JPH11297831A

JPH11297831A - コンタクトセル、スルーホールセル、多層配線セルおよびアートワークデータの作成方法

Info

Publication number: JPH11297831A
Application number: JP10094397A
Authority: JP
Inventors: Takuya Fujii; 卓哉藤井
Original assignee: NEC Corp
Current assignee: NEC Corp
Priority date: 1998-04-07
Filing date: 1998-04-07
Publication date: 1999-10-29

Abstract

(57)【要約】【課題】レイアウトの作成ならびにレイアウト検証を
容易に行うこと。【解決手段】コンタクトセル１００は、下地層１０１
と、配線１０２と、それをつなぐコンタクト１０３とか
ら構成されている。配線１０２は、コンタクト１０２の
左右方向（横方向）に対して上下方向（縦方向）に配線
の後退分だけ長く伸ばされている。この配線１０２を延
在させる方向は、上下方向（縦方向）ではなく左右方向
（横方向）でも良い。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、大規模集積回路
（ＬＳＩ）や論理回路などの集積回路を設計開発する計
算機援用設計（ＣＡＤ）に関し、特に、レイアウト設計
工程におけるアートワークデータの作成方法およびそれ
を構成するコンタクトセル、スルーホールセル、多層配
線セルに関する。

【０００２】

【従来の技術】周知のように、論理ＬＳＩの設計作業
は、次の５つに大別される。すなわち、（イ）デバイス
設計、（ロ）電子回路設計、（ハ）論理設計、（ニ）配
置配線設計とアートワーク（作図）処理、（ホ）検査系
列設計とテストテープである。

【０００３】ここで、デバイス設計の目的は、ホトマス
ク作成、拡散、エッチングなどの製造技術の水準で決ま
る製造歩留まりを考慮して、電気的仕様を満たすよう
に、トランジスタ、抵抗などの各デバイスの構造を定め
ることである。また、電子回路設計の目的は、望みの電
気的仕様を満たすような回路構成（素子の接続関係）と
素子特性（抵抗の値、トランジスタモデルのパラメータ
値など）を定めることである。論理設計の目的は、望み
の論理仕様を満たすような論理構成を最終的にはゲート
レベル（ＡＮＤ，ＯＲ，ＮＯＴなどの基本ゲートから構
成される）で明確にすることである。

【０００４】一方、配置配線設計は、レイアウト設計と
も呼ばれ、論理回路図あるいは電子回路図に従って、Ｌ
ＳＩチップ内に搭載する素子の配置を定め、これらの素
子間の配線経路決定を行うことである。また、アートワ
ーク処理とは、この配置配線設計が完了した後に、これ
に基づいてマスク作成のための自動描画装置の入力デー
タを作成する作業のことをいい、作図処理とも呼ばれ
る。尚、配置配線設計とアートワーク処理とを一纏めに
して、レイアウト設計と呼ぶこともある。

【０００５】最後に、検査系列設計とは、ＬＳＩが製造
された後に、それが望みの性能および機能を満たしてい
るかの検査系列、場合によっては故障位置を調べるため
の故障診断系列を定めることである。

【０００６】本発明は、上述論理ＬＳＩの設計作業のう
ち、アートワーク処理（レイアウト設計）に関する発明
である。しかしながら、本発明はこのレイアウト設計に
限定せず、レイアウト設計時ばかりでなく実際の製造時
に使用される構成要素である、セル自体、例えば、コン
タクトセル、スルーホールセル、多層配線セルにも関す
る。

【０００７】周知ように、アートワーク処理（レイアウ
ト設計）ではレイアウト検証が行われる。ここで、「レ
イアウト検証」とは、設計最終段階のアートワークデー
タに対して設計の正しさを検証することをいう。

【０００８】このレイアウト検証では、設計ミスの種類
に応じて、以下に説明する３種類の検査が行われる。幾
何学的設計規則検査（ＤＲＣ：design rule check）で
は、製造プロセスなどからくる各種制限を考慮して設計
された幾何学的設計規則（デザインルール）に対する違
反を検査する。ＬＳＩの回路接続の検査は、まずアート
ワークデータから等価回路を抽出し、次いで、その回路
の接続ミスを検査するという手順で行われる。最後に、
電気的特性の検査では、パターンの寸法をもとに素子の
寸法や特性パラメータを算出し、これをＳＰＩＣＥなど
の回路解析プログラムでシミュレートする。回路特性に
影響を及ぼす寄生容量や寄生抵抗も場合によっては考慮
に入れる。

