JPH11284046A - Wafer carrying device - Google Patents

Wafer carrying device

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JPH11284046A
JPH11284046A JP8527098A JP8527098A JPH11284046A JP H11284046 A JPH11284046 A JP H11284046A JP 8527098 A JP8527098 A JP 8527098A JP 8527098 A JP8527098 A JP 8527098A JP H11284046 A JPH11284046 A JP H11284046A
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JP
Japan
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quartz boat
hand
cassette
axis direction
wafer
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Tomoaki Hashiguchi
知明 橋口
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Rohm Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve work efficiency and to carry a wafer advantageously in terms of cost. SOLUTION: This device 1 is provided with an elevation arm 2 which turns into a longitudinal shape projected from a device main body 10 in a Y-axis direction and made movable at least in an X-axis direction and a Z-axis direction, and a first hand 3 and a second hand 4 respectively connected separately for a fixed distance in the longitudinal direction of the elevation arm 2. In this case, the first hand 3 and the second hand 4 are respectively provided with quartz board hanging parts 30 and 40 for hanging a quartz board 5 housing the plural wafers 11, so as to be bridged between the respective hands 3 and 4 and respectively provided tray mounting parts 32 and 42 for mounting a cassette tray 6, on which a cassette 60 housing the plural wafers 11 is mounted so as to be bridged between the respective hands 3 and 4.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本願発明は、複数枚のウエハ
が収容された石英ボートを吊支した状態で、上記石英ボ
ートとともにウエハを高温加熱炉まで搬送する装置に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus for transferring a wafer to a high-temperature heating furnace together with the quartz boat while suspending a quartz boat containing a plurality of wafers.

【0002】[0002]

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】通
常、半導体チップは、シリコンなどのウエハの表面に様
々な工程を経て複数の回路素子を形成した後に、ウエハ
を各回路素子毎に分割することによって形成される。上
記した工程としては、ウエハ表面に酸化膜を形成する工
程、レジストを形成するためのフォトリソ工程、不純物
の拡散工程、あるいは電極形成工程などがある。これら
の各工程は、それぞれ所定の装置を用いて行われるが、
各装置間におけるウエハの移動は、金属製などのカセッ
ト内に複数枚のウエハが収容された状態で行われる。
2. Description of the Related Art Normally, a semiconductor chip is formed by forming a plurality of circuit elements on the surface of a wafer such as silicon through various processes and then dividing the wafer for each circuit element. Formed by The above-mentioned steps include a step of forming an oxide film on the wafer surface, a photolithography step for forming a resist, a step of diffusing impurities, and a step of forming an electrode. Each of these steps is performed using a predetermined device,
The movement of the wafer between the apparatuses is performed in a state where a plurality of wafers are accommodated in a cassette made of metal or the like.

【0003】周知の通り、拡散工程は、ウエハの表面か
ら内部に不純物を拡散させ、不純物が拡散させられた領
域をP型、あるいはN型とする工程である。拡散速度
は、高温ほど大きいことから、不純物をウエハの内部に
良好に拡散させるためには、数百度から千度程度(不純
物の種類などによっても異なる)の高温の状態で行わな
ければならない。一方、ウエハの酸化膜の表面に何らか
の金属、たとえばナトリウムなどが付着している場合に
は、高温の拡散工程においては付着物が酸化膜内に取り
込まれてしまうといった不具合が生じる。このような不
具合を回避するために、不純物の拡散は、石英などによ
って形成された高温拡散炉内において行われている。ま
た、金属製などのカセットでは、ウエハにナトリウムな
どが付着して拡散してしまうことが懸念されるため、石
英などのボートにウエハを移載し、石英ボートとともに
ウエハを高温拡散炉内に搬入することによって拡散処理
が行われている。
As is well known, the diffusion step is a step in which impurities are diffused from the surface of the wafer to the inside thereof, and the region in which the impurities are diffused is made P-type or N-type. Since the diffusion rate increases as the temperature increases, the diffusion must be performed at a high temperature of about several hundred degrees to about 1000 degrees (depending on the type of the impurities) in order to diffuse the impurities into the inside of the wafer. On the other hand, if any metal, for example, sodium, has adhered to the surface of the oxide film of the wafer, a problem occurs in that the adhered substance is taken into the oxide film in the high-temperature diffusion step. In order to avoid such a problem, diffusion of impurities is performed in a high-temperature diffusion furnace made of quartz or the like. In addition, in the case of a cassette made of metal or the like, there is a concern that sodium or the like may adhere to the wafer and diffuse the wafer. By doing so, a diffusion process is performed.

【0004】ところで、複数枚のウエハが収容された石
英ボートは、図8に示すようなウエハ搬送装置によって
高温拡散炉の近傍まで搬送される。上記ウエハ搬送装置
1は、装置本体10からY軸方向に突出する長手状とさ
れているとともにX軸方向およびZ軸方向に移動可能と
されたエレベーションアーム2と、このエレベーション
アーム2の長手方向に一定距離隔ててそれぞれ連結され
る一対のハンド3,4と、を備えている。これらのハン
ド3,4は、上記エレベーションアーム2からX軸方向
に突出するようにしてそれぞれ連結されており、その先
端部には石英製の保持部30,40がそれぞれ設けられ
ている。これらの保持部30,40の上面には、X軸方
向に延びるとともに下方に凹入した溝部31,41が形
成されている。すなわち、これらの溝部31,41に上
記石英ボート5の設けられた把手50を保持して上記石
英ボート5を上記各ハンド3,5間に橋渡すような恰好
とし、この状態において上記石英ボート5が搬送され
る。
Meanwhile, a quartz boat containing a plurality of wafers is transferred to a vicinity of a high-temperature diffusion furnace by a wafer transfer device as shown in FIG. The wafer transfer apparatus 1 has an elevation arm 2 projecting from the apparatus main body 10 in the Y-axis direction and movable in the X-axis direction and the Z-axis direction. And a pair of hands 3 and 4 connected to each other at a predetermined distance in the direction. These hands 3 and 4 are connected to each other so as to protrude from the elevation arm 2 in the X-axis direction, and quartz holding portions 30 and 40 are provided at the ends thereof. Grooves 31, 41 extending in the X-axis direction and recessed downward are formed on the upper surfaces of these holding parts 30, 40. That is, holding the handle 50 provided with the quartz boat 5 in these grooves 31 and 41, the quartz boat 5 is bridged between the hands 3 and 5, and in this state, the quartz boat 5 Is transported.

