JPH11292840A - ノルスタチン誘導体又はその塩 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ＨＣＶプロテアーゼ阻害活性を有し，Ｃ型肝
炎等の治療に有用な化合物を提供する。 【解決手段】 下記一般式（Ｉ）で示されるノルスタチ
ン誘導体又はその塩。 【化１】 （上記式中の記号は，それぞれ以下の意味を有する。 Ａ¹，Ａ²，Ａ³：同一又は異なって結合又は１〜２０の
アミノ酸で構成されるペプチド残基， Ｒ¹，Ｒ²：同一又は異なって水素原子又はアミノの保護
基， Ｒ³：水酸基又はカルボン酸の保護基， Ｒ⁴：水素原子又はチオールの保護基， 但し，Ａ¹及びＡ²が共に結合の場合は，Ｒ¹とＲ²とは一
体となってアミノの保護基を形成してもよい。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は医薬，特にノルスタ
チン誘導体又はその塩及びそれらを有効成分とするＨＣ
Ｖプロテアーゼ阻害剤，特にＣ型肝炎の治療薬に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】Ｃ型肝炎ウイルス（Hepatitis C Viru
s：以下ＨＣＶという）はＣ型肝炎の原因ウイルスであ
る。ＨＣＶはフラビウイルス科に属し，その遺伝子の相
違によりＩからＩＶ型に分類される。現在Ｃ型肝炎に対
する治療法はインターフェロンのみであるが，その著効
率は１０〜３０％であり決して特効薬とは言えず，発
熱，悪寒，鬱などの副作用も問題となっている。また，
ウイルスの型によってもその有効率に大きな違いがあ
り，ＩＩ型は特に有効率が低いことが知られている。現
在のところＨＣＶに対する選択的な抗ウイルス薬やワク
チンは開発されていない。ＨＣＶはウイルスポリプロテ
インの非構造領域の切断に必要な２種類のプロテアーゼ
をコードしており，該プロテアーゼはウイルスの複製に
必須であると考えられている。ウイルスの複製に重要で
ある各種機能を持ったウイルス蛋白質は，このウイルス
自身のプロテアーゼによってポリペプチドが切断を受け
ることにより生成するのである。これまでにＨＩＶ，Ｈ
ＲＶ（ヒトライノウイルス）などで，そのウイルス自身
のプロテアーゼを阻害することで，抗ウイルス効果が現
れることが知られている（Kotler，M., et al., Proc.
Natl. Acad. Sci. USA, 85,(1988) 4185；Stephen, E.,
et al., J. Med. Chem., 39, (1996) 5072；Beverly,
A., et al., Antimicrobial Agents and Chemotherapy,
(1996) 267）。更にＨＩＶに関してそれらの薬剤は治
療効果が現れることも知られている。ヘルペスウイルス
でもプロテアーゼに変異の生じた株の細胞内のウイルス
増殖能は１０万分の１以下に下がることが知られている
（Min, G., et al., J. Viro., 68, (1994) 3702）。こ
れらのことから，このＨＣＶ自身がコードするプロテア
ーゼの阻害剤は抗ＨＣＶ効果を有し，更にＣ型肝炎治療
薬になると考えられる。

【０００３】ＨＣＶ自身がコードするプロテアーゼのう
ちＮＳ３プロテアーゼはセリンプロテアーゼであり，そ
の活性中心にはセリンプロテアーゼに特徴的なセリン，
ヒスチジン，アスパラギン酸が存在していることが知ら
れている（Robert, A. L., et al., Cell, 87, (1996)
331；Kim, J. L., et al., Cell, 87, (1996) 343）。
また，切断する基質の配列についてはＰ１位にシステイ
ンを要求し，更にＰ１’よりＣ末側も基質認識に重要と
いう他のセリンプロテアーゼにはない特徴を有している
（Arash, G., et al., J. Viro., 67, (1993) 2832; Ko
moda, Y., et al., J. Viro., 68, (1994) 7351）。一
般に基質類似型（基質ミミック）のプロテアーゼ阻害剤
の，第一のグループとして，Ｐ１−Ｐ１’のアミド結合
が切断されるときの遷移状態アナログである，ノルスタ
チンアナログ，スタチンアナログ，ヒドロキシエチレン
ジペプチドアナログ，及びヒドロキシエチルアミンジペ
プチドアナログ等が知られている。また第二のグループ
として，切断されるＰ１−Ｐ１’のアミドのＰ１’以降
をなくし，その部分を親電子的反応性アナログに変え
た，アルデヒドアナログ，トリフルオロメチルケトンア
ナログ，及びジヒドロキシアルキルボランアナログ等が
知られている。第一のグループはアミドボンドがプロテ
アーゼによって切断される際の遷移状態をまねたもの
で，アスパラギン酸プロテアーゼに応用され，レニンイ
ンヒビターやＨＩＶプロテアーゼインヒビター等が知ら
れている（Iizuka, K., et al.,J. Chem. Soc. CHEM. C
OMMUN., (1989) 1678；Harada, H., et al., Chem. Pha
rm. Bull., 38, (1990) 3042；Timothy, D. O., et a
l., J. Med. Chem., 35, (1992) 823；特開平５−１７
０７２２号）。また第二のグループはセリンプロテアー
ゼやシステインプロテアーゼにとって非常に重要な活性
中心のＯＨ基やＳＨ基がこれらのアナログと反応するこ
とにより阻害活性が現れるのである。これらはセリンプ
ロテアーゼやシステインプロテアーゼ等に応用され，エ
ラスターゼインヒビター等が知られている（Philip, D.
E., et al., Med. Res. Rev., 14, (1994) 127）。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は，臨床的に有
用性の高いＨＣＶに対する選択的な抗ウイルス薬，特に
Ｃ型肝炎の治療薬の創製を目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者等は，ＮＳ３プ
ロテアーゼ阻害作用を有する化合物を鋭意探索したとこ
ろ，新規なノルスタチン誘導体が良好なＮＳ３プロテア
ーゼ阻害作用を有することを見出し本発明を完成するに
至った。すなわち，本発明はＮＳ３プロテアーゼ阻害作
用を有する下記一般式（Ｉ）で示されるノルスタチン誘
導体及びその塩に関する。また下記一般式（Ｉ）で示さ
れるノルスタチン誘導体を含有する医薬，特にＨＣＶプ
ロテアーゼ阻害剤，Ｃ型肝炎の治療薬に関するものであ
る。

【０００６】

【化２】 （上記式中の記号は，それぞれ以下の意味を有する。 Ａ¹，Ａ²，Ａ³：同一又は異なって結合又は１〜２０の
アミノ酸で構成されるペプチド残基， Ｒ¹，Ｒ²：同一又は異なって水素原子又はアミノの保護
基， Ｒ³：水酸基又はカルボン酸の保護基， Ｒ⁴：水素原子又はチオールの保護基， 但し，Ａ¹及びＡ²が共に結合の場合は，Ｒ¹とＲ²とは一
体となってアミノの保護基を形成してもよい。）

【０００７】

【発明の実施の形態】以下，本発明化合物（Ｉ）につき
詳細に説明する。「アミノ酸で構成されるペプチド残
基」とは，グリシン，アラニン，バリン，ロイシン，イ
ソロイシン，セリン，トレオニン，アスパラギン酸，グ
ルタミン酸，アスパラギン，グルタミン，リジン，ヒド
ロキシリジン，アルギニン，システイン，シスチン，メ
チオニン，フェニルアラニン，チロシン，トリプトファ
ン，ヒスチジン，プロリン，ヒドロキシプロリン等の天
然のアミノ酸の他，下記一般式（ＩＩ）で示されるアミ
ノ酸，更にアミン及びカルボン酸を同一分子内に有すア
ミノ酸から構成されるペプチド残基を意味する。ここで
アミノ酸が１個の場合も「アミノ酸で構成されるペプチ
ド残基」に含まれるものとする。またアミノ酸はＤ体の
場合もＬ体の場合もある。

【０００８】

【化３】 Ｒ₁₂，Ｒ₁₃は（１）置換若しくは無置換の低級アルキ
ル，−ＣＯ−低級アルキル，低級アルケニル，低級アル
キニル，アリール，ヘテロシクロ，カルボシクロ，複素
環，−Ｏ−低級アルキル，又はアミノ，（２）水素原
子，ニトロ，シアノ，ハロゲン原子，又はスルホニルを
示す。Ｒ₁₂とＲ₁₃は窒素原子と一体となって置換若しく
は無置換の複素環を形成しても良い。ｎ及びｍは同一又
は異なって０〜２。「アミノの保護基」，「カルボン酸
の保護基」，「チオールの保護基」の保護基としては，
グリーン（Greene）及びウッツ（Wuts）著，「Protecti
ve Groupsin Organic Synthesis」第２版に記載されて
いる，本技術分野において通常用いられる保護基の他，
「アミノの保護基」については，（１）置換若しくは無
置換の低級アルキル，低級アルケニル，低級アルキニ
ル，アリール，ヘテロシクロ，カルボシクロ，複素環，
−Ｏ−低級アルキル，又はアミノ，（２）ニトロ，又は
シアノ，（３）式

【０００９】

【化４】 で示される基を現す。ここで，ＺはＳ，Ｏ，＝ＮＨ，又
は＝ＮＲ₆を示す。ＹはＳ，Ｏ，−ＮＨ−，−ＮＲ₆−を
示す。Ｒ₅は（１）置換若しくは無置換の低級アルキ
ル，−ＣＯ−低級アルキル，低級アルケニル，低級アル
キニル，アリール，ヘテロシクロ，カルボシクロ，複素
環，（２）水素原子，又はスルホニルを示す。Ｒ₅とＺ
は一体となって複素環を形成してもよい。Ｒ₆，Ｒ₇のど
ちらか一方はＺと一体となって複素環を形成してもよ
い。Ｒ₈，Ｒ₉，Ｒ₁₀の一つはＺと一体となって複素環を
形成してもよい。Ｒ₆及びＲ₇は同一又は異なって（１）
「Protective Groups in Organic Synthesis」第２版記
載のアミノ保護基，（２）置換若しくは無置換の低級ア
ルキル，−ＣＯ−低級アルキル，低級アルケニル，低級
アルキニル，アリール，ヘテロシクロ，カルボシクロ，
複素環，−Ｏ−低級アルキル，又はアミノ，（３）水素
原子，ニトロ，シアノ，又はハロゲン原子を示す。Ｒ₆
とＲ₇は窒素原子と一体となって置換若しくは無置換の
複素環を形成しても良い。Ｒ₈，Ｒ₉，Ｒ₁₀は同一又は異
なって（１）置換若しくは無置換のアルキル，−ＣＯ−
低級アルキル，低級アルケニル，低級アルキニル，アリ
ール，ヘテロシクロ，カルボシクロ，複素環，−Ｏ−低
級アルキル，又はアミノ，（２）水素原子，ニトロ，シ
アノ又はスルホニルを示す。Ｒ₈及びＲ₉は炭素原子と一
体となって置換若しくは無置換のカルボシクロ又は複素
環を形成してもよい。「カルボン酸の保護基」として
は，（１）置換若しくは無置換の低級アルキル，低級ア
ルケニル，アリール，ヘテロシクロ，カルボシクロ，又
は複素環，（２）式

