JPH112894A

JPH112894A - 平版印刷版材料

Info

Publication number: JPH112894A
Application number: JP9156835A
Authority: JP
Inventors: Shinji Kudo; 伸司工藤; Katsura Hirai; 桂平井
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1997-06-13
Filing date: 1997-06-13
Publication date: 1999-01-06

Abstract

(57)【要約】【課題】露光手段として紫外線を用いることなく、そ
の代替として安価でコンパクトな半導体レーザーのよう
な赤外線による露光でも十分な感度を有し、かつ現像ラ
チチュードに優れたネガ型或いはポジ型に対応した平版
印刷版材料の提供。【解決手段】活性光線の照射により酸を発生し得る化
合物、酸で分解し得る結合を少なくとも１つ有する化合
物、４００ｎｍ以上の波長に吸収を有する吸収剤及びア
ルカリとの求核置換反応により撥水性を消失する官能基
を有する化合物を支持体上に有することを特徴とする平
版印刷版材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、活性光により可溶
化する、いわゆるポジ型の感光性、又は活性光により不
溶化する、いわゆるネガ型の感光性を有する印刷版用組
成物に関し、更に詳しくは、半導体レーザー等による赤
外線による露光で画像形成が可能な、平版印刷版材料に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、活性光により可溶化する、ポ
ジ型の感光層を有する感光性平版印刷版用の組成物、又
活性光により不溶化する、ネガ型の感光層を有する感光
性平版印刷版用の組成物が知られている。

【０００３】活性光の照射によって可溶化するポジ型の
組成物を使用した感光材料としては、酸発生剤と酸分解
性化合物とを含有する感光層を有する画像形成材料が知
られている。例えば、米国特許３，７７９，７７９号に
は、オルトカルボン酸又はカルボン酸アミドアセタール
基を有する化合物を含有する感光性組成物が、特開昭５
３−１３３４２９号には、主鎖にアセタールを有する化
合物を含有する感光性組成物が、又特開昭６０−３７５
４９号には、シリルエーテル基を有する化合物を含有す
る組成物が開示されている。これらはいずれも紫外線に
感度を有し、紫外線による露光によってアルカリ可溶化
して非画像部を形成し、又未露光部は画像部を形成する
というものである。

【０００４】又、ネガ型としては、例えば特公昭５２−
７３６４号及び同５２−３２１６号に活性光の照射によ
り該照射部分が光重合或いは光架橋を起こして画像部を
形成する感光材料が開示され、露光手段はポジ型同様紫
外線による露光である。更に、米国特許５，３４０，６
９９号には、酸発生剤、酸架橋剤（レゾール樹脂）、バ
インダ（ノボラック樹脂）、赤外線吸収剤を含有する感
光材料を赤外露光して、露光部をアルカリ不溶化する技
術が開示されている。

【０００５】一方、近年、作業効率向上が要求されてい
る。製版業界でもその流れを受け従来の人手と時間のか
かる編集作業をコンピューターでソフト的に簡易に行う
べく、安価でコンパクトな赤外半導体レーザーによりデ
ジタル記録可能な版即ちＣＴＰ（コンピューター・トゥ
ー・プレート）が脚光を浴びている。ただし、ＣＴＰに
おいても編集作業自体は大幅に効率化につながるものの
露光時間に関しては十分には短くなく、そのために感度
の向上が望まれている。感度向上の施策として、酸発生
剤及び赤外線吸収剤などの開始剤系の添加量増量が容易
に考えられるが、実際には酸発生剤増量は保存性の低下
をもたらす傾向が強く、又酸発生剤や赤外線吸収剤の増
量は溶解抑制効果が高まるためと推測される感度低下や
現像性即ち現像ラチチュードの低下を引き起こしてい
た。

【０００６】これとは別に印刷版として現像ラチチュー
ドの広いことが使い勝手の良さとして要求されるが、こ
の点においても更なる改良が求められていた。現像ラチ
チュード向上の施策として、ポジ型では溶解抑制剤、又
ネガ型では架橋剤の反応効率向上や反応前後のアルカリ
溶解度差を広げるよう分子設計を行い改良することが提
案されているが、これは容易ではなく、更なる研究が望
まれている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みてなされたものであり、その目的は、半導体レーザー
の露光でも十分な感度を有し、かつ現像ラチチュードに
優れたネガ型或いはポジ型に対応可能な平版印刷版材料
を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成により達成された。

【０００９】（１）活性光線の照射により酸を発生し
得る化合物、酸で分解し得る結合を少なくとも１つ有す
る化合物、４００ｎｍ以上の波長に吸収を有する吸収剤
及びアルカリとの求核置換反応により撥水性を消失する
官能基を有する化合物を支持体上に有することを特徴と
する平版印刷版材料。

【００１０】（２）酸で分解し得る結合を少なくとも
１つ有する化合物、４００ｎｍ以上の波長に吸収を有す
る吸収剤及び、以下の活性光線の照射により酸を発生し
得る化合物から選ばれる少なくとも１種を支持体上に有
することを特徴とする平版印刷版材料。

【００１１】活性光線の照射により酸を発生し得る化合
物が、１．アルカリ可溶性部位を有する２．ブロモメチルアリールケトン誘導体である３．トリクロロアセチルアミノ基含有芳香族化合物であ
る。

【００１２】好ましい態様として、上記アルカリ可溶性
部位を有する活性光線の照射により酸を発生し得る化合
物が、以下の乃至から選ばれる組み合わせよりなる
エステルであること、水酸基を２個以上有する化合物とアルキルスルホン酸フェノール性水酸基を２個以上有する化合物とアルキ
ルスルホン酸水酸基を２個以上有するアントラセン誘導体とスルホ
ン酸。

【００１３】上記酸で分解し得る結合を少なくとも１つ
有する化合物が、下記一般式（１）で表されることが挙
げられる。

【００１４】

【化３】

【００１５】式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄は、それぞれ独
立に水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基を表し、Ｒ₁〜Ｒ₄の何れか２つが結合して環を形成
しても良く、又エーテル結合を有していても良く、又Ｒ
₁〜Ｒ₄は互いに同一でも異なっていても良い。更に各々
置換基が導入されていても良い。

【００１６】又、上記酸で分解し得る結合を少なくとも
１つ有する化合物が、下記一般式（２）で表されること
を特徴とすることも挙げられる。

【００１７】

【化４】

【００１８】式中、Ｒ₅、Ｒ₆は、それぞれ独立に水素原
子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基を表
し、Ｒ₅、Ｒ₆が結合して環を形成しても良く、又エーテ
ル結合を有していても良く、又Ｒ₅、Ｒ₆は互いに同一で
も異なっていても良い。更に各々置換基が導入されてい
ても良い。ｎ及びｎ′は１〜６の整数を表し、ｍは１〜
８０の整数を表す。

【００１９】（３）活性光線の照射により酸を発生し
得る化合物、酸の存在下でアルカリに対し不溶化し得る
化合物、４００ｎｍ以上の波長に吸収を有する吸収剤及
びアルカリとの求核置換反応により撥水性を消失する官
能基を有する化合物を支持体上に有することを特徴とす
る平版印刷版材料。

【００２０】（４）酸の存在下でアルカリに対し不溶
化し得る化合物、４００ｎｍ以上の波長に吸収を有する
吸収剤及び、以下の活性光線の照射により酸を発生し得
る化合物から選ばれる少なくとも１種を支持体上に有す
ることを特徴とする平版印刷版材料。

【００２１】活性光線の照射により酸を発生し得る化合
物が、１．アルカリ可溶性部位を有する２．ブロモメチルアリールケトン誘導体である３．トリクロロアセチルアミノ基含有芳香族化合物であ
る。

【００２２】好ましい態様として、上記アルカリ可溶性
部位を有する活性光線の照射により酸を発生し得る化合
物が、以下の乃至から選ばれる組み合わせよりなる
エステルであること、水酸基を２個以上有する化合物とアルキルスルホン酸フェノール性水酸基を２個以上有する化合物とアルキ
ルスルホン酸水酸基を２個以上有するアントラセン誘導体とスルホ
ン酸。

【００２３】上記酸の存在下でアルカリに対し不溶化し
得る化合物が、メチロール基を有する化合物及びレゾー
ル樹脂から選ばれることが挙げられる。

【００２４】上記（１）乃至（４）における共通の好ま
しい態様として、以下のものが挙げられる。

【００２５】上記４００ｎｍ以上の波長に吸収を有する
吸収剤が、７００ｎｍ以上に吸収を有する赤外線吸収剤
であること、上記アルカリとの求核置換反応により撥水
性を消失する官能基を有する化合物が、ハロゲン化アセ
チル基又はハロゲン化メチル基を含有する芳香族化合物
であること。

【００２６】以下、本発明を詳細に説明する。

【００２７】本発明の平版印刷版材料は、ポジ型或いは
ネガ型に対応可能であり順に説明する。

【００２８】（ポジ型）ポジ型の平版印刷版材料として
は、請求項１の、活性光線の照射により酸を発生し得る
化合物、酸で分解し得る結合を少なくとも１つ有する化
合物、４００ｎｍ以上の波長に吸収を有する吸収剤及び
アルカリとの求核置換反応により撥水性を消失する官能
基を有する化合物を支持体上に有するもの、又請求項２
の、酸で分解し得る結合を少なくとも１つ有する化合
物、４００ｎｍ以上の波長に吸収を有する吸収剤及び、
以下の活性光線の照射により酸を発生し得る化合物から
選ばれる少なくとも１種を支持体上に有するものが挙げ
られる。

