバル構造での2次元駆動、位置検
出可能な光偏向器について説明する。図19に示すよう
に、X方向、Y方向の2方向に磁束密度が発生するよう
に着磁した永久磁石407−1、407−2を配置す
る。またそれぞれの永久磁石407−1、407−2の
近傍でかつ、可動板401−1,401−2の駆動用コ
イル404−1、404−2の直上である位置にホール
素子408−1、408−2を貼り合せるとともに、こ
れに接続してホール素子配線409−1、409−2を
貼り合わせる。またホール素子配線409−1が永久磁
石407−2から発生する磁束密度を受けにくいよう
に、2つの永久磁石407−2の可動板401−2に対
向していない側の磁極どうしを接続するヨーク418を
設ける。また、図示していないが、可動板401の外側
にある2つの永久磁石407−1の可動板401−1に
対向していない側の磁極どうしを接続するヨークを設け
てもよい。
Next, an optical deflector capable of two-dimensional drive and position detection in a gimbal structure will be described. As shown in FIG. 19, permanent magnets 407-1 and 407-2 magnetized so that magnetic flux density is generated in two directions, X direction and Y direction, are arranged. Further, the Hall elements 408-1 and 408 are located near the respective permanent magnets 407-1 and 407-2 and directly above the driving coils 404-1 and 404-2 of the movable plates 401-1 and 401-2. In addition, the Hall element wirings 409-1 and 409-2 are bonded together by being connected thereto. Also, a yoke for connecting the magnetic poles of the two permanent magnets 407-2 on the side not facing the movable plate 401-2 so that the Hall element wiring 409-1 is less likely to receive the magnetic flux density generated from the permanent magnet 407-2. 418 are provided. Although not shown, a yoke may be provided to connect the magnetic poles of the two permanent magnets 407-1 outside the movable plate 401 on the side not facing the movable plate 401-1.

【0061】上記した構成の光偏向器において、駆動用
コイル404−1、404−2に交流電流を印加する
と、駆動用コイル404−1に流れるX方向の電流と永
久磁石407−1から発生するY方向の磁界との相互作
用により、駆動用コイル404−1には可動板401−
1の厚み方向にローレンツ力が発生する。また、駆動用
コイル404−2に流れるY方向の電流と永久磁石40
7−2から発生するX方向の磁界との相互作用により、
駆動用コイル404−2には可動板401−2の厚み方
向にローレンツ力が発生する。これらのローレンツ力に
より、可動板401−1は弾性部材402−1のX方向
を回動中心として回動運動し、可動板401−2は弾性
部材402−2のY方向を回動中心として回動運動す
る。
In the optical deflector having the above-described structure, when an alternating current is applied to the driving coils 404-1 and 404-2, an X-direction current flowing through the driving coil 404-1 and the permanent magnet 407-1 are generated. Due to the interaction with the magnetic field in the Y direction, the movable plate 401-
A Lorentz force is generated in the thickness direction of No. 1. The Y-direction current flowing through the driving coil 404-2 and the permanent magnet 40
By interaction with the magnetic field in the X direction generated from 7-2,
Lorentz force is generated in the driving coil 404-2 in the thickness direction of the movable plate 401-2. Due to these Lorentz forces, the movable plate 401-1 rotates around the X direction of the elastic member 402-1 and the movable plate 401-2 rotates around the Y direction of the elastic member 402-2. Exercising.