【００１０】

【化５】 で示される基を現す。ここでＲ₆及びＲ₇は前述と同じ基
を示し，Ｒ₁₁は（１）置換若しくは無置換の低級アルキ
ル，低級アルケニル，低級アルキニル，アリール，ヘテ
ロシクロ，カルボシクロ，又は複素環，（２）「Protec
tive Groups in Organic Synthesis」第２版記載のカル
ボン酸保護基を示す。「チオールの保護基」としては，
（１）置換若しくは無置換の低級アルキル，低級アルケ
ニル，アリール，ヘテロシクロ，カルボシクロ，又は複
素環，（２）「Protective Groups in Organic Synthes
is」第２版記載のチオール保護基，（３）式

【００１１】

【化６】 で示される基をそれぞれ示す。ここでＲ₅は前述と同じ
基を示す。本明細書の基の定義において「低級」とは，
特に断らない限り，炭素数が１〜６個の直鎖又は分枝状
の炭素鎖を意味する。従って，「低級アルキル」として
は例えばメチル，エチル，並びに直鎖又は分枝状のプロ
ピル，ブチル，ペンチル及びヘキシルである。中でも炭
素数１〜４個のものが好ましく，メチル，エチル，プロ
ピル及びイソプロピルが特に好ましい。「低級アルケニ
ル」としては，具体的にはビニル，プロペニル，ブテニ
ル，ペンテニル及びヘキセニルが挙げられる。「低級ア
ルキニル」としては，具体的にはエチニル，プロピニ
ル，ブチニル，ペンチニル及びヘキシニルが挙げられ
る。「アリール」としては，芳香族炭化水素環基を意味
し，炭素数６〜１４個のアリールが好ましく，具体的に
は，フェニル，ナフチル，インデニル，アントリル及び
フェナントリル等が挙げられる。好ましくはフェニル及
びナフチルである。「複素環」としては，フリル，チエ
ニル，ピロリル，イミダゾリル，ピラゾリル，チアゾリ
ル，イソチアゾリル，オキサゾリル，イソキサゾリル，
トリアゾリル，オキサジアゾリル，チアジアゾリル，テ
トラゾリル，ピリジル，ピリミジニル，ピリダジニル及
びピラジル等の５〜６員単環ヘテロアリール，ナフチリ
ジニル及びピリドピリミジニル等の二環式ヘテロアリー
ル，更にはキノリル，イソキノリル，キナゾリニル，キ
ノリジニル，キノキサリニル，シンノリニル，ベンズイ
ミダゾリル，イミダゾピリジル，ベンゾフラニル，ベン
ゾイソキサゾリル，ベンゾオキサゾリル，ベンゾチアゾ
リル，オキサゾロピリジル，イソチアゾロピリジル及び
ベンゾチエニル等のベンゼン環と縮合したヘテロアリー
ルが挙げられる。更にオキソベンゾフラニル等のオキソ
付加の環も含まれる。「カルボシクロ」としては，炭素
数３〜８の飽和炭化水素環であり，具体的にはシクロプ
ロピル，シクロブチル，シクロペンチル，シクロヘキシ
ル，シクロヘプチル及びシクロオクチルが挙げられる。
「ヘテロシクロ」とは上記カルボシクロの炭素原子の一
部がヘテロ原子に置き換わったものをいう。

【００１２】「置換基」としては通常用いられる置換基
であればいずれでもよいが，好ましくはハロゲン原子，
低級アルキル，−ＯＨ，−Ｏ−低級アルキル，−ＣＯＯ
Ｈ，−ＣＯ−Ｏ−低級アルキル，−ＣＯ−低級アルキ
ル，−ＮＯ₂，−ＣＮ，−ＮＨ₂，−ＮＨ−低級アルキ
ル，−Ｎ（低級アルキル）₂，低級アルケニル，低級ア
ルキニル，アリール，カルボシクロ，ヘテロシクロ，複
素環等が挙げられるがこれらに限定されるものではな
い。「ハロゲン原子」は，Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，Ｉを意味す
る。本発明化合物は不斉炭素原子を有し，これに基づく
（Ｒ）体，（Ｓ）体の光学異性体が存在する。本発明に
はこれらの光学異性体の混合物や単離されたものを全て
包含する。上記以外にも置換基の種類によっては，幾何
異性体（シス−トランス／又は（Ｅ）体，（Ｚ）体）や
互変異性体が存在する場合があるが，本発明にはこれら
の異性体の分離したもの，或いは混合物が包含される。
本発明化合物（Ｉ）は，酸付加塩又は置換基の種類によ
っては塩基との塩を形成する場合もある。かかる塩とし
ては，製薬学的に許容される塩であり，具体的には，塩
酸，臭化水素酸，ヨウ化水素酸，硫酸，硝酸，リン酸等
の無機酸，ギ酸，酢酸，プロピオン酸，シュウ酸，マロ
ン酸，コハク酸，フマール酸，マイレン酸，乳酸，リン
ゴ酸，酒石酸，クエン酸，メタンスルホン酸，エタンス
ルホン酸，アスパラギン酸，グルタミン酸等の有機酸と
の酸付加塩，ナトリウム，カリウム，マグネシウム，カ
ルシウム，アルミニウム等の無機塩基，メチルアミン，
エチルアミン，エタノールアミン，リジン，オルニチン
等の有機塩基との塩やアンモニウム塩等が挙げられる。
更に，本発明は，本発明化合物（Ｉ）及びその塩の各種
の水和物や溶媒和物及び結晶多形の物質をも包含する。

【００１３】（製造法）本発明化合物（Ｉ）及びその塩
は，その基本骨格或いは置換基の種類に基づく特徴を利
用し，種々の公知の合成法を適用して製造することがで
きる。以下に本発明化合物の代表的な製造法について説
明する。

【００１４】第一製法

【化７】 （式中，Ａ¹，Ａ²，Ｒ¹，Ｒ²及びＲ⁴は前記の意味を有
する。また，Ｒ⁵は低級アルキルを意味する。）本製法
は，シアノ化合物（ＩＩ）を加水分解することにより，
本発明化合物（Ｉ）ａを得る方法である。加水分解反応
は，常法を用いて行えばよく，シアノ基の加水分解は例
えばテトラヒドロフラン，アルコール，ジオキサン，水
等の溶媒中で氷冷下或いは室温，加温条件下で行えばよ
い。また，添加物として水酸化カリウム，水酸化ナトリ
ウム等を加えても良い。

【００１５】第二製法

【化８】 （式中，Ａ¹，Ａ²，Ｒ¹，Ｒ²及びＲ⁴は前記の意味を有
する。また，Ｒ⁶及びＲ⁷は同一又は異って低級アルキル
を意味する。） 本製法は，エーテル化合物（ＩＩＩ）を脱保護すること
により，本発明化合物（Ｉ）ｂを得る方法である。脱保
護反応は，常法を用いて行えばよく，例えばトリフルオ
ロ酢酸，塩酸等の酸存在下，ジクロロメタン，水等の溶
媒中で氷冷下或いは室温，加温条件下で行えばよい。ま
た，添加物としてフェノール，チオアニソール，トリエ
チルシラン等を加えても良い。

【００１６】第三製法

【化９】 （式中，Ａ³，Ｒ³，及びＲ⁴は前記の意味を有する。ま
た，式中Ｒ⁸はアミノの保護基を意味する。） 本製法は，プロリン化合物（ＩＶ）を保護することによ
り，本発明化合物（Ｉ）ｃを得る方法である。保護反応
は，常法を用いて行えばよく，例えばテトラヒドロフラ
ン，ジクロロメタン，ジメチルホルムアミド等の溶媒中
で氷冷下或いは室温，加温条件下で対応する置換基の酸
クロライド，スルフォニルクロライド，イソシアネート
等を用いて反応を行えばよい。また，添加物としてピリ
ジン，トリエチルアミン等を加えても良い。

【００１７】第四製法

【化１０】 （式中，Ａ¹，Ａ²，Ｒ¹，Ｒ²及びＲ⁴は前記の意味を有
する。また，Ｒ⁹はカルボン酸の保護基を意味する。） 本製法は，カルボン酸化合物（Ｖ）を保護することによ
り，本発明化合物（Ｉ）ｄを得る方法である。保護反応
は，常法を用いて行えばよく，例えばテトラヒドロフラ
ン，ジクロロメタン，ジオキサン，等の溶媒中で氷冷下
或いは室温，加温条件下対応する置換基のアミン，アル
コール等を用いて反応を行えばよい。また，添加物とし
てベンゾトリアゾ−ル−１−イルオキシトリピロリジノ
ホスホニウム ヘキサフルオロホスフェイト，１−ヒド
ロキシベンゾトリアゾール，１−エチル−３−（３−ジ
メチルアミノプルピル）カルボジイミド塩酸塩，ジイソ
プロピルカルボジイミド，トリエチルアミン，Ｎ−メチ
ルモルホリン，ジイソプロピルエチルアミン等を加えて
も良い。

【００１８】第五製法

【化１１】 （式中，Ａ¹，Ａ²，Ａ³，Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³及びＲ⁴は前記
の意味を有する。） 本製法は，チオエーテル化合物（ＶＩ）を脱保護するこ
とにより，本発明化合物（Ｉ）ｅを得る方法である。脱
保護反応は，常法を用いて行えばよく，例えばトリフル
オロ酢酸，塩酸等の酸存在下，ジクロロメタン，水等の
溶媒中で氷冷下或いは室温，加温条件下で行えばよい。
また，添加物としてフェノール，チオアニソール，トリ
エチルシラン等を加えても良い。

【００１９】第六製法

【化１２】 （式中，Ａ³，Ｒ³及びＲ⁴は前記の意味を有する。また
Ｒ¹⁰はアミノの保護基を意味する。） 本製法は，アミノ化合物（ＶＩＩ）を保護することによ
り，本発明化合物（Ｉ）ｆを得る方法である。保護反応
は，常法を用いて行えばよく，例えばテトラヒドロフラ
ン，ジクロロメタン，ジオキサン，等の溶媒中で氷冷下
或いは室温，加温条件下対応する置換基のカルボン酸等
を用いて反応を行えばよい。また，添加物としてベンゾ
トリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスホニ
ウム ヘキサフルオロホスフェイト，１−ヒドロキシベ
ンゾトリアゾール，１−エチル−３−（３−ジメチルア
ミノプルピル）カルボジイミド塩酸塩，ジイソプロピル
カルボジイミド等を加えても良い。

【００２０】第七製法

【化１３】 （式中，Ａ³及びＲ³は前記の意味を有する。またＲ¹¹は
スルファニル基に結合，除去し得る固相合成用樹脂を意
味する。） 本製法は，チオールに樹脂を結合させることにより，本
発明化合物（Ｉ）ｅを得るための合成中間体である化合
物（ＩＸ）を得る方法である。用いる固相合成用樹脂は
チオールに対して着脱可能なもので，一般にペプチド合
成に繁用されるカルボン酸に対して着脱可能な樹脂であ
り，例えば，トリチルレジン，クロロトリチルレジン，
メトキシトリチルレジン等を用いることができる。レジ
ンとの結合反応は，常法を用いて行えば良く，例えばト
リエチルアミン，ジイソプロピルアミン，ピリジン等の
塩基存在下，ジクロロメタン，テトラヒドロフラン，ジ
メチルホルムアミド，Ｎ−メチルピロリドン等の溶媒中
で氷冷下或いは室温，加温条件下で行えば良い。