【００２９】前記活性光線の照射により酸を発生し得る
化合物が、１．アルカリ可溶性部位を有する、２．ブロ
モメチルアリールケトン誘導体である、３．トリクロロ
アセチルアミノ基含有芳香族化合物である。

【００３０】（ネガ型）ネガ型の平版印刷版材料として
は、請求項６の、活性光線の照射により酸を発生し得る
化合物、酸の存在下でアルカリに対し不溶化し得る化合
物、４００ｎｍ以上の波長に吸収を有する吸収剤及びア
ルカリとの求核置換反応により撥水性を消失する官能基
を有する化合物を支持体上に有するもの、又請求項７
の、酸の存在下でアルカリに対し不溶化し得る化合物、
４００ｎｍ以上の波長に吸収を有する吸収剤及び、以下
の活性光線の照射により酸を発生し得る化合物から選ば
れる少なくとも１種を支持体上に有するものが挙げられ
る。

【００３１】前記活性光線の照射により酸を発生し得る
化合物が、１．アルカリ可溶性部位を有する、２．ブロ
モメチルアリールケトン誘導体である、３．トリクロロ
アセチルアミノ基含有芳香族化合物である。

【００３２】以下、活性光線の照射により酸を発生し得
る化合物、４００ｎｍ以上の波長に吸収を有する吸収
剤、アルカリとの求核置換反応により撥水性を消失する
官能基を有する化合物、酸で分解し得る結合を少なくと
も１つ有する化合物、酸の存在下でアルカリに対し不溶
化し得る化合物の順に説明する。

【００３３】本発明に用いられる「活性光線の照射によ
り酸を発生し得る化合物（以下、酸発生剤という）」と
しては、各種の公知化合物及び混合物が挙げられる。例
えばジアゾニウム、ホスホニウム、スルホニウム、及び
ヨードニウムのそれぞれＢＦ₄ ^-，ＰＦ₆ ^-，ＳｂＦ₆ ^-，Ｓ
ｉＦ₆ ^2-，ＣｌＯ₄ ^-などの塩、有機ハロゲン化合物、オ
ルトキノンジアジドスルホニルクロリド、及び有機金属
及び有機ハロゲン化合物も活性光線の照射の際に酸を形
成又は分離する活性光線感光性成分であり、本発明にお
ける酸発生剤として使用することができる。原理的には
遊離基形成性の光開始剤として知られるすべての有機ハ
ロゲン化合物は、ハロゲン化水素酸を形成する化合物
で、本発明の酸発生剤として使用することができる。

【００３４】前記のハロゲン化水素酸を形成する化合物
の例はＵＳＰ３，５１５，５５２号、同３，５３６，４
８９号、同３，７７９，７７８号及び西ドイツ国特許公
開公報第２，２４３，６２１号に記載されているものが
挙げられ、又例えば西ドイツ国特許公開公報第２，６１
０，８４２号に記載の光分解により酸を発生させる化合
物も使用することができる。又更に特開昭５４−７４７
２８号、同５５−２４１１３号、同５５−７７７４２
号、同６０−３６２６号、同６０−１３８５３９号に記
載の２−ハロメチル−１，３，４−オキサジアゾール系
化合物など具体的には、２−トリクロロメチル−５−
〔β（２−ベンゾフリル）ビニル〕−１，３，４−オキ
サジアゾールを使用することができる。

【００３５】酸発生剤の具体例としては、特開昭５６−
１７３４５号に記載のものを挙げることができる。又、
特開昭５０−３６２０９号に記載されているｏ−ナフト
キノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドを用いるこ
とができる。

【００３６】本発明において、請求項２及び７に使用さ
れる酸発生剤は、以下の１乃至３の何れか１つに該当す
ることが必須である。尚、請求項１及び６についての酸
発生剤にも適用可能である。

【００３７】１．アルカリ可溶性部位を有する、２．ブ
ロモメチルアリールケトン誘導体である、３．トリクロ
ロアセチルアミノ基含有芳香族化合物である。

【００３８】１乃至３を順を追って説明する。

【００３９】アルカリ可溶性部位を有するものとして
は、以下の乃至から選ばれる組み合わせよりなるエ
ステル、例えば水酸基を２個以上有する化合物とアル
キルスルホン酸、フェノール性水酸基を２個以上有す
る化合物とアルキルスルホン酸、水酸基を２個以上有
するアントラセン誘導体とスルホン酸を挙げることがで
きる。

【００４０】水酸基を２個以上有する化合物とアルキ
ルスルホン酸とのエステルからなる酸発生剤としては、
エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリ
ン、１，２，４−ブタントリオールなどのアルコール性
水酸基とアルキルスルホン酸とのエステルが挙げられ
る。このアルキルスルホン酸のアルキル基はＣ_nＨ_2n+1
であり、ｎ＝１〜４の範囲にあるものが効果的である。
アルキル基中の水素の一部又は全部をフッ素或いは塩素
等の電気陰性度の大きなハロゲンで置換したものも有効
である。酸発生剤に用いるアルキルスルホン酸エステル
はアルコール性水酸基を２個以上含む化合物の水酸基の
全てをエステルにする必要はなく、水酸基を残しても良
い。そうすることにより、アルカリ水溶液に対する溶解
性を制御することができる。

【００４１】フェノール性水酸基を２個以上有する化
合物とアルキルスルホン酸とのエステルからなる酸発生
剤としては、例えばカテコール、レゾルシン、ハイドロ
キノン、ピロガロール、オキシハイドロキノン、フロロ
グルシン、トリヒドロベンゾフェノン、テトラヒドロベ
ンゾフェノン、没食子酸エステルなどのフェノール性水
酸基とアルキルスルホン酸とのエステルが挙げられる。
アルキルスルホン酸のアルキル基は上記と同様であ
る。酸発生剤に用いるアルキルスルホン酸エステルはア
ルコール性水酸基を２個以上含む化合物の水酸基の全て
をエステルにする必要はなく、水酸基を残しても良い。
そうすることにより、アルカリ水溶液に対する溶解性を
制御することができる。

【００４２】水酸基を２個以上有するアントラセン誘
導体とスルホン酸とのエステルからなる酸発生剤として
は、例えばジヒドロキシアントラセン、トリヒドロキシ
アントラセン、テトラヒドロキシアントラセンの水酸基
とスルホン酸とのエステルが挙げられる。スルホン酸と
しては、アルキルスルホン酸、アリールスルホン酸、
１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸が挙げられ
る。アルキルスルホン酸のアルキルは上記と同様であ
る。酸発生剤に用いるスルホン酸エステルは水酸基を２
個以上含む化合物の水酸基の全てをエステルにする必要
はなく、水酸基を残しても良い。そうすることにより、
アルカリ水溶液に対する溶解性を制御することができ
る。

【００４３】ブロモメチルアリールケトン誘導体として
は、ブロモメチルアリールケトン或いはジブロモメチル
アリールケトンが好ましい。例えば、２−ブロモアセチ
ルナフタレン、２−ブロモアセチル−６，７−ジメトキ
シナフタレン、２−ブロモアセチルナフタレン、２−ジ
ブロモアセチル−６，７−ジメトキシナフタレン、１−
ヒドロキシ−４−ブロモ−２−ブロモアセチルナフタレ
ン、１−ヒドロキシ−４−ブロモ−２−ジブロモアセチ
ルナフタレン、２−ヒドロキシ−１−ブロモアセチルナ
フタレン、１，４−ビス（ブロモアセチル）ベンゼン、
４，４’−ビス（ブロモアセチル）ビフェニル、１，
３，５−トリス（ブロモアセチル）ベンゼン、１，３，
５−トリス（ジブロモアセチル）ベンゼン等が挙げら
れ、これらを単独で或いは２種以上組み合わせて用いる
ことができる。