【0005】上述したように、上記石英ボート5には、
カセットに収容されたウエハ11が移載されるが、ウエ
ハの移載は、たとえばウエハを挟持できるハンドを有す
る移載装置(図示略)などによって自動的に行われる。
このため、移載装置によってカセットから石英ボート5
にウエハ11を移載できるようにするためには、所定の
場所に石英ボート5およびカセットをそれぞれ位置決め
した状態で置いておく必要がある。通常、拡散処理を施
すべきウエハ11が収容されたカセットは、たとえば上
記移載装置に隣接する棚などに板状のトレイなどに載置
された状態で収納されている。このため、棚などからト
レイとともにカセットを取り出し、これを所定の場所に
位置決めして置く必要がある。
As described above, the quartz boat 5 includes:
The wafer 11 stored in the cassette is transferred, and the transfer of the wafer is automatically performed by, for example, a transfer device (not shown) having a hand capable of holding the wafer.
For this reason, the quartz boat 5
In order to be able to transfer the wafer 11 to the above, it is necessary to place the quartz boat 5 and the cassette in predetermined positions, respectively. Usually, the cassette in which the wafers 11 to be subjected to the diffusion process are accommodated is accommodated in a state of being placed on a plate-like tray or the like, for example, on a shelf adjacent to the transfer device. For this reason, it is necessary to take out the cassette together with the tray from a shelf or the like, and position and place the cassette in a predetermined place.

【0006】このような作業は、作業者の手作業によっ
て行われ、あるいは所定の装置によって自動的に行われ
る。しかしながら、人力では、作業効率が極めて悪い一
方、所定の装置を用いれば作業効率は改善されるが、上
記したウエハ搬送装置とは異なる新たな装置を必要とす
ることから、コスト的に不利である。
[0006] Such work is performed manually by an operator or automatically by a predetermined device. However, while the work efficiency is extremely poor with human power, the work efficiency is improved by using a predetermined device, but is disadvantageous in cost because a new device different from the above-described wafer transfer device is required. .

【0007】本願発明は、上記した事情のもとで考え出
されたものであって、作業効率の改善を図るとともに、
コスト的に有利にウエハを搬送できるようにすることを
その課題としている。
The present invention was conceived under the circumstances described above, and aims to improve work efficiency and
It is an object of the present invention to be able to transfer a wafer in a cost-effective manner.

【0008】[0008]

【発明の開示】上記の課題を解決するため、本願発明で
は、次の技術的手段を講じている。
DISCLOSURE OF THE INVENTION In order to solve the above problems, the present invention employs the following technical means.

【0009】すなわち、本願発明により提供されるウエ
ハ搬送装置は、装置本体からY軸方向に突出する長手状
とされているとともに、少なくともX軸方向およびZ軸
方向に移動可能とされたエレベーションアームと、この
エレベーションアームの長手方向に一定距離隔ててそれ
ぞれ連結される第1ハンドおよび第2ハンドと、を備え
たウエハ搬送装置であって、上記第1ハンドおよび第2
ハンドには、複数枚のウエハが収容された石英ボートが
上記各ハンド間を橋渡すようにして吊支される石英ボー
ト吊支部がそれぞれ設けられているとともに、複数枚の
ウエハが収容されたカセットが載置されたカセットトレ
イを上記各ハンド間を橋渡すようにして載置するトレイ
載置部がそれぞれ設けられていることを特徴としてい
る。
That is, the wafer transfer apparatus provided by the present invention has an elongated shape projecting from the apparatus main body in the Y-axis direction and is movable at least in the X-axis direction and the Z-axis direction. And a first hand and a second hand which are respectively connected at a predetermined distance in a longitudinal direction of the elevation arm, wherein the first hand and the second hand are provided.
Each of the hands has a quartz boat suspension supporting portion in which a quartz boat containing a plurality of wafers is suspended so as to bridge between the hands, and a cassette containing a plurality of wafers. Each of the trays is provided with a tray mounting portion for mounting the cassette tray on which the cassette is mounted so as to bridge between the hands.

【0010】上記構成では、従来と同様に上記各ハンド
の石英ボート吊支部間に石英ボートを橋渡すような状態
として石英ボートの搬送が可能である。しかも、上記各
ハンドには、トレイ載置部がそれぞれ設けられているこ
とから、これらのトレイ載置部間を橋渡すようにして上
記トレイを載置することによってトレイの搬送を行うこ
ともできる。上述したように、上記カセットは、上記ト
レイに載置された状態で棚などに収容されていることが
あることから、この場合には上記ウエハ搬送装置によっ
てトレイに載置されたカセットを取り出して搬送するこ
とができる。
[0010] In the above configuration, the quartz boat can be transported in a state in which the quartz boat is bridged between the quartz boat suspension supports of the hands as in the related art. In addition, since each of the hands has a tray mounting portion, the tray can be transported by mounting the tray so as to bridge between the tray mounting portions. . As described above, since the cassette may be stored on a shelf or the like in a state of being placed on the tray, in this case, the cassette placed on the tray is taken out by the wafer transfer device. Can be transported.

【0011】このように、上記ウエハ搬送装置では、石
英ボートばかりでなくカセットの搬送も行うことができ
る。このため、棚などに収納されたカセットを人力によ
って取り出すまでもなく自動的に行うことができ、作業
効率の改善を図ることができる。また、高温拡散炉など
の近傍に石英ボートを搬送する装置によって棚などから
のカセットの取り出し・搬送を行うことができるため、
棚などからカセットを取り出して搬送するための装置を
別途設けるまでもない。このため、上記ウエハ搬送装置
では、製造コストの低減を図ることができる。
As described above, the wafer transfer apparatus can transfer not only a quartz boat but also a cassette. For this reason, the cassette stored in the shelf or the like can be automatically performed without having to be taken out manually, and the working efficiency can be improved. In addition, since the cassette can be taken out and transported from shelves by a device that transports the quartz boat near the high-temperature diffusion furnace,
There is no need to separately provide a device for taking out a cassette from a shelf or the like and transporting it. Therefore, in the above-described wafer transfer device, it is possible to reduce the manufacturing cost.