【０００９】前述したように、レイアウト設計時ばかり
でなく実際の製造時に使用される構成要素（セル）に
は、コンタクトセル、スルーホールセル、多層配線セル
がある。以下では、従来技術におけるこれらセルについ
て説明する。

【００１０】図５に従来のコンタクトセル５００の構成
を示す。図示の如く、従来のコンタクトセル５００は、
下地層としてのＮ+拡散層５０１と、配線５０２と、コ
ンタクト５０３とから構成されている。図５に示すよう
に、従来のコンタクトセル５００では、配線５０２はコ
ンタクト５０３に対して一定量の覆いを持っている。

【００１１】図６は図５に示した従来のコンタクトセル
を用いた配線の例を示す図である。図６において、
（ａ）はレイアウト時の平面図を示し、（ｂ）はエッチ
ング後の平面図を示している。図６では、２つのコンタ
クト６０３，６０３を配線６０２で接続した例を示して
いるが、下地層は省略してある。また、レイアウト時の
配線を６０２（図６（ａ））で、エッチング後の配線を
６０２ａ（図６（ｂ））で図示してある。

【００１２】図６（ｂ）に示すように、従来のコンタク
トセルでは、エッチング後において、細い配線６０２ａ
の配線端にコンタクト６０３，６０３がある場合、コン
タクト６０３が配線６０２ａからはみ出してしまう。

【００１３】これを回避するために、従来から以下に説
明するような、種々の方法が採用されている。

【００１４】図７では、配線端を後退する部分に、あら
かじめ配線を加えている。図７において、（ａ）はレイ
アウト時の平面図を示し、（ｂ）はエッチング後の平面
図を示している。図７でも、図６の場合と同様に、２つ
のコンタクト７０３，７０３を配線７０２で接続した例
を示しているが、下地層は省略してある。また、レイア
ウト時の配線を７０２（図７（ａ））で、エッチング後
の配線を７０２ａ（図７（ｂ））で図示してある。更
に、図７（ａ）中の参照符号７０４は、配線端で配線７
０２の長手方向に付け加えられた付加配線を示す。

【００１５】また、図８では配線端のコンタクトのある
部分の配線幅を広げることにより、配線の後退を防いで
いる。図８において、（ａ）はレイアウト時の平面図を
示し、（ｂ）はエッチング後の平面図を示している。図
８でも、図６の場合と同様に、２つのコンタクト８０
３，８０３を配線８０２で接続した例を示しているが、
下地層は省略してある。また、レイアウト時の配線を８
０２（図８（ａ））で、エッチング後の配線を８０２ａ
（図８（ｂ））で図示してある。更に、図８（ａ）中の
参照符号８０４は、配線端で配線８０２の幅方向に付け
加えられた付加配線を示す。

【００１６】さらに、図９はコンタクトの配線の覆いを
大きくした場合の例である。図９において、（ａ）はレ
イアウト時の平面図を示し、（ｂ）はエッチング後の平
面図を示している。図９でも、図６の場合と同様に、２
つのコンタクト９０３，９０３を配線９０２で接続した
例を示しているが、下地層は省略してある。また、レイ
アウト時の配線を９０２（図９（ａ））で、エッチング
後の配線を９０２ａ（図９（ｂ））で図示してある。更
に、図９（ａ）中の参照符号９０４は、配線端で配線９
０２の長手方向および幅方向の両方向に付け加えられた
付加配線を示す。

【００１７】この図９に示す方法は、配線端方向に対し
ても突き出し量が増えまた、配線幅も大きくなるため、
配線端の後退にたいしては有効である。

【００１８】図１０に、図９に図示したコンタクトセル
と、スルーホールセルとを含む多層配線セルの一例を示
す。図１０は、多層配線セルのレイアウト時の平面図を
示している。図１０でも下地層を省略している。図示の
例の多層配線セルは、第１および第２のコンタクトセル
１０１０および１０２０と、第１及び第２のスルーホー
ルセル１０６０および１０７０とを有する。