【００４４】又トリクロロアセチルアミノ基含有芳香族
化合物としては、以下の構造を有するものが更に好まし
い。

【００４５】

【化５】

【００４６】式中、Ｒ₁〜Ｒ₅は水素、炭素数４以下のア
ルキル基又はアルコキシ基、ハロゲン原子、フェニルア
ミノ基、フェノキシ基、ベンジル基、ベンゾイル基、ア
セチル基、トリクロロアセチルアミノ基を表し、Ｒ₁〜
Ｒ₅は同じであっても、異なっていても良い。具体的に
は、例えば４−フェノキシトリクロロアセトアニリド、
４−メトキシトリクロロアセトアニリド、２，３−ジメ
トキシトリクロロアセトアニリド、４−メトキシ−２−
クロロトリクロロアセトアニリド、３−アセチルトリク
ロロアセトアニリド、４−フェニルトリクロロアセトア
ニリド、２，３，４−トリフルオロトリクロロアセトア
ニリド、２，４，５−トリメチルトリクロロアセトアニ
リド、２，４，６−トリブロモトリクロロアセトアニリ
ド、２，４，６−トリメチルトリクロロアセトアニリ
ド、２，４−ジクロロトリクロロアセトアニリド、２，
４，−ジメトキシトリクロロアセトアニリド、２，５−
ジクロロトリクロロアセトアニリド、２，５−ジメトキ
シトリクロロアセトアニリド、２，６−ジメチルトリク
ロロアセトアニリド、２−エチルトリクロロアセトアニ
リド、２−フルオロトリクロロアセトアニリド、２−メ
チルトリクロロアセトアニリド、２−メチル−６−エチ
ルトリクロロアセトアニリド、２−フェノキシアセトア
ニリド、２−プロピルトリクロロアセトアニリド、３，
４−ジクロロトリクロロアセトアニリド、３，４−ジメ
トキシトリクロロアセトアニリド、３，４−ジメチルト
リクロロアセトアニリド、４−ブチルアセトアニリド、
４−エチルアセトアニリド、４−フルオロアセトアニリ
ド、４−ヨードアセトアニリド、４−プロピルアセトア
ニリド、２，３，４，５，６−ペンタフルオロアセトア
ニリド、４−プロポキシアセトアニリド、４−アセチル
アセトアニリド等を挙げることができ、特にこれらは熱
安定性が高く、しかも酸不溶化剤のアルカリ水溶液に対
する溶解性を阻害しないことから、好適な酸発生剤とな
りうる。

【００４７】酸発生剤の添加量は、その化学的性質或い
は物性によって広範囲に変えることができるが、印刷版
用組成物の塗布固形分の全重量に対して約０．１〜２０
重量％の範囲が適当であり、好ましくは０．２〜１０重
量％の範囲である。

【００４８】本発明の平版印刷版材料には、「４００ｎ
ｍ以上の波長に吸収を有する吸収剤」が含有される。該
吸収剤としては、可視部吸収剤或いは赤外線吸収剤等が
挙げられる。

【００４９】可視部吸収剤としては、例えば、クロロフ
ィル、クエン酸第２鉄アンモニウム、（チオ）ピリリウ
ム塩、キノリン、スチリルキノリン、（チオ）キサンテ
ン系色素、リボフラビンテトラブチレート、（ケト）ク
マリン系色素、メロシアニン系色素、ローダニン誘導体
ポリマー、テトラフェニルポルフィリン、テトラベンゾ
ポルフィリン、スピロピラン、シアニン系色素、（シア
ニン、ローダミン、メチレンブルー系色素）のアルキル
ホウ素塩、鉄アレーン錯体、フッ素置換チタノセン、ア
リーリリデンアリールケトン、チオール化合物、トリス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン誘導体、チオピ
リリウム塩、メチレンブルー、

【００５０】

【化６】

【００５１】等が挙げられる。

【００５２】又、赤外線吸収剤としては、波長７００ｎ
ｍ以上に吸収を持つ赤外吸収色素、カーボンブラック、
磁性粉等を使用することができる。特に好ましい赤外吸
収色素は７００〜８５０ｎｍに吸収ピークを有し、ピー
クでのモル吸光係数εが１０⁵以上の赤外吸収色素であ
る。

【００５３】上記赤外吸収色素としては、シアニン系色
素、スクワリウム系色素、クロコニウム系色素、アズレ
ニウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニ
ン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、チ
オピリリウム系色素、ジチオール金属錯体系色素、アン
トラキノン系色素、インドアニリン金属錯体系色素、分
子間ＣＴ色素等が挙げられる。

【００５４】又、赤外吸収色素として、特開昭６３−１
３９１９１号、同６４−３３５４７号、特開平１−１６
０６８３号、同１−２８０７５０号、同１−２９３３４
２号、同２−２０７４号、同３−２６５９３号、同３−
３０９９１号、同３−３４８９１号、同３−３６０９３
号、同３−３６０９４号、同３−３６０９５号、同３−
４２２８１号、同３−１０３４７６号等に記載の化合物
も挙げられる。

【００５５】本発明に好ましく用いられる赤外吸収色素
の代表的具体例を以下に挙げるがこれらに限定されな
い。

【００５６】

【化７】

【００５７】

【化８】

【００５８】

【化９】

【００５９】

【化１０】

【００６０】

【化１１】

【００６１】

【化１２】

【００６２】

【化１３】

【００６３】

【化１４】

【００６４】

【化１５】

【００６５】

【化１６】

【００６６】

【化１７】

【００６７】

【化１８】

【００６８】

【化１９】

【００６９】これらの色素は勿論、公知の方法によって
合成することができるが、下記のような市販品を用いる
こともできる。

【００７０】日本化薬：ＩＲ７５０（アントラキノン
系）；ＩＲ００２，ＩＲ００３（アルミニウム系）；Ｉ
Ｒ８２０（ポリメチン系）；ＩＲＧ０２２，ＩＲＧ０３
３（ジインモニウム系）；ＣＹ−２，ＣＹ−４，ＣＹ−
９，ＣＹ−１０，ＣＹ−１７三井東圧：ＫＩＲ１０３，ＳＩＲ１０３（フタロシアニ
ン系）；ＫＩＲ１０１，ＳＩＲ１１４（アントラキノン
系）；ＰＡ１００１，ＰＡ１００５，ＰＡ１００６，Ｓ
ＩＲ１２８（金属錯体系）大日本インキ化学：Ｆａｓｔｏｇｅｎｂｌｕｅ８１２
０みどり化学：ＭＩＲ−１０１，１０１１，１０２１その他、日本感光色素、住友化学、富士写真フイルム等
の各社からも市販されている。これらの色素は吸収波長
の異なる２種以上の色素を併用し、複数の光源、例えば
８３０ｎｍの半導体レーザーと１０６３ｎｍのＹＡＧレ
ーザーに対応することを可能とする。

【００７１】本発明の平版印刷版材料は、顔料を有する
ことにより、平版印刷版として用いた際の耐刷性を顕著
に改善し得る。顔料としては、公知の有機及び無機の顔
料が挙げられるが、これらは朝倉書店の「色材工学ハン
ドブック」や誠文堂新光社の「顔料便覧」に記載の顔料
が特に制限なく使用できる。又、現像後の可視画性を得
るには該顔料が有色であることが好ましく、高濃度が得
られることが更に好ましい。その点では、該顔料がフタ
ロシアニン又はカーボンブラックから選ばれるのが耐刷
性の向上のみならず、現像後の可視画性を得るのに好適
である。

【００７２】本発明における「アルカリとの求核置換反
応により撥水性を消失する官能基を有する化合物（以
下、アルカリ親水化剤）」としては、ハロゲン化メチル
基又はハロゲン化アセチル基を分子内に２個以上有する
芳香族化合物が挙げられ、ハロゲン化メチル基又はハロ
ゲン化アセチル基のハロゲンは、アルカリとの求核置換
反応により親水性の水酸基に置換される。このため、こ
れら官能基を有する芳香族化合物はアルカリと反応し撥
水性を消失する。

【００７３】（ハロゲン化アセチル基含有芳香族化合
物）本発明において、アルカリ親水化剤はハロゲン化ア
セチル基を分子内に２個以上有する芳香族化合物が好ま
しく、以下の一般式（３）乃至（５）で表される化合物
が挙げられる。

【００７４】

【化２０】

【００７５】式中、ｎは０から２の整数、ｍは２から４
の整数、ｋは３以下の整数、ｐは３以下の整数であり、
ｋ＋ｐは２から６の整数である。Ｘは塩素又は臭素原
子、Ｒは水素、炭素数２以下のアルキル基又はアルコキ
シ基、塩素原子、臭素原子のいずれかであり、分子内で
同じであっても異なっても良い。一般式（３）で表され
る化合物の中でも、１，２−ビス（ブロモアセチル）ベ
ンゼン、１，３−ビス（ブロモアセチル）ベンゼン、
１，４−ビス（ブロモアセチル）ベンゼン、１，２，３
−トリス（ブロモアセチル）ベンゼン、１，２，４−ト
リス（ブロモアセチル）ベンゼン、１，３，５−トリス
（ブロモアセチル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラ
キス（ブロモアセチル）ベンゼン、１，２，４，５−テ
トラキス（ジブロモアセチル）ベンゼンは、高解像度化
に特に有効である。

【００７６】（ハロゲン化メチル基含有芳香族化合物）
本発明において、アルカリ親水化剤はハロゲン化メチル
基を分子内に２個以上有する芳香族化合物が好ましく、
以下の一般式（６）乃至（８）で表される化合物が挙げ
られる。

【００７７】

【化２１】

【００７８】式中、ｎ，ｍ，ｋ，ｐ，ｋ＋ｐ，Ｘ，Ｒは
一般式（３）乃至（５）で表される化合物と同様であ
る。一般式（６）で表される化合物の中でも、１，２−
ビス（ブロモメチル）ベンゼン、１，３−ビス（ブロモ
メチル）ベンゼン、１，４−ビス（ブロモメチル）ベン
ゼン、１，２，３−トリス（ブロモメチル）ベンゼン、
１，２，４−トリス（ブロモメチル）ベンゼン、１，
３，５−トリス（ブロモメチル）ベンゼン、１，２，
４，５−テトラキス（ブロモメチル）ベンゼン、１，
２，４，５−テトラキス（ジブロモメチル）ベンゼン
は、高解像度化に特に有効である。