【0062】ここで可動板401−1がθ傾いていると
き、ホール素子408−1の半導体膜厚方向成分の磁束
密度はB・sinθ となり、可動板401−2がψ傾いて
いるとき、ホール素子408−2の膜厚方向成分の磁束
密度はB・sinψ となる。これによりホール素子408
−1、408−2それぞれに一方向の端子間に電流を流
すと、他方向の端子間にはそれぞれ VH =RH ・I・B・sinθ/ t VH =RH ・I・B・sinψ/ t で示されるホール電圧が発生する。これにより各ホール
電圧は、同一のホール素子を用い、印加電流、磁束密度
が同一の場合には、各可動板の偏向角に依存するので、
各可動板401−1、401−2の位置を表わす信号
(位置信号)となる。また第1実施の形態と同様に、ホ
ール素子408−1、408−2を可動板401−1、
401−2の運動端近傍でかつ、駆動用コイル404−
1、404−2の直上位置に設けたので、ホール素子4
08−1、408−2における駆動用コイル404−
1、404−2に流れる電流から発生する磁束密度はほ
ぼ可動板401−1、401−2と平行方向成分とな
り、厚み方向成分には発生しない。これにより駆動用コ
イル404−1、404−2に流れる電流との相互作用
によるホール電圧は発生しなくなり、不要な信号発生を
防止できる光偏向器となる。
Here, when the movable plate 401-1 is inclined by θ, the magnetic flux density of the Hall element 408-1 in the semiconductor film thickness direction becomes B · sin θ, and when the movable plate 401-2 is inclined by ψ, The magnetic flux density of the component in the thickness direction of the element 408-2 is B · sinψ. Thereby, the Hall element 408
-1,408-2 When a current between one direction of terminals, respectively, - each of the other inter direction of the terminal V H = R H · I · B · sinθ / t V H = R H · I B · A Hall voltage represented by sinψ / t is generated. As a result, each Hall voltage depends on the deflection angle of each movable plate when the same Hall element is used and the applied current and the magnetic flux density are the same.
It becomes a signal (position signal) representing the position of each movable plate 401-1 and 401-2. Further, similarly to the first embodiment, the Hall elements 408-1 and 408-2 are connected to the movable plate 401-1,
401-2 near the moving end of the driving coil 401-2.
1, 404-2, the Hall element 4
08-1 and the drive coil 404- in 408-2
The magnetic flux density generated from the current flowing through the first and the 404-2 becomes substantially parallel to the movable plates 401-1 and 401-2, and does not occur in the thickness direction. Thus, no Hall voltage is generated due to interaction with the current flowing through the driving coils 404-1 and 404-2, and the optical deflector can prevent unnecessary signal generation.

【0063】図19では第1実施の形態のようにホール
素子を貼り合わせて形成した光偏向器を示したが、図2
0に示すように、第2実施の形態に対応してイオン注入
による高濃度不純物拡散層411−1、411−2を形
成して、可動板とホール素子とをモノリシックに一体形
成した2次元の光偏向器も実現可能である。
FIG. 19 shows an optical deflector formed by bonding Hall elements as in the first embodiment.
As shown in FIG. 0, a two-dimensional structure in which high-concentration impurity diffusion layers 411-1 and 411-2 are formed by ion implantation and a movable plate and a Hall element are monolithically integrated with each other according to the second embodiment. Optical deflectors are also feasible.

【0064】また図示していないが、第3実施の形態と
同様に、ホール電極下部に拡散層や絶縁膜を介して薄膜
化したホール素子を形成することで2次元位置を検出可
能な光偏向器を実現することもできる。さらに、ホール
素子の配置や信号処理回路の集積化等に関して、第1〜
第3実施形態と同様の変形が可能である。
Although not shown, similarly to the third embodiment, by forming a thin Hall element under a hole electrode via a diffusion layer or an insulating film, a light deflection capable of detecting a two-dimensional position is formed. Vessels can also be realized. Furthermore, regarding the arrangement of Hall elements and integration of signal processing circuits,
Modifications similar to the third embodiment are possible.

【0065】上記した第4実施の形態によれば、片持ち
梁またはジンバル構造を用いて2方向に磁束密度を発生
させて2次元駆動させるようにしたので、2次元の位置
信号が検出可能な光偏向器が得られる。
According to the above-described fourth embodiment, the magnetic flux density is generated in two directions using the cantilever or gimbal structure to drive two-dimensionally, so that a two-dimensional position signal can be detected. An optical deflector is obtained.

【0066】なお、上記した具体的実施の形態には以下
のような構成の発明が含まれている。
The specific embodiments described above include inventions having the following configurations.