【0012】本願発明の好ましい実施の形態において
は、上記第1ハンドおよび第2ハンドは、L字状、V字
状またはU字状とされているとともに、Z軸周りに回転
可能とされており、また、上記各ハンドの石英ボート吊
支部がそれぞれ上記エレベーションアームからX軸方向
に突出させられ、これらの石英ボート吊支部によって上
記石英ボートが吊支されて上記石英ボートとともにウエ
ハを搬送する状態と、上記各ハンドのトレイ載置部が上
記エレベーションアームからそれぞれX軸方向に突出さ
せられ、これらのトレイ載置部によって上記トレイが載
置されて上記トレイとともにウエハを搬送する状態とを
選択可能なように構成することもできる。
In a preferred embodiment of the present invention, the first hand and the second hand are L-shaped, V-shaped or U-shaped, and are rotatable around the Z-axis. Also, the quartz boat hanging supports of the respective hands are projected from the elevation arm in the X-axis direction, and the quartz boat is suspended by these quartz boat hanging supports, and the wafer is transported together with the quartz boat. And a state in which the tray mounting portions of the respective hands are respectively protruded from the elevation arm in the X-axis direction, and the trays are mounted by these tray mounting portions and the wafers are transferred together with the trays. It can be configured as possible.

【0013】上記構成では、上記各ハンドが回転可能な
L字状、V字状またはU字状とされているため、上記各
ハンドを回転させるだけで、上記各ハンドの石英ボート
吊支部がそれぞれ上記エレベーションアームからX軸方
向に突出した状態と、上記各トレイ載置部が上記エレベ
ーションアームからそれぞれX軸方向に突出した状態と
を選択することができる。
In the above configuration, since each of the hands is rotatable in an L-shape, V-shape or U-shape, the quartz boat hanging supports of each hand are each rotated by simply rotating each hand. It is possible to select between a state in which the tray arm protrudes from the elevation arm in the X-axis direction and a state in which the tray mounting portions protrude from the elevation arm in the X-axis direction.

【0014】また、上記各ハンドがL字状、V字状また
はU字状とされていることから、上記各石英ボート吊支
部を上記エレベーションアームから突出させた状態で
は、平面視において上記各トレイ載置部が上記エレベー
ションアームの下部に隠された恰好とされる。一方、上
記各トレイ載置部が突出した状態では、上記各石英ボー
ト吊支部が上記エレベーションアームに隠された恰好と
される。このように、上記ウエハ搬送装置では、上記各
ハンドの石英ボート吊支部およびトレイ載置部の両方が
上記エレベーションアームの両側部から突出するといっ
た状態とはならず、使用をする一方のみが突出する状態
とされる。
Further, since each of the hands is L-shaped, V-shaped or U-shaped, in a state where each of the quartz boat suspension supports protrudes from the elevation arm, each of the quartz boat suspension supports is viewed in a plan view. It is assumed that the tray mounting portion is hidden under the elevation arm. On the other hand, in a state in which the tray mounting portions protrude, the quartz boat hanging supports are hidden by the elevation arms. As described above, in the wafer transfer device, both the quartz boat hanging support portion and the tray mounting portion of each hand do not protrude from both sides of the elevation arm, and only one of the use arms protrudes. State.

【0015】このため、上記ウエハ搬送装置では、使用
時における上記エレベーションアームからX軸方向に突
出する部分を最小限とすることができ、上記ウエハ搬送
装置周りのスペース効率を改善することができる。すな
わち、たとえば上記石英ボートを所定の場所から取り上
げたり、あるいは所定の場所に置いたりする場合を考え
れば、使用していないハンドの部分が上記カセット、カ
セットが収納された棚、あるいは高温拡散炉に石英ボー
トを搬入するためのアームなどに干渉しないようにする
ために、カセットや棚などを大きく離間させる必要はな
い。また、上記ウエハ搬送装置の周りのスペース効率を
改善できることから、上記エレベーションアームの移動
させるべき距離も小さく設定することができる。このた
め、上記ウエハ搬送装置の小型化を実現することができ
る。
For this reason, in the above-described wafer transfer device, the portion protruding from the elevation arm in the X-axis direction during use can be minimized, and the space efficiency around the wafer transfer device can be improved. . That is, for example, considering the case where the quartz boat is picked up from a predetermined place or placed in a predetermined place, an unused hand portion is placed in the cassette, a shelf in which the cassette is stored, or a high-temperature diffusion furnace. In order not to interfere with an arm or the like for carrying the quartz boat, it is not necessary to widely separate cassettes and shelves. Further, since the space efficiency around the wafer transfer device can be improved, the distance to which the elevation arm should be moved can be set small. Therefore, the size of the wafer transfer device can be reduced.

【0016】本願発明のその他の特徴および利点は、添
付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より
明らかとなろう。
Other features and advantages of the present invention will become more apparent from the detailed description given below with reference to the accompanying drawings.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本願発明の好ましい実施の
形態を、図面を参照して具体的に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings.

【0018】図1は本願発明に係るウエハ搬送装置の一
例を表す斜視図であり、図2は上記ウエハ搬送装置の平
面図であり、図3(a)および(b)は上記ウエハ搬送
装置の動作を説明するための要部斜視図である。なお、
本実施形態を説明するために参照する図面においては、
従来例を説明するために参照した図面に描かれている部
材や要素などと同等のものには同一の符号を付してあ
る。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of a wafer transfer apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a plan view of the wafer transfer apparatus, and FIGS. It is a principal part perspective view for demonstrating operation | movement. In addition,
In the drawings referred to for describing the present embodiment,
The same reference numerals are given to members and elements equivalent to those depicted in the drawings referred to for describing the conventional example.

【0019】図1に示すように、上記ウエハ搬送装置1
は、装置本体10からY軸方向に突出する長手状とされ
たエレベーションアーム2と、このエレベーションアー
ム2の長手方向に一定距離隔ててそれぞれ連結される第
1ハンド3および第2ハンド4と、を備えて大略構成さ
れている。そして、図2に良く表れているように、上記
ウエハ搬送装置1では、上記各ハンド3,4間に石英ボ
ート5を吊支した状態と、カセットトレイ6を載置した
状態とを選択できるようになされている。
As shown in FIG. 1, the wafer transfer device 1
Is a longitudinally extending elevation arm 2 projecting from the apparatus main body 10 in the Y-axis direction, and a first hand 3 and a second hand 4 connected to the elevation arm 2 at a predetermined distance in the longitudinal direction thereof. , And is generally configured. As shown in FIG. 2, the wafer transfer apparatus 1 can select between a state in which the quartz boat 5 is suspended between the hands 3 and 4 and a state in which the cassette tray 6 is placed. Has been made.