【００２１】第八製法

【化１４】 （式中，Ａ³，Ｒ³及びＲ¹¹は前記の意味を有する。） 本製法は，Ｆｍｏｃ基を除去させることにより，本発明
化合物（Ｉ）ｅを得るための合成中間体である化合物
（Ｘ）を得る方法である。用いる試薬は，一般にペプチ
ド合成においてＦｍｏｃ基除去に繁用されるもので，例
えば，ピペリジン，モルホリン等の低沸点の二級アミン
である。ジクロロメタン，テトラヒドロフラン，ジメチ
ルホルムアミド，Ｎ−メチルピロリドン等の溶媒中で氷
冷下或いは室温，加温条件下で行えば良い。

【００２２】第九製法

【化１５】 （式中，Ａ¹，Ａ²，Ａ³，Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³及びＲ¹¹は前記
の意味を有する。） 本製法は，アミン部にペプチド残基を導入することによ
り，チオールに結合した樹脂を除去することで，本発明
化合物（Ｉ）ｅを得るための合成中間体である化合物
（ＸＩ）を得る方法である。アミノ酸若しくはペプチド
残基の導入は，一般に固相合成においてペプチド合成に
繁用される方法で，Ｃ末がカルボン酸である種々のアミ
ノ酸，或いは連結したアミノ酸と縮合剤を用いて行うこ
とが出来る。縮合反応は，一般にペプチド合成において
用いられる活性化剤と縮合剤の組み合わせ，例えばヒド
ロキシベンズトリアゾールと１−エチル−３−（３−ジ
メチルアミノプルピル）カルボジイミド塩酸塩或いはジ
イソプロピルカルボジイミドによって行われる。又は，
ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホ
スホニウム ヘキサフルオロホスフェイト等の活性化剤
とジイソプロピルエチルアミン等の三級アミンのような
組み合わせも繁用される。ジクロロメタン，テトラヒド
ロフラン，ジメチルホルムアミド，Ｎ−メチルピロリド
ン等の溶媒中で氷冷下或いは室温，加温条件下で行えば
良い。

【００２３】第十製法

【化１６】 （式中，Ａ¹¹は前記の意味を有する。） 本製法は，第七製法と同様に，チオールに樹脂を結合さ
せることにより，本発明化合物（Ｉ）ｅを得るための合
成中間体である化合物（ＸＩＩＩ）を得る方法である。
用いる固相合成用樹脂はチオールに対して着脱可能なも
ので，一般にペプチド合成に繁用されるカルボン酸に対
して着脱可能な樹脂であり，例えば，トリチルレジン，
クロロトリチルレジン，メトキシトリチルレジン等を用
いることができる。レジンとの結合反応は，常法を用い
て行えば良く，例えばトリエチルアミン，ジイソプロピ
ルアミン，ピリジン等の塩基存在下，ジクロロメタン，
テトラヒドロフラン，ジメチルホルムアミド，Ｎ−メチ
ルピロリドン等の溶媒中で氷冷下或いは室温，加温条件
下で行えば良い。

【００２４】第十一製法

【化１７】 （式中，Ｒ¹¹は前記の意味を有する。） 本製法は，第八製法と同様にＦｍｏｃ基を除去させるこ
とにより，本発明化合物（Ｉ）ｅを得るための合成中間
体である化合物（ＸＩＶ）を得る方法である。用いる試
薬は，一般にペプチド合成においてＦｍｏｃ基除去に繁
用されるもので，例えば，ピペリジン，モルホリン等の
低沸点の二級アミンである。ジクロロメタン，テトラヒ
ドロフラン，ジメチルホルムアミド，Ｎ−メチルピロリ
ドン等の溶媒中で氷冷下或いは室温，加温条件下で行え
ば良い。

【００２５】第十二製法

【化１８】 （式中，Ａ¹，Ａ²，Ｒ¹，Ｒ²，及びＲ¹¹は前記の意味を
有する。） 本製法は，第九製法と同様にアミン部にペプチド残基を
導入することにより，チオールに結合した樹脂を除去す
ることにより，本発明化合物（Ｉ）ｅの中間体となる化
合物（ＸＶ）を得る方法である。アミノ酸若しくはペプ
チド残基の導入は，一般に固相合成においてペプチド合
成に繁用される方法で，Ｃ末が保護されていないカルボ
ン酸である種々のアミノ酸，或いは連結したアミノ酸と
縮合剤を用いて行うことが出来る。縮合反応は，一般に
ペプチド合成において用いられる活性化剤と縮合剤の組
み合わせ，例えばヒドロキシベンズトリアゾールと１−
エチル−３−（３−ジメチルアミノプルピル）カルボジ
イミド塩酸塩或いはジイソプロピルカルボジイミドによ
って行われる。又は，ベンゾトリアゾール−１−イルオ
キシトリピロリジノホスホニウムヘキサフルオロホスフ
ェイト等の活性化剤とジイソプロピルエチルアミン等の
三級アミンのような組み合わせも繁用される。ジクロロ
メタン，テトラヒドロフラン，ジメチルホルムアミド，
Ｎ−メチルピロリドン等の溶媒中で氷冷下或いは室温，
加温条件下で行えば良い。

【００２６】第十三製法

【化１９】 （式中，Ａ¹，Ａ²，Ｒ¹，Ｒ²及びＲ¹¹は前記の意味を有
する。） 本製法は，カルボン酸に結合したアリル基を除去するこ
とにより，本発明化合物（Ｉ）ｅを得るための合成中間
体である化合物（ＸＶＩ）を得る方法である。脱アリル
反応は，常法を用いて行えば良く，例えば触媒量から等
量のテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
（０）のような二重結合に配位可能な有機金属試薬と，
トリメチルシリルアジドとテトラ−ｎ−ブチルアンモニ
ウムフロリドのような求核剤を組み合わせて用いれば良
い。テトラヒドロフラン，ジメチルホルムアミド，ジク
ロロメタン等の溶媒中で氷冷下或いは室温，加温条件下
で行えば良い。

【００２７】第十四製法

【化２０】 （式中，Ａ¹，Ａ²，Ａ³，Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³及びＲ¹¹は前記
の意味を有する。） 本製法は，カルボン酸部にペプチド残基を導入すること
により，チオールに結合した樹脂を除去することによ
り，本発明化合物（Ｉ）ｅとなる化合物（ＸＩ）を得る
方法である。ペプチド残基の導入は，一般に固相合成に
おいてペプチド合成に繁用される方法で，Ｃ末がカルボ
ン酸である種々のアミノ酸，或いは連結したアミノ酸と
縮合剤を用いて行うことが出来る。縮合反応は，一般に
ペプチド合成において用いられる活性化剤と縮合剤の組
み合わせ，例えばヒドロキシベンズトリアゾールと１−
エチル−３−（３−ジメチルアミノプルピル）カルボジ
イミド塩酸塩或いはジイソプロピルカルボジイミドによ
って行われる。又は，ベンゾトリアゾール−１−イルオ
キシトリピロリジノホスホニウム ヘキサフルオロホス
フェイト等の活性化剤とジイソプロピルエチルアミン等
の三級アミンのような組み合わせも繁用される。ジクロ
ロメタン，テトラヒドロフラン，ジメチルホルムアミ
ド，Ｎ−メチルピロリドン等の溶媒中で氷冷下或いは室
温，加温条件下で行えば良い。

【００２８】第十五製法

【化２１】 （式中，Ａ¹，Ａ²，Ａ³，Ｒ¹，Ｒ²，Ｒ³及びＲ¹¹は前記
の意味を有する。） 本製法は，チオールに結合した樹脂を除去することによ
り，本発明化合物（Ｉ）ｅを得る方法である。脱レジン
反応は，常法を用いて行えば良く，例えばトリフルオロ
酢酸，酢酸，塩酸等の酸存在下，ジクロロメタン，水等
の溶媒中で氷冷下或いは室温，加温条件下で行えばよ
い。また，添加物としてジフルオロエタノール，フェノ
ール，チオアニソール，トリエチルシラン等を加えても
良い。上記各製法により得られた反応生成物は，遊離化
合物，その塩或いは水和物等各種の溶媒和物として単離
され，精製される。塩は通常の造塩反応に付すことによ
り製造することができる。単離，精製は，抽出，濃縮，
留去，結晶化，濾過，再結晶，各種クロマトグラフィー
等通常の化学操作を適用して行われる。各種異性体は異
性体間の物理化学的な差を利用して常法により単離でき
る。例えば，光学異性体は一般的なラセミ分割法，例え
ば分別結晶化又はクロマトグラフィー等により分離でき
る。また，光学異性体は，適当な光学活性な原料化合物
より合成することもできる。

【００２９】

【発明の効果】本発明化合物はＨＣＶがコードするプロ
テアーゼのうちＮＳ３プロテアーゼに対し強い阻害活性
を示した。従って，本発明化合物はＨＣＶに対する抗ウ
イルス剤として，ＨＣＶが関与する種々の疾患，例えば
急性Ｃ型肝炎，慢性Ｃ型肝炎， 本発明化合物の作用は以下の薬理試験によって確認され
た。 １．阻害ペプチドの同定 分取したペプチドはＮＳ３プロテアーゼの活性測定に用
いた分析用カラムで溶出時間を求めると同時に質量分析
により分子量の確認を行った。その結果を阻害活性の評
価（表１）に示す。 ２．ＮＳ３プロテアーゼの活性測定 ＮＳ３プロテアーゼの活性測定は１０μＭのＤ１基質
（H₂N-EAGDDIVPCSMSYTWTGA-OH），１５μＭの内部標準
ペプチド（H₂N-SMSYLDK-OH）と０．１μＭのＮＳ３Δ−
ＮＳ４Ａを含む全量２００μｌの反応系（緩衝液：PBS,
2mM DTT）で行った。ＮＳ３Δ−ＮＳ４ＡはＮＳ３プロ
テアーゼドメイン（アミノ酸番号1027-1215）とＮＳ３
／ＮＳ４Ａ切断配列を含むＮＳ４Ａ全領域（アミノ酸番
号1651-1711）からなる組換え融合蛋白で，ｐＥＴ−３
ｃベクター（Novagen社製）を用いて大腸菌に発現させ
たものである。消化反応は３７℃で３時間行い，２０μ
ｌの２％トリフルオロ酢酸を加えることにより反応を停
止した。消化率は消化物のＨＰＬＣ分析により求めた。
８０μｌの反応液を逆相ＨＰＬＣ（ODS80Ts：0.46×15c
m；東ソ社製）で分離し（Ａ液：0.1％トリフルオロ酢酸
−水，Ｂ液：0.1％トリフルオロ酢酸−90％アセトニト
リルを用いたＢ液の０〜60％/30分での直線勾配），消
化物のピーク面積から消化率を求めた。 ３．阻害活性の評価 阻害剤の阻害活性は上記反応溶液に阻害剤の系列希釈液
（ＤＭＳＯで希釈）を各２μｌ添加し，２μｌのＤＭＳ
Ｏを対照に基質の消化断片のピーク面積から阻害率を計
算し，ＩＣ₅₀として求めた。合成した４種の阻害ペプチ
ドの阻害活性を以下に示す。