【0067】(1) 支持体と、少なくとも一方の面に
光源からの光を反射するための鏡面が形成された可動板
と、この可動板と前記支持体との間を連結し、前記可動
板を偏向可能に保持する弾性部材と、前記可動板の少な
くとも一方の面に形成された駆動用コイルと、前記可動
板の面に略平行な方向に磁界を発生する磁界発生手段
と、前記駆動用コイルに印加された電流と前記磁界発生
手段の磁界との相互作用により前記弾性部材を弾性変形
させたときの前記可動板の偏向運動の偏向角を検出する
ためのホール素子と、を具備することを特徴とする光偏
向器。
(1) A support, a movable plate having at least one surface formed with a mirror surface for reflecting light from a light source, and a connection between the movable plate and the support, An elastic member for deflecting the movable plate, a driving coil formed on at least one surface of the movable plate, magnetic field generating means for generating a magnetic field in a direction substantially parallel to the surface of the movable plate, A Hall element for detecting a deflection angle of a deflection motion of the movable plate when the elastic member is elastically deformed by an interaction between a current applied to a coil and a magnetic field of the magnetic field generating means. A light deflector.

【0068】この構成の光偏向器ではホール素子を備え
ることにより検出信号が位置信号となり、従来よりも正
確な可動板の位置情報が検出できる。また低周波信号駆
動や直流信号で駆動した場合においても正確な可動板の
位置検出が可能となる。この発明に対応する実施の形態
は第1〜4の実施の形態である。
In the optical deflector having this configuration, the detection signal becomes a position signal by providing the Hall element, so that the position information of the movable plate can be detected more accurately than in the past. Further, even when driven by a low frequency signal or a DC signal, the position of the movable plate can be accurately detected. Embodiments corresponding to the present invention are the first to fourth embodiments.

【0069】(2) 前記ホール素子と当該ホール素子
の信号処理用回路とが前記可動板上に備えられているこ
とを特徴とする(1)に記載の光偏向器。
(2) The optical deflector according to (1), wherein the Hall element and a signal processing circuit of the Hall element are provided on the movable plate.

【0070】この構成の光偏向器では、可動板上にさら
に増幅機能や差動機能を有する信号処理用回路を備える
ことにより、ホール素子からの信号が微小でも増幅可能
となり、あるいは磁界や電流を印加しない状態でも発生
する不要な信号を除去可能となる。従って、より高感度
の位置検出ができる光偏向器が実現できる。この発明に
対応する実施の形態は第1〜4の実施の形態である。
In the optical deflector having this configuration, a signal processing circuit having an amplifying function and a differential function is further provided on the movable plate, so that even a small signal from the Hall element can be amplified, or a magnetic field or current can be reduced. Unnecessary signals generated even when no voltage is applied can be removed. Therefore, an optical deflector capable of detecting a position with higher sensitivity can be realized. Embodiments corresponding to the present invention are the first to fourth embodiments.

【0071】(3) 前記ホール素子と当該ホール素子
の信号処理用回路とを一体化したホールICを具備する
ことを特徴とする(1)または(2)に記載の光偏向
器。
(3) The optical deflector according to (1) or (2), further comprising a Hall IC in which the Hall element and a signal processing circuit of the Hall element are integrated.

【0072】この構成の光偏向器では、可動板上にホー
ル素子とこのホール素子用の増幅機能や差動機能を有す
る信号処理用回路を一体化したホールICを備えること
により、ホール素子からの信号が微小でも増幅可能とな
り、あるいは磁界や電流を印加しない状態でも発生する
不要な信号を除去可能となる。従って、より高感度の位
置検出が可能な光偏向器が実現できる。この発明に対応
する実施の形態は第1〜4の実施の形態である。
In the optical deflector having this configuration, a Hall element and a signal processing circuit having an amplifying function and a differential function for the Hall element are integrated on a movable plate, so that the Hall element is provided with a signal from the Hall element. It becomes possible to amplify even a small signal, or to remove an unnecessary signal generated even when no magnetic field or current is applied. Therefore, an optical deflector capable of detecting a position with higher sensitivity can be realized. Embodiments corresponding to the present invention are the first to fourth embodiments.

【0073】(4) 前記ホール素子の少なくとも1つ
は前記可動板が偏向運動する際の運動端近傍に設けられ
ていることを特徴とする(1)〜(3)のいずれか1つ
に記載の光偏向器。
(4) At least one of the Hall elements is provided in the vicinity of a moving end of the movable plate when the movable plate performs a deflecting motion, according to any one of (1) to (3). Light deflector.