【００１９】第１のコンタクトセル１０１０は、第１の
コンタクト１０１３と、この第１のコンタクト１０１３
を覆う第１のコンタクト用配線１０１２とを有する。同
様に、第２のコンタクトセル１０２０は、第２のコンタ
クト１０２３と、この第２のコンタクト１０２３を覆う
第２のコンタクト用配線１０２２とを有する。また、第
１のスルーホールセル１０６０は、第１のスルーホール
１０６３と、この第１のスルーホール１０６３を覆う第
１のスルーホール用配線１０６２とを有する。同様に、
第２のスルーホールセル１０７０は、第２のスルーホー
ル１０７３と、この第２のスルーホール１０７３を覆う
第２のスルーホール用配線１０７２とを有する。

【００２０】図１０の多層配線セルでは、レイアウト時
において、第１および第２のコンタクトセル１０１０お
よび１０２０と、第１及び第２のスルーホールセル１０
６０および１０７０とが密に配置されている。

【００２１】尚、本発明に関連すると思われる先行技術
も種々知られている。例えば、特開昭６３−２０２０４
５号公報（以下、先行技術１と呼ぶ）には、隣り合うコ
ンタクトを配線が同一であるか隣り合うかのいずれかに
し、デコードピッチを小さくして配線の段切れを起こり
にくくした「半導体装置」が記載されている。この先行
技術１に記載された半導体装置では、縦方向に走ってい
る配線から、横方向に配線を引き出す場合、上側のコン
タクトの取る順番を変更している。これにより、無駄な
配線の曲がりが無くなり、配線が短くなる。また、全体
として小さくなる。

【００２２】また、特開平３−２７５４９号公報（以
下、先行技術２と呼ぶ）には、２層アルミ配線がコンタ
クト上を通過する場合に、コンタクトよりも太い２層ア
ルミ配線を付けたコンタクトに自動的に置き換えるよう
にした「コンタクト上配線の自動形状変更方式」が記載
されている。この先行技術２では、ポリシリと１層アル
ミとを結んでいるコンタクトの上の２層アルミ配線を検
出して、その２層アルミ配線のコンタクトの上にあたる
部分だけを太くする処理を行っている。これにより、コ
ンタクト上の配線が細くなるのを防いでいる。

【００２３】更に、特開平４−１１２５５４号公報（先
行技術３と呼ぶ）には、コンタクトホールにアルミ配線
が予め延在している「半導体集積回路」が開示されてい
る。すなわち、先行技術３では、回路ブロックを作る時
に、回路ブロックとの接続点を、常に第１の配線層と第
２の配線層とで作っている。例えば、直上のスルーホー
ルでつなぐとかしている。そうすることによって、その
ブロックが例えば縦向きに置いていたものを、横向きに
置き直した場合などでもブロックの修正が必要なくな
る。

【００２４】更にまた、特開平７−１８３３７９号公報
（以下、先行技術４と呼ぶ）には、コンタクトホールの
開口部の形状を緩やかにし、開口部での配線の段切れを
減少させるようにした「半導体装置及びその配置配線方
法」が開示されている。すなわち、この先行技術４で
は、第１の配線層上に、第２の配線層と第３の配線層を
結ぶコンタクト（スルーホール）部分が、急に盛り上が
った部分にならない様に、下地である第１の配線層に大
きめの座布団をつけている。これにより、下地の配線の
よる絶縁膜の盛り上がりを、コンタクト部分で急峻にな
らない様にしている。

【００２５】更にまた、特開平９−２３００９号公報
（以下、先行技術５と呼ぶ）には、ゲード電極端の形状
またはデータを配置することによって、ゲート端の後退
を防ぐ「半導体装置の製造方法」が開示されている。す
なわち、この先行技術５では、ゲート電極端での後退を
防ぐために、ゲート電極端部に拡張パターン部またはダ
ミーパターン部を配置している。これにより、ゲート端
部の後退を防いでいる。