【００３０】

【表１】 本試験の結果，本発明化合物はＨＣＶがコードするＮＳ
３プロテアーゼを強力に阻害することが明らかとなっ
た。本発明化合物（Ｉ）又はその塩と製薬学的に許容さ
れる担体を含んでなる医薬組成物は，一般式（Ｉ）で示
された化合物又はその塩の１種又は２種以上と，通常製
剤化に用いられる，薬剤用担体，賦形剤，その他添加剤
を用いて，通常使用されている方法によって調製するこ
とができる。投与は錠剤，丸剤，カプセル剤，顆粒剤，
散剤，液剤等による経口投与，又は，静注，筋注等の注
射剤，坐剤，経皮等による非経口投与のいずれの形態で
あってもよい。本発明による経口投与のための固体組成
物としては，錠剤，散剤，顆粒剤等が用いられる。この
ような固体組成物においては，ひとつ又はそれ以上の活
性物質が，少なくともひとつの不活性な希釈剤，例えば
乳糖，マンニトール，ブドウ糖，ヒドロキシプロピルセ
ルロース，微結晶セルロース，デンプン，ポリビニルピ
ロリドン，メタケイ酸アルミン酸マグネシウムと混合さ
れる。組成物は，常法に従って，不活性な希釈剤以外の
添加剤，例えばステアリン酸マグネシウムのような潤滑
剤や繊維素グリコール酸カルシウムのような崩壊剤，ラ
クトースのような安定化剤，グルタミン酸又はアスパラ
ギン酸のような溶解補助剤を含有していてもよい。錠剤
又は丸剤は必要によりショ糖，ゼラチン，ヒドロキシプ
ロピルセルロース，ヒドロキシプロピルメチルセルロー
スフタレートなどの糖衣又は胃溶性若しくは腸溶性物質
のフィルムで被膜してもよい。経口投与のための液体組
成物は，薬剤的に許容される乳濁剤，溶液剤，懸濁剤，
シロップ剤，エリキシル剤等を含み，一般的に用いられ
る不活性な希釈剤，例えば精製水，エタノールを含む。
この組成物は不活性な希釈剤以外に湿潤剤，懸濁剤のよ
うな補助剤，甘味剤，風味剤，芳香剤，防腐剤を含有し
ていてもよい。

【００３１】非経口投与のための注射剤としては，無菌
の水性又は非水性の溶液剤，懸濁剤，乳濁剤を含有す
る。水性の溶液剤，懸濁剤としては，例えば注射用蒸留
水及び生理食塩液が含まれる。非水溶性の溶液剤，懸濁
剤としては，例えばプロピレングリコール，ポリエチレ
ングリコール，オリーブ油のような植物油，エタノール
のようなアルコール類，ポリソルベート８０（商品名）
等がある。このような組成物は，更に防腐剤，湿潤剤，
乳化剤，分散剤，安定化剤（例えば，ラクトース），溶
解補助剤（例えば，グルタミン酸，アスパラギン酸）の
ような補助剤を含んでもよい。これらは例えばバクテリ
ア保留フィルターを通す濾過，殺菌剤の配合又は照射に
よって無菌化される。これらはまた無菌の固体組成物を
製造し，使用前に無菌水又は無菌の注射用溶媒に溶解し
て使用することもできる。通常経口投与の場合，１日の
投与量は，体重当たり約０．００１から３０ｍｇ／ｋ
ｇ，好ましくは０．１〜５ｍｇ／ｋｇが適当であり，こ
れを１回で或いは２〜４回に分けて投与する。静脈投与
される場合は，１日の投与量は，体重当たり約０．００
１から３０ｍｇ／ｋｇが適当で，１日１回〜複数回に分
けて投与する。投与量は症状，年令，性別等を考慮して
個々の場合に応じて適宜決定される。

【００３２】

【実施例】以下実施例に基づき，本発明を詳細に説明す
る。本発明化合物は，下記実施例に記載の化合物に限定
されるものではなく，また，前記一般式（Ｉ）に示され
る化合物，その塩，その水和物，その溶媒和物，その互
変，幾何並びに光学異性体，結晶多形のすべてを包含す
るものである。更に本発明で使用される原料が新規な場
合は，参考例として説明する。

【００３３】参考例１ Ｓ−ジフェニルメチル−Ｎ−［（９Ｈ−フルオレン−９
−イルメトキシ）カルボニル］−Ｌ−システイン Ｓ−ジフェニルメチル−Ｌ−システイン ２９．１ｇに
１０００ｍｌの１０％炭酸水素ナトリウム水溶液，５０
０ｍｌのジオキサンを加え５℃にて攪拌しているところ
に，クロロぎ酸９−フルオレニルメチル２６．１ｇのジ
オキサン溶液２００ｍｌを滴下した。その後，その温度
にて２時間攪拌した。濃塩酸にて反応溶液をｐＨ１と
し，クロロホルムにて抽出した。有機層を無水硫酸マグ
ネシウムにて乾燥，減圧下濃縮し，表題化合物の粗生成
物６０．３ｇを得た。ＭＳ：Ｆａｂ（neg.） ５０８
［(M-H)^-］

【００３４】参考例２ Ｓ−ジフェニルメチル−Ｎアルファ−［（９Ｈ−フルオ
レン−９−イルメトキシ）カルボニル］−Ｎ−メトキシ
−Ｎ−メチル−Ｌ−システインアミド Ｓ−ジフェニルメチル−Ｎ−［（９Ｈ−フルオレン−９
−イルメトキシ）カルボニル］−Ｌ−システイン６０．
３ｇをジクロロエタン１０００ｍｌに加え，次いで１−
エチル−３−（３−ジメチルアミノプルピル）カルボジ
イミド塩酸塩２３．０ｇ，１−ヒドロキシベンゾトリア
ゾール１６．２ｇを加え室温にて３０分攪拌した。その
後，Ｎ，Ｏ−ジメチルヒドロキシアミン塩酸塩９．５６
ｇを加え，その後，ピリジン７．９３ｍｌを滴下した。
２時間室温で攪拌した後，反応溶液に５００ｍｌの５％
硫酸水素ナトリウム水溶液を加え激しく攪拌した，析出
した個体を濾過した後有機層を更に５％硫酸水素ナトリ
ウム水溶液で洗浄した。その後，飽和炭酸水素ナトリウ
ム水溶液で洗浄し，無水硫酸マグネシウムにて乾燥，減
圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（酢酸エチル−トルエン）にて精製し，表題化合物
を無色の結晶として３２．６ｇ得た。 ＭＳ：Ｆａｂ（Pos.） ５５３［(M+H)⁺］

【００３５】参考例３ ９Ｈ−フルオレン−９−イルメチル （Ｒ）−１−ジフ
ェニルメチルスルファニル−３−オキシプロパン−２−
イルカルバメート 水素化リチウムアルミニウム１．２２ｇにアルゴン雰囲
気下５００ｍｌのテトラヒドロフランを加え−４５℃に
て攪拌した。そこにＳ−ジフェニルメチル−Ｎアルファ
−［（９Ｈ−フルオレン−９−イルメトキシ）カルボニ
ル］−Ｎ−メトキシ−Ｎ−メチル−Ｌ−システインアミ
ド１７．７ｇのテトラヒドロフラン溶液１００ｍｌを滴
下した。この温度のまま２時間攪拌した。一方５０ｇの
硫酸水素ナトリウム，１８．３ｇのロッセル塩を１００
０ｍｌの水に溶解させ０℃にて攪拌した。−４５℃の反
応溶液をこの水溶液に注ぎ反応を止めた。室温にて３０
分攪拌した後，不溶物を濾過し，濾液を酢酸エチルにて
抽出した。有機層を５％硫酸水素ナトリウム水溶液で洗
浄，無水硫酸マグネシウムにて乾燥，減圧下濃縮し，約
２０ｇの表題化合物を得た。そのまますぐに次の反応に
用いた。

【００３６】参考例４ ９Ｈ−フルオレン−９−イルメチル （２Ｒ）−３−ア
セトキシ−３−シアノ−１−ジフェニルメチルスルファ
ニルプロパン−２−イルカルバメート 水５０ｍｌ，ジクロロメタン１００ｍｌに約２０ｇの９
Ｈ−フルオレン−９−イルメチル （Ｒ）−１−ジフェ
ニルメチルスルファニル−３−オキシプロパン−２−イ
ルカルバメート，無水酢酸１０．５ｍｌ，ベンジルトリ
ブチルアンモニウムブロミド５５０ｍｇを加え５℃にて
攪拌しているところに青酸ナトリウム５．４３ｇを水５
０ｍｌに溶かし加えた。５℃にて４時間攪拌した後，飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え，クロロホルムにて
抽出した。更に有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
にて洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾
燥，減圧下濃縮し，残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（酢酸エチル−トルエン）にて精製し，表題化
合物を無色の油状化合物として１７．７ｇ得た。 ＭＳ：Ｆａｂ（Pos.） ５６３［(M+H)⁺］

【００３７】実施例８７６ （２Ｒ，３Ｒ）−４−ジフェニルメチルスルファニル−
３−｛［（９Ｈ−フルオレン−９−イルメトキシ）カル
ボニル］アミノ｝−２−ヒドロキシブタン酸 ９Ｈ−フルオレン−９−イルメチル （２Ｒ）−３−ア
セトキシ−３−シアノ−１−ジフェニルメチルスルファ
ニルプロパン−２−イルカルバメート１３．１７ｇを３
規定塩酸水溶液（５０ｍｌ）に加え，更に酢酸（１００
ｍｌ）を加え１００℃にて３時間攪拌した。溶媒を減圧
下留去した。更にトルエンを加え減圧下留去した。残渣
に酢酸エチルを加え水で洗浄した。有機層を無水硫酸マ
グネシウムにて乾燥，減圧下濃縮し，残渣をクロロホル
ムより結晶化させ，表題化合物を無色の結晶として４．
５３ｇ得た。 ＭＳ：Ｆａｂ（Pos.） ５４０［(M+H)⁺］，Ｆａｂ（ne
g.） ５３８［(M-H)^-］

【００３８】参考例６ メチル Ｏ³−ｔ−ブチル−Ｎ−（（２Ｒ，３Ｒ）−４
−ジフェニルメチルスルファニル−３−｛［（９Ｈ−フ
ルオレン−９−イルメトキシ）カルボニル］アミノ｝−
２−ヒドロキシブタノイル）−Ｌ−セリネート （２Ｒ，３Ｒ）−４−ジフェニルメチルスルファニル−
３−｛［（９Ｈ−フルオレン−９−イルメトキシ）カル
ボニル］アミノ｝−２−ヒドロキシブタン酸３．００
ｇ，ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジ
ノホスホニウムヘキサフルオロホスフェイト３．１８
ｇ，１−ヒドロキシベンゾトリアゾール８２６ｍｇジメ
チルホルムアミド５０ｍｌに加え室温で攪拌していると
ころに，メチル Ｏ−ｔ−ブチル−Ｌ−セリネート塩酸
塩１．２９ｇを加え，更に，Ｎ−メチルモルホリン１．
２８ｍｌ加え室温にて１２時間攪拌した。酢酸エチルを
加え有機層を５％硫酸水素ナトリウム水溶液，飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マ
グネシウムにて乾燥，減圧下濃縮し，ヘキサン−ジエチ
ルエーテルにて析出した個体を洗浄した。洗浄液を減圧
下濃縮し残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（酢酸エチル−トルエン）にて精製し先の個体とあわせ
て表題化合物を無色の個体として３．７４ｇ得た。 ＭＳ：Ｆａｂ（Pos.） ６９７［(M+H)⁺］