【００７９】上記化合物の臭素原子の代替として塩素原
子が結合した芳香族化合物を用いても良い。これら芳香
族化合物は、単独で用いても撥水性化合物として機能す
るが、２種以上を混合して用いても良い。上記芳香族化
合物の中でも、分子内に３個のハロゲン化アセチル基又
はハロゲン化メチル基を有する芳香族化合物は、アルカ
リとの反応により撥水性から親水性に顕著に変わるの
で、極めて有効である。芳香族化合物の他に、ハロゲン
化スルホニル基、ハロゲン化メチルスルホン基、ハロゲ
ン化メチルスルホン酸基、ハロゲン化メチルスルホキシ
ド基、ハロゲン化メチルスルホン基を有する化合物を用
いても良い。

【００８０】又、ハロゲン化アセチル基を有する有機化
合物は、水素引き抜き源があると、放射線照射によりハ
ロゲン酸を生じるので、浸透性を変化させる反応にハロ
ゲン酸を必要とする場合には有利である。又分子内に複
数個のハロゲン化アセチル基を有する芳香族化合物は、
紫外線照射又は加熱によりフェノール樹脂と架橋すると
いう性質を有しているので、版に耐熱性を要求する場合
には画像形成後に紫外線照射又は加熱処理を行えば良
い。

【００８１】本発明において「酸で分解し得る結合を少
なくとも１つ有する化合物（以下、酸分解化合物）」と
しては、具体的には、特開昭４８−８９００３号、同５
１−１２０７１４号、同５３−１３３４２９号、同５５
−１２９９５号、同５５−１２６２３６号、同５６−１
７３４５号に記載されているＣ−Ｏ−Ｃ結合を有する化
合物、特開昭６０−３７５４９号、同６０−１２１４４
６号に記載されているＳｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合
物、特開昭６０−３６２５号、同６０−１０２４７号に
記載されているその他の酸分解化合物を挙げることがで
き、更に特開昭６２−２２２２４６号に記載されている
Ｓｉ−Ｎ結合を有する化合物、特開昭６２−２５１７４
３号に記載されている炭酸エステル、特開昭６２−２８
０８４１号に記載されているオルトチタン酸エステル、
特開昭６２−２８０８４２号に記載されているオルトケ
イ酸エステル、特開昭６３−１０１５３号に記載されて
いるアセタール及びケタール、特開昭６２−２４４０３
８号に記載されているＣ−Ｓ結合を有する化合物などを
用いることができる。

【００８２】上記のうち、Ｃ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合
物、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、オルト炭酸エス
テル、アセタール類及びシリルエーテル類が好ましい。
それらの中でも、特開昭５３−１３３４２９号に記載さ
れた主鎖中に繰り返しアセタール部分を有し、現像液中
でのその溶解度が酸の作用によって上昇する有機重合化
合物、及び特開昭６３−１０１５３号に記載の化合物が
特に好ましい。

【００８３】本発明における酸分解化合物の特に好まし
い具体的例としては上記一般式（１）で表される化合物
を挙げることができる。

【００８４】一般式（１）において、Ｒ₁、Ｒ₂で表され
るアルキル基としては、炭素数１〜８の低級アルキル基
が挙げられ、アリール基としては置換又は無置換のフェ
ニル基が挙げられる。Ｒ₁、Ｒ₂が結合して環を形成して
シクロアルキル基となる場合、シクロアルキル基として
は、４〜８員のシクロアルキル環が挙げられ、シクロヘ
キシル基が好ましい。Ｒ₃、Ｒ₄で表されるアルキル基と
しては、炭素数１〜４の低級アルキル基が挙げられ、ア
リール基としては置換又は無置換のフェニル基が挙げら
れる。これらは、エーテル結合を有することが好まし
く、特にエチレンオキシ基が好ましい。尚、Ｒ₁〜Ｒ
₄は、互いに同一でも異なっていても良い。更に各々置
換基又は置換原子が導入されていても良く、該置換基と
しては酸性基、塩基性基が、又置換原子としてはハロゲ
ン原子が挙げられる。

【００８５】酸性基としては、例えば、ヒドロキシル基
を有するもの（フェノール、クレゾール、キシレノール
等）又はカルボキシル基を有するもの（安息香酸、メチ
ル安息香酸、ブチル安息香酸、サリチル酸、没食子酸
等）が挙げられるが、これに限定されない。又、塩基性
基としては、例えば、アミノ基を有するもの（アミン、
アニリン等）が挙げられるが、これらに限定されない。

【００８６】一般式（１）で表される具体的化合物とし
ては、下記酸分解化合物Ａが挙げられる。

【００８７】

【化２２】

【００８８】又、酸分解化合物の別の好ましい化合物と
して上記一般式（２）で表される繰り返し構造単位を有
する化合物が挙げられる。式中、Ｒ₅、Ｒ₆は、水素原
子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基を表す
が、上記一般式（１）のＲ₁、Ｒ₂と同義の基を表す。
又、ｎは１〜６の整数を表し、好ましくは１〜３であ
り、又ｍは１〜３０の整数を表すが、好ましくは１０〜
２０である。上記一般式（１）で表される具体的化合物
としては、下記酸分解化合物Ｂが挙げられる。

【００８９】

【化２３】

【００９０】上記酸分解化合物Ａ及びＢの合成方法を下
記に示す。

【００９１】（酸分解化合物Ａの合成）シクロヘキサノ
ン０．５モル、フェニルセロソルブ１．０モル及びｐ−
トルエンスルホン酸８０ｍｇを撹拌しながら１００℃で
１時間反応させ、その後１５０℃まで徐々に温度を上
げ、更に１５０℃で４時間反応させた。反応により生成
するメタノールはこの間に留去した。冷却後、テトラヒ
ドロフラン５００ｍｌ及び無水炭酸カリウム２．５ｇを
加えて撹拌し濾過した。濾液から溶媒を減圧留去し、更
に１５０℃、高真空下で低沸点成分を留去し、水結析に
より白色固体の酸分解化合物Ａを得た。

【００９２】（酸分解化合物Ｂの合成）シクロヘキサノ
ン１．０モル、エチレングリコール１．０モル及びｐ−
トルエンスルホン酸８０ｍｇを撹拌しながら１００℃で
１時間反応させ、その後１５０℃まで徐々に温度を上
げ、更に１５０℃で４時間反応させた。反応により生成
するメタノールはこの間に留去した。冷却後、テトラヒ
ドロフラン５００ｍｌ及び無水炭酸カリウム２．５ｇを
加えて撹拌し濾過した。濾液から溶媒を減圧留去し、更
に１５０℃、高真空下で低沸点成分を留去し、粘調な油
状の酸分解化合物Ｂを得た。

【００９３】本発明のネガ型として用いられる「酸の存
在下でアルカリに対し不溶化し得る化合物」ついて述べ
る。酸の存在下でアルカリに対し不溶化し得る化合物
（以下、酸不溶化剤）としては、酸の存在下で不溶化し
アルカリに対する溶解性を低減させ得る化合物が挙げら
れる。アルカリに対する溶解性を低減させ得る程度とし
ては、アルカリ可溶性樹脂と架橋するなど、最終的に不
溶化することによって該樹脂が全くのアルカリ不溶性を
示す物性に変化すればよく、具体的には、露光により前
記酸不溶化剤の作用で本来アルカリ可溶性であったもの
が現像剤として用いるアルカリ溶液に対して不溶性を示
し、印刷版上に残存している状態を表す。該酸不溶化剤
としては、メチロール基又はメチロール基の誘導体、メ
ラミン樹脂、フラン樹脂、イソシアネート、ブロックド
−イソシアネート（保護基を有すイソシアネート）など
が挙げられるが、メチロール基又はアセチル化メチロー
ル基を有している化合物又はレゾール樹脂が好ましい。

【００９４】酸不溶化剤は、更にシラノール化合物、カ
ルボン酸又はその誘導体を含む化合物、ヒドロキシ基含
有化合物、カチオン重合性の二重結合を有する化合物、
芳香族基を有する２級又は３級アルコール、メチロール
基、アルコキシメチル基又はアセトキシメチル基を有す
る芳香族を分子中に有するアルカリ可溶性ポリマー、ア
ミノプラスト及び以下に挙げる一般式（ｐ）で表される
化合物、脂環式アルコール及び／又は複素環式アルコー
ルを挙げることができる。

【００９５】以下、順に説明する。

【００９６】シラノール化合物としては、シリコン原子
１個当たり、シリコン原子に結合したヒドロキシル基を
平均して１個以上有するものである。ここに平均とは、
例えば化合物中にヒドロキシル基が結合していないシリ
コン原子が１個あっても、ヒドロキシル基が２個結合し
ているシリコン原子が１個あれば同様な効果が得られる
ことである。このようなシラノール化合物として、例え
ば、ジフェニルシランジオール、トリフェニルシラノー
ル、シス−（１，３，５，７−テトラヒドロキシ）−
１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサ
ン等を用いることができる。