【0020】図1に良く表れているように、上記エレベ
ーションアーム2は、上記装置本体10に対してZ軸方
向にスライド移動可能とされたスライダ12に、X軸方
向にスライド移動可能に連結されている。すなわち、上
記エレベーションアーム2は、上記装置本体10に対し
てX軸方向およびZ軸方向のそれぞれに移動可能とされ
ている。
As shown in FIG. 1, the elevation arm 2 is connected to a slider 12 slidable in the Z-axis direction with respect to the apparatus main body 10 so as to be slidable in the X-axis direction. Have been. That is, the elevation arm 2 is movable with respect to the apparatus main body 10 in the X-axis direction and the Z-axis direction.

【0021】図1および図2に良く表れているように、
上記第1ハンド3は、石英ボート吊支部32およびトレ
イ載置部33を有するL字状とされており、そのコーナ
部を中心としてZ軸周りに回転可能に上記エレベーショ
ンアーム2に連結されている。
As best seen in FIGS. 1 and 2,
The first hand 3 has an L-shape having a quartz boat suspension section 32 and a tray mounting section 33, and is connected to the elevation arm 2 so as to be rotatable around the Z axis with its corner as a center. I have.

【0022】上記石英ボート吊支部32には、石英製な
どの保持部材30が取り付けられている。この保持部材
30には、上記石英ボート吊支部32の長手方向に延び
るとともに下方に凹入した溝部31が形成されており、
この溝部31に石英ボート5に設けられた把手50が保
持される。一方、上記トレイ載置部33には、上記カセ
ットトレイ6に形成された位置決め穴61に嵌め込まれ
る位置決めピン34が形成されている。
A holding member 30 made of quartz or the like is attached to the quartz boat suspension support 32. The holding member 30 has a groove 31 extending in the longitudinal direction of the quartz boat suspension support 32 and recessed downward.
The handle 50 provided on the quartz boat 5 is held in the groove 31. On the other hand, the tray mounting portion 33 has a positioning pin 34 that is fitted into a positioning hole 61 formed in the cassette tray 6.

【0023】図2および図3に示すように、上記第1ハ
ンド3は、第1回転機構7によってZ軸周りに回転可能
とされている。図3(a)および(b)に良く表れてい
るように、上記第1回転機構7は、上記エレベーション
アーム2の先端部においてZ軸周りに回転可能に挿通保
持された第1回転軸70と、この第1回転軸70の上端
部にその一端部が一体的に連結された長円形状の第1回
動部材71と、この第1回動部材71の他端部に設けら
れた軸部71aに対して回動可能に連結されるとともに
シリンダ72内を摺動してY軸方向に伸縮可能とされた
ピストン73と、このピストン73を伸縮させる駆動源
(図示略)と、を有して構成されている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the first hand 3 is rotatable around the Z axis by a first rotating mechanism 7. As best shown in FIGS. 3A and 3B, the first rotation mechanism 7 includes a first rotation shaft 70 rotatably inserted and held around the Z-axis at the distal end of the elevation arm 2. An elliptical first rotating member 71 having one end integrally connected to the upper end of the first rotating shaft 70, and a shaft provided at the other end of the first rotating member 71. A piston 73 rotatably connected to the portion 71a and slidable in the cylinder 72 to extend and contract in the Y-axis direction; and a drive source (not shown) for expanding and contracting the piston 73. It is configured.

【0024】上記第1回転機構7では、上記回転軸70
の下端部が上記第1ハンド3のコーナ部において一体的
に連結されており、上記第1ハンド3が上記第1回転軸
70と一体的に回転するようになされている。すなわ
ち、上記第1回転軸70は、上記第1回動部材71と一
体化されていることから、ピストン73を伸縮させて上
記第1回動部材71を回動させれば上記第1回転軸70
が回転し、結局、上記第1ハンド3が回転させられるよ
うになされている。なお、本実施形態では、ピストン7
3が縮められた場合には、図3(a)に示すような上記
トレイ載置部33が上記エレベーションアーム2からX
軸の正方向に突出した状態とされ、ピストン73が伸ば
された場合には、図3(b)に示すような上記石英ボー
ト吊支部32が上記エレベーションアーム2からX軸の
負方向に突出した状態とされるようになされている。
In the first rotating mechanism 7, the rotating shaft 70
The lower end of the first hand 3 is integrally connected at a corner of the first hand 3 so that the first hand 3 rotates integrally with the first rotating shaft 70. That is, since the first rotating shaft 70 is integrated with the first rotating member 71, if the first rotating member 71 is rotated by expanding and contracting the piston 73, the first rotating shaft 70 is rotated. 70
Is rotated, and eventually, the first hand 3 is rotated. In the present embodiment, the piston 7
3 is contracted, the tray mounting portion 33 as shown in FIG.
When the piston 73 is extended, the quartz boat suspension support 32 as shown in FIG. 3B projects from the elevation arm 2 in the negative X-axis direction when the piston 73 is extended. It is made to be in the state where it was done.

【0025】図1および図2に良く表れているように、
上記第2ハンド4は、上記第1ハンド3と同様に石英ボ
ート吊支部42およびトレイ載置部43を有するL字状
とされている。そして、上記第2ハンド4では、上記第
1ハンド3における石英ボート吊支部32に対応する部
分がトレイ載置部43とされている一方、石英トレイ載
置部33に対応する部分がボート吊支部42とされてい
る。すなわち、上記第1ハンド3と上記第2ハンド4と
は、平面視において対象なものとされている。もちろ
ん、上記石英ボート吊支部42には溝部41が形成され
た保持部材40が取り付けられており、上記トレイ載置
部43には位置決めピン44が形成されている。
As best seen in FIGS. 1 and 2,
The second hand 4 has an L-shape having a quartz boat suspension support portion 42 and a tray mounting portion 43, similarly to the first hand 3. In the second hand 4, a portion corresponding to the quartz boat suspension portion 32 in the first hand 3 is a tray mounting portion 43, while a portion corresponding to the quartz tray mounting portion 33 is a boat suspension portion. 42. That is, the first hand 3 and the second hand 4 are targets in a plan view. Needless to say, the holding member 40 having the groove 41 is attached to the quartz boat hanging support 42, and the positioning pin 44 is formed on the tray mounting portion 43.