【0074】この構成の光偏向器では、ホール素子を可
動板が偏向運動する際の運動端近傍に設けたので、ホー
ル素子が受ける磁束密度が大きくなって検出信号も大き
くなり高感度の位置検出が可能な光偏向器が実現でき
る。この発明に対応する実施の形態は第1〜4の実施の
形態である。
In the optical deflector of this configuration, since the Hall element is provided near the moving end of the movable plate when the movable plate deflects, the magnetic flux density received by the Hall element increases, the detection signal also increases, and a highly sensitive position detection is performed. Can be realized. Embodiments corresponding to the present invention are the first to fourth embodiments.

【0075】(5) 前記ホール素子の少なくとも1つ
は前記可動板厚み方向において前記駆動用コイルの配線
領域と重なる位置に設けられていることを特徴とする
(1)〜(4)のいずれか1つに記載の光偏向器。
(5) At least one of the Hall elements is provided at a position overlapping with a wiring region of the driving coil in the thickness direction of the movable plate. An optical deflector according to claim 1.

【0076】この構成の光偏向器では、ホール素子を前
記可動板厚み方向において前記駆動用コイルの配線領域
と重なる位置に設けたので、ホール素子における磁束密
度が大きくなるとともに、駆動コイルの電流によって発
生する磁界との相互作用による不要な信号発生を防止す
る光偏向器が実現できる。この発明に対応する実施の形
態は第1〜4の実施の形態である。
In the optical deflector of this configuration, the Hall element is provided at a position overlapping the wiring region of the driving coil in the thickness direction of the movable plate, so that the magnetic flux density in the Hall element increases and the current of the driving coil causes An optical deflector that prevents unnecessary signal generation due to interaction with a generated magnetic field can be realized. Embodiments corresponding to the present invention are the first to fourth embodiments.

【0077】(6) 前記ホール素子が前記可動板にモ
ノリシックに一体形成されていることを特徴とする
(1)〜(5)のいずれか1つに記載の光偏向器。
(6) The optical deflector according to any one of (1) to (5), wherein the Hall element is monolithically integrated with the movable plate.

【0078】この構成の光偏向器では、ホール素子を可
動板にモノリシックに一体形成するようにしたので小型
化及び量産化が可能となり、製造工程を大幅に低減でき
る光偏向器が実現できる。この発明に対応する実施の形
態は第2〜4の実施の形態である。
In the optical deflector having this structure, the Hall element is monolithically formed on the movable plate, so that the optical deflector can be miniaturized and mass-produced. Embodiments corresponding to the present invention are the second to fourth embodiments.

【0079】(7) 前記可動板が半導体であり、前記
可動板上に4端子電極を備え、前記4端子電極に囲まれ
た可動板領域をホール素子とすることを特徴とする請求
項(6)に記載の光偏向器。
(7) The movable plate is a semiconductor, a four-terminal electrode is provided on the movable plate, and a movable plate region surrounded by the four-terminal electrode is a hall element. An optical deflector according to the item (1).

【0080】この構成の光偏向器では、可動板上に4端
子電極を備えることにより、4端子電極に囲まれた可動
板領域がホール素子となる。これにより可動板上にホー
ル素子をモノリシックに一体形成可能となる。この発明
に対応する実施の形態は第2〜4の実施の形態である。
In the optical deflector having this configuration, the four terminal electrodes are provided on the movable plate, so that the movable plate region surrounded by the four terminal electrodes becomes a Hall element. This makes it possible to monolithically form the Hall element on the movable plate. Embodiments corresponding to the present invention are the second to fourth embodiments.

【0081】(8) 前記ホール素子と当該ホール素子
の信号処理用回路とをモノリシックに一体形成したホー
ルICを具備することを特徴とする(6)または(7)
に記載の光偏向器。
(8) There is provided a Hall IC in which the Hall element and a signal processing circuit of the Hall element are monolithically formed integrally (6) or (7).
An optical deflector according to item 1.