【００２６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来技術には、次に述べるような主な欠点がある。

【００２７】図７、図８の方法では、共にレイアウト検
証が大変である。たとえば、ある配線の配線端にコンタ
クトが有るかどうかの判定が必要である。また、もしコ
ンタクトがあれば、図７の方法では、配線の引き回し方
向に対して配線を延長しているかどうかの判定も必要に
なる。また図８の方法では、配線の引き回し方向に対し
て配線を広げているかどうかの判定が必要になる。

【００２８】その理由は、配線端にあるコンタクトセル
に対しての覆い量が異なるためである。

【００２９】一方、図９の方法は、コンタクトに対して
の覆いの検証は容易に行うことができる。しかしなが
ら、図１０に示すように、コンタクトとスルーホールが
密にレイアウト時に配置された場合、事実上配線幅が広
くなることになり、配線ピッチを詰めることができなく
なる。

【００３０】その理由は、一律に大きな覆いを付けるて
いるからである。

【００３１】したがって、本発明の目的は、レイアウト
の作成ならびにレイアウト検証を容易に行うことができ
る、コンタクトセル、スルーホールセル、多層配線セル
およびアートワークデータの作成方法を提供することに
ある。

【００３２】本発明の別の目的は、配線幅が大きくなる
ことを防止できる、コンタクトセル、スルーホールセ
ル、多層配線セルおよびアートワークデータの作成方法
を提供することにある。

【００３３】尚、前述した先行技術１〜４のいずれも、
上記本発明の目的を達成する技術思想については何ら開
示しておらず、本発明と関連するところはない。例え
ば、先行技術２と先行技術４とは、共に、半導体製造の
プロセスで平坦化技術がまだ無かった時代の技術を開示
しているに過ぎない。

【００３４】また、前述した先行技術５、ゲート電極端
での後退を防ぐ方法について述べているが、従来技術の
図７，図８の方法と同様の方法でしかなく、そのため検
証が大変である。

【００３５】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するために次のような技術的構成を採用する。

【００３６】すなわち、本発明の第１の態様によれば、
コンタクトと、該コンタクトを覆う配線とを有するコン
タクトセルにおいて、配線端での前記配線の後退量をあ
らかじめ見越して、前記コンタクトセルを構成している
前記配線を、縦方向又は横方向のいずれか一方向に、伸
ばしていることを特徴とするコンタクトセルが得られ
る。

【００３７】また、本発明の第２の態様によれば、コン
タクトと、該コンタクトを覆う配線とを有するコンタク
トセルを含むアートワークデータを作成する方法におい
て、配線端での前記配線の後退量をあらかじめ見越し
て、前記コンタクトセルを構成している前記配線を、縦
方向又は横方向のいずれか一方向に、伸ばして作成する
ことを特徴とするアートワークデータの作成方法が得ら
れる。

【００３８】本発明の第３の態様によれば、スルーホー
ルと、該スルーホールを覆う第１及び第２の配線とを有
するスルーホールセルにおいて、前記第１及び第２の配
線は、上下方向に対して左右方向又は左右方向に対して
上下方向のいずれか一方向に、配線の後退分だけ伸ばさ
れていることを特徴とするスルーホールセルが得られ
る。

【００３９】本発明の第４の態様によれば、スルーホー
ルと、該スルーホールを覆う第１及び第２の配線とを有
するスルーホールセルを含むアートワークデータを作成
する方法において、前記第１及び第２の配線を、上下方
向に対して左右方向又は左右方向に対して上下方向のい
ずれか一方向に、配線の後退分だけ伸ばして作成するこ
とを特徴とするアートワークデータの作成方法が得られ
る。