【００３９】参考例７ メチル Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−アミノ−４−ジフ
ェニルメチルスルファニル−２−ヒドロキシブタノイ
ル］−Ｌ−（Ｏ³−ｔ−ブチル）セリネート メチル Ｏ³−ｔ−ブチル−Ｎ−（２Ｒ，３Ｒ）−４−
ジフェニルメチルスルファニル−３−｛［（９Ｈ−フル
オレン−９−イルメトキシ）カルボニル］アミノ｝−２
−ヒドロキシブタノイル−Ｌ−セリネート３．１３ｇに
５％のピペリジンのジメチルホルムアミド溶液２０ｍｌ
を加え１時間攪拌した。酢酸エチルを加え，５％硫酸水
素ナトリウム水溶液にて洗浄した後，無水硫酸マグネシ
ウムにて乾燥，減圧下濃縮し，残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィー（メタノール−クロロホルム）にて
精製し，表題化合物を薄い黄色油状物質として１．１５
ｇ得た。ＭＳ：Ｆａｂ（Pos.） ４７５［(M+H)⁺］

【００４０】参考例８ メチル Ｏ−ｔ−ブチル−Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−４−
ジフェニルメチルスルファニル−３−（｛１−［（９Ｈ
−フルオレン−９−イルメトキシ）カルボニル］−Ｌ−
プロリル｝アミノ）−２−ヒドロキシブタノイル］−Ｌ
−セリネート １−［（９Ｈ−フルオレン−９−イルメトキシ）カルボ
ニル］−Ｌ−プロリン−酢酸エチル（１／１）１．１３
ｇをジクロロエタン２００ｍｌに加え，次いで１−エチ
ル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミ
ド塩酸塩５５７ｍｇ，１−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ル３９３ｍｇを加え室温にて２０分攪拌した。その後，
メチル Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−アミノ−４−ジフ
ェニルメチルスルファニル−２−ヒドロキシブタノイ
ル］−Ｌ−（Ｏ³−ｔ−ブチル）セリネート１．１５ｇ
を１０ｍｌのジクロロエタンに溶解して加え，その後１
２時間室温で攪拌した後，反応溶液に酢酸エチルを加
え，５％硫酸水素ナトリウム水溶液，次いで飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグ
ネシウムにて乾燥，減圧下濃縮した。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー（酢酸エチル−トルエン）に
て精製し，表題化合物を無色のアモルファスとして１．
５７ｇ得た。ＭＳ：Ｆａｂ（Pos.） ６９７［(M+H)⁺］

【００４１】実施例８７７ メチル Ｎ−（（２Ｒ，３Ｒ）−３−｛［（９Ｈ−フル
オレン−９−イルメトキシ）カルボニル］アミノ｝−２
−ヒドロキシ−４−スルファニルブタノイル）−Ｌ−セ
リネート メチル Ｏ³−ｔ−ブチル−Ｎ−（２Ｒ，３Ｒ）−４−
ジフェニルメチルスルファニル−３−｛［（９Ｈ−フル
オレン−９−イルメトキシ）カルボニル］アミノ｝−２
−ヒドロキシブタノイル−Ｌ−セリネート１２０ｍｇを
１０ｍｌのトリフルオロ酢酸に溶解し，そこにチオアニ
ソール０．２５ｍｌ，フェノール２５０ｍｇを加え室温
にて３時間攪拌した。アスピレーターで溶媒を留去した
後酢酸エチルを加え，飽和炭酸水素ナトリウム水溶液，
次いで５％炭酸カリウム水溶液で洗浄した。有機層を無
水硫酸マグネシウムにて乾燥，減圧下濃縮し，残渣にア
セトニトリルを加えヘキサンで洗浄した後アセトニトリ
ル層を減圧留去した。残渣を分取用薄層シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーにて精製し，表題化合物を無色ア
モルファスとして４０ｍｇ得た。ＭＳ：Ｆａｂ（Pos.）
４７５［(M+H)⁺］

【００４２】実施例８７８ メチル Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−３−（｛１−［（９Ｈ
−フルオレン−９−イルメトキシ）カルボニル］−Ｌ−
プロリル｝アミノ）−２−ヒドロキシ−４−スルファニ
ルブタノイル］−Ｌ−セリネート 実施例８７７と同様にしてメチル Ｏ³−ｔ−ブチル−
Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−４−ジフェニルメチルスルファ
ニル−３−（｛１−［（９Ｈ−フルオレン−９−イルメ
トキシ）カルボニル］−Ｌ−プロリル｝アミノ）−２−
ヒドロキシブタノイル］−Ｌ−セリネート１５０ｍｇよ
り表題化合物を無色アモルファスとして７１ｍｇ得た。
ＭＳ：Ｆａｂ（Pos.） ５７２［(M+H)⁺］

【００４３】実施例８７９ メチル Ｎ−（（２Ｒ，３Ｒ）−４−ジフェニルメチル
スルファニル−３−｛［（９Ｈ−フルオレン−９−イル
メトキシ）カルボニル］アミノ｝−２−ヒドロキシブタ
ノイル）−Ｌ−セリネート メチル Ｏ³−ｔ−ブチル−Ｎ−（（２Ｒ，３Ｒ）−４
−ジフェニルメチルスルファニル−３−｛［（９Ｈ−フ
ルオレン−９−イルメトキシ）カルボニル］アミノ｝−
２−ヒドロキシブタノイル）−Ｌ−セリネート２５０ｍ
ｇを７ｍｌの９０％トリフルオロ酢酸水溶液に溶解し，
氷冷下１時間攪拌した。アスピレーターで溶媒を留去し
た後クロロホルムを加え，飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液で洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾
燥，減圧下濃縮し，残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（メタノール−クロロホルム）にて精製し，表
題化合物を無色アモルファスとして６６ｍｇ得た。 ＭＳ：Ｆａｂ（Pos.） ６４１［(M+H)⁺］

【００４４】実施例８８０ メチル Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−４−ジフェニルメチル
スルファニル−３−（｛１−［（９Ｈ−フルオレン−９
−イルメトキシ）カルボニル］−Ｌ−プロリル｝アミ
ノ）−２−ヒドロキシブタノイル］−Ｌ−セリネート 実施例８７９と同様にしてメチル Ｏ³−ｔ−ブチル−
Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−４−ジフェニルメチルスルファ
ニル−３−（｛１−［（９Ｈ−フルオレン−９−イルメ
トキシ）カルボニル］−Ｌ−プロリル｝アミノ）−２−
ヒドロキシブタノイル］−Ｌ−セリネート２００ｍｇよ
り表題化合物を無色アモルファスとして１６７ｍｇ得
た。ＭＳ：Ｆａｂ（Pos.） ７３８［(M+H)⁺］

【００４５】参考例９ メチル Ｏ³−ｔ−ブチル−Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−４
−ジフェニルメチルスルファニル−２−ヒドロキシ−３
−（Ｌ−プロリルアミノ）ブタノイル］−Ｌ−セリネー
ト メチル Ｏ³−ｔ−ブチル）−Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−
４−ジフェニルメチルスルファニル−３−（｛１−
［（９Ｈ−フルオレン−９−イルメトキシ）カルボニ
ル］−Ｌ−プロリル｝アミノ）−２−ヒドロキシブタノ
イル］−Ｌ−セリネート５００ｍｇを１０％ピペリジン
の塩化メチレン溶液２０ｍｌに溶解し，室温で２時間攪
拌した。減圧下，溶媒を留去し，９２１ｍｇの組成物を
クロロホルムを用いてカラムクロマトグラフに付した。
酢酸エチル−クロロホルムを用いて溶出し，望む分画を
集めた。溶媒を減圧下留去し，表題化合物を２３９ｍｇ
得た。

【００４６】実施例１ メチル Ｎ−｛（２Ｒ，３Ｒ）−３−［（１−アセチル
−Ｌ−プロリル）アミノ］−４−ジフェニルメチルスル
ファニル−２−ヒドロキシブタノイル｝−Ｌ−セリネー
ト メチル Ｏ³−ｔ−ブチル−Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−４
−ジフェニルメチルスルファニル−２−ヒドロキシ−３
−（Ｌ−プロリルアミノ）ブタノイル］−Ｌ−セリネー
ト１０ｍｇの塩化メチレン９００μｌ溶液に氷冷下，塩
化アセチル１．３μｌとトリエチルアミン２．５μｌを
それぞれ塩化メチレンに溶解して加え，１．０ｍｌの混
合液とした。室温で，１２時間攪拌し，ＴＬＣにて反応
の終了を確認した。炭酸水素ナトリウムの飽和水溶液と
水の１：１混合液を２ｍｌ加え，攪拌後，静置し，有機
相を分離した。無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥し，
溶媒を留去した。９０％トリフルオロ酢酸水溶液１．０
ｍｌを加え，室温で１時間攪拌した。少量のトルエンを
加え，減圧下溶媒を留去し，表題化合物を粗生成物とし
て１６ｍｇの収量で得た。塩化アセチルの代わりに種々
の酸クロリド，クロロフォルメート，イソシアネート，
チオイソシアネート，スルホニルクロリド，アルキルハ
ライド，α，β不飽和ケトンのいずれかを用い同様に実
施例２〜５６の化合物を合成した。

【００４７】実施例５７ メチル Ｎ−（（２Ｒ，３Ｒ）−４−ジフェニルメチル
スルファニル−３−｛［１−（９Ｈ−フルオレン−９−
カルボニル）−Ｌ−プロリル］アミノ｝−２−ヒドロキ
シブタノイル）−Ｌ−セリネート メチル Ｏ³−ｔ−ブチル−Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−４
−ジフェニルメチルスルファニル−２−ヒドロキシ−３
−（Ｌ−プロリルアミノ）ブタノイル］−Ｌ−セリネー
ト１０ｍｇのジメチルホルムアミド１．０ｍｌ溶液に，
９Ｈ−フルオレン−９−カルボン酸３．７ｍｇ，ヒドロ
キシベンゾトリアゾール２．４ｍｇそれぞれのジメチル
ホルムアミド溶液と１−エチル−３−（３−ジメチルア
ミノプロピル）カルボジイミド３．４ｍｇの塩化メチレ
ン溶液を加え，１．５ｍｌの反応液を調整した。室温で
一終夜攪拌し，ＴＬＣで反応の終了を確認後，減圧下溶
媒を留去した。残留物に３ｍｌの酢酸エチルを加え，溶
液を０．１Ｎ塩酸，水素ナトリウム水溶液で順次洗浄し
た。無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥後，溶媒を留去
した。９０％トリフルオロ酢酸水溶液１．０ｍｌ加え室
温で１時間攪拌した。トルエンを加え，減圧下溶媒を留
去し，表題化合物を粗生成物として１１ｍｇ得た。同様
にして種々のカルボン酸を用い，実施例５８〜９１の化
合物を合成した。

【００４８】実施例９２ Ｎ−｛（２Ｒ，３Ｒ）−３−［（１−アセチル−Ｌ−プ
ロリル）アミノ］−４−ジフェニルメチルスルファニル
−２−ヒドロキシブタノイル｝−Ｌ−セリン 実施例１で合成したメチル Ｎ−｛（２Ｒ，３Ｒ）−３
−［（１−アセチル−Ｌ−プロリル）アミノ］−４−ジ
フェニルメチルスルファニル−２−ヒドロキシブタノイ
ル｝−Ｌ−セリネート１１ｍｇをメタノール４００μｌ
に溶解し，１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液，１００μｌを
加え，室温で一終夜攪拌した。１Ｎ塩酸１００μｌとト
ルエンを加え減圧下，溶媒を留去した。残留物に水を加
えクロロホルムにて抽出した。無水硫酸マグネシウムを
用いて乾燥後，減圧下溶媒を留去し，表題化合物を粗生
成物として１．８ｍｇ得た。実施例１，及び実施例５７
で得られた化合物を同様に処理し，実施例９３〜１７８
の化合物を得た。