【００９７】シラノール化合物の量は、５〜７０重量％
の範囲であることが好ましい。

【００９８】カルボン酸又はカルボン酸誘導体を含む化
合物としてはケイ皮酸、安息香酸、トリル酢酸、トルイ
ル酸、イソフタル酸等の芳香族カルボン酸、イソフタル
酸ジメチル、イソフタル酸ジ−ｔ−ブチル等の芳香族エ
ステル、無水グルタル酸、無水コハク酸、無水安息香酸
等の酸無水物、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ス
チレン−メタクリル酸共重合体等の共重合体が挙げられ
る。

【００９９】ヒドロキシル基を有する化合物としては、
グリセリン等の多価アルコール、ポリｐ−ヒドロキシス
チレン、ｐ−ヒドロキシスチレン・スチレン共重合体、
ノボラック樹脂等の高分子化合物が挙げられる。

【０１００】カルボン酸又はその誘導体を有する化合物
とヒドロキシル基を有する化合物は併用が好ましく、そ
の組成比は当量比で１：３０〜３０〜１の範囲であるこ
とが好ましい。ヒドロキシル基を有する化合物及びカル
ボン酸又はその誘導体を有する化合物の一方が高分子化
合物である場合がある。ヒドロキシル基を有する化合物
が高分子化合物であるとき、この高分子化合物１００に
対しカルボン酸又はその誘導体を重量比で１〜５０の範
囲の量を用いることが好ましい。またカルボン酸又はそ
の誘導体を有する化合物が高分子化合物であるとき、こ
の高分子化合物１００に対しヒドロキシル基を有する化
合物を重量比で１〜２０の範囲の量を用いることが好ま
しい。

【０１０１】塗膜形成性の点から、カルボン酸又はその
誘導体を有する化合物及びヒドロキシル基を有する化合
物の少なくともどちらかが高分子化合物であることが好
ましい。しかし、両者が低分子であっても、高分子化合
物を混合する等の方法で、塗膜形成を可能とすればよ
い。該高分子化合物としては、アルカリ可溶性ポリマー
が好ましいものとして挙げられる。

【０１０２】ヒドロキシル基を有する化合物とカルボン
酸又はカルボン酸誘導体の両方を同時に有する高分子化
合物を用いることができる。この高分子化合物としては
ヒドロキシル基を有するｐ−ヒドロキシスチレンとカル
ボン酸又はカルボン酸誘導体であるメタクリル酸メチル
等のメタクリル酸エステル、アクリル酸メチル等のアク
リル酸エステル、無水マレイン酸、メタクリル酸、アク
リル酸等のモノマーの共重合体を用いることができる。

【０１０３】これらの高分子化合物の重量平均分子量
は、１０００から５００００の範囲内であることが望ま
しい。分子量が１０００未満であると十分な耐熱性や塗
布特性が得られない。また分子量が５００００を越える
とアルカリ水溶液への溶解性が十分でなく、膨潤による
パターンの変形が認められるので高解像性が得られな
い。

【０１０４】カルボン酸又はその誘導体を有する化合
物、及びヒドロキシル基を有する化合物の量は、５〜５
０重量％の範囲であることが好ましい。

【０１０５】カチオン重合性の二重結合を有する化合物
としてはｐ−ジイソプロペニルベンゼン、ｍ−ジイソプ
ロペニルベンゼン、ジフェニルエチレン、インデノン、
アセナフテン、２−ノルボルネン、２，５−ノルボルナ
ジエン、２，３−ベンゾフラン、インドール、５−メト
キシインドール、５−メトキシ−２−メチルインドー
ル、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾ
ールで表される群から選ばれた少なくとも一種類の化合
物を挙げることができる。カチオン性二重結合を有する
化合物の量は、５〜５０重量％の範囲であることが好ま
しい。

【０１０６】芳香族基を有する２級又は３級アルコール
としては、例えばビフェニル誘導体、ナフタレン誘導体
及びトリフェニル誘導体が挙げられ、具体的には、下記
一般式（ａ）〜（ｄ）で表される化合物が挙げられる。

【０１０７】

【化２４】

【０１０８】一般式（ａ）〜（ｄ）において、Ｒ₁及び
Ｒ₂は、同一でも異なっていてもよく、各々水素原子、
メチル基又はエチル基を表し、Ｘは水素原子、ハロゲン
原子、メチル基又はメトキシ基を表し、Ｙは、−ＳＯ₂
−、−ＣＨ₂−、−Ｓ−、−Ｃ（ＣＨ₃）₂−を表し、ｎ
は１又は２を表す。

【０１０９】具体的化合物としては、例えば、４，４′
−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル、
３，３′−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェ
ニル、２，４，２′，４′−テトラ（α−ヒドロキシイ
ソプロピル）ビフェニル、３，５，３′，５′−テトラ
（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル、４，４′
−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニルスル
ホン、３，３′−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）
ビフェニルスルホン、４，４′−ビス（α−ヒドロキシ
イソプロピル）ビフェニルメタン、３，３′−ビス（α
−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニルメタン、４，
４′−ビス（α−ヒドロキシイソプロピル）ビフェニル
スルフィド、３，３′−ビス（α−ヒドロキシイソプロ
ピル）ビフェニルスルフィド、２，２−ビス（４−α−
ヒドロキシイソプロピルフェニル）プロパン、２，２−
ビス（３−α−ヒドロキシイソプロピルフェニル）プロ
パンなどがある。ナフタレン誘導体は１，５−ビス（１
−ヒドロキシプロピル）ナフタレン、２，６−ビス（α
−ヒドロキシプロピル）ナフタレンなどがある。トリフ
ェニル誘導体はトリス（４−α−ヒドロキシイソプロピ
ルフェニル）メタン、トリス（３−α−ヒドロキシイソ
プロピルフェニル）メタン、１，１，１−トリス（４−
α−ヒドロキシイソプロピルフェニル）エタン、１，
１，１−トリス（３−α−ヒドロキシイソプロピルフェ
ニル）エタンなどがある。

【０１１０】芳香族基を有する２級又は３級アルコール
として、更に下記一般式（ｅ）〜（ｇ）で表される化合
物を挙げることもできる。

【０１１１】

【化２５】

【０１１２】一般式（ｅ）において、Ｒ₁及びＲ₂は同一
でも異なっていてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子
又はメトキシ基を表し、Ｒ₃は水素原子、フェニル基又
はシクロプロピル基を表す。

【０１１３】一般式（ｆ）において、Ｒ₄及びＲ₅は同一
でも異なっていてもよく、各々水素原子又はフェニル基
を表す。

【０１１４】一般式（ｇ）において、Ａは炭素数４以下
のアルキル基又はメチロール基を表す。

【０１１５】芳香環に直接結合した炭素にヒドロキシル
基を有する２級又は３級アルコールには、フェニルメタ
ノール誘導体、芳香環を有する脂環式アルコール等があ
る。

【０１１６】このフェニルメタノール誘導体としては、
例えばジフェニルメタノール、４，４′−ジフルオロジ
フェニルメタノール、４，４′−ジクロロ−ジフェニル
メタノール、４，４′−ジメチル−ジフェニルメタノー
ル、４，４′−ジメトキシジフェニルメタノール、トリ
フェニルメタノール、α−（４−ピリジル）−ベンズヒ
ドロール、ベンジルフェニルメタノール、１，１−ジフ
ェニルエタノール、シクロプロピルジフェニルメタノー
ル、１−フェニルエチルアルコール、２−フェニル−２
−プロパノール、２−フェニル−２−ブタノール、１−
フェニル−１−ブタノール、２−フェニル−３−ブチン
−２−オール、１−フェニル−１−プロパノール、１，
２−ジフェニルエチレングリコール、テトラフェニルエ
チレングリコール、２，３−ジフェニル−２，３−ブタ
ンジオール、α−ナフトールベンゼイン、α，α′−ジ
ヒドロキシ−ｐ−ジイソプロピルベンゼン、α，α′−
ジヒドロキシ−ｍ−ジイソプロピルベンゼン等が挙げら
れる。

【０１１７】また、芳香環を有する脂環式アルコールと
しては、１−インダノール、２−ブロモインダノール、
クロマノール、９−フルオレノール、９−ヒドロキシ−
３−フルオレン、９−ヒドロキシキサンテン、１−アセ
ナフテノール、９−ヒドロキシ−３−ニトロフルオレ
ン、チオクロマン−４−オール、９−フェニルキサンテ
ン−９−オール、１，５−ジヒドロキシ−１，２，３，
４−テトラヒドロナフタレン、ジベンゾスベレノール、
ジベンゾスベロール等が挙げられる。

【０１１８】さらに、上記の他に、２級又は３級アルコ
ールとして１−（９−アンスリル）エタノール、２，
２，２−トリフルオロ−１−（９−アンスリル）エタノ
ール、１−ナフチルエタノール等が挙げられる。

【０１１９】メチロール基、アルコキシメチル基又はア
セトキシメチル基を有する芳香環を分子中に有するアル
カリ可溶性ポリマーとしては、下記一般式（ｈ）で表さ
れる化合物の芳香環上の水素原子を１又は２除いた基を
分子中に有するポリマーが挙げられる。