【0026】また、上記第1ハンド3は、上記第1回転
機構7と同様な構成を有する第2回転機構8によってZ
軸周りを回転可能とされている。すなわち、上記第2回
転機構8は、ピストン83の伸縮によって回動させられ
る第2回動部材81を有しており、上記第2ハンド4は
上記第2回動部材81と第2回転軸80を介して連結さ
れて上記第2回動部材81によって回転させられるよう
になされている。
The first hand 3 is moved by a second rotation mechanism 8 having the same configuration as that of the first rotation mechanism 7.
It is rotatable around the axis. That is, the second rotation mechanism 8 has a second rotation member 81 that is rotated by expansion and contraction of a piston 83, and the second hand 4 is configured to rotate the second rotation member 81 and the second rotation shaft 80. And is rotated by the second rotating member 81.

【0027】図2に良く表れているように、上記構成の
ウエハ搬送装置1では、上記各ピストン73,83の伸
縮によって各ハンド3,4が回転させられて、上記各ハ
ンド3,4の石英ボート吊支部32,42が上記エレベ
ーションアーム2からX軸方向に突出する状態と、上記
各トレイ載置部33,43が突出する状態を選択できる
ようになされている。なお、図2に良く表れているよう
に、上記各石英ボート吊支部32,42が上記エレベー
ションアーム2から突出する状態では、上記各トレイ載
置部33,43が上記エレベーションアーム2の下部に
隠された恰好とされおり、上記各トレイ載置部33,4
3が上記エレベーションアーム2から突出する状態で
は、上記各石英ボート吊支部32,42が上記エレベー
ションアーム2の下部に隠された恰好とされている。
As shown in FIG. 2, in the wafer transfer apparatus 1 having the above-described structure, the hands 3 and 4 are rotated by the expansion and contraction of the pistons 73 and 83, and the quartz of the hands 3 and 4 is rotated. The state in which the boat suspension portions 32 and 42 protrude from the elevation arm 2 in the X-axis direction and the state in which the tray mounting portions 33 and 43 protrude can be selected. As shown in FIG. 2, in a state in which the quartz boat suspensions 32 and 42 protrude from the elevation arm 2, the tray mounting parts 33 and 43 are located below the elevation arm 2. The trays 33, 4
In a state where 3 protrudes from the elevation arm 2, each of the quartz boat suspensions 32 and 42 is hidden under the elevation arm 2.

【0028】上記各石英ボート吊支部32,42が上記
エレベーションアーム2からそれぞれX軸方向に突出す
る状態では、上記石英ボート5の両端部に設けられた把
手50,50が、それぞれ上記各石英ボート吊支部3
2,42の保持部材30,40に保持され、上記各石英
ボート吊支部32,42間を上記石英ボート5が橋渡す
ようにして吊支した恰好で上記石英ボート5が搬送され
る。このとき、上記石英ボート5内にウエハ11が収容
されていれば、ウエハ11が搬送されることになる。一
方、上記各トレイ載置部43が突出した状態では、上記
位置決めピン34,44がカセットトレイ6の両端部に
形成された位置決め穴61,61に嵌め込まれ、上記各
トレイ載置部33,43の間に上記カセットトレイ6を
橋渡すようにして載置した恰好で上記カセットトレイ6
が搬送される。
When the quartz boat suspension supports 32 and 42 protrude from the elevation arm 2 in the X-axis direction, the handles 50 provided on both ends of the quartz boat 5 are attached to the quartz boats 50 and 50, respectively. Boat suspension 3
The quartz boat 5 is conveyed in such a manner that the quartz boat 5 is held by the holding members 30 and 40 and suspended between the quartz boat suspending portions 32 and 42 so as to bridge the quartz boat 5. At this time, if the wafer 11 is accommodated in the quartz boat 5, the wafer 11 is transferred. On the other hand, when the tray mounting portions 43 protrude, the positioning pins 34, 44 are fitted into positioning holes 61, 61 formed at both ends of the cassette tray 6, and the tray mounting portions 33, 43 are fitted. The cassette tray 6 is placed in such a manner that the cassette tray 6 is placed so as to bridge it.
Is transported.

【0029】次に、上記ウエハ搬送装置1の使用状態を
図4ないし図7を参照しつつ説明する。なお、図4は上
記ウエハ搬送装置の周りのレイアウトを表す図であり、
図5は上記ウエハ搬送装置によってカセットトレイを持
ち上げる状態を説明するための図であり、図6は上記ウ
エハ搬送装置によって石英ボートを持ち上げる状態を説
明するための図であり、図7は上記ウエハ搬送装置によ
る搬送対象の切り替えを説明するための図であって、図
4の矢印A方向に見た状態に相当する図である。
Next, the use state of the wafer transfer apparatus 1 will be described with reference to FIGS. FIG. 4 is a diagram showing a layout around the wafer transfer device.
FIG. 5 is a view for explaining a state in which the cassette tray is lifted by the wafer transfer apparatus, FIG. 6 is a view for explaining a state in which the quartz boat is lifted by the wafer transfer apparatus, and FIG. FIG. 5 is a diagram for explaining switching of a transport target by the apparatus, and is a diagram corresponding to a state viewed in the direction of arrow A in FIG. 4.

【0030】本実施形態における上記ウエハ搬送装置1
は、棚8に収納されたカセット60を取り出すととも
に、カセット60からウエハ11が移載された石英ボー
ト5を高温拡散炉9の近傍に配置された板状アーム部材
90にまで搬送する装置である(図4参照)。なお、上
記板状アーム部材90に載置された石英ボート5は、上
記板状アーム部材90のY軸方向への移動によって上記
高温拡散炉9内に搬入され、また拡散処理が終了すれば
搬出されるようになされている。
The above-described wafer transfer device 1 in the present embodiment
Is a device which takes out the cassette 60 stored in the shelf 8 and transports the quartz boat 5 on which the wafers 11 are transferred from the cassette 60 to the plate-like arm member 90 arranged near the high-temperature diffusion furnace 9. (See FIG. 4). The quartz boat 5 placed on the plate-shaped arm member 90 is carried into the high-temperature diffusion furnace 9 by the movement of the plate-shaped arm member 90 in the Y-axis direction, and is unloaded when the diffusion process is completed. It has been made to be.