【００４９】実施例１７９ メチル Ｎ−（（２Ｒ，３Ｒ）−３−｛［１−（９Ｈ−
フルオレン−９−イルアセチル）−Ｌ−プロリル］アミ
ノ｝−２−ヒドロキシ−４−スルファニルブタノイル）
−Ｌ−セリネート メチル Ｏ³−ｔ−ブチル−Ｎ−［（２Ｒ，３Ｒ）−４
−ジフェニルメチルスルファニル−２−ヒドロキシ−３
−（Ｌ−プロリルアミノ）ブタノイル］−Ｌ−セリネー
ト１０ｍｇと（９Ｈ−フルオレン−９−イル）酢酸４．
０ｍｇを用い，実施例１と同様の手法により，メチル
Ｏ³−ｔ−ブチル−Ｎ−（（２Ｒ，３Ｒ）−４−ジフェ
ニルメチルスルファニル−３−｛［１−（９Ｈ−フルオ
レン−９−イルアセチル）−Ｌ−プロリル］アミノ｝−
２−ヒドロキシブタノイル）−Ｌ−セリネート１５ｍｇ
を調整した。９０％トリフルオロ酢酸，フェノール，チ
オアニソール（４０：１：１）の混合液を１．０ｍｌ加
え，室温で１２時間攪拌した。減圧下溶媒を留去し，残
留物にジエチルエーテルを加え，不溶物を濾取すること
により表題化合物を粗生成物として１．４ｍｇの収量で
得た。同様にして，実施例１８０〜２１３の化合物を合
成した。

【００５０】参考例１０ レジンの付加した（２Ｒ，３Ｒ）−４−ジフェニルメチ
ルスルファニル−３−｛［１−（９Ｈ−フルオレン−９
−イルアセチル）−Ｌ−プロリル］ アミノ｝−２−ヒ
ドロキシブタン酸 クロロトリチルレジン（クロロトリチル含量１．０３ｍ
ｍｏｌ／ｇ）２．０８ｇの塩化メチレン１０ｍｌ懸濁液
にジイソプロピルエチルアミン０．７４ｍｌと（２Ｒ，
３Ｒ）−４−ジフェニルメチルスルファニル−３−
（｛１−［（９Ｈ−フルオレン−９−イルメトキシ）カ
ルボニル］−Ｌ−プロリル｝アミノ）−２−ヒドロキシ
ブタン酸１．００ｇの塩化メチレン１０ｍｌ溶液を加
え，室温で１時間攪拌した。メタノール７ｍｌとジイソ
プロピルエチルアミン０．７４ｍｌを加え更に２０分間
攪拌した。溶液を濾去し，レジンをジメチルホルムアミ
ド，塩化メチレン，イソプロパノール，ジエチルエーテ
ルで順次洗浄した。減圧下，乾燥して２．５３ｇのレジ
ンを得た。続いて前の操作で得たレジンへ塩化メチレン
１０ｍｌ，ジメチルホルムアミド１０ｍｌとピペリジン
２ｍｌを加え，室温で３０分間攪拌した。懸濁液より前
の操作と同様にレジンを取り出し，同様に洗浄し，２．
３２ｇのレジンを得た。次に前の操作で得たレジン２．
３２ｇをジメチルホルムアミド２０ｍｌに懸濁し，更に
（９Ｈ−フルオレン−９−イル）酢酸５１５ｍｇとベン
ゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスホ
ニウム ヘキサフルオロホスフェイト１．２０ｇとジイ
ソプロピルエチルアミン８００μｌを加え，室温で２．
５時間攪拌した。懸濁液より前の操作と同様にレジンを
取り出し，同様に洗浄し，２．３３ｇの目的とするレジ
ンを得た。

【００５１】実施例７９９ （２Ｒ，３Ｒ）−４−ジフェニルメチルスルファニル−
３−｛［１−（９Ｈ−フルオレン−９−イルアセチル）
−Ｌ−プロリル］ アミノ｝−２−ヒドロキシブタン酸 参考例１０のレジン２．３３ｇに１０％トリフルオロ酢
酸の塩化メチレン溶液を加え，室温で１０分間攪拌し
た。レジンを濾去し，濾液にトルエン２０ｍｌを加え，
減圧下溶媒を除去した。残留物に更にトルエン２０ｍｌ
を加え，再び減圧下に溶媒を除去し望む表題化合物を３
１６ｍｇ得た。 ＭＳ：Ｆａｂ（Pos.） ５２４［(M+H)⁺］

【００５２】実施例８００及び８２７ （２Ｒ，３Ｒ）−４−ジフェニルメチルスルファニル−
３−｛［１−（９Ｈ−フルオレン−９−イルアセチル）
−Ｌ−プロリル］アミノ｝−２−ヒドロキシ−Ｎ−イソ
ブチルブタンアミド（実施例８００）及び（２Ｒ，３
Ｒ）−３−｛［１−（９Ｈ−フルオレン−９−イルアセ
チル）−Ｌ−プロリル］アミノ｝−２−ヒドロキシ−Ｎ
−イソブチル−４−スルファニルブタンアミド（実施例
８２７） （２Ｒ，３Ｒ）−４−ジフェニルメチルスルファニル−
３−｛［１−（９Ｈ−フルオレン−９−イルアセチル）
−Ｌ−プロリル］アミノ｝−２−ヒドロキシブタン酸
７．９ｍｇのジメチルホルムアミド１．０ｍｌ溶液に，
イソブチルアミン１．１ｍｇ，ヒドロキシベンゾトリア
ゾール２．１ｍｇ，ベンゾトリアゾール−１−イルオキ
シトリピロリジノホスホニウム ヘキサフルオロホスフ
ェイト７．８ｍｇとＮ−メチルモルホリン１．９ｍｇを
それぞれジメチルホルムアミド溶液として加え，１．５
ｍｌの反応液を調整した。室温で一終夜攪拌し，減圧下
溶媒を留去した。残留物に３ｍｌの酢酸エチルを加え，
溶液を０．１Ｎ塩酸，水素ナトリウム水溶液で順次洗浄
した。無水硫酸マグネシウムを用いて乾燥後，溶媒を留
去し，実施例８００の化合物を粗生成物として１１ｍｇ
の収量で得た。実施例８００の化合物８．０ｍｇに９０
％トリフルオロ酢酸，フェノール，チオアニソール（４
０：１：１）の混合液を１．０ｍｌずつ加え，室温で１
２時間攪拌した。減圧下溶媒を留去し，残留物にジエチ
ルエーテルを加え，不溶物を濾取することにより実施例
８２７を粗生成物として１．３ｍｇ得た。同様にして実
施例４０２〜４１５及び実施例８０１〜８２６，実施例
８２８〜８５１を合成した。

【００５３】参考例１１ Ｓ末端でクロロトリチルレジンに結合したメチル Ｎ−
［（２Ｒ，３Ｒ）−３−アミノ−２−ヒドロキシ−４−
スルファニルブタノイル］−Ｌ−セリネート クロロトリチルレジン（クロロトリチル含量１．０３ｍ
ｍｏｌ／ｇ）８．４０ｇの塩化メチレン５０ｍｌ懸濁液
にメチル Ｎ−（（２Ｒ，３Ｒ）−３−｛［（９Ｈ−フ
ルオレン−９−イルメトキシ）カルボニル］アミノ｝−
２−ヒドロキシ−４−スルファニルブタノイル）−Ｌ−
セリネート（実施例８７７）３．１６ｇの塩化メチレン
溶液７０ｍｌとジイソプロピルエチルアミン２．９ｍｌ
の塩化メチレン溶液７０ｍｌを加え，室温で３時間攪拌
した。メタノール１０ｍｌを加え更に２時間攪拌した。
溶液を濾去し，レジンを塩化メチレン，ジメチルホルム
アミド，イソプロパノール，ジエチルエーテルで順次洗
浄した。減圧下，乾燥して１１．３ｇのレジンを得た。
続いて前の操作で得たレジンへ塩化メチレン７５ｍｌ，
ジメチルホルムアミド７５ｍｌとピペリジン１５ｍｌを
加え，室温で２時間攪拌した。懸濁液より前の操作と同
様にレジンを取り出し，同様に洗浄し，９．９２ｇの望
むレジンを得た。

【００５４】参考例１２ Ｓ末端でクロロトリチルレジンに結合したメチル Ｎ−
［（２Ｒ，３Ｒ）−３−アミノ−２−ヒドロキシ−４−
スルファニルブタノイル］−Ｌ−バリネート（２Ｒ，３
Ｒ）−４−ジフェニルメチルスルファニル−３−
｛［（９Ｈ−フルオレン−９−イルメトキシ）カルボニ
ル］アミノ｝−２−ヒドロキシブタン酸５．００ｇとメ
チル バリネート１．７１ｇを用い参考例６と同様に反
応を行い，５．６９ｇのメチル Ｎ−（（２Ｒ，３Ｒ）
−４−ジフェニルメチルスルファニル−３−｛［（９Ｈ
−フルオレン−９−イルメトキシ）カルボニル］アミ
ノ｝−２−ヒドロキシブタノイル）−Ｌ−バリネート精
製体を得た。 ＭＳ：Ｆａｂ（Pos.） ６５３．２［(M+H)⁺］ 得られたメチル Ｎ−（（２Ｒ，３Ｒ）−４−ジフェニ
ルメチルスルファニル−３−｛［（９Ｈ−フルオレン−
９−イルメトキシ）カルボニル］アミノ｝−２−ヒドロ
キシブタノイル）−Ｌ−バリネート５．６６ｇを用い，
実施例８７７と同様に処理してメチル Ｎ−（（２Ｒ，
３Ｒ）−３−｛［（９Ｈ−フルオレン−９−イルメトキ
シ）カルボニル］アミノ｝−２−ヒドロキシ−４−スル
ファニルブタノイル）−Ｌ−バリネート４．８４ｇを得
た。 ＭＳ：Ｆａｂ（Pos.） ４８７．２［(M+H)⁺］ （ne
g.）４８５．３［(M-H)^-］ クロロトリチルレジン（クロロトリチル含量１．０３ｍ
ｍｏｌ／ｇ）１３．７ｇとメチル Ｎ−（（２Ｒ，３
Ｒ）−３−｛［（９Ｈ−フルオレン−９−イルメトキ
シ）カルボニル］アミノ｝−２−ヒドロキシ−４−スル
ファニルブタノイル）−Ｌ−バリネート４．８１ｇを用
い，参考例１１と同様にして１８．４ｇのレジンを得
た。前の操作で得たレジン１８．４ｇを参考例１１と同
様に処理し，１６．２４ｇの望むレジンを得た。

【００５５】実施例８５２ メチル Ｎ−｛（２Ｒ，３Ｒ）−３−［（９Ｈ−フルオ
レン−９−イルアセチル）アミノ］−２−ヒドロキシ−
４−スルファニルブタノイル｝−Ｌ−セリネート 参考例３で合成したレジン６０ｍｇ（脱レジン体４０μ
ｍｏｌ相当）のジメチルホルムアミド５００μｌ懸濁液
に対し，０．５Ｍヒドロキシベンゾトリアゾールのジメ
チルホルムアミド溶液２００μｌ，０．５Ｍジイソプロ
ピルカルボジイミドのジメチルホルムアミド溶液２００
μｌ，０．２Ｍ（９Ｈ−フルオレン−９−イル）酢酸の
ジメチルホルムアミド溶液５００μｌを加え，室温で１
２時間攪拌した。溶液を濾去し，塩化メチレン，ジメチ
ルホルムアミド，イソプロパノール，ジエチルエーテル
で順次洗浄した。レジンにトリフルオロ酢酸−塩化メチ
レン−トリイソプロピルシラン（１０：１０：１）の混
合溶液を２ｍｌずつ加え，室温で３時間攪拌した。レジ
ンを濾去し，溶媒を減圧下留去することにより表題化合
物２．６ｍｇを得た。同様に参考例３で調整したレジン
を用い同様にして，実施例２６１及び実施例２６２〜３
０６，実施例８５３〜８７５を合成した。