【０１２０】

【化２６】

【０１２１】一般式（ｈ）において、Ｘはメチロール
基、炭素数１〜５のアルコキシメチル基又はアセトキシ
メチル基を表す。Ｙはアルキル基、ヒドロキシル基、ハ
ロゲン原子、水素原子又はアルコキシ基を表す。

【０１２２】アルカリ可溶性ポリマーとしては、下記一
般式（ｉ）又は（ｊ）で表される繰り返し単位を有する
高分子化合物が好ましい。

【０１２３】

【化２７】

【０１２４】一般式（ｉ）及び（ｊ）において、Ｒ₁は
アルキル基、水素原子、ハロゲン原子又はシアノ基を表
し、Ｌは単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯＮＲ₃
−、−ＣＯＮＲ₃ＣＯ−、−ＣＯＮＲ₃ＳＯ₂−、−ＮＲ₃
−、−ＮＲ₃ＣＯ−、−ＮＲ₃ＳＯ₂−、−ＳＯ₂−、−Ｓ
Ｏ₂ＮＲ₃−又は−ＳＯ₂ＮＲ₃ＣＯ−（Ｒ₃は水素原子、
アルキル基、アラルキル基又は芳香環基を表す）を表
す。Ｘ及びＹは一般式（ｈ）のＸ及びＹと同義である。

【０１２５】上記一般式（ｉ）又は（ｊ）で表される繰
り返し単位は、ビニルベンジルアルコール、α−メチル
ビニルベンジルアルコール、ビニルベンジルアセテー
ト、α−メチルビニルベンジルアセテート、ｐ−メトキ
シスチレン、４−メチロールフェニルメタクリルアミド
等のモノマーと共重合させるのが好ましい。

【０１２６】アミノプラストとしては、下記一般式
（ｋ）で表される化合物が好ましい。

【０１２７】

【化２８】

【０１２８】一般式（ｋ）において、Ｚは−ＮＲＲ′又
はフェニル基を表す。Ｒ、Ｒ′、Ｒ₁₀〜Ｒ₁₃は各々水素
原子、−ＣＨ₂ＯＨ、−ＣＨ₂ＯＲ_a又は−ＣＯ−ＯＲ_aを
表す。Ｒ_aはアルキル基を表す。

【０１２９】一般式（ｋ）で表されるメラミン又はベン
ゾグアナミンは市販品として簡単に入手でき、またそれ
らのメチロール体はメラミン又はベンソグアナミンとホ
ルマリンとの縮合によって得られる。また、エーテル類
はメチロール体を公知の方法により各種アルコールで変
性することにより得られる。一般式（ｋ）のＲ_aで示さ
れるアルキル基としては、直鎖又は分岐していてもよい
炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。

【０１３０】一般式（ｋ）で表される化合物の具体例と
しては下記等が挙げられるが、これらに限定されるもの
ではない。

【０１３１】

【化２９】

【０１３２】

【化３０】

【０１３３】アミノプラストとして、下記一般式（ｌ）
で表される化合物、下記一般式（ｍ）で表されるような
結合を介して複数のトリアジン核が結合したメラミン樹
脂、及び下記一般式（ｎ）又は（ｏ）で表される化合物
も使用することができる。

【０１３４】

【化３１】

【０１３５】一般式（ｌ）〜（ｏ）において、Ｒは水素
原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。

【０１３６】一般式（ｐ）で表される化合物は以下のも
のである。

【０１３７】

【化３２】

【０１３８】式中、Ｒは水素原子、炭素数３以下のアル
キル基、アリール基又はトリル基を表し、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ
₃及びＲ₄は各々、水素原子、炭素数３以下のアルキル基
又は炭素数３以下のアルコキシ基を表す。

【０１３９】一般式（ｐ）で表される化合物として、ｏ
−アセチル安息香酸、ｏ−アルデヒド安息香酸、ｏ−ベ
ンゾイル安息香酸、ｏ−トルオイル安息香酸、ｏ−アセ
トキシ安息香酸を用いることが望ましい。

【０１４０】感光層中の一般式（ｐ）で表される化合物
の含有量は５〜５０重量％の範囲が適当であり、好まし
くは１０〜３０重量％である。

【０１４１】脂環式アルコールとしては、例えば、２−
アダマンタノール、２−メチル−２−アダマンタノー
ル、２−エチル−２−アダマンタノール、２−プロピル
−２−アダマンタノール、２−ブチル−２−アダマンタ
ノール、ｅｘｏ−ノルボルネオール、ｅｎｄｏ−ノルボ
ルネオール、ボルネオール、ＤＬ−イソボルネオール、
テルピネン−４−オール、Ｓ−シス−ベルベノール、イ
ソピノカンフェノール、ピナンジオール等が挙げられ
る。

【０１４２】複素環式アルコールとしては、例えば１，
４−ジオキサン−２，３−ジオール、５−メチル−１，
４−ジオキサン−２，３−ジオール、５，６−ジメチル
−１，４−ジオキサン−２，３−ジオール、ＤＬ−ｅｘ
ｏ−ヒドロキシトロピノン、４−ヒドロキシ−４−フェ
ニルピペリジン、３−キヌシリジノール、４−クロマノ
ール、チオクロマン−４−オール、ＤＬ−マバロン酸ラ
クトン等が挙げられる。複素環式アルコールは、複素環
にＯ又はＳを含むものが好ましい。

【０１４３】上記アルコールとして、脂環式アルコー
ル、複素環式アルコールの他に、さらに２級又は３級ア
ルコールを加えて用いてもよい。

【０１４４】脂環式又は複素環式アルコールの含有量は
５〜５０重量％が適当であり、好ましくは１０〜３０重
量％である。

【０１４５】本発明の平版印刷版材料には、アルカリ可
溶性樹脂が含有されることが好ましい。該アルカリ可溶
性樹脂としては、例えばノボラック樹脂やヒドロキシス
チレン単位を有する重合体、下記一般式（９）で表され
る構造単位を有する重合体、その他公知のアクリル樹脂
等を挙げることができる。

【０１４６】該ノボラック樹脂としては、例えばフェノ
ール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアル
デヒド樹脂、特開昭５５−５７８４１号に記載されてい
るようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド共
重縮合体樹脂、特開昭５５−１２７５５３号に記載され
ているような、ｐ−置換フェノールとフェノールもしく
は、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重縮合体樹脂
等が挙げられる。

【０１４７】該ヒドロキシスチレン単位を有する重合体
としては、例えば特公昭５２−４１０５０号に記載され
ているポリヒドロキシスチレンやヒドロキシスチレン共
重合体などを挙げることができる。

【０１４８】一般式（９）で表される構造単位を有する
重合体とは、該構造単位のみの繰り返し構造を有する単
独重合体、或いは該構造単位と他のビニル系単量体の不
飽和二重結合を開裂せしめた構造で示される構造単位１
種以上とを組み合わせた共重合体である。

【０１４９】

【化３３】

【０１５０】一般式（９）において、Ｒ¹及びＲ²はそれ
ぞれ、水素原子、メチル基やエチル基等のアルキル基又
はカルボン酸基を表し、好ましくは水素原子である。Ｒ
³は水素原子、塩素原子や臭素原子等のハロゲン原子又
はメチル基、エチル基等のアルキル基を表し、好ましく
は水素原子又はメチル基である。Ｒ⁴は水素原子、メチ
ル基やエチル基等のアルキル基、フェニル基又はナフチ
ル基を表す。Ｙは置換基を有するものを含むフェニレン
基又はナフチレン基を表し、該置換基としてはメチル基
やエチル基等のアルキル基、塩素原子や臭素原子等のハ
ロゲン原子、カルボン酸基、メトキシ基やエトキシ基等
のアルコキシ基、水酸基、スルホン酸基、シアノ基、ニ
トロ基、アシル基等が挙げられるが、好ましくは置換基
を有しないか、或いはメチル基で置換されているもので
ある。Ｘは窒素原子と芳香族炭素原子とを連結する２価
の有機基で、ｌは０〜５の整数を表し、好ましくはｌが
０である。

【０１５１】又、ノボラック樹脂、ヒドロキシスチレン
単位を有する重合体、及び一般式（９）で表される構造
単位を有する重合体は併用することもできる。

【０１５２】更に、本発明の平版印刷版材料には、該組
成物の感脂性を向上するために親油性の樹脂を添加する
ことができる。前記親油性の樹脂としては、例えば、特
開昭５０−１２５８０６号に記載されているような、炭
素数３〜１５のアルキル基で置換されたフェノール類と
アルデヒドの縮合物、例えばｔ−ブチルフェノールホル
ムアルデヒド樹脂などが使用可能である。

【０１５３】本発明の平版印刷版材料は、前記各成分を
溶解する下記の溶媒に溶解させて、これらを適当な支持
体の表面に塗布、乾燥させることにより感光層を設けて
画像形成材料とすることができる。

【０１５４】上記溶媒としては、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテー
ト、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
オキサン、アセトン、シクロヘキサノン、トリクロロエ
チレン、メチルエチルケトン等が挙げられる。これら溶
媒は、単独で或いは２種以上混合して使用することがで
きる。