【0031】上記カセット60には、複数枚のウエハ1
1が収容されており、計3個のカセット60が一組とさ
れ、これらのカセット60がカセットトレイ6に載置さ
れた状態で棚8に収納されている。図5に示すように、
上記カセットトレイ6は、1対のけた62,62間を橋
渡すような恰好で収納されている。すなわち、上記カセ
ットトレイ6の下部には空間65が形成されている。こ
の空間65の上下寸法は、上記各ハンド3,4のトレイ
載置部33,43が差し込めるように、上記各トレイ載
置部33,43の上下寸法(位置決めピン34,44の
寸法を含む)よりも大きく設定されている。すなわち、
上記各けた62,62の上下寸法は、各トレイ載置部3
3,43の上下寸法に応じて設定される。なお、上記各
けた62,62は、棚8に設けられていていもよく、ま
た上記カセットトレイ6に一体的に取り付けられていて
もよい。
The cassette 60 contains a plurality of wafers 1
1 are stored, and a total of three cassettes 60 are formed as one set. These cassettes 60 are stored on the shelf 8 while being mounted on the cassette tray 6. As shown in FIG.
The cassette tray 6 is stored in such a manner as to bridge a pair of girders 62,62. That is, a space 65 is formed below the cassette tray 6. The vertical dimensions of the space 65 include the vertical dimensions of the tray mounting sections 33 and 43 (including the dimensions of the positioning pins 34 and 44) so that the tray mounting sections 33 and 43 of the hands 3 and 4 can be inserted. ) Is set larger. That is,
The vertical dimension of each of the beams 62, 62
It is set according to the vertical dimension of 3, 43. Each of the above-mentioned beams 62 may be provided on the shelf 8 or may be integrally attached to the cassette tray 6.

【0032】上記カセットトレイ6は、上記ウエハ搬送
装置1によって以下のようにして棚8から取り出され
る。まず、上記ウエハ搬送装置1の各ハンド3,4の各
トレイ載置部33,43を上記エレベーションアーム2
からY軸の正方向に突出した恰好としておく。この状態
は、上記第1および第2回転機構7,8によって上記各
ハンド3,4を回転させることによって選択される。
The cassette tray 6 is taken out of the shelf 8 by the wafer transfer device 1 as follows. First, the tray mounting portions 33 and 43 of the hands 3 and 4 of the wafer transfer device 1 are moved to the elevation arms 2 and 4 respectively.
From the outside in the positive direction of the Y-axis. This state is selected by rotating the hands 3 and 4 by the first and second rotation mechanisms 7 and 8.

【0033】つぎに、上記下部空間65が形成された領
域のZ軸方向の高さに応じて上記スライダ12をZ軸方
向に移動させて上記エレベーションアーム2をZ軸方向
に移動させるとともに、上記エレベーションアーム2を
X軸の正方向に移動させることによって上記各トレイ載
置部33,43を上記下部空間65に差し込む。このと
き、上記各トレイ載置部33,43に形成された位置決
めピン34,44が上記カセットトレイ6の形成された
位置決め穴61,61に対応した部位にとなるように上
記エレベーションアーム2をX軸の正方向に移動させて
図5に実線で示した状態とする。
Next, the slider 12 is moved in the Z-axis direction according to the height in the Z-axis direction of the area where the lower space 65 is formed, and the elevation arm 2 is moved in the Z-axis direction. By moving the elevation arm 2 in the positive direction of the X-axis, the tray mounting portions 33 and 43 are inserted into the lower space 65. At this time, the elevation arm 2 is moved so that the positioning pins 34 and 44 formed on the tray mounting portions 33 and 43 correspond to the positioning holes 61 and 61 formed on the cassette tray 6. It is moved in the positive direction of the X-axis to a state shown by a solid line in FIG.

【0034】そして、上記エレベーションアーム2をZ
軸の正方向に移動させることによって、上記位置決めピ
ン34,44を上記位置決め穴61,61に係合しつつ
上記カセットトレイ6を所定の高さまで持ち上げる。こ
の状態において上記エレベーションアーム2をX軸の負
方向に移動させれば、上記カセットトレイ6が棚から取
り出される。
Then, the elevation arm 2 is moved to Z
By moving the positioning pins 34 and 44 into the positioning holes 61 and 61 by moving the cassette tray 6 in the positive direction of the shaft, the cassette tray 6 is raised to a predetermined height. In this state, if the elevation arm 2 is moved in the negative direction of the X axis, the cassette tray 6 is taken out from the shelf.

【0035】このようにして取り出されたカセットトレ
イ6は、上記エレベーションアーム2のZ軸の負方向に
移動させることによって棚8に隣接する所定の部位に載
置される(図4および図7参照)。この状態において
も、けた63,63によって上記カセットトレイ6の下
部に空間が形成されるようにする。
The cassette tray 6 thus taken out is placed at a predetermined position adjacent to the shelf 8 by moving the elevation arm 2 in the negative direction of the Z axis (FIGS. 4 and 7). reference). Even in this state, a space is formed below the cassette tray 6 by the beams 63 and 63.

【0036】上記ウエハ搬送装置1においては、上記各
トレイ載置部33,43が上記エレベーションアーム2
から突出した状態では、上記各石英ボート吊支部32,
42が上記エレベーションアーム2の下部に隠された恰
好とされているので、上記各ハンド3,4における使用
していない部分(石英ボート吊支部32,42)が上記
石英ボート5など干渉することを懸念する必要はない。
このため、上記石英ボート5に極めて近接した部位に上
記カセットトレイ6を配置することができ、上記ウエハ
搬送装置1の周りのスペース効率が改善される。これに
ともない、上記ウエハ搬送装置1のエレベーションアー
ム2を移動させるべき距離を小さくすることができるた
め、上記ウエハ搬送装置1の小型化を実現することがで
きる。
In the wafer transfer apparatus 1, the tray mounting sections 33 and 43 are mounted on the elevation arm 2
In the state of protruding from the above, each of the quartz boat suspension supports 32,
Since the portion 42 is hidden under the elevation arm 2, the unused portions (the quartz boat suspensions 32, 42) of the hands 3 and 4 interfere with the quartz boat 5 and the like. You don't need to worry.
For this reason, the cassette tray 6 can be arranged at a position very close to the quartz boat 5, and the space efficiency around the wafer transfer device 1 is improved. Accordingly, the distance by which the elevation arm 2 of the wafer transfer device 1 has to be moved can be reduced, so that the size of the wafer transfer device 1 can be reduced.