【0082】この構成の光偏向器では、可動板上にホー
ル素子と、このホール素子用の増幅機能や差動機能等を
有する信号処理用回路とをモノリシックに一体形成した
ホールICを設けたので、ホール素子からの信号が微小
でも増幅可能となり、あるいは磁界や電流を印加しない
状態でも発生する不要な信号を除去可能となる。従っ
て、より高感度の位置検出が可能な光偏向器がモノリシ
ックに一体形成可能となる。この発明に対応する実施の
形態は第2〜4の実施の形態である。
In the optical deflector having this configuration, a Hall element and a signal processing circuit having an amplifying function and a differential function for the Hall element are monolithically formed on the movable plate. In addition, the signal from the Hall element can be amplified even if it is very small, or unnecessary signals generated even when no magnetic field or current is applied can be removed. Therefore, an optical deflector capable of detecting a position with higher sensitivity can be monolithically integrated. Embodiments corresponding to the present invention are the second to fourth embodiments.

【0083】(9) 前記可動板が半導体基板であり、
前記可動板上部に前記可動板と逆極性のキャリアを発生
するようなイオン注入を行うことにより拡散層を形成
し、この拡散層を前記ホール素子とすることを特徴とす
る(6)〜(8)のいずれか1つに記載の光偏向器。
(9) The movable plate is a semiconductor substrate,
A diffusion layer is formed on the movable plate by performing ion implantation to generate carriers having a polarity opposite to that of the movable plate, and the diffusion layer is used as the Hall element (6) to (8). The optical deflector according to any one of the above items.

【0084】この構成の光偏向器では、可動板上部に前
記可動板と逆極性のキャリアを発生するようなイオン注
入を行うことにより拡散層を形成し、この拡散層をホー
ル素子とする。拡散層のホール素子は基板に比べて数桁
薄いので、検出信号は数桁大きくなり高感度の光偏向素
子が実現できる。この発明に対応する実施の形態は第
3、4の実施の形態である。
In the optical deflector having this configuration, a diffusion layer is formed on the movable plate by performing ion implantation so as to generate carriers having a polarity opposite to that of the movable plate, and this diffusion layer is used as a Hall element. Since the Hall element of the diffusion layer is several orders of magnitude thinner than the substrate, the detection signal is increased by several orders of magnitude, and a highly sensitive light deflection element can be realized. Embodiments corresponding to the present invention are the third and fourth embodiments.

【0085】(10) 前記可動板上部に絶縁膜を形成
し、前記絶縁膜上部にホール素子をモノリシックに一体
形成することを特徴とする(6)〜(8)のいずれか1
つに記載の光偏向器。
(10) An insulating film is formed on the movable plate, and a Hall element is monolithically formed integrally on the insulating film.
An optical deflector according to any one of the above.

【0086】この構成の光偏向器では、可動板上部に絶
縁膜を形成し、絶縁膜上部にホール素子をモノリシック
に一体形成することによりホール素子が薄膜化となり、
高感度の光偏向素子が実現できる。この発明に対応する
実施の形態は第3、4の実施の形態である。
In the optical deflector having this structure, the insulating film is formed on the movable plate, and the Hall element is monolithically formed integrally on the insulating film.
A highly sensitive light deflecting element can be realized. Embodiments corresponding to the present invention are the third and fourth embodiments.

【0087】(11) 前記可動板が当該可動板の面に
略平行な2方向に磁界を受けて2次元の偏向運動を行
い、前記可動板の偏向角を検出するためのホール素子が
前記可動板上に少なくとも2個は備えられていることを
特徴とする(1)〜(10)のいずれか1つに記載の光
偏向器。
(11) The movable plate receives a magnetic field in two directions substantially parallel to the surface of the movable plate to perform a two-dimensional deflection motion, and the Hall element for detecting the deflection angle of the movable plate is provided by the movable plate. The optical deflector according to any one of (1) to (10), wherein at least two light deflectors are provided on the plate.