【０１５５】本発明の平版印刷版材料を支持体の表面に
塗布する方法としては、従来公知の方法、例えば、回転
塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイフ
塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が
可能である。塗布量は用途により異なるが、例えば、感
光性平版印刷版についていえば固形分として０．５〜
５．０ｇ／ｍ²が好ましい。

【０１５６】本発明に用いられる支持体としては、アル
ミニウム、亜鉛、鋼、銅等の金属板、並びにクロム、亜
鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸
着された金属板、紙、プラスチックフィルム及びガラス
板、樹脂が塗布された紙、アルミニウム等の金属箔が張
られた紙、親水化処理したプラスチックフィルム等が挙
げられる。このうち好ましいのはアルミニウム板であ
る。本発明を感光性平版印刷版に適用するとき、支持体
として、砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要に応じて
封孔処理等の表面処理等が施されているアルミニウム板
を用いることが好ましい。これらの処理には公知の方法
を適用することができる。

【０１５７】砂目立て処理の方法としては、例えば機械
的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられる。
機械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨
法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法等が挙げ
られる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各種方
法を単独或いは組合わせて用いることができる。

【０１５８】電解によりエッチングするには、リン酸、
硫酸、塩酸、硝酸等の無機の酸を単独乃至２種以上混合
した浴を用いて行われる。砂目立て処理の後、必要に応
じてアルカリ或いは酸の水溶液によってデスマット処理
を行い中和して水洗する。

【０１５９】陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、ク
ロム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を１種又は２種
以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解
して行われる。形成された陽極酸化被膜量は１〜５０ｍ
ｇ／ｄｍ²が適当であり、好ましくは１０〜４０ｍｇ／
ｄｍ²であり、特に好ましくは２５〜４０ｍｇ／ｄｍ²で
ある。陽極酸化被膜量は、例えばアルミニウム板をリン
酸クロム酸浴液（リン酸８５％液：３５ｍｌ、酸化クロ
ム（IV）：２０ｇを１リットルの水に溶解して作製）に
浸漬し、酸化被膜を溶解し、板の被膜溶解前後の重量変
化測定から求められる。

【０１６０】封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケ
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対し
て、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン酸等の金属
塩の水溶液による下引き処理を施すこともできる。

【０１６１】本発明の平版印刷版材料は、波長７００ｎ
ｍ以上の光源を用い画像露光を行うことが好ましい。光
源としては、半導体レーザー、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、Ｙ
ＡＧレーザー、炭酸ガスレーザー等が挙げられる。出力
は５０ｍＷ以上が適当であり、好ましくは１００ｍＷ以
上である。

【０１６２】本発明の平版印刷版材料の現像に用いられ
る現像液としては、水系アルカリ現像液が好適である。
水系アルカリ現像液は例えば、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、メタケイ
酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、第二リン酸ナトリ
ウム、第三リン酸ナトリウム等のアルカリ金属塩の水溶
液が挙げられる。前記アルカリ金属塩の濃度は０．０５
〜２０重量％の範囲で用いるのが好適であり、より好ま
しくは０．１〜１０重量％である。

【０１６３】現像液には、必要に応じアニオン性界面活
性剤、両性界面活性剤やアルコール等の有機溶剤を加え
ることができる。該有機溶剤としては、プロピレングリ
コール、エチレングリコールモノフェニルエーテル、ベ
ンジルアルコール、ｎ−プロピルアルコール等が有用で
ある。

【０１６４】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。尚、「部」
は「重量部」を示す。

【０１６５】（支持体の作製）厚さ０．２４ｍｍのアル
ミニウム板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を５％苛性ソ
ーダ水溶液中で６０℃で１分間脱脂処理を行った後、
０．５モル１リットルの塩酸水溶液中で温度；２５℃、
電流密度；６０Ａ／ｄｍ²、処理時間；３０秒の条件で
電解エッチング処理を行った。次いで、５％苛性ソーダ
水溶液中で６０℃、１０秒間のデスマット処理を施した
後、２０％硫酸溶液中で温度；２０℃、電流密度；３Ａ
／ｄｍ²、処理時間；１分間の条件で陽極酸化処理を行
った。更に３０℃の熱水で２０秒間、熱水封孔処理を行
い、平版印刷版用支持体のアルミニウム板を作製した。

【０１６６】実施例１（請求項１及び６型）前記支持体上に下記組成の印刷版
用組成物からなる感光層塗布液を乾燥後の膜厚が２ｇ／
ｍ²になるように塗布し９５℃で９０秒間乾燥してポジ
型の平版印刷版１を得た。又ネガ型も同様にして平版印
刷版７を得た。

【０１６７】（感光層塗布液の組成ポジ型）バインダーＡ６０部酸分解化合物Ａ２０部酸発生剤Ａ（ＴＡＺ−１１０）（みどり化学社製）３部赤外線吸収剤例示化合物ＩＲ４８１部アルカリ親水化剤ブロモアセチルベンゼン５部プロピレングルコールモノメチルエーテル１０００部又、感光層塗布液を表１の如く変更し、平版印刷版２〜
６を得た。

【０１６８】（感光層塗布液の組成ネガ型）バインダーＡ６０部酸不溶化剤Ａ４０部酸発生剤Ａ（ＴＡＺ−１１０）（みどり化学社製）３部赤外線吸収剤例示化合物ＩＲ４８１部アルカリ親水化剤ブロモアセチルベンゼン５部プロピレングルコールモノメチルエーテル１０００部又、感光層塗布液を表１の如く変更し、平版印刷版８〜
１２を得た。又比較例として平版印刷版１３及び１４を
作製した。

【０１６９】実施例２（請求項２及び７型）前記支持体上に下記組成の印刷版
用組成物からなる感光層塗布液を乾燥後の膜厚が２ｇ／
ｍ²になるように塗布し９５℃で９０秒間乾燥してポジ
型の平版印刷版１５を得た。又ネガ型も同様にして平版
印刷版２０を得た。

【０１７０】（感光層塗布液の組成ポジ型）バインダーＡ６０部酸分解化合物Ａ２０部酸発生剤Ｃ３部赤外線吸収剤例示化合物ＩＲ４８１部プロピレングルコールモノメチルエーテル１０００部又、感光層塗布液を表２の如く変更し、平版印刷版１６
〜１９を得た。

【０１７１】（感光層塗布液の組成ネガ型）バインダーＡ６０部酸不溶化剤Ａ４０部酸発生剤Ｃ３部赤外線吸収剤例示化合物ＩＲ４８２部プロピレングルコールモノメチルエーテル１０００部又、感光層塗布液を表２の如く変更し、平版印刷版２１
〜２４を得た。又比較例として平版印刷版２５及び２６
を作製した。尚、用いた化合物を以下に記載する。

【０１７２】バインダーＡ：フェノールとｍ−，ｐ−混
合クレゾールとをホルムアルデヒドを用いて共重合させ
たノボラック樹脂（Ｍｎ＝３７００、フェノール：ｍ−
クレゾール：ｐ−クレゾールのモル比がそれぞれ５：５
７：３８）酸発生剤Ｂ：ＴＦＥ−トリアジン（三和ケミカル社製）酸発生剤Ｃ：１−ヒドロキシ−４−ブロモ−２−ブロモ
アセチルナフタレン酸発生剤Ｄ：４−メトキシトリクロロトリクロロアセト
アニリド（アルカリ可溶性部位を有す酸発生剤）．水酸基を２個以上有する化合物とアルキルスルホン
酸とのエステル酸発生剤Ｅ：２，４−ビス（メタンスルホニルオキシ）
ブタノール．フェノール性水酸基を２個以上有する化合物とアル
キルスルホン酸とのエステル酸発生剤Ｆ：エタンスルホン酸エステル（合成例を以下
に示す。）２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン２．３ｇを
ジオキサンに溶解し、エタンスルホニルクロライド２．
６ｇを滴下する。水酸化カリウム２．３ｇを水に溶解
し、反応液に滴下する。撹拌を３時間続けた後、反応液
を水に流し込む。食塩を過剰に加え塩析した後、濾過し
エチルアルコールにより再結晶させ、酸発生剤Ｆを得
た。

【０１７３】．水酸基を２個以上有するアントラセン
誘導体とスルホン酸とのエステル酸発生剤Ｇ：メタンスルホン酸エステル（合成例を以下
に示す。）乾燥した容器内でアントロピン０．４９ｇとメタンスル
ホニルクロライド０．８１ｇをジオキサンに溶解する。
ジメチルアミノピリジン０．０３２ｇを加え、トリエチ
ルアミンのジオキサン溶液を反応液に滴下する。滴下
後、撹拌を３時間続けた後、反応液を水に滴下し、固体
を析出させる。濾過水洗後、真空乾燥して酸発生剤Ｇを
得た。

【０１７４】酸不溶化剤Ａ：（ＣＫＰ−９１８メチロ
ール基含有レゾール樹脂：昭和高分子社製）酸不溶化剤Ｂ：ヘキサメトキシメチルメラミン得られた平版印刷版材料１〜２６に、以下に示す方法で
画像を形成した。

【０１７５】（ポジ型）半導体レーザー（波長８３０ｎ
ｍ、出力５００ｍＷ）で感光層表面に画像露光を行っ
た。レーザー光径はピークにおける強度の１／ｅ²で１
３μｍであった。