【００４０】本発明の第５の態様によれば、少なくとも
１つのコンタクトセルと、少なくとも１つのスルーホー
ルセルとを含む多層配線セルであって、前記コンタクト
セルは、コンタクトと、該コンタクトを覆うコンタクト
用配線とを有し、前記スルーホールセルは、スルーホー
ルと、該スルーホールを覆うスルーホール用配線とを有
する前記多層配線セルにおいて、前記コンタクト用配線
は、左右方向に対して上下方向又は上下方向に対して左
右方向のいずれか一方向に、配線の後退分だけ伸ばされ
ており、前記スルーホール用配線は、前記コンタクト用
配線の延在する方向と直交する方向に、配線の後退分だ
け伸ばされていることを特徴とする多層配線セルが得ら
れる。

【００４１】本発明の第６の態様によれば、少なくとも
１つのコンタクトセルと、少なくとも１つのスルーホー
ルセルとを含む多層配線セルを具備するアートワークデ
ータを作成する方法であって、前記コンタクトセルは、
コンタクトと、該コンタクトを覆うコンタクト用配線と
を有し、前記スルーホールセルは、スルーホールと、該
スルーホールを覆うスルーホール用配線とを有する前記
アートワークデータの作成方法において、前記コンタク
ト用配線を、左右方向に対して上下方向又は上下方向に
対して左右方向のいずれか一方向に、配線の後退分だけ
伸ばして作成し、前記スルーホール用配線を、前記コン
タクト用配線が延在する方向と直交する方向に、配線の
後退分だけ伸ばして作成することを特徴とするアートワ
ークデータの作成方法が得られる。

【００４２】上記第６の態様によるアートワークデータ
の作成方法において、例えば、前記コンタクトセルと前
記スルーホールセルとは交互にレイアウトされる。

【００４３】

【作用】細い配線の配線端がフォトレジストならびにエ
ッチングで後退する量を見越して、あらかじめ、コンタ
クトセル又はスルーホールセルを構成している配線を、
縦方向（上下方向）または横方向（左右方向）のいずれ
か一方向に延ばしておく。このことにより、レイアウト
の作成ならびにレイアウト検証を簡単に行うことができ
る。、

【００４４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。

【００４５】図１は本発明の第１の実施の形態に係るコ
ンタクトセル１００を示す平面図である。本第１の実施
の形態のコンタクトセル１００は、下地層１０１と、配
線１０２と、それをつなぐコンタクト１０３とから構成
されている。図示の実施の形態では、下地層１０１は、
Ｎ+拡散層である。

【００４６】本実施の形態では、下地層１０１がＮ+拡
散層の場合を示しているが、下地層１０１は、Ｐ+拡散
層またはポリシリコンでも同様である。

【００４７】次に、図１に示した第１の実施の形態の動
作について説明する。

【００４８】前述したように、実際のコンタクトセル
は、拡散層またはポリシリコンからなる下地層１０１
と、コンタクト１０３と、配線１０２とから構成されて
いるが、以下、説明を簡単にするために、コンタクト１
０３と配線１０２とのみに着目する。

【００４９】図５および図６を参照して説明したよう
に、従来のコンタクトセルは、コンタクト５０３と、そ
れを覆う最小線幅の配線幅を持つ配線５０２とからな
る。

【００５０】これに対して、本発明のコンタクトセルで
は、図１に示すように、配線１０２は、コンタクト１０
２の左右方向（横方向）に対して上下方向（縦方向）に
配線の後退分だけ長く伸ばされている。

【００５１】図２は、図１に示した第１の実施の形態に
係るコンタクトセルを、実際に２個使した場合の例を示
している。図２において、２１０は、縦方向に伸びる配
線端に配置された第１のコンタクトセルを、２２０は横
方向に延びる配線端に配置された第２のコンタクトセル
を、それぞれ示している。第１のコンタクトセル２１０
と第２のコンタクトセル２２０は、図に示されるよう
に、“Ｌ”字型の連結配線２３０によって互いに電気的
に接続されている。

【００５２】第１のコンタクトセル２１０は、第１のコ
ンタクト２１３と、その第１のコンタクト２１３を覆う
第１の配線２１２とを有し、この第１の配線２１２は、
左右方向（横方向）に対して上下方向（縦方向）に長く
伸ばされている。同様に、第２のコンタクトセル２２０
は、第２のコンタクト２２３と、この第２のコンタクト
２２３を覆う第２の配線２２２とを有し、この第２の配
線２２２は、左右方向（横方向）に対して上下方向（縦
方向）に長く伸ばされている。