【００５６】実施例２１４ メチル Ｎ−（（２Ｒ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−３−
｛［１−（インドール−２−カルボニル）−Ｌ−プロリ
ル］アミノ｝−４−スルファニルブタノイル）−Ｌ−セ
リネート 参考例１１で合成したレジン６０ｍｇ（脱レジン体４０
μｍｏｌ相当）のジメチルホルムアミド５００μｌ懸濁
液に対し，０．５Ｍヒドロキシベンゾトリアゾールのジ
メチルホルムアミド溶液２００μｌ，０．５Ｍジイソプ
ロピルカルボジイミドのジメチルホルムアミド溶液２０
０μｌ，０．２Ｍ１−［（９Ｈ−フルオレン−９−イル
メトキシ）カルボニル］−Ｌ−プロリンのジメチルホル
ムアミド溶液５００μｌを加え，室温で１２時間攪拌し
た。溶液を濾去し，塩化メチレン，ジメチルホルムアミ
ド，イソプロパノール，ジエチルエーテルで順次洗浄し
た。ジメチルホルムアミド−塩化メチレン−ピペリジン
（１：１：０．２）の混合溶液１ｍｌに懸濁し，室温で
１時間攪拌することにより（９Ｈ−フルオレン−９−イ
ルメトキシ）カルボニル基を落とし，レジンを同様に洗
浄した。以下，インドール−２−カルボン酸を用い実施
例８５２と同様にして，表題化合物を３３ｍｇ得た。実
施例２１５〜２３７，実施例２３８〜２６０を同様に合
成した。

【００５７】実施例３５７ メチル Ｎ−｛（２Ｒ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−３−
［（インドール−２−カルボニル）アミノ］−４−スル
ファニルブタノイル｝−Ｌ−バリネート 参考例１２で合成したレジン６０ｍｇ（脱レジン体４０
μｍｏｌ相当）とインドール−２−カルボン酸を用い，
実施例８５２と同様にして表題化合物を１７ｍｇ得た。
同様に参考例１２で調整したレジンを用い同様にして，
実施例３５５及び実施例３５６，実施例３５８〜４０１
を合成した。

【００５８】実施例３０７ メチル Ｎ−（（２Ｒ，３Ｒ）−２−ヒドロキシ−３−
｛［１−（インドール−２−カルボニル）−Ｌ−プロリ
ル］アミノ｝−４−スルファニルブタノイル）−Ｌ−バ
リネート 参考例１２で合成したレジン６０ｍｇ（脱レジン体４０
μｍｏｌ相当）を用い，実施例２１４と同様にして表題
化合物を１７ｍｇ得た。同様にして実施例３０８〜３５
４を合成した。

【００５９】参考例１３ アリル （２Ｒ，３Ｒ）−４−ジフェニルメチルスルフ
ァニル−３−｛［（９Ｈ−フルオレン−９−イルメトキ
シ）カルボニル］アミノ｝−２−ヒドロキシブタノエー
ト （２Ｒ，３Ｒ）−４−ジフェニルメチルスルファニル−
３−｛［（９Ｈ−フルオレン−９−イルメトキシ）カル
ボニル］アミノ｝−２−ヒドロキシブタン酸１５．０ｇ
の四塩化炭素２００ｍｌ溶液に，アリルアルコール１５
ｍｌとｐ−トルエンスルホン酸５７０ｍｇを加え，３時
間還流した。減圧下溶媒を留去した。残留物をクロロホ
ルムを用いてカラムクロマトグラフに付し，酢酸エチル
−クロロホルムで溶出し，望む分画を集めた。溶媒を留
去し表題化合物を１５．７ｇ得た。ＭＳ：Ｆａｂ（Po
s.） ５８０．１［(M+H)⁺］

【００６０】参考例１４ アリル （２Ｒ，３Ｒ）−３−｛［（９Ｈ−フルオレン
−９−イルメトキシ）カルボニル］アミノ｝−２−ヒド
ロキシ−４−スルファニルブタノエート 参考例１３で合成したアリル （２Ｒ，３Ｒ）−４−ジ
フェニルメチルスルファニル−３−｛［（９Ｈ−フルオ
レン−９−イルメトキシ）カルボニル］アミノ｝−２−
ヒドロキシブタノエート１５．８ｇをトリフルオロ酢酸
２００ｍｌに溶解し，フェノール２．００ｇとチオアニ
ソール２ｍｌを加え，室温で１２時間攪拌した。減圧下
溶媒を留去し，残留物をクロロホルムを用いてカラムク
ロマトグラフに付した。酢酸エチル−クロロホルムで溶
出し，表題化合物を２．２７ｇ得た。ＭＳ：Ｆａｂ（Po
s.） ４１４．１［(M+H)⁺］

【００６１】参考例１５ Ｓ端でレジンと結合したアリル （２Ｒ，３Ｒ）−３−
アミノ−２−ヒドロキシ−４−スルファニルブタノエー
ト クロロトリチルレジン（クロロトリチル含量１．０３ｍ
ｍｏｌ／ｇ）１６．４ｇに対し，アリル （２Ｒ，３
Ｒ）−３−｛［（９Ｈ−フルオレン−９−イルメトキ
シ）カルボニル］アミノ｝−２−ヒドロキシ−４−スル
ファニルブタノエート５．０５ｇを用い，参考例１１と
同様の操作を行い，Ｓ端でレジンと結合したアリル
（２Ｒ，３Ｒ）−３−｛［（９Ｈ−フルオレン−９−イ
ルメトキシ）カルボニル］アミノ｝−２−ヒドロキシ−
４−スルファニルブタノエート２０．６ｇを得た。次
に，前の操作で得たレジンに参考例１１と同様の操作を
施し，望むＳ端でレジンと結合したアリル （２Ｒ，３
Ｒ）−３−アミノ−２−ヒドロキシ−４−スルファニル
ブタノエート１７．７ｇを得た。

【００６２】実施例５３４ （２Ｒ，３Ｒ）−３−｛［（Ｅ）−３−（２−フリル）
アクリロイル］アミノ｝−２−ヒドロキシ−Ｎ−［（Ｒ
Ｓ）−２−ヒドロキシ−２−フェニルエチル］−４−ス
ルファニルブタンアミド

【００６３】実施例５３４−１ 参考例１５で合成したＳ端でレジンと結合したアリル
（２Ｒ，３Ｒ）−３−アミノ−２−ヒドロキシ−４−ス
ルファニルブタノエート４４ｍｇ（脱レジン体３０μｍ
ｏｌ相当）のジメチルホルムアミド５００μｌ懸濁液に
対し，０．５Ｍヒドロキシベンゾトリアゾールのジメチ
ルホルムアミド溶液２００μｌ，０．５Ｍジイソプロピ
ルカルボジイミドのジメチルホルムアミド溶液２００μ
ｌと０．２Ｍ３−（２−フリル）アクリル酸のジメチル
ホルムアミド溶液５００μｌを加え，室温で１２時間攪
拌した。溶液を濾去し，塩化メチレン，ジメチルホルム
アミド，イソプロパノール，ジエチルエーテルで順次洗
浄した。乾燥後，次の反応に用いた。

【００６４】実施例５３４−２ 実施例５３４−１で調整したレジンへ，２５ｍＭテトラ
キストリフェニルホスフィンパラジウム（０）の塩化メ
チレン懸濁液４００μｌ，０．５３Ｍトリメチルシリル
アジドの塩化メチレン溶液４００μｌ，１Ｍフッ化テト
ラ−ｎ−ブチルアンモニウムのテトラヒドロフラン溶液
４００μｌを加え，室温で３時間攪拌した。実施例４−
２と同様に反応を処理し，次の反応に用いた。

【００６５】実施例５３４−３ 実施例５３４−２で調整したレジンに対し，０．２４Ｍ
ベンゾトリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホ
スホニウム ヘキサフルオロホスフェイトのジメチルホ
ルムアミド溶液４００μｌ，０．９６Ｍジイソプロピル
エチルアミンのジメチルホルムアミド溶液２００μｌと
種々の０．２４Ｍの２−アミノ−１−フェニルエタノー
ルのジメチルホルムアミド溶液４００μｌを加え，室温
で１２時間攪拌した。溶液を濾去し，塩化メチレン，ジ
メチルホルムアミド，イソプロパノール，ジエチルエー
テルで順次洗浄した。乾燥後，次の反応に用いた。

【００６６】実施例５３４−４ 実施例５３４−３で得られたレジンにトリフルオロ酢酸
−塩化メチレン−トリイソプロピルシラン（１０：１
０：１）を１．０ｍｌずつ加え，室温で３０分間静置し
た。レジンを濾去し，溶媒を減圧下留去することによ
り，表題化合物を２．６ｍｇ得た。同様にして，実施例
４１６〜７９８の化合物を合成した。

【００６７】実施例８８１ ２−オキソ−２−フェニルエチル （２Ｒ，３Ｒ）−４
−ジフェニルメチルスルファニル−３−｛［（９Ｈ−フ
ルオレン−９−イルメトキシ）カルボニル］アミノ｝−
２−ヒドロキシブタノエート （２Ｒ，３Ｒ）−４−ジフェニルメチルスルファニル−
３−｛［（９Ｈ−フルオレン−９−イルメトキシ）カル
ボニル］アミノ｝−２−ヒドロキシブタン酸２．７０ｇ
をジメチルホルムアミド５０ｍｌに加え，フェナシルブ
ロミド１．２０ｇとトリエチルアミン０．８３ｍｌを順
次加え，室温で４時間攪拌した。酢酸エチルを加え，有
機層を５％硫酸水素ナトリウム水溶液，次いで水で洗浄
した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥，減圧下
濃縮し，残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（酢酸エチル−トルエン）にて精製し，表題化合物を無
色のアモルファスとして２．９７ｇ得た。ＭＳ：Ｆａｂ
（Pos.） ６５８［(M+H)⁺］

【００６８】参考例１６ ２−オキソ−２−フェニルエチル （２Ｓ，３Ｒ）−４
−ジフェニルメチルスルファニル−３−｛［（９Ｈ−フ
ルオレン−９−イルメトキシ）カルボニル］アミノ｝−
２−ホルミルオキシキシブタノエート ２−オキソ−２−フェニルエチル （２Ｒ，３Ｒ）−４
−ジフェニルメチルスルファニル−３−｛［（９Ｈ−フ
ルオレン−９−イルメトキシ）カルボニル］アミノ｝−
２−ヒドロキシブタン酸１．６４ｇをテトラヒドロフラ
ン２０ｍｌに加えトリフェニルホスフィン１．６４ｇ，
ぎ酸０．４７ｍｌを順次加え塩−氷バスにて冷却しなが
ら攪拌したところにジエチルアゾジカルボキシレート
０．９８ｍｌを加えその後室温にて攪拌した。２時間後
更にトリフェニルホスフィン１．６４ｇ，ぎ酸０．４７
ｍｌをジエチルアゾジカルボキシレート０．９８ｍｌを
加え８時間攪拌した。その後更にトリフェニルホスフィ
ン１．６４ｇ，ぎ酸０．４７ｍｌ，ジエチルアゾジカル
ボキシレート０．９８ｍｌ加え１２時間攪拌した。酢酸
エチルを加え有機層を５％硫酸水素ナトリウム水溶液で
洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥，減
圧下濃縮し，残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（酢酸エチル−トルエン）にて大まかに精製し粗生成
物の表題化合物を無色のアモルファスとして３５６ｍｇ
得た。 ＭＳ：Ｆａｂ（Pos.） ６８６［(M+H)⁺］