【0088】この構成の光偏向器では、片持ち梁やジン
バル構造の光偏向ミラー面に略平行な2方向に磁束密度
を印加させると可動板は2次元の偏向運動をする。そこ
で可動板上に少なくとも2個のホール素子を可動板の運
動端近傍に設けることにより、可動板の回動、並進それ
ぞれの位置信号が検出可能となる。この発明に対応する
実施の形態は第4の実施の形態である。
In the optical deflector having this configuration, when the magnetic flux density is applied in two directions substantially parallel to the surface of the optical deflection mirror having a cantilever or gimbal structure, the movable plate performs a two-dimensional deflection motion. Therefore, by providing at least two Hall elements on the movable plate near the moving end of the movable plate, the position signals of the rotation and translation of the movable plate can be detected. An embodiment corresponding to the present invention is a fourth embodiment.

【0089】[0089]

【発明の効果】本発明によれば、可動板の位置情報を従
来よりもより正確かつ高感度で検出することができると
ともに、低周波信号や直流信号で駆動した場合において
も可動板の位置を正確に検出することができる。
According to the present invention, the position information of the movable plate can be detected more accurately and with higher sensitivity than before, and the position of the movable plate can be detected even when driven by a low frequency signal or a DC signal. It can be detected accurately.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】ホール素子の動作原理について説明するための
図である。
FIG. 1 is a diagram for explaining an operation principle of a Hall element.

【図2】(a)は可動板上にホール素子を貼り合せて取
り付けた本発明の第1の実施の形態にかかわる光偏向器
の斜視図であり、(b)は(a)中のA−A′ に沿っ
た光偏向器の断面図である。
FIG. 2A is a perspective view of an optical deflector according to a first embodiment of the present invention in which a Hall element is attached on a movable plate and attached thereto, and FIG. 2B is a perspective view of A in FIG. It is sectional drawing of an optical deflector along -A '.

【図3】図2に示す光偏向器の動作を説明するための図
である。
FIG. 3 is a diagram for explaining the operation of the optical deflector shown in FIG. 2;

【図4】可動板の運動端部に小型のホール素子を取り付
けた変形例を示す図である。
FIG. 4 is a view showing a modification in which a small Hall element is attached to a moving end of a movable plate.

【図5】ホール素子を可動板の運動端部に取り付けるこ
とで、コイル、ホール素子と同じ面に鏡面を形成した例
を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing an example in which a mirror element is formed on the same surface as a coil and a Hall element by attaching the Hall element to a moving end of a movable plate.

【図6】可動板の運動端部近傍の駆動用コイルの配線領
域と可動板厚み方向において重なるような位置にホール
素子を配置した変形例を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a modification in which a Hall element is arranged at a position near a moving end of a movable plate in a thickness direction of the movable plate with a wiring region of a driving coil.

【図7】可動板の両側の運動端でかつ駆動用コイルの直
上にホール素子を取り付けた変形例を示す図である。
FIG. 7 is a view showing a modified example in which a Hall element is attached to both ends of movement of a movable plate and directly above a driving coil.

【図8】(a)は可動板とホール素子とをモノリシック
に一体形成した本発明の第2の実施の形態にかかわる光
偏向器の要部の立体図であり、(b)は(a)中のA−
A′に沿った光偏向器の断面図である。
FIG. 8A is a three-dimensional view of a main part of an optical deflector according to a second embodiment of the present invention in which a movable plate and a Hall element are monolithically integrated, and FIG. A-
It is sectional drawing of the optical deflector along A '.

【図9】ホール素子が駆動用コイルの真下に位置するよ
うに4端子電極コンタクト用の拡散層を設けた変形例を
示す図である。
FIG. 9 is a view showing a modification in which a diffusion layer for four-terminal electrode contact is provided such that the Hall element is located immediately below the driving coil.

【図10】ホール電圧を増幅するための機能を付加した
変形例を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a modification in which a function for amplifying a Hall voltage is added.

【図11】(a)はホール素子をモノリシックに一体形
成し、さらに素子を薄膜化して高感度の検出手段を実現
した本発明の第3の実施の形態にかかわる光偏向器の要
部の斜視図であり、(b)は(a)中のA−A′に沿っ
た光偏向器の断面図である。
FIG. 11A is a perspective view of a main part of an optical deflector according to a third embodiment of the present invention in which a Hall element is monolithically formed integrally, and the element is thinned to realize a highly sensitive detection means. It is a figure, (b) is sectional drawing of the optical deflector along AA 'in (a).