【００５３】このような構造では、フォトレジストなら
びにエッチングで配線端が後退しても、第１のコンタク
トセル２１０は第１のコンタクト２１３から第１の配線
２１２が突き出ているため、第１のコンタクト２１３が
第１の配線２１２からはみ出すことは無い。また、第２
のコンタクトセル２２０の場合は、配線端での配線幅が
見かけ上広くなっているため、第２の配線２２２の後退
が少なく、同様に、第２のコンタクト２２３が第２の配
線２２２からはみ出すことはない。

【００５４】次に、第１の実施の形態の効果について説
明する。

【００５５】図１に示すコンタクトセル１００は、コン
タクトセル１００を作る時に、既に配線端の後退分を含
んでいるため、レイアウト時に配線端でコンタクト１０
３が有るか無いかを気にする必要が無く、容易にレイア
ウトをすることができる。また、このコンタクトセル１
００を用いることにより、レイアウト検証を行うとき、
コンタクト１０３に対して最小の覆いのみのチェックを
すればよく、レイアウト検証を容易に行うことができ
る。

【００５６】上記第１の実施の形態では、コンタクトセ
ルについて説明をしたが、配線と配線とをつなぐスルー
ホールについても適応できる。

【００５７】図３は、本発明の第２の実施の形態として
適用した、スルーホールセル３００である。図示のスル
ーホールセル３００は、第１の配線３０１と、第２の配
線３０２と、スルーホール３０３とから構成されてい
る。このとき、スルーホール３０３を覆う第１の配線３
０１と第２の配線３０２は、上下方向に対して左右方向
が配線の後退分だけ伸ばしている。

【００５８】この時の第１の配線３０１の伸ばす方向
は、次のように行う。すなわち、上記第１の実施の形態
のコンタクトセル１００において、配線１０２（この場
合、スルーホールセル３００の第１の配線３０１に当た
る。）を、コンタクト１０３の左右方向に対して上下方
向に配線の後退分だけ長く伸ばしているとする。この場
合、第１の配線３０１はそれに垂直となる方向（直交す
る方向）に、すなわちスルーホール３０３の上下方向に
対して左右方向に伸ばす点が重要である。

【００５９】このように、スルーホールセル３００の場
合に、コンタクトセル１００の配線１０２を伸ばした方
向と垂直方向に、配線３０１を伸ばすことにより、図４
に示す様に、コンタクトセルとスルーホールセルとを交
互にレイアウトした場合も、配線幅が太くなることを防
ぎ、配線ピッチを詰めることができる。

【００６０】すなわち、図４は、図１に図示したコンタ
クトセルと、図３に図示したスルーホールセルとを含む
多層配線セルの一例を示す。図４は、多層配線セルのレ
イアウト時の平面図を示している。図４でも下地層を省
略している。図示の例の多層配線セルは、第１および第
２のコンタクトセル４１０および４２０と、第１及び第
２のスルーホールセル４６０および４７０とを有する。

【００６１】第１のコンタクトセル４１０は、第１のコ
ンタクト４１３と、この第１のコンタクト４１３を覆う
第１のコンタクト用配線４１２とを有する。同様に、第
２のコンタクトセル４２０は、第２のコンタクト４２３
と、この第２のコンタクト４２３を覆う第２のコンタク
ト用配線４２２とを有する。また、第１のスルーホール
セル４６０は、第１のスルーホール４６３と、この第１
のスルーホール４６３を覆う第１のスルーホール用配線
４６２とを有する。同様に、第２のスルーホールセル４
７０は、第２のスルーホール４７３と、この第２のスル
ーホール４７３を覆う第２のスルーホール用配線４７２
とを有する。

【００６２】図４の多層配線セルでは、レイアウト時に
おいて、第１および第２のコンタクトセル４１０および
４２０と、第１及び第２のスルーホールセル４６０およ
び４７０とが密に配置されている。