【００６９】実施例８８２ ２−オキソ−２−フェニルエチル （２Ｓ，３Ｒ）−４
−ジフェニルメチルスルファニル−３−｛［（９Ｈ−フ
ルオレン−９−イルメトキシ）カルボニル］アミノ｝−
２−ヒドロキシブタノエート ２−オキソ−２−フェニルエチル （２Ｓ，３Ｒ）−４
−ジフェニルメチルスルファニル−３−｛［（９Ｈ−フ
ルオレン−９−イルメトキシ）カルボニル］アミノ｝−
２−ホルミルオキシブタン酸３５０ｍｇをジオキサン１
０ｍｌに加え，そこに１Ｎ塩酸水溶液１０ｍｌを加え室
温で１２時間攪拌した。酢酸エチルを加え，有機層を飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水
硫酸マグネシウムにて乾燥，減圧下濃縮し，残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル−トルエ
ン）にて精製し表題化合物を無色のアモルファスとして
２６４ｍｇ得た。ＭＳ：Ｆａｂ（Pos.） ６５８［(M+
H)⁺］

【００７０】実施例８８３ （２Ｓ，３Ｒ）−４−ジフェニルメチルスルファニル−
３−｛［（９Ｈ−フルオレン−９−イルメトキシ）カル
ボニル］アミノ｝−２−ヒドロキシブタン酸 ２−オキソ−２−フェニルエチル （２Ｓ，３Ｒ）−４
−ジフェニルメチルスルファニル−３−｛［（９Ｈ−フ
ルオレン−９−イルメトキシ）カルボニル］アミノ｝−
２−ヒドロキシブタノエート１５０ｍｇを氷冷下酢酸１
０ｍｌに加え，そこに亜鉛粉末７４５ｍｇを加え，その
温度で２時間室温で３０分攪拌した。セライト濾過した
後，減圧下濃縮した。残渣に酢酸エチルを加え水で２回
洗浄した。有機層を無水硫酸マグネシウムにて乾燥，減
圧下濃縮し，析出した個体をクロロホルムにて洗浄して
表題化合物を無色のアモルファスとして８７ｍｇ得た。 ＭＳ：Ｆａｂ（Pos.） ５４０［(M+H)⁺］

【００７１】実施例８８４ ８８４−１及び８８４−２ 阻害ペプチドの合成 本実験に使用したペプチドは多種品目同時固相法自動ペ
プチド合成装置ＰＳＳＭ−８型（島津製作所社製）を用
い，その取扱説明書に準じて１５μｍｏｌスケールで合
成した。アミノ酸の連結には１０当量（１５０μＭ）の
Ｆｍｏｃアミノ酸が使用された。Ａｓｐ，Ｇｌｕ，Ｃｙ
ｓ，Ｓｅｒ，Ｔｙｒについては側鎖が保護されたアミノ
酸が用いられた：Ｆｍｏｃ−Ａｓｐ（ＯｔＢｕ）−Ｏ
Ｈ，Ｆｍｏｃ−Ｃｙｓ（Ｔｒｔ）−ＯＨ，Ｆｍｏｃ−Ｓ
ｅｒ（ｔＢｕ）−ＯＨ，Ｆｍｏｃ−Ｔｙｒ（ｔＢｕ）−
ＯＨ，Ｆｍｏｃ−Ｇｌｕ（ＯｔＢｕ）−ＯＨ。合成に用
いた各種レジン及び各種Ｆｍｏｃアミノ酸＋ベンゾトリ
アゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスフォニウ
ム ヘキサフルオロホスフェイト混合物（ＳＭ８−Ｐａ
ｃｋ Ｍｉｘ）は全て島津製作所社製のものを使用し
た。ノルスタチンＣｙｓについては８０．９ｍｇの実施
例８７６で合成したものを用い，７７．６ｍｇのベンゾ
トリアゾール−１−イルオキシトリピロリジノホスフォ
ニウム ヘキサフルオロホスフェイトを混合し，合成に
用いた。実施例８８４−１及び８８４−２の合成は，Ｔ
ＧＳ−ＰＨＢ−Ａｌａレジン（Ａｌａで１５μｍｏｌ相
当）を用い，順次目的とするアミノ酸を固相法で連結さ
せた。合成終了後，レジンをメタノール及びエーテルで
数回洗浄，乾燥後，脱保護とペプチドのレジンからの切
り出しには１ｍｌの（トリフルオロ酢酸：アニソール：
エタンジチオール＝９４０：５０：１０，５ｍｇ／ｍｌ
２−メチルインドール）混合溶液を用い，室温にて，
２時間処理し，その後，エーテル沈澱を５回行いペプチ
ドの粗生成物を得た。目的とするペプチドは，分取用の
逆相ＨＰＬＣ（ＯＤＳ−８０Ｔｍ； 東ソー社製）を用
い分離・精製した。移動相の条件はＡ液：０．１％ ト
リフルオロ酢酸−水，Ｂ液：０．１％ トリフルオロ酢
酸−９０％アセトニトリルを用いたＢ液の０〜８０％／
４０分での直線勾配で，流速は１０ｍｌ／分とした。ペ
プチドは分取後，凍結乾燥を行った。

【００７２】実施例８８５ 実施例８８５の合成は，実施例８８４と同様にしてＴＧ
Ｓ−ＰＨＢ−Ｌｅｕレジンを用い，順次目的とするアミ
ノ酸を固相法で連結させた。脱保護とペプチドのレジン
からの切り出しには（トリフルオロ酢酸：チオアニソー
ル：フェノール＝９５０：５０：５０）混合溶液を用い
室温，４時間の条件で行った。

【００７３】実施例８８６ 実施例８８６の合成は，実施例８８４と同様にしてＴＧ
Ｓ−ＲＡＭレジンを用い，順次目的とするアミノ酸を固
相法で連結させた。８８６についてはＮ末のＦｍｏｃを
保護した状態で合成サイクルを終了させ，その後の操作
は実施例８８４と同様にして合成した。脱保護とペプチ
ドのレジンからの切り出しには（トリフルオロ酢酸：ア
ニソール：エタンジチオール＝９４０：５０：１０）で
室温，２時間の条件を用いた。

【００７４】以下，表２〜表３３に実施例１〜８７５の
化合物の構造式及び物理化学的性状を示す。また，表中
の略号は以下の意味を有する。 Ｃｂｚ：ベンジルオキシカルボニル，Ｆｍｏｃ：９−フ
ルオレニルメトキシカルボニル，Ｄｐｍ：ジフェニルメ
チル，ＨＰＬＣ：高速液体クロマトグラフィー，Ｇｌｕ
（Ｅ）：グルタミン酸，Ａｌａ（Ａ）：アラニン，Ｇｌ
ｙ（Ｇ）：グリシン，Ａｓｐ（Ｄ）：アスパラギン酸，
Ｉｌｅ（Ｉ）：イソロイシン，Ｖａｌ（Ｖ）：バリン，
Ｐｒｏ（Ｐ）：プロリン，Ｃｙｓ（Ｃ）：システイン，
Ｓｅｒ（Ｓ）：セリン，Ｍｅｔ（Ｍ）：メチオニン，Ｔ
ｙｒ（Ｙ）：チロシン，Ｔｈｒ（Ｔ）：スレオニン，Ｔ
ｒｐ（Ｗ）：トリプトファン，ｎＣｙｓ（Ｏ）：ノルス
タチン・システイン アミノ酸は特に示さない限りＬ体を示す。

【００７５】

【表２】

【００７６】

【表３】

【００７７】

【表４】

【００７８】

【表５】

【００７９】

【表６】

【００８０】

【表７】

【００８１】

【表８】

【００８２】

【表９】

【００８３】

【表１０】

【００８４】

【表１１】

【００８５】

【表１２】

【００８６】

【表１３】

【００８７】

【表１４】

【００８８】

【表１５】

【００８９】

【表１６】

【００９０】

【表１７】

【００９１】

【表１８】

【００９２】

【表１９】

【００９３】

【表２０】

【００９４】

【表２１】

【００９５】

【表２２】

【００９６】

【表２３】

【００９７】

【表２４】

【００９８】

【表２５】

【００９９】

【表２６】

【０１００】

【表２７】

【０１０１】

【表２８】

【０１０２】

【表２９】

【０１０３】

【表３０】

【０１０４】

【表３１】

【０１０５】

【表３２】

【０１０６】

【表３３】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ａ６１Ｋ 31/36 Ａ６１Ｋ 31/36 31/38 31/38 31/40 ＡＣＳ 31/40 ＡＣＳ 31/415 31/415 31/42 31/42 31/425 31/425 31/44 ＡＥＤ 31/44 ＡＥＤ 31/445 31/445 31/47 31/47 31/495 31/495 31/535 31/535 31/55 31/55 38/55 Ｃ０７Ｄ 207/16 Ｃ０７Ｄ 207/16 211/42 211/42 211/60 211/60 211/64 211/64 211/70 211/70 213/56 213/56 213/74 213/74 215/36 215/36 215/48 215/48 215/50 215/50 217/06 217/06 217/26 217/26 223/12 Ｚ 223/12 223/28 223/28 233/64 １０６ 233/64 １０６ 233/96 233/96 277/56 277/56 295/18 Ａ 295/18 307/54 307/54 311/84 311/84 317/62 317/62 319/18 319/18 333/38 333/38 401/06 ２０７ 401/06 ２０７ 401/12 ２０７ 401/12 ２０７ ２０９ ２０９ 403/06 ２０７ 403/06 ２０７ 403/12 ２０７ 403/12 ２０７ 405/06 ２０７ 405/06 ２０７ 405/12 ２０９ 405/12 ２０９ ２３３ ２３３ 409/06 ２０７ 409/06 ２０７ 409/12 ２０９ 409/12 ２０９ ２３３ ２３３ 413/06 ２０７ 413/06 ２０７ 417/12 ２０７ 417/12 ２０７ Ａ６１Ｋ 37/64

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で示されるノルスタチ
   ン誘導体又はその塩。 【化１】 （上記式中の記号は，それぞれ以下の意味を有する。 Ａ¹，Ａ²，Ａ³：同一又は異なって結合又は１〜２０の
   アミノ酸で構成されるペプチド残基， Ｒ¹，Ｒ²：同一又は異なって水素原子又はアミノの保護
   基， Ｒ³：水酸基又はカルボン酸の保護基， Ｒ⁴：水素原子又はチオールの保護基， 但し，Ａ¹及びＡ²が共に結合の場合は，Ｒ¹とＲ²とは一
   体となってアミノの保護基を形成してもよい。）
2. 【請求項２】 請求項１記載の化合物を有効成分とする
   医薬。
3. 【請求項３】 ＨＣＶプロテアーゼ阻害剤である請求項
   ２記載の医薬。
4. 【請求項４】 Ｃ型肝炎の治療薬である請求項２記載の
   医薬。