【図12】可動板全面に絶縁膜を形成し、その内部に薄
膜状のホール素子を形成した変形例を示す図である。
FIG. 12 is a view showing a modification in which an insulating film is formed on the entire surface of a movable plate, and a thin-film Hall element is formed therein.

【図13】薄膜状のホール素子として多結晶半導体をC
VD法で形成した変形例を説明するための図である。
FIG. 13 shows a polycrystalline semiconductor made of C as a thin-film Hall element.
It is a figure for explaining the modification formed by the VD method.

【図14】可動板をSOI基板にし、上部の半導体層を
ホール素子にした変形例を示す図である。
FIG. 14 is a view showing a modification in which a movable plate is an SOI substrate and an upper semiconductor layer is a Hall element.

【図15】光偏向ミラー部が片持ち梁構造を有し、可動
板上にホール素子を貼り付けて形成した変形例を示す図
である。
FIG. 15 is a view showing a modified example in which the light deflecting mirror section has a cantilever structure and is formed by attaching a Hall element on a movable plate.

【図16】光偏向ミラー部が片持ち梁構造を有し、可動
板とホール素子とを一体形成にした変形例を示す図であ
る。
FIG. 16 is a view showing a modification in which the light deflection mirror section has a cantilever structure, and the movable plate and the Hall element are integrally formed.

【図17】本発明の第4実施の形態において、ホール素
子を貼り合せて形成した片持ち梁構造の光偏向器につい
て説明するための図である。
FIG. 17 is a view for explaining an optical deflector having a cantilever structure formed by bonding Hall elements in the fourth embodiment of the present invention.

【図18】イオン注入による拡散層を形成して可動板と
ホール素子とをモノリシックに一体形成した片持ち梁構
造の光偏向器を示す図である。
FIG. 18 is a view showing an optical deflector having a cantilever structure in which a diffusion layer is formed by ion implantation and a movable plate and a Hall element are monolithically integrated.

【図19】ホール素子を貼り合せて形成したジンバル構
造の光偏向器について説明するための図である。
FIG. 19 is a diagram for explaining an optical deflector having a gimbal structure formed by bonding Hall elements.

【図20】イオン注入による拡散層を形成してホール素
子をモノリシックに一体形成したジンバル構造の光偏向
器を示す図である。
FIG. 20 is a diagram showing an optical deflector having a gimbal structure in which a diffusion element is formed monolithically by forming a diffusion layer by ion implantation.

【図21】従来の光偏向器の第1の構成例を示す図であ
る。
FIG. 21 is a diagram illustrating a first configuration example of a conventional optical deflector.

【図22】従来の光偏向器の第2の構成例を示す図であ
る。
FIG. 22 is a diagram illustrating a second configuration example of a conventional optical deflector.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101…可動板、 102…弾性部材、 103…支持体、 104…駆動用コイル、 106…鏡面、 107…永久磁石、 108…ホール素子、 109…ホール素子配線。 101: movable plate, 102: elastic member, 103: support, 104: driving coil, 106: mirror surface, 107: permanent magnet, 108: hall element, 109: hall element wiring.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体と、 少なくとも一方の面に光源からの光を反射するための鏡
面が形成された可動板と、 この可動板と前記支持体との間を連結し、前記可動板を
偏向可能に保持する弾性部材と、 前記可動板の少なくとも一方の面に形成された駆動用コ
イルと、 前記可動板の面に略平行な方向に磁界を発生する磁界発
生手段と、 前記駆動用コイルに印加された電流と前記磁界発生手段
の磁界との相互作用により前記弾性部材を弾性変形させ
たときの前記可動板の偏向運動の偏向角を検出するため
のホール素子と、を具備することを特徴とする光偏向
器。
A movable plate having at least one surface formed with a mirror surface for reflecting light from a light source; connecting the movable plate and the support with each other; An elastic member deflectably held; a driving coil formed on at least one surface of the movable plate; magnetic field generating means for generating a magnetic field in a direction substantially parallel to the surface of the movable plate; A Hall element for detecting a deflection angle of a deflection motion of the movable plate when the elastic member is elastically deformed by an interaction between the current applied to the magnetic field and the magnetic field of the magnetic field generating means. Characteristic optical deflector.
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