【００６３】尚、本発明は、上述した実施の形態に限定
されず、本発明の要旨を脱逸脱しない範囲内で種々の変
更が可能なのはいうまでもない。たとえば、上述した実
施の形態では、コンタクトセルを構成する配線を縦方向
（上下方向）に伸ばし、スルーホールセルを構成する配
線を横方向（左右方向）に伸ばした例についてのみ説明
したが、上記配線を延在させる方向は逆でも良い。すな
わち、コンタクトセルを構成する配線を横方向（左右方
向）に伸ばし、スルーホールセルを構成する配線を縦方
向（上下方向）に伸ばしても良い。

【００６４】

【発明の効果】以上説明したように、本発明では、細い
配線の配線端がフォトレジストならびにエッチングで後
退する量を見越して、あらかじめ、コンタクトセル又は
スルーホールセルを構成している配線を、縦方向（上下
方向）または横方向（左右方向）のいずれた一方向に延
ばしておくので、レイアウトの作成ならびにレイアウト
検証を簡単に行うことができるという効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態によるコンタクトセ
ルの構造を示す平面図である。

【図２】図１に示したコンタクトセルを２つ含む例を図
示した平面図である。

【図３】本発明の第２の実施の形態によるスルーホール
セルの構造を示す平面図である。

【図４】図１に示すコンタクトセルと図３に示すスルー
ホールセルとを含む多層配線セルの一例を示す平面図で
ある。

【図５】従来のコンタクトセルの構造を示す平面図であ
る。

【図６】図５に示したコンタクトセルを２つ含む例を図
示した平面図である。

【図７】配線端を後退する部分に、あらかじめ配線を加
えた第１の従来例を示す図で、（ａ）はレイアウト時の
平面図を示し、（ｂ）はエッチング後の平面図を示す。

【図８】配線端のコンタクトのある部分の配線幅を広げ
ることにより、配線の後退を防いでいる第２の従来例を
示す図で、（ａ）はレイアウト時の平面図を示し、
（ｂ）はエッチング後の平面図を示す。

【図９】コンタクトの配線の覆いを大きくした場合の第
３の従来例を示す図で、（ａ）はレイアウト時の平面図
を示し、（ｂ）はエッチング後の平面図を示す。

【図１０】図９に示すコンタクトセルと、スルーホール
セルとを含む多層配線セルの一例を示す平面図である。

【符号の説明】

１００コンタクトセル１０１下地層１０２配線１０３コンタクト２１０コンタクトセル２１２配線２１３コンタクト２２０コンタクトセル２２２配線２２３コンタクト２３０連結配線３００スルーホールセル３０１第１の配線３０２第２の配線３０３スルーホール４１０コンタクトセル４１２コンタクト用配線４１３コンタクト４２０コンタクトセル４２２コンタクト用配線４２３コンタクト４６０スルーホールセル４６２スルーホール用配線４６３スルーホール４７０スルーホールセル４７２スルーホール用配線４７３スルーホール