【0037】上述したように、上記カセットトレイ6に
は、複数枚のウエハ11が収容されたカセット60が載
置されており、これらのカセット60に収容されたウエ
ハ11は、上記カセットトレイ6に隣接して配置された
石英ボート5に移載される。なお、ウエハ11の移載
は、図示されていない所定の装置によって行われる。こ
の装置としては、たとえばウエハ11を挟持可能なクラ
ンプを有するものなどが採用される。
As described above, the cassette 60 containing a plurality of wafers 11 is placed on the cassette tray 6, and the wafers 11 contained in these cassettes 60 are placed on the cassette tray 6. It is transferred to a quartz boat 5 arranged adjacently. The transfer of the wafer 11 is performed by a predetermined device (not shown). As this apparatus, for example, an apparatus having a clamp capable of holding the wafer 11 is employed.

【0038】図7に良く表れているように、上記カセッ
ト60から上記石英ボート5にウエハ11が移載されて
いる間に、上記各ハンド3,4をZ軸周りに回転させ、
上記各石英ボート吊支部32,42が上記エレベーショ
ンアーム2からX軸の負方向に突出した状態とする。こ
のとき、上記各石英ボート吊支部32,42の保持部材
30,40が上記石英ボート5の各把手50,50と対
応するように上記石英ボート5を配置しておくことが望
ましい。すなわち、図6および図7に示すように、上記
各ハンド3,4を回転させれば、上記各保持部30,4
0が上記各把手50,50の下方位置になるように上記
石英ボート5を配置し、上記エレベーションアーム2を
Z軸の正方向に移動させれば上記各ハンド3,4によっ
て上記石英ボート5が持ち上げれるようにしておくこと
が望ましい。
As shown in FIG. 7, while the wafers 11 are transferred from the cassette 60 to the quartz boat 5, the hands 3 and 4 are rotated around the Z axis.
It is assumed that the quartz boat suspensions 32 and 42 project from the elevation arm 2 in the negative direction of the X axis. At this time, it is desirable to arrange the quartz boat 5 so that the holding members 30 and 40 of the quartz boat suspension supports 32 and 42 correspond to the handles 50 and 50 of the quartz boat 5. That is, as shown in FIGS. 6 and 7, if the hands 3 and 4 are rotated, the holding portions 30 and 4 are rotated.
The quartz boat 5 is arranged so that 0 is below the handles 50, 50, and if the elevation arm 2 is moved in the positive direction of the Z-axis, the quartz boat 5 is moved by the hands 3, 4. It is desirable to be able to lift.

【0039】ウエハ11が移載された石英ボート5は、
上記ウエハ搬送装置1によって上記高温拡散炉9の近傍
にまで搬送され、高温拡散炉9の近傍に配置された板状
アーム部材90上に載置される。具体的には、図7およ
び図8に良く表れているように、上記エレベーションア
ーム2をZ軸の正方向に移動させて上記石英ボート5を
持ち上げ、上記エレベーションアーム2をX軸の負方向
に移動させるとともに、さらに上記エレベーションアー
ム2をZ軸の負方向に移動させることによって上記石英
ボート5が上記板状アーム部材90上に載置される。
The quartz boat 5 on which the wafer 11 has been transferred is
The wafer is transferred to the vicinity of the high-temperature diffusion furnace 9 by the wafer transfer device 1, and is placed on a plate-like arm member 90 arranged near the high-temperature diffusion furnace 9. More specifically, as shown in FIGS. 7 and 8, the elevation arm 2 is moved in the positive direction of the Z axis to lift the quartz boat 5, and the elevation arm 2 is moved in the negative direction of the X axis. The quartz boat 5 is placed on the plate-shaped arm member 90 by moving the elevation arm 2 in the negative direction of the Z-axis while moving the elevation arm 2 in the negative direction.

【0040】このように、上記ウエハ搬送装置1では、
石英ボート5ばかりでなくカセット60の搬送も行うこ
とができる。このため、棚8に収納されたカセット60
を人力によって取り出すまでもなく自動的に行うことが
でき、作業効率の改善を図ることができる。また、高温
拡散炉9などの近傍に石英ボート5を搬送する装置1に
よって棚8からのカセットの取り出し・搬送を行うこと
ができるため、棚などからカセット60を取り出して搬
送するための装置を別途設けるまでもない。このため、
上記ウエハ搬送装置1では、製造コストの低減を図るこ
とができる。
As described above, in the wafer transfer device 1 described above,
Not only the quartz boat 5 but also the cassette 60 can be transported. For this reason, the cassette 60 stored in the shelf 8
Can be automatically performed without having to be taken out manually, and the work efficiency can be improved. In addition, since the cassette 1 can be taken out and transported from the shelf 8 by the device 1 that transports the quartz boat 5 to the vicinity of the high-temperature diffusion furnace 9 or the like, a device for taking out the cassette 60 from the shelf or the like and transporting it is separately provided. Needless to set. For this reason,
In the wafer transfer device 1, the manufacturing cost can be reduced.

【0041】上記板状アーム部材90に載置された石英
ボート5は、上記板状アーム部材90の移動により高温
拡散炉9内に搬入されて、ウエハ11に拡散処理が施さ
れる。一方、ウエハ11の拡散処理が行われている間
に、ウエハ11が移載されて空になったカセット60を
上記エレベーションアーム2を適宜移動させて取り除く
とともに空の石英ボート5を新たに配置して、棚8に収
容されたカセット60を取り出して上記石英ボート5に
ウエハ11を移載できる状態としておく。
The quartz boat 5 placed on the plate arm member 90 is carried into the high-temperature diffusion furnace 9 by the movement of the plate arm member 90, and the wafer 11 is subjected to diffusion processing. On the other hand, while the wafer 11 is being diffused, the empty cassette 60 on which the wafer 11 has been transferred is removed by appropriately moving the elevation arm 2 and an empty quartz boat 5 is newly placed. Then, the cassette 60 accommodated in the shelf 8 is taken out, and the wafer 11 is set in a state where the wafer 11 can be transferred to the quartz boat 5.