【０１７６】又、解像度は走査方向、副走査方向とも２
０００ＤＰＩとした。ポジ型平版印刷版用現像液ＳＤＲ
−１（コニカ（株）製）を水で容積比６倍に希釈した３
０℃の現像液に３０秒間浸漬し、非画像部（露光部）を
溶出除去した後、水洗し平版印刷版を製造した。

【０１７７】（ネガ型）ポジ型と同様の半導体レーザー
で感光層表面に画像露光を行った。レーザー光径はピー
クにおける強度の１／ｅ²で１３μｍであった。

【０１７８】又、解像度は走査方向、副走査方向とも２
０００ＤＰＩとした。露光後、赤外線ヒーターを用い感
光層を１２０℃で２分間熱処理した。更に、ポジＰＳ版
用現像液ＳＤＲ−１（コニカ（株）製）を水で容積比６
倍に希釈した３０℃の現像液に３０秒間浸漬し、非画像
部（未露光部）を除去した後、水洗し平版印刷版を製造
した。

【０１７９】得られた平版印刷版材料１〜２６を、光学
顕微鏡観察によりレーザー走査線１本で生成される画像
部ラインの平均線幅を評価した。

【０１８０】（感度の評価）平均線幅が１３μｍとなる
露光エネルギーより求め、評価は以下の基準に従った。

【０１８１】 ◎・・・１００〜１５０ｍＪ／ｃｍ² ○・・・１５１〜２００ｍＪ／ｃｍ² △・・・２０１〜３００ｍＪ／ｃｍ² ×・・・３０１ｍＪ／ｃｍ²以上（現像ラチチュード）（ポジ型）半導体レーザー（波長８３０ｎｍ、出力５０
０ｍＷ）で感光層表面にベタ画像露光を行った。レーザ
ー光径はピークにおける強度の１／ｅ²で１３μｍであ
った。又、解像度は走査方向、副走査方向とも２０００
ＤＰＩとした。ポジ型平版印刷版用現像液ＳＤＲ−１
（コニカ社製）を水で容積比３，４，５，６，７，８，
９倍に各々希釈した３０℃の現像液に３０秒間浸漬し、
非画像部（露光部）を溶出除去した後、水洗し平版印刷
版を製造した。重量測定により各々の希釈倍率でのベタ
露光溶出部と未露光残存（画像）部の膜残存率を求め
た。

【０１８２】（ネガ型）ポジ型と同様の半導体レーザー
で感光層表面にベタ画像露光を行った。レーザー光径は
ピークにおける強度の１／ｅ²で１３μｍであった。解
像度もポジ型と同様とした。露光後、赤外線ヒーターを
用い感光層を１２０℃で２分間熱処理した。ポジＰＳ版
用現像液ＳＤＲ−１（コニカ（株）製）を水で容積比
３，４，５，６，７，８，９倍に各々希釈した３０℃の
現像液に３０秒間浸漬し、非画像部（未露光部）を除去
した。重量測定により各々の希釈倍率でのベタ露光残存
（画像）部と未露光溶出部の膜残存率を求めた。

【０１８３】（現像ラチチュードの評価）膜残存率に関
し残存（画像）部が９０％以上かつ溶出部が２．５％以
下となる現像液希釈倍率を以下の基準で評価した。尚、
通常は６倍希釈で現像を行う。

【０１８４】 ◎・・・３倍希釈〜９倍希釈でも通常と同様な性能を示
す ○・・・４倍希釈〜８倍希釈で通常と同様な性能を示す △・・・５倍希釈〜７倍希釈で通常と同様な性能を示す ×・・・６倍希釈のみ。

【０１８５】得られた結果を以下の表１及び表２に示
す。

【０１８６】

【表１】

【０１８７】

【化３４】

【０１８８】表１から明らかなように、本発明（請求項
１及び６型）の平版印刷版材料は赤外半導体レーザーの
露光でも十分な感度を有し、かつ現像ラチチュードに優
れたネガ型或いはポジ型に対応する平版印刷版材料であ
ることがわかる。

【０１８９】

【表２】

【０１９０】表２から明らかなように、本発明（請求項
２及び７型）の平版印刷版材料は赤外半導体レーザーの
露光でも十分な感度を有し、かつ現像ラチチュードに優
れたネガ型或いはポジ型に対応する平版印刷版材料であ
ることがわかる。

【０１９１】

【発明の効果】本発明によれば、半導体レーザーの露光
でも十分な感度を有し、かつ現像ラチチュードに優れた
ネガ型或いはポジ型に対応する平版印刷版材料が得られ
るという顕著に優れた効果を奏する。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】活性光線の照射により酸を発生し得る化
合物、酸で分解し得る結合を少なくとも１つ有する化合
物、４００ｎｍ以上の波長に吸収を有する吸収剤及びア
ルカリとの求核置換反応により撥水性を消失する官能基
を有する化合物を支持体上に有することを特徴とする平
版印刷版材料。
【請求項２】酸で分解し得る結合を少なくとも１つ有
する化合物、４００ｎｍ以上の波長に吸収を有する吸収
剤及び、以下の活性光線の照射により酸を発生し得る化
合物から選ばれる少なくとも１種を支持体上に有するこ
とを特徴とする平版印刷版材料。活性光線の照射により
酸を発生し得る化合物が、１．アルカリ可溶性部位を有する２．ブロモメチルアリールケトン誘導体である３．トリクロロアセチルアミノ基含有芳香族化合物であ
る
【請求項３】上記アルカリ可溶性部位を有する活性光
線の照射により酸を発生し得る化合物が、以下の乃至
から選ばれる組み合わせよりなるエステルであること
を特徴とする請求項２記載の平版印刷版材料。水酸基を２個以上有する化合物とアルキルスルホン酸フェノール性水酸基を２個以上有する化合物とアルキ
ルスルホン酸水酸基を２個以上有するアントラセン誘導体とスルホ
ン酸
【請求項４】上記酸で分解し得る結合を少なくとも１
つ有する化合物が、下記一般式（１）で表されることを
特徴とする請求項１乃至３の何れか１項記載の平版印刷
版材料。【化１】〔式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄は、それぞれ独立に水素原
子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基を表
し、Ｒ₁〜Ｒ₄の何れか２つが結合して環を形成しても良
く、又エーテル結合を有していても良く、又Ｒ₁〜Ｒ₄は
互いに同一でも異なっていても良い。更に各々置換基が
導入されていても良い。〕
【請求項５】上記酸で分解し得る結合を少なくとも１
つ有する化合物が、下記一般式（２）で表されることを
特徴とする請求項１乃至３の何れか１項記載の平版印刷
版材料。【化２】〔式中、Ｒ₅、Ｒ₆は、それぞれ独立に水素原子、アルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基を表し、Ｒ₅、Ｒ₆
が結合して環を形成しても良く、又エーテル結合を有し
ていても良く、又Ｒ₅、Ｒ₆は互いに同一でも異なってい
ても良い。更に各々置換基が導入されていても良い。ｎ
及びｎ′は１〜６の整数を表し、ｍは１〜８０の整数を
表す。〕
【請求項６】活性光線の照射により酸を発生し得る化
合物、酸の存在下でアルカリに対し不溶化し得る化合
物、４００ｎｍ以上の波長に吸収を有する吸収剤及びア
ルカリとの求核置換反応により撥水性を消失する官能基
を有する化合物を支持体上に有することを特徴とする平
版印刷版材料。
【請求項７】酸の存在下でアルカリに対し不溶化し得
る化合物、４００ｎｍ以上の波長に吸収を有する吸収剤
及び、以下の活性光線の照射により酸を発生し得る化合
物から選ばれる少なくとも１種を支持体上に有すること
を特徴とする平版印刷版材料。活性光線の照射により酸
を発生し得る化合物が、１．アルカリ可溶性部位を有する２．ブロモメチルアリールケトン誘導体である３．トリクロロアセチルアミノ基含有芳香族化合物であ
る
【請求項８】上記アルカリ可溶性部位を有する活性光
線の照射により酸を発生し得る化合物が、以下の乃至
から選ばれる組み合わせよりなるエステルであること
を特徴とする請求項７記載の平版印刷版材料。水酸基を２個以上有する化合物とアルキルスルホン酸フェノール性水酸基を２個以上有する化合物とアルキ
ルスルホン酸水酸基を２個以上有するアントラセン誘導体とスルホ
ン酸
【請求項９】上記酸の存在下でアルカリに対し不溶化
し得る化合物が、メチロール基を有する化合物及びレゾ
ール樹脂から選ばれることを特徴とする請求項６乃至８
の何れか１項記載の平版印刷版材料。
【請求項１０】上記４００ｎｍ以上の波長に吸収を有
する吸収剤が、７００ｎｍ以上に吸収を有する赤外線吸
収剤であることを特徴とする請求項１乃至９の何れか１
項記載の平版印刷版材料。
【請求項１１】上記アルカリとの求核置換反応により
撥水性を消失する官能基を有する化合物が、ハロゲン化
アセチル基又はハロゲン化メチル基を含有する芳香族化
合物であることを特徴とする請求項１乃至１０の何れか
１項記載の平版印刷版材料。