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】コンタクトと、該コンタクトを覆う配線
とを有するコンタクトセルにおいて、配線端での前記配
線の後退量をあらかじめ見越して、前記コンタクトセル
を構成している前記配線を縦方向に伸ばしていることを
特徴とするコンタクトセル。
【請求項２】コンタクトと、該コンタクトを覆う配線
とを有するコンタクトセルにおいて、配線端での前記配
線の後退量をあらかじめ見越して、前記コンタクトセル
を構成している前記配線を横方向に伸ばしていることを
特徴とするコンタクトセル。
【請求項３】コンタクトと、該コンタクトを覆う配線
とを有するコンタクトセルを含むアートワークデータを
作成する方法において、配線端での前記配線の後退量を
あらかじめ見越して、前記コンタクトセルを構成してい
る前記配線を縦方向に伸ばして作成することを特徴とす
るアートワークデータの作成方法。
【請求項４】コンタクトと、該コンタクトを覆う配線
とを有するコンタクトセルを含むアートワークデータを
作成する方法において、配線端での前記配線の後退量を
あらかじめ見越して、前記コンタクトセルを構成してい
る前記配線を横方向に伸ばして作成することを特徴とす
るアートワークデータの作成方法。
【請求項５】スルーホールと、該スルーホールを覆う
第１及び第２の配線とを有するスルーホールセルにおい
て、前記第１及び第２の配線は、上下方向に対して左右
方向に配線の後退分だけ伸ばされていることを特徴とす
るスルーホールセル。
【請求項６】スルーホールと、該スルーホールを覆う
第１及び第２の配線とを有するスルーホールセルにおい
て、前記第１及び第２の配線は、左右方向に対して上下
方向に配線の後退分だけ伸ばされていることを特徴とす
るスルーホールセル。
【請求項７】スルーホールと、該スルーホールを覆う
第１及び第２の配線とを有するスルーホールセルを含む
アートワークデータを作成する方法において、前記第１
及び第２の配線を、上下方向に対して左右方向に配線の
後退分だけ伸ばして作成することを特徴とするアートワ
ークデータの作成方法。
【請求項８】スルーホールと、該スルーホールを覆う
第１及び第２の配線とを有するスルーホールセルを含む
アートワークデータを作成する方法において、前記第１
及び第２の配線を、左右方向に対して上下方向に配線の
後退分だけ伸ばして作成することを特徴とするアートワ
ークデータの作成方法。
【請求項９】少なくとも１つのコンタクトセルと、少
なくとも１つのスルーホールセルとを含む多層配線セル
であって、前記コンタクトセルは、コンタクトと、該コ
ンタクトを覆うコンタクト用配線とを有し、前記スルー
ホールセルは、スルーホールと、該スルーホールを覆う
スルーホール用配線とを有する前記多層配線セルにおい
て、前記コンタクト用配線は、左右方向に対して上下方向に
配線の後退分だけ伸ばされており、前記スルーホール用配線は、上下方向に対して左右方向
に配線の後退分だけ伸ばされていることを特徴とする多
層配線セル。
【請求項１０】少なくとも１つのコンタクトセルと、
少なくとも１つのスルーホールセルとを含む多層配線セ
ルであって、前記コンタクトセルは、コンタクトと、該
コンタクトを覆うコンタクト用配線とを有し、前記スル
ーホールセルは、スルーホールと、該スルーホールを覆
うスルーホール用配線とを有する前記多層配線セルにお
いて、前記コンタクト用配線は、左右方向に対して上下方向に
配線の後退分だけ伸ばされており、前記スルーホール用配線は、上下方向に対して左右方向
に配線の後退分だけ伸ばされていることを特徴とする多
層配線セル。
【請求項１１】少なくとも１つのコンタクトセルと、
少なくとも１つのスルーホールセルとを含む多層配線セ
ルを具備するアートワークデータを作成する方法であっ
て、前記コンタクトセルは、コンタクトと、該コンタク
トを覆うコンタクト用配線とを有し、前記スルーホール
セルは、スルーホールと、該スルーホールを覆うスルー
ホール用配線とを有する前記アートワークデータの作成
方法において、前記コンタクト用配線を、左右方向に対して上下方向に
配線の後退分だけ伸ばして作成し、前記スルーホール用配線を、上下方向に対して左右方向
に配線の後退分だけ伸ばして作成することを特徴とする
アートワークデータの作成方法。
【請求項１２】前記コンタクトセルと前記スルーホー
ルセルとを交互にレイアウトする、請求項１１に記載の
アートワークデータの作成方法。
【請求項１３】少なくとも１つのコンタクトセルと、
少なくとも１つのスルーホールセルとを含む多層配線セ
ルを具備するアートワークデータを作成する方法であっ
て、前記コンタクトセルは、コンタクトと、該コンタク
トを覆うコンタクト用配線とを有し、前記スルーホール
セルは、スルーホールと、該スルーホールを覆うスルー
ホール用配線とを有する前記アートワークデータの作成
方法において、前記コンタクト用配線を、左右方向に対して上下方向に
配線の後退分だけ伸ばして作成し、前記スルーホール用配線を、上下方向に対して左右方向
に配線の後退分だけ伸ばして作成することを特徴とする
アートワークデータの作成方法。
【請求項１４】前記コンタクトセルと前記スルーホー
ルセルとを交互にレイアウトする、請求項１３に記載の
アートワークデータの作成方法。