【0042】なお、拡散処理が終了したウエハ11は、
石英ボート5からカセット60に移載されて次の工程を
行うべき場所に搬送される。このときに使用するカセッ
ト60としては、先の空にされたカセット60であって
もよく、新たにカセット60を用意してもよい。
The wafer 11 after the diffusion process is
It is transferred from the quartz boat 5 to the cassette 60 and transported to a place where the next step is to be performed. The cassette 60 used at this time may be the previously empty cassette 60 or a new cassette 60 may be prepared.

【0043】もちろん、本願発明は上述した実施形態に
は限定されず様々に設計変更可能である。たとえば、上
記各ハンド3,4は、本実施形態ではL字状とされてい
たが、これには限定されず、石英ボート吊支部32,4
2およびトレイ載置部33,43が形成されているもの
であればよい。すなわち、上記各ハンド3,4は、V字
状であってもよく、その他の形状であってもよい。
Of course, the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various design changes can be made. For example, each of the hands 3 and 4 is L-shaped in the present embodiment, but is not limited to this, and the quartz boat suspension supports 32 and 4 are not limited thereto.
2 and the tray mounting portions 33 and 43 may be formed. That is, each of the hands 3 and 4 may have a V-shape or another shape.

【0044】また、上記各ハンド3,4を回転させる機
構も適宜変更可能である。たとえば、所定の回転力を上
記各ハンド3,4に伝達して上記各ハンド3,4を回転
させるように構成してもよい。
The mechanism for rotating the hands 3 and 4 can be changed as appropriate. For example, a configuration may be employed in which a predetermined rotational force is transmitted to the hands 3 and 4 to rotate the hands 3 and 4.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本願発明に係るウエハ搬送装置の一例を表す斜
視図である。
FIG. 1 is a perspective view illustrating an example of a wafer transfer device according to the present invention.

【図2】上記ウエハ搬送装置の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the wafer transfer device.

【図3】上記ウエハ搬送装置の動作を説明するための要
部斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view of a main part for describing an operation of the wafer transfer device.

【図4】上記ウエハ搬送装置の周りのレイアウトを表す
図である。
FIG. 4 is a diagram illustrating a layout around the wafer transfer device.

【図5】上記ウエハ搬送装置によってカセットトレイを
持ち上げる状態を説明するための図である。
FIG. 5 is a view for explaining a state where a cassette tray is lifted by the wafer transfer device.

【図6】上記ウエハ搬送装置によって石英ボートを持ち
上げる状態を説明するための図である。
FIG. 6 is a view for explaining a state where the quartz boat is lifted by the wafer transfer device.

【図7】上記ウエハ搬送装置による搬送対象の切り替え
を説明するための図であり、図4の矢印A方向に見た状
態に相当する図である。
FIG. 7 is a view for explaining switching of a transfer target by the wafer transfer apparatus, and is a view corresponding to a state viewed in the direction of arrow A in FIG. 4;

【図8】従来のウエハ搬送装置の一例を表す斜視図であ
る。
FIG. 8 is a perspective view illustrating an example of a conventional wafer transfer device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ウエハ搬送装置 2 エレベーションアーム 3 第1ハンド 4 第2ハンド 5 石英ボート 6 カセット 10 装置本体 11 ウエハ 30 石英ボート吊支部(第1ハンドの) 32 トレイ載置部(第1ハンドの) 40 石英ボート吊支部(第2ハンドの) 42 トレイ載置部(第2ハンドの) DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Wafer transfer apparatus 2 Elevation arm 3 1st hand 4 2nd hand 5 Quartz boat 6 Cassette 10 Device main body 11 Wafer 30 Quartz boat hanging support part (of 1st hand) 32 Tray mounting part (of 1st hand) 40 Quartz Boat suspension section (of the second hand) 42 Tray placing section (of the second hand)

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 装置本体からY軸方向に突出する長手状
とされているとともに、少なくともX軸方向およびZ軸
方向に移動可能とされたエレベーションアームと、この
エレベーションアームの長手方向に一定距離隔ててそれ
ぞれ連結される第1ハンドおよび第2ハンドと、を備え
たウエハ搬送装置であって、 上記第1ハンドおよび第2ハンドには、複数枚のウエハ
が収容された石英ボートが上記各ハンド間を橋渡すよう
にして吊支される石英ボート吊支部がそれぞれ設けられ
ているとともに、複数枚のウエハが収容されたカセット
が載置されたカセットトレイを上記各ハンド間を橋渡す
ようにして載置するトレイ載置部がそれぞれ設けられて
いることを特徴とする、ウエハ搬送装置。
An elevation arm projecting from the apparatus main body in the Y-axis direction and movable at least in the X-axis direction and the Z-axis direction, and a constant in the longitudinal direction of the elevation arm. A wafer transfer device comprising: a first hand and a second hand connected to each other at a distance, wherein the first hand and the second hand each include a quartz boat accommodating a plurality of wafers. Each of the quartz boat suspension supports suspended from the hands is provided, and a cassette tray on which a cassette containing a plurality of wafers is placed is bridged between the hands. A wafer transfer device, wherein a tray mounting portion for mounting a wafer is provided.
【請求項2】 上記第1ハンドおよび第2ハンドは、L
字状、V字状またはU字状とされているとともに、Z軸
周りに回転可能とされている、請求項1に記載のウエハ
搬送装置。
2. The first hand and the second hand are L
2. The wafer transfer device according to claim 1, wherein the wafer transfer device is formed in a letter shape, a V shape, or a U shape, and is rotatable around the Z axis.
【請求項3】 上記各ハンドの石英ボート吊支部がそれ
ぞれ上記エレベーションアームからX軸方向に突出させ
られ、これらの石英ボート吊支部によって上記石英ボー
トが吊支されて上記石英ボートとともにウエハを搬送す
る状態と、上記各ハンドのトレイ載置部が上記エレベー
ションアームからそれぞれX軸方向に突出させられ、こ
れらのトレイ載置部によって上記トレイが載置されて上
記トレイとともにウエハを搬送する状態とを選択可能と
されている、請求項2に記載のウエハ搬送装置。
3. The quartz boat suspension of each hand is projected from the elevation arm in the X-axis direction, and the quartz boat is suspended by these quartz boat suspensions, and the wafer is transported together with the quartz boat. And a state in which the tray mounting portions of the respective hands are respectively protruded in the X-axis direction from the elevation arms, and the trays are mounted by these tray mounting portions, and the wafers are transferred together with the trays. 3. The wafer transfer device according to claim 2, wherein the user can select one of the